JPH04337404A - Position measurement device - Google Patents

Position measurement device

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Publication number
JPH04337404A
JPH04337404A JP10940991A JP10940991A JPH04337404A JP H04337404 A JPH04337404 A JP H04337404A JP 10940991 A JP10940991 A JP 10940991A JP 10940991 A JP10940991 A JP 10940991A JP H04337404 A JPH04337404 A JP H04337404A
Authority
JP
Japan
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measured
peripheral distribution
distribution
lead
section
Prior art date
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Pending
Application number
JP10940991A
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Japanese (ja)
Inventor
Kikuyo Koike
小池 菊代
Mitsuji Inoue
井上 三津二
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP10940991A priority Critical patent/JPH04337404A/en
Publication of JPH04337404A publication Critical patent/JPH04337404A/en
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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

PURPOSE:To accurately measure the position of a solder by comparing a peripheral distribution determined through a peripheral distribution part with a threshold so as to detect the end point position of each material to be measured. CONSTITUTION:Each emission diode 24 of a semi-spherical cover 22 is emitted by a control device 31. In this situation, electronic parts are photographed by a photographing device 25 and an image signal is output. The image signal is sent to an image process device 30. The end point of each lead 40, i.e., the root position of a fillet 41 is detected by the image process device 30. Picture element levels (concentration level) are accumulated in the vertical direction of each lead 40 and peripheral distribution for each lead 40 of the image data is determined by a peripheral distribution map 32. The accumulated concentration level and a threshold R are compared with each other from the root of each lead 40 for each peripheral distribution by a point detection part 34, so as to detect the end point of each lead 40. A luminescent spot detection region Q is set for each end point by the image process device 30, and the shape of solder is measured for each luminescent spot detection region Q.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、基板上にはんだ付けし
た電子部品のはんだ部等の鏡面を有する被測定体の形状
を測定する際にはんだ付けの位置を測定するに適用され
る位置測定装置に関する。
[Industrial Application Field] The present invention is a position measurement method applied to measuring the soldering position when measuring the shape of an object to be measured having a mirror surface, such as a soldered part of an electronic component soldered on a board. Regarding equipment.

【0002】0002

【従来の技術】電子部品のはんだ付け状態の検査は主に
目視により行われていた。このような人手による検査作
業を廃止しようと、自動化のための検査装置や形状測定
装置が開発されている。図26はかかる装置の構成図で
あって、電子部品1の各ピン2に対して斜め方向から照
明装置3の光を照射し、その反射光をカメラ4により撮
像してはんだ付けの状態を検査するものである。この技
術は図27及び図28に示すようにはんだが付いていな
いと光は真上には反射しないので、真上からカメラ4に
より撮像するとその画面は暗くなる。又、はんだが付い
ていれば画面は明るくなる。このように画面の明暗の度
合いからはんだ付けの状態が測定される。
2. Description of the Related Art Inspection of the soldered state of electronic components has been mainly performed visually. In order to eliminate such manual inspection work, automated inspection devices and shape measuring devices are being developed. FIG. 26 is a configuration diagram of such a device, in which light from an illumination device 3 is irradiated obliquely to each pin 2 of an electronic component 1, and the reflected light is imaged by a camera 4 to inspect the soldering state. It is something to do. In this technique, as shown in FIGS. 27 and 28, if there is no solder, the light will not be reflected directly above, so if the camera 4 captures an image from directly above, the screen will be dark. Also, if there is solder, the screen will be brighter. In this way, the soldering condition is measured from the degree of brightness and darkness of the screen.

【0003】しかし、このような測定でははんだ付けの
有無は検出できるものの、はんだの量の過不足について
は測定が困難であり、又はんだの表面状態の影響により
信頼性が低く実用的でない。
However, although such measurements can detect the presence or absence of soldering, it is difficult to measure excess or deficiency in the amount of solder, and the reliability is low due to the influence of the surface condition of the solder, making it impractical.

【0004】又、図29は光切断法を用いた形状測定装
置の構成図である。この装置は基板5上に装着された電
子部品6の各リード7に対してスリット光源8からスリ
ット光又はスポット光9を走査し、このときの画像をカ
メラ10により撮像してはんだ付けの状態を測定するも
のである。この場合、カメラ10はスポット光9の入射
方向とは異なる方向から撮像している。
FIG. 29 is a configuration diagram of a shape measuring device using the optical cutting method. This device scans each lead 7 of an electronic component 6 mounted on a board 5 with slit light or spot light 9 from a slit light source 8, and captures an image at this time with a camera 10 to check the soldering condition. It is something to be measured. In this case, the camera 10 captures an image from a direction different from the direction of incidence of the spot light 9.

【0005】しかしながら、この装置でははんだが鏡面
状態となるので、斜めから入射するスポット光9の反射
光を1つのカメラ10では認識できなく、測定時間が長
くなる。
However, in this device, since the solder is in a mirror-like state, the reflected light of the obliquely incident spot light 9 cannot be recognized by one camera 10, and the measurement time becomes long.

【0006】又、他の技術として特開昭63−7607
3号公報に記載されたステレオ照度差法を適用すること
が考えられる。このステレオ照度差法は複数の光源を順
次切換えてはんだを照明して照度差マップを作成し、こ
の照度差マップから画素に応じるはんだの傾きを求め、
これを結んではんだの形状を測定するものである。
[0006] Also, as another technique, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-7607
It is conceivable to apply the stereo photometric method described in Publication No. 3. In this stereo illuminance difference method, multiple light sources are sequentially switched to illuminate the solder to create an illuminance difference map, and from this illuminance difference map, the slope of the solder corresponding to each pixel is determined.
These are tied together to measure the shape of the solder.

【0007】しかしながら、ステレオ照度差法は完全拡
散面に対する測定が条件であるため、鏡面状態のはんだ
に対しては測定困難となる。これは光を照射したときの
方向に対するはんだ面の傾きにより照度が異なること、
つまり照度差を利用して形状を測定するためであり、こ
れによりカメラに対して光がほとんど入射しない。この
ため、カメラにより得られる画像は照度差を持った画像
でなく、2値化されたような画像しか得られない。しか
るに、はんだのような鏡面状態の被測定体に対する形状
測定は困難となる。又、ステレオ照度差法ははんだの傾
きに対する照度を予め記憶する必要がある。このため、
はんだのように表面特性が変化するもの、例えばフラッ
クスの量によって表面状態が変化する場合は測定精度の
信頼性が低い。
However, since the stereo photometric method requires measurement on a completely diffused surface, it is difficult to measure on mirror-like solder. This is because the illuminance varies depending on the inclination of the solder surface with respect to the direction when the light is irradiated.
In other words, the shape is measured using the difference in illuminance, and as a result, almost no light enters the camera. Therefore, the image obtained by the camera is not an image with a difference in illuminance, but only a binarized image. However, it is difficult to measure the shape of a mirror-like object such as solder. Further, in the stereo photometric method, it is necessary to store in advance the illuminance for the slope of the solder. For this reason,
The reliability of measurement accuracy is low when the surface characteristics of solder change, for example, when the surface condition changes depending on the amount of flux.

【0008】これに対して多数の点光源を内側に配列し
た半球カバーを電子部品の上方に配置し、この半球カバ
ーの各点光源のうち電子部品のリードと同一方向に配列
された各点光源を順次点灯したときの各画像をカメラに
より撮像する。そして、これら画像中の各光源を点灯し
たときのはんだからの反射光位置からはんだの形状を測
定する技術がある。
On the other hand, a hemispherical cover with a large number of point light sources arranged inside is placed above the electronic component, and among the point light sources of this hemispherical cover, each point light source is arranged in the same direction as the lead of the electronic component. A camera captures each image when the lights are turned on in sequence. There is a technique for measuring the shape of the solder from the position of the reflected light from the solder when each light source in these images is turned on.

【0009】しかしながら、この技術でははんだの形状
を精度高く測定できるもののはんだ部以外の反射光を取
り込む可能性があり、そのため、はんだ形状測定の前に
おける各リードのはんだ付け位置を正確に検出できない
ことがある。従って、はんだ付け位置以外の部分をはん
だ付け位置と判断して誤測定することがある。
However, although this technique can measure the shape of the solder with high precision, there is a possibility that reflected light from areas other than the solder portion may be captured, and therefore, the soldering position of each lead cannot be accurately detected before measuring the solder shape. There is. Therefore, a portion other than the soldering position may be determined to be the soldering position and an erroneous measurement may be made.

【0010】0010

【発明が解決しようとする課題】以上のように、たとえ
形状を精度高く測定できてもはんだ位置を正確に検出で
きない。そこで本発明は、はんだ等の位置を正確に測定
できる位置測定装置を提供することを目的とする。
As described above, even if the shape can be measured with high precision, the solder position cannot be detected accurately. SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a position measuring device that can accurately measure the position of solder, etc.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、複数配列した
帯状の各被測定体の上方の所定領域から光を照射したと
きの画像から各被測定体の先端位置を検出する位置測定
装置において、各被測定体の画素レベルを累積して周辺
分布を求める周辺分布部と、この周辺分布部により求め
られた周辺分布としきい値とを比較して各被測定体の先
端位置を検出する先端検出部とを備えて上記目的を達成
しようとする位置測定装置である。
[Means for Solving the Problems] The present invention provides a position measuring device that detects the tip position of each object to be measured from an image obtained when light is irradiated from a predetermined area above each object to be measured in a plurality of strips. , a peripheral distribution section that calculates the peripheral distribution by accumulating the pixel levels of each measured object, and a tip that detects the tip position of each measured object by comparing the peripheral distribution determined by this peripheral distribution section with a threshold value. The present invention is a position measuring device including a detecting section to achieve the above object.

【0012】又、本発明は、複数配列した帯状の各被測
定体の上方の所定領域から光を照射したときの画像から
各被測定体の先端位置を検出する位置測定装置において
、各被測定体の画素レベルを累積して周辺分布を求める
周辺分布部と、この周辺分布部により求められた周辺分
布の最大値及び最小値を求める最大最小検出部と、この
最大最小検出部により求められた最大値から最小値へ向
かって周辺分布の綾を検索し、この綾としきい値との交
差点を各被測定体の先端位置として検出する先端検出部
とを備えて上記目的を達成しようとする位置測定装置で
ある。
The present invention also provides a position measuring device for detecting the tip position of each object to be measured from an image obtained by irradiating light from a predetermined area above each object to be measured in a plurality of strips. A peripheral distribution section that calculates the peripheral distribution by accumulating the pixel levels of the body, a maximum and minimum detection section that calculates the maximum and minimum values of the peripheral distribution determined by this peripheral distribution section, and a maximum and minimum detection section that calculates the maximum and minimum values of the peripheral distribution determined by this peripheral distribution section. A position in which the above objective is achieved by including a tip detection unit that searches for a trail in the peripheral distribution from the maximum value to the minimum value and detects the intersection of this trail and a threshold value as the tip position of each measured object. It is a measuring device.

【0013】又、本発明は、複数配列した帯状の各被測
定体の斜め方向から光を照射したときの画像から各被測
定体の先端位置を検出する位置検出装置において、被測
定体の長手方向に対して長い領域を設定してこの長手方
向の周辺分布を求め、この周辺分布から各被測定体のサ
イドエッジを検出するエッジ検出手段を備えて上記目的
を達成しようとする位置測定装置である。
The present invention also provides a position detection device for detecting the tip position of each object to be measured from an image obtained when light is irradiated from an oblique direction onto each of the objects to be measured in a plurality of strips. A position measuring device that aims to achieve the above purpose by setting a long region in the direction, determining the peripheral distribution in the longitudinal direction, and detecting the side edges of each object to be measured from this peripheral distribution. be.

【0014】この場合、エッジ検出手段は被測定体の長
手方向に対して長い領域を設定してこの長手方向の周辺
分布を求める周辺分布検出部と、この周辺分布検出部に
より求められた周辺分布の分布幅から被測定体を判断す
る分布幅判断手段と、この分布幅判断手段により判断さ
れた被測定体に対してパターンマッチングを行って被測
定体のサイドエッジを検出するエッジ検出部を有してい
る。
In this case, the edge detection means includes a peripheral distribution detecting section which sets a long region in the longitudinal direction of the object to be measured and obtains a peripheral distribution in this longitudinal direction, and a peripheral distribution detected by the peripheral distribution detecting section. and an edge detection section that performs pattern matching on the object to be measured determined by the distribution width judgment means to detect side edges of the object to be measured. are doing.

【0015】[0015]

【作用】このような手段を備えたことにより、複数配列
した帯状の各被測定体の上方の所定領域から光を照射し
たときの画像における各被測定体の画素レベルを周辺分
布部により累積して周辺分布を求め、この周辺分布とし
きい値とを先端検出部により比較して各被測定体の先端
位置を検出する。
[Operation] By providing such a means, the pixel level of each object to be measured in an image when light is irradiated from a predetermined area above each of the plurality of strip-shaped objects to be measured is accumulated by the peripheral distribution part. A peripheral distribution is obtained using the method, and the tip detection section compares this peripheral distribution with a threshold value to detect the tip position of each object to be measured.

【0016】又、上記周辺分布の最大値及び最小値を最
大最小検出部により求め、次に先端検出部により最大値
から最小値へ向かって周辺分布の綾を検索し、この綾と
しきい値との交差点を各被測定体の先端位置として検出
する。
[0016] Also, the maximum and minimum values of the marginal distribution are determined by the maximum/minimum detection section, and then the tip detection section searches for the trail of the marginal distribution from the maximum value to the minimum value, and then calculates the trail between this trail and the threshold value. Detect the intersection point as the tip position of each object to be measured.

【0017】又、上記手段を備えたことにより、複数配
列した帯状の各被測定体の斜め方向から光を照射したと
きの画像においてエッジ検出手段は被測定体の長手方向
に対して長い領域を設定してこの長手方向の周辺分布を
求め、この周辺分布から各被測定体のサイドエッジを検
出する。
Furthermore, by providing the above means, the edge detection means detects a long area in the longitudinal direction of the object to be measured in an image obtained when light is irradiated from an oblique direction onto each of the plurality of strip-shaped objects to be measured. Then, the peripheral distribution in the longitudinal direction is obtained, and the side edges of each object to be measured are detected from this peripheral distribution.

【0018】この場合、エッジ検出手段は被測定体の長
手方向に対して長い領域を設定してこの長手方向の周辺
分布を求め、この周辺分布の分布幅から被測定体を判断
し、この被測定体に対してパターンマッチングを行って
被測定体のサイドエッジを検出する。
In this case, the edge detection means sets a long area in the longitudinal direction of the object to be measured, determines the peripheral distribution in this longitudinal direction, determines the object to be measured from the distribution width of this peripheral distribution, and determines the area to be measured. Pattern matching is performed on the object to be measured to detect side edges of the object to be measured.

【0019】[0019]

【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
しながら説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0020】図1は本発明の位置測定装置を適用した形
状測定装置の構成図である。XYテーブル20上には電
子部品がはんだ付けにより装着された基板21が載置さ
れている。このXYテーブル20の上方には外乱光を遮
光する半球カバー22が支持機構23により支持されて
配置されている。この半球カバー22はその内側に複数
の発光ダイオード(LED)24が配列されている。こ
れら発光ダイオード24の配列は緯度方向に5度ごとで
経度方向に10度ごとなっている。この半球カバー22
の上方でかつ基板21のほぼ真上には撮像装置25が配
置されている。この撮像装置25の画像出力端子は画像
処理装置30に接続されている。なお、XYテーブル2
0及び半球カバー22の各発光ダイオード24は制御装
置31に接続され、XYテーブル20の移動制御及び各
発光ダイオード24の発光制御が行われる。
FIG. 1 is a block diagram of a shape measuring device to which the position measuring device of the present invention is applied. A board 21 on which electronic components are mounted by soldering is placed on the XY table 20. A hemispherical cover 22 that blocks external disturbance light is supported by a support mechanism 23 and disposed above the XY table 20. This hemispherical cover 22 has a plurality of light emitting diodes (LEDs) 24 arranged inside it. The light emitting diodes 24 are arranged every 5 degrees in the latitude direction and every 10 degrees in the longitude direction. This hemisphere cover 22
An imaging device 25 is arranged above the substrate 21 and almost directly above the substrate 21 . An image output terminal of this imaging device 25 is connected to an image processing device 30. In addition, XY table 2
0 and the hemispherical cover 22 are connected to a control device 31, which controls the movement of the XY table 20 and the light emission of each light emitting diode 24.

【0021】この画像処理装置30は撮像装置25から
の画像信号を画像データとして記憶し、この画像データ
から電子部品の各リードのはんだ付け位置を測定し、こ
のはんだ付け位置の画像データからはんだの形状を測定
する機能を有している。具体的には周辺分布部32、最
大最小検出部33、先端検出部34、及びエッジ検出部
35の各機能を有している。
This image processing device 30 stores the image signal from the image pickup device 25 as image data, measures the soldering position of each lead of the electronic component from this image data, and determines the soldering position from this image data of the soldering position. It has the function of measuring shape. Specifically, it has the functions of a peripheral distribution section 32, a maximum/minimum detection section 33, a tip detection section 34, and an edge detection section 35.

【0022】周辺分布部32は各リードの画素レベルを
累積して周辺分布を求める機能を有し、最大最小検出部
33は周辺分布部32により求められた周辺分布の最大
値及び最小値を求める機能を有している。
The peripheral distribution unit 32 has a function of accumulating the pixel levels of each lead to obtain a peripheral distribution, and the maximum/minimum detection unit 33 determines the maximum and minimum values of the peripheral distribution determined by the peripheral distribution unit 32. It has a function.

【0023】又、先端検出部34は周辺分布部32によ
り求められた周辺分布としきい値とを比較して各リード
の先端位置を検出する第1機能及び最大最小検出部33
により求められた最大値から最小値へ向かって周辺分布
の綾を検索し、この綾としきい値との交差点を各リード
の先端位置として検出する第2機能を有している。
The tip detection section 34 also has a first function of detecting the tip position of each lead by comparing the peripheral distribution obtained by the peripheral distribution section 32 with a threshold value, and a maximum/minimum detection section 33.
It has a second function of searching the trail of the peripheral distribution from the maximum value to the minimum value determined by , and detecting the intersection of this trail and the threshold value as the tip position of each lead.

【0024】エッジ検出部35は電子部品の各リードの
長手方向に対して長い領域を設定してこの長手方向の周
辺分布を求め、この周辺分布から各リードのサイドエッ
ジを検出する機能を有している。具体的にエッジ検出部
35はリードの長手方向に対して長い領域を設定してこ
の長手方向の周辺分布を求める周辺分布検出部と、この
周辺分布検出部により求められた周辺分布の分布幅から
リードを判断する分布幅判断部と、この分布幅判断部に
より判断されたリードに対してパターンマッチングを行
ってリードのサイドエッジを検出する機能を有している
。なお、画像処理装置30にはモニタテレビジョン36
が接続されている。次に上記の如く構成された装置での
位置測定の作用について説明する。
The edge detection section 35 has a function of setting a long region in the longitudinal direction of each lead of the electronic component, determining the peripheral distribution in this longitudinal direction, and detecting the side edge of each lead from this peripheral distribution. ing. Specifically, the edge detection unit 35 includes a peripheral distribution detection unit that sets a long area in the longitudinal direction of the lead and calculates the peripheral distribution in this longitudinal direction, and a peripheral distribution detection unit that determines the peripheral distribution from the distribution width of the peripheral distribution determined by this peripheral distribution detection unit. It has a distribution width determination unit that determines leads, and a function of performing pattern matching on the leads determined by the distribution width determination unit to detect side edges of the leads. Note that the image processing device 30 includes a monitor television 36.
is connected. Next, the operation of position measurement in the device configured as described above will be explained.

【0025】制御装置31は半球カバー22の各発光ダ
イオード24のうち図2に示す各発光ダイオード24、
すなわち電子部品の各リードから見て上方70度〜90
度の領域でかつ電子部品の各リードから見て50度〜7
0度の斜め方向となる各発光ダイオード24を発光する
。なお、図2では黒丸の各発光ダイオード24が発光し
ている。
The control device 31 controls each light emitting diode 24 shown in FIG. 2 among the light emitting diodes 24 of the hemispherical cover 22;
That is, from 70 degrees to 90 degrees upward when viewed from each lead of the electronic component.
50 degrees to 7 degrees when viewed from each lead of the electronic component.
Each light emitting diode 24 emits light in an oblique direction of 0 degrees. In addition, in FIG. 2, each light emitting diode 24 indicated by a black circle emits light.

【0026】この状態で撮像装置25は電子部品を撮像
してその画像信号を出力する。この画像信号は画像処理
装置30に送られ、この画像処理装置30は画像信号を
ディジタル化して図3に示す画像データとして記憶する
。ところで、この画像データは図4に示す上記70度〜
90度の領域に入る各発光ダイオード24の発光のとき
の画像データ(図5)と図6に示す50度〜70度の斜
め方向の各発光ダイオード24の発光のときの画像デー
タ(図7)とを合成したものとなっている。図3に示す
画像データは電子部品の各リード40及びフィレット(
はんだ付け部分)41が映されている。
In this state, the imaging device 25 images the electronic component and outputs the image signal. This image signal is sent to the image processing device 30, which digitizes the image signal and stores it as image data shown in FIG. By the way, this image data is from 70 degrees shown in FIG.
Image data when each light emitting diode 24 emits light in a 90 degree area (FIG. 5) and image data when each light emitting diode 24 emits light in an oblique direction of 50 degrees to 70 degrees shown in FIG. 6 (FIG. 7) It is a composite of. The image data shown in FIG. 3 is for each lead 40 and fillet (
The soldering part) 41 is shown.

【0027】次に画像処理装置30は各リード40の先
端位置つまりフィレット41のつけ根位置を検出する。 周辺分布部32は図8に示すように画像データの各リー
ド40ごとにそれぞれリード40の垂直方向に対して画
素レベル(濃淡レベル)を累積して各周辺分布を求める
。次に先端検出部34は各周辺分布ごとに累積濃淡レベ
ルとしきい値Rとを各リード40の根元から比較して各
リード40の先端位置を検出する。
Next, the image processing device 30 detects the tip position of each lead 40, that is, the base position of the fillet 41. As shown in FIG. 8, the peripheral distribution unit 32 accumulates pixel levels (shade levels) in the vertical direction of the leads 40 for each lead 40 of the image data to determine each peripheral distribution. Next, the tip detection section 34 compares the cumulative density level and the threshold value R for each peripheral distribution from the base of each lead 40 to detect the tip position of each lead 40.

【0028】このように各リード40の先端位置が検出
されると、画像処理装置30はこれら先端位置に輝点検
出領域Qを設定する。この後、各輝点検出領域Qごとに
はんだの形状測定が行われる。
When the tip positions of each lead 40 are detected in this way, the image processing device 30 sets bright spot detection areas Q at these tip positions. Thereafter, the shape of the solder is measured for each bright spot detection area Q.

【0029】このようにリード40の周辺分布を求め、
この周辺分布の累積濃淡レベルとしきい値Rとを比較し
て各リード40の先端位置を検出するようにしたので、
各リード40のはんだ付け位置を正確に検出できる。次
に他の位置検出について説明する。
In this way, the peripheral distribution of the lead 40 is determined,
Since the cumulative density level of this peripheral distribution and the threshold value R are compared to detect the tip position of each lead 40,
The soldering position of each lead 40 can be detected accurately. Next, other position detection will be explained.

【0030】画像処理装置30の周辺分布部32は図9
に示すように1画像データにおける各リード40の垂直
方向に対して濃淡レベルを累積して周辺分布を求める。 次に先端検出部34はこの周辺分布の累積濃淡レベルと
しきい値Sとをリード根元から比較し、累積濃淡レベル
の変化点を各リード40の先端位置として検出する。な
お、しきい値は累積濃淡レベルの最大値Ma、最小値M
i、リードの本数nとしてしきい値=(Ma−Mi)/
n+Mi                     
 …(1)n>1 により求められる。このように各リード40の先端位置
が検出されると、上記同様に画像処理装置30はこれら
先端位置に輝点検出領域Qを設定する。この後、各輝点
検出領域Qごとにはんだの形状測定が行われる。
The peripheral distribution section 32 of the image processing device 30 is shown in FIG.
As shown in the figure, the peripheral distribution is obtained by accumulating the gray level in the vertical direction of each lead 40 in one image data. Next, the tip detection section 34 compares the cumulative density level of this peripheral distribution with the threshold value S from the base of the lead, and detects the point of change in the cumulative density level as the tip position of each lead 40. Note that the threshold value is the maximum value Ma and minimum value M of the cumulative gray level.
i, number of leads n, threshold value = (Ma-Mi)/
n+Mi
...(1) It is determined by n>1. When the tip positions of each lead 40 are detected in this way, the image processing device 30 sets bright spot detection areas Q at these tip positions in the same manner as described above. Thereafter, the shape of the solder is measured for each bright spot detection area Q.

【0031】このように1画像データにおける各リード
40の垂直方向に対して濃淡レベルを累積して周辺分布
を求めるようにしたので、各リード40のはんだ付け位
置を正確に検出でき、かつ画像ノイズの影響を除去でき
る。すなわち、図8に示すように各リード40ごとに累
積濃淡レベルを求めた場合、図10に示すように画像ノ
イズの影響によりリード40の先端位置を誤検出するこ
とがあるが、各リード40の濃淡レベルを累積すること
により画像ノイズの影響は除去できる。次にさらに他の
位置検出について説明する。
In this way, the peripheral distribution is obtained by accumulating the gray level in the vertical direction of each lead 40 in one image data, so the soldering position of each lead 40 can be detected accurately, and the image noise is reduced. The influence of can be removed. That is, when the cumulative density level is determined for each lead 40 as shown in FIG. 8, the tip position of the lead 40 may be incorrectly detected due to the influence of image noise as shown in FIG. The influence of image noise can be removed by accumulating the gray levels. Next, further position detection will be explained.

【0032】上記同様に周辺分布部32は各リード40
の画素レベルを累積して周辺分布を求める。このとき、
各リード40の根元側に画像の抽出不足の部分があると
、図11に示すように周辺分布は根元側で濃淡レベルが
低くなる。このため、リード40の先端位置を誤検出す
る虞がある。このような場合、最大最小検出部33は図
12に示すように周辺分布の最大値Ma及び最小値Mi
を求める。この場合、最大最小検出部33は最大値Ma
が最小値Miに対してリード40側にあることを周辺分
布全体の累積濃淡レベル変化により判断する。次に先端
検出部32は最大値Maから最小値Miへ向かって周辺
分布の綾を検索してしきい値Sとの交差点Kを求め、こ
の交差点Kをリード40の先端位置として検出する。 なお、しきい値Sは上記式(1) に示す通りである。
Similarly to the above, the peripheral distribution section 32 is connected to each lead 40.
Find the marginal distribution by accumulating the pixel levels of . At this time,
If there is an insufficiently extracted portion of the image on the root side of each lead 40, the density level of the peripheral distribution will be low on the root side, as shown in FIG. Therefore, there is a possibility that the position of the tip of the lead 40 may be erroneously detected. In such a case, the maximum/minimum detection unit 33 detects the maximum value Ma and the minimum value Mi of the marginal distribution as shown in FIG.
seek. In this case, the maximum/minimum detection unit 33 detects the maximum value Ma
is on the lead 40 side with respect to the minimum value Mi, based on the cumulative density level change of the entire peripheral distribution. Next, the tip detection section 32 searches the edges of the peripheral distribution from the maximum value Ma toward the minimum value Mi to find the intersection K with the threshold value S, and detects this intersection K as the tip position of the lead 40. Note that the threshold value S is as shown in the above equation (1).

【0033】このように周辺分布の最大値Ma及び最小
値Miを求め、最大値Maから最小値Miへ向かって周
辺分布の綾を検索してしきい値Sとの交差点Kをリード
40の先端位置として検出するので、正確にリードの先
端位置を検出できるのはもとより、各リード40の根元
側に画像の抽出不足の部分があっても正確にリードの先
端位置を検出できる。次に各リード40のサイドエッジ
位置の検出について説明する。
In this way, the maximum value Ma and the minimum value Mi of the marginal distribution are determined, and the trail of the marginal distribution is searched from the maximum value Ma toward the minimum value Mi, and the intersection K with the threshold value S is found at the tip of the lead 40. Since it is detected as a position, not only can the lead tip position be accurately detected, but also the lead tip position can be accurately detected even if there is a portion of the root side of each lead 40 where the image is insufficiently extracted. Next, detection of the side edge position of each lead 40 will be described.

【0034】このサイドエッジ位置の検出は画像処理装
置30のエッジ検出部35により行われる。このエッジ
検出部35の周辺分布検出部は図13に示すように各リ
ード40ごとにリード40の長手方向に対して長い領域
Wを設定し、この領域W内において各リード40の長手
方向の各周辺分布を求める。図14は1本のリード40
の周辺分布を示している。次に分布幅判断部は周辺分布
の最大値及び最小値を求めて最小値よりのしきい値Fを
設定し、このしきい値Fと周辺分布との交差点を検出し
てリード40のサイドエッジ検出に際する不必要なデー
タを除去する。すなわち、分布幅判断部は図15に示す
ように周辺分布が山型であればリードと判定し、片側傾
斜を示していればノイズと判断して除去する。次に分布
幅判断部は図16に示すように周辺分布の累積濃淡レベ
ルとしきい値Fとの交差点から周辺分布における山型の
部分の幅Aを求め、任意に定めた幅Hとを比較する。こ
の比較により図17に示すように山型の部分の幅Aが幅
Hよりも狭ければ、分布幅判断部はノイズとして除去す
る。次にエッジ検出部は分布幅判断部により判断された
リード40に対して1次元パターンマッチングを行って
リード40のサイドエッジを検出する。すなわち、エッ
ジ検出部は図18に示すようにリード40の幅Hと同一
幅Hの面積測定領域Eを設定し、この面積測定領域E内
に入る周辺分布の面積を求める。なお、図18では面積
測定領域E内に入る周辺分布の面積は零である。そして
、エッジ検出部は図19に示すように面積測定領域Eを
移動し、この移動とともに順次周辺分布の面積を求める
。このようにエッジ検出部は面積測定領域E内に入る周
辺分布の面積を求め、この面積が最大を示すところ、つ
まり図20に示すようにリード40と面積測定領域Eと
が一致するところを求める。かくして、エッジ検出部は
この1次元パターンマッチングからリード40のサイド
エッジLを検出する。
Detection of this side edge position is performed by the edge detection section 35 of the image processing device 30. The peripheral distribution detecting section of the edge detecting section 35 sets a long region W in the longitudinal direction of each lead 40 for each lead 40, as shown in FIG. Find the marginal distribution. Figure 14 shows one lead 40
shows the marginal distribution of Next, the distribution width judgment unit determines the maximum and minimum values of the peripheral distribution, sets a threshold value F from the minimum value, detects the intersection between this threshold value F and the peripheral distribution, and detects the side edge of the lead 40. Remove unnecessary data during detection. That is, as shown in FIG. 15, if the peripheral distribution is mountain-shaped, the distribution width determining unit determines it as a lead, and if it shows a one-sided slope, it determines it as noise and removes it. Next, as shown in FIG. 16, the distribution width determination unit determines the width A of the mountain-shaped portion in the peripheral distribution from the intersection of the cumulative density level of the peripheral distribution and the threshold value F, and compares it with the arbitrarily determined width H. . As a result of this comparison, if the width A of the chevron-shaped portion is narrower than the width H as shown in FIG. 17, the distribution width determination section removes it as noise. Next, the edge detection unit performs one-dimensional pattern matching on the leads 40 determined by the distribution width determination unit to detect side edges of the leads 40. That is, the edge detection section sets an area measurement area E having the same width H as the width H of the lead 40, as shown in FIG. 18, and calculates the area of the peripheral distribution that falls within this area measurement area E. In addition, in FIG. 18, the area of the peripheral distribution that falls within the area measurement area E is zero. Then, the edge detection section moves the area measurement area E as shown in FIG. 19, and along with this movement, sequentially determines the area of the peripheral distribution. In this way, the edge detection section determines the area of the peripheral distribution that falls within the area measurement area E, and determines the area where this area is maximum, that is, the area where the lead 40 and the area measurement area E match, as shown in FIG. . Thus, the edge detection section detects the side edge L of the lead 40 from this one-dimensional pattern matching.

【0035】このようにリード40の長手方向の周辺分
布を求めてこの周辺分布の分布幅からリード40を判断
し、リード40に対して1次元パターンマッチングを行
ってリード40のサイドエッジLを検出するようにした
ので、正確にリード40のサイドエッジを検出できる。 次に各リード40の先端位置を検出して各輝点検出領域
Qを設定した後のはんだの形状測定について説明する。
In this way, the peripheral distribution in the longitudinal direction of the lead 40 is determined, the lead 40 is determined from the distribution width of this peripheral distribution, and one-dimensional pattern matching is performed on the lead 40 to detect the side edge L of the lead 40. As a result, the side edges of the leads 40 can be detected accurately. Next, the measurement of the shape of the solder after detecting the tip position of each lead 40 and setting each bright spot detection area Q will be described.

【0036】制御装置31はXYテーブル20を駆動し
て撮像装置25が撮像する画面の中心に輝点検出領域Q
つまりはんだ付け部が入るように設定する。この設定は
基板21が予めXYテーブル20上で位置決めされてい
るので、この位置決めデータに基づいてXYテーブル2
0を移動させる。
The control device 31 drives the XY table 20 to create a bright spot detection area Q at the center of the screen imaged by the imaging device 25.
In other words, set it so that the soldering part will fit inside. Since the board 21 has been positioned in advance on the XY table 20, this setting is based on this positioning data.
Move 0.

【0037】この位置決めの後、制御装置31は半球カ
バー22の各発光ダイオード24のうち電子部品のリー
ドの長手方向に沿って配列された1列の各発光ダイオー
ド24を半球カバー22の上部に配置された発光ダイオ
ード24から1個づつ順次発光させる。これとともに撮
像装置25は発光ダイオード24の発光の度に電子部品
とはんだ部を撮像してその画像信号を出力する。この画
像信号は画像処理装置30に送られて画像データとして
記憶される。図21はかかる画像データの模式図である
。この画像データにおいてA〜Dはそれぞれ順次発光ダ
イオード24を発光させたときの反射光部分を示す。
After this positioning, the control device 31 arranges one row of the light emitting diodes 24 of the hemispherical cover 22, which are arranged along the longitudinal direction of the leads of the electronic components, on the upper part of the hemispherical cover 22. The light emitting diodes 24 that have been installed are caused to emit light one by one. At the same time, the imaging device 25 images the electronic component and the solder portion each time the light emitting diode 24 emits light, and outputs an image signal thereof. This image signal is sent to the image processing device 30 and stored as image data. FIG. 21 is a schematic diagram of such image data. In this image data, A to D indicate reflected light portions when the light emitting diodes 24 are sequentially caused to emit light.

【0038】この画像処理装置30は画像データの各反
射光部分A〜Dの重心(代表点)G1 、G2 、G3
 …を求めるとともに図22に示す各反射光部分A〜D
の成す傾きΘ1 、Θ2 、Θ3 …を求める。なお、
これら傾きΘ1 、Θ2 、Θ3 …は撮像時における
各発光ダイオード24の配置位置から求められる。次に
画像処理装置30は各重心G1 、G2 、G3 …間
の中点C1 、C2 …を求め、これとともに傾きΘ1
 、Θ2 …を求める。次に画像処理装置30はC0 
とC1 との距離L1 、C1 とC2 との距離L2
 …を求め、各中点C1 、C2 …の高さ位置Z1 
、Z2 …を求める。この高さZ1 、Z2 …Ziは
This image processing device 30 calculates the centers of gravity (representative points) G1, G2, G3 of each reflected light portion A to D of image data.
... and each reflected light portion A to D shown in FIG.
Find the slopes Θ1, Θ2, Θ3... In addition,
These inclinations Θ1, Θ2, Θ3, . . . are obtained from the arrangement position of each light emitting diode 24 at the time of imaging. Next, the image processing device 30 calculates the midpoints C1, C2, etc. between the respective centers of gravity G1, G2, G3, etc., and also calculates the midpoints C1, C2, etc.
, Θ2... is found. Next, the image processing device 30
Distance L1 between and C1, distance L2 between C1 and C2
Find the height position Z1 of each midpoint C1, C2...
, Z2... is found. These heights Z1, Z2...Zi are

【0039】[0039]

【数1】[Math 1]

【0040】により求められる。これにより、はんだ付
け部の1ラインの形状が測定される。しかるに、他の各
発光ダイオード24の列を順次発光させることにより図
23に示すはんだ付け部全体の形状が求められる。
It is obtained by: As a result, the shape of one line of the soldered portion is measured. However, by sequentially causing the other rows of light emitting diodes 24 to emit light, the shape of the entire soldered portion shown in FIG. 23 can be determined.

【0041】このように上記一実施例によれば、はんだ
付け部の位置を精度高く検出でき、かつこの位置検出も
画像ノイズの影響があっても、又画像抽出不足があって
も正確にリード先端位置からはんだ付部を検出できる。 これにより、はんだ付部を形状測定するときに画像デー
タを取り込む領域を輝点検出領域Qとしてしぼみこみ、
他の画像ノイズ等の影響を除去して精度高く形状測定が
できる。
As described above, according to the above-mentioned embodiment, the position of the soldering part can be detected with high accuracy, and even if this position detection is affected by image noise or there is insufficient image extraction, the lead can be accurately performed. The soldered part can be detected from the tip position. As a result, the area where image data is captured when measuring the shape of the soldered part is reduced to the bright spot detection area Q.
It is possible to measure shapes with high accuracy by removing the effects of other image noise.

【0042】なお、本発明は上記一実施例に限定される
ものでなくその要旨を変更しない範囲で変更してもよい
。例えば、リードのサイドエッジを検出する場合、その
ときのしきい値Fは固定せずに図24に示すように可変
としてもよい。この場合、画像抽出不足に対して対応で
きる。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and may be modified without changing the gist thereof. For example, when detecting a side edge of a lead, the threshold value F at that time may not be fixed, but may be variable as shown in FIG. In this case, it is possible to deal with insufficient image extraction.

【0043】又、撮像装置は死角が生じないように図2
5に示すように複数配置してもよい。これら撮像装置5
0〜53は半球カバー22を中心に水平方向に角度90
度ごとでかつ傾き30度をもって配置されている。これ
ら撮像装置25、50〜53は半球カバー22にハーフ
ミラーを設けることによって落射照明型としてもよい。 さらに、半球カバー22の発光ダイオードを複数設けず
に1個の発光ダイオードを移動させるようにしてもよい
[0043] In addition, the imaging device is arranged in a manner shown in Fig. 2 to avoid blind spots.
A plurality of them may be arranged as shown in 5. These imaging devices 5
0 to 53 is an angle of 90 in the horizontal direction centered on the hemispherical cover 22
They are arranged at angles of 30 degrees. These imaging devices 25, 50 to 53 may be of epi-illumination type by providing a half mirror on the hemispherical cover 22. Furthermore, instead of providing a plurality of light emitting diodes of the hemispherical cover 22, one light emitting diode may be moved.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、は
んだ等の位置を正確に測定できる位置測定装置を提供で
きる。
As described in detail above, according to the present invention, it is possible to provide a position measuring device that can accurately measure the position of solder, etc.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】本発明に係わる位置測定装置の一実施例を示す
構成図。
FIG. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of a position measuring device according to the present invention.

【図2】同装置での位置測定時の半球カバーにおける発
光ダイオードの発光を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing light emission from a light emitting diode in a hemispherical cover during position measurement with the same device.

【図3】同装置での位置測定時の画像データの模式図。FIG. 3 is a schematic diagram of image data during position measurement with the same device.

【図4】同装置でのフィレット位置を得るときの発光ダ
イオードの発光を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing light emission from a light emitting diode when obtaining a fillet position in the same device.

【図5】フィレット位置を得るときの画像データの模式
図。
FIG. 5 is a schematic diagram of image data when obtaining fillet positions.

【図6】サイドエッジを得るときの発光ダイオードの発
光を示す図。
FIG. 6 is a diagram showing light emission of a light emitting diode when obtaining a side edge.

【図7】サイドエッジを得るときの画像データの模式図
FIG. 7 is a schematic diagram of image data when obtaining side edges.

【図8】各リードごとの周辺分布を示す図。FIG. 8 is a diagram showing the peripheral distribution for each lead.

【図9】各リードの累積濃淡レベルによる周辺分布を示
す図。
FIG. 9 is a diagram showing the peripheral distribution according to the cumulative density level of each lead.

【図10】各リードごとの画像抽出不足時の周辺分布を
示す図。
FIG. 10 is a diagram showing the peripheral distribution when image extraction is insufficient for each lead.

【図11】複数リードの累積濃淡レベルによる画像抽出
不足時の周辺分布を示す図。
FIG. 11 is a diagram showing the peripheral distribution when image extraction is insufficient due to cumulative gray levels of multiple leads.

【図12】最大最小濃淡レベルからリード先端位置を検
出するときの作用を示す図。
FIG. 12 is a diagram showing the operation when detecting the lead tip position from the maximum and minimum density levels.

【図13】本発明装置におけるリードのサイドエッジ検
出時の領域を示す図。
FIG. 13 is a diagram showing an area when detecting a side edge of a lead in the device of the present invention.

【図14】同領域の累積濃淡レベルを示す図。FIG. 14 is a diagram showing the cumulative gray level of the same area.

【図15】同累積濃淡レベルから画像ノイズ除去を示す
図。
FIG. 15 is a diagram showing image noise removal from the cumulative gray level.

【図16】同累積濃淡レベルからリード幅の測定作用を
示す図。
FIG. 16 is a diagram showing the measurement effect of the lead width from the cumulative density level.

【図17】同累積濃淡レベルと任意に定めたリード幅か
ら画像ノイズ除去を示す図。
FIG. 17 is a diagram showing image noise removal from the cumulative gray level and an arbitrarily determined lead width.

【図18】1次元パターンマッチングに用いる面積測定
領域の設定を示す図。
FIG. 18 is a diagram showing the setting of area measurement regions used for one-dimensional pattern matching.

【図19】同パターンマッチング時の面積測定領域移動
を示す図。
FIG. 19 is a diagram showing movement of area measurement area during pattern matching.

【図20】同パターンマッチングでマッチングしたとき
の状態を示す図。
FIG. 20 is a diagram showing a state when matching is achieved by the same pattern matching.

【図21】形状測定における各発光ダイオード発光時の
はんだからの反射光を示す図。
FIG. 21 is a diagram showing reflected light from solder when each light emitting diode emits light during shape measurement.

【図22】形状測定における1列の発光ダイオード発光
から求められた形状を示す図。
FIG. 22 is a diagram showing a shape determined from light emission from one row of light emitting diodes in shape measurement.

【図23】形状測定における複数列の発光ダイオード発
光から求められた3次元形状を示す図。
FIG. 23 is a diagram showing a three-dimensional shape obtained from light emission from multiple rows of light emitting diodes in shape measurement.

【図24】リードのサイドエッジ検出の変形例を示す図
FIG. 24 is a diagram showing a modified example of lead side edge detection.

【図25】撮像装置を複数にした場合の構成を示す図。FIG. 25 is a diagram showing a configuration when a plurality of imaging devices are used.

【図26】従来の形状測定装置の構成図。FIG. 26 is a configuration diagram of a conventional shape measuring device.

【図27】同装置の作用を示す図。FIG. 27 is a diagram showing the operation of the device.

【図28】同装置の作用を示す図。FIG. 28 is a diagram showing the operation of the device.

【図29】従来の形状測定装置の構成図。FIG. 29 is a configuration diagram of a conventional shape measuring device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20…XYテーブル、21…基板、22…半球カバー、
24…発光ダイオード、25…撮像装置、30…画像処
理装置、31…制御装置、32…周辺分布部、33…最
大最小検出部、34…先端検出部、35…エッジ検出部
20...XY table, 21...board, 22...hemisphere cover,
24... Light emitting diode, 25... Imaging device, 30... Image processing device, 31... Control device, 32... Peripheral distribution section, 33... Maximum minimum detection section, 34... Tip detection section, 35... Edge detection section.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  複数配列した帯状の各被測定体の上方
の所定領域から光を照射したときの画像から前記各被測
定体の先端位置を検出する位置測定装置において、前記
各被測定体の画素レベルを累積して周辺分布を求める周
辺分布部と、この周辺分布部により求められた周辺分布
としきい値とを比較して前記各被測定体の先端位置を検
出する先端検出部とを具備したことを特徴とする位置測
定装置。
1. A position measuring device that detects the tip position of each of the objects to be measured from an image obtained when light is irradiated from a predetermined area above each of the objects to be measured in a plurality of strips arranged. A peripheral distribution section that calculates a peripheral distribution by accumulating pixel levels, and a tip detection section that detects the tip position of each object to be measured by comparing the peripheral distribution obtained by the peripheral distribution section with a threshold value. A position measuring device characterized by:
【請求項2】  複数配列した帯状の各被測定体の上方
の所定領域から光を照射したときの画像から前記各被測
定体の先端位置を検出する位置測定装置において、前記
各被測定体の画素レベルを累積して周辺分布を求める周
辺分布部と、この周辺分布部により求められた周辺分布
の最大値及び最小値を求める最大最小検出部と、この最
大最小検出部により求められた最大値から最小値へ向か
って前記周辺分布の綾を検索し、この綾としきい値との
交差点を前記各被測定体の先端位置として検出する先端
検出部とを具備したことを特徴とする位置測定装置。
2. A position measuring device that detects the tip position of each of the objects to be measured from an image obtained when light is irradiated from a predetermined area above each of the objects to be measured in a plurality of strips arranged. A marginal distribution section that calculates a marginal distribution by accumulating pixel levels, a maximum and minimum detection section that determines the maximum and minimum values of the marginal distribution determined by this peripheral distribution section, and a maximum value determined by this maximum and minimum detection section. A position measuring device comprising: a tip detection unit that searches for a trail in the peripheral distribution from 0 to a minimum value and detects an intersection between this trail and a threshold value as a tip position of each of the objects to be measured. .
【請求項3】  複数配列した帯状の各被測定体の斜め
方向から光を照射したときの画像から前記各被測定体の
先端位置を検出する位置検出装置において、前記被測定
体の長手方向に対して長い領域を設定してこの長手方向
の周辺分布を求め、この周辺分布から前記各被測定体の
サイドエッジを検出するエッジ検出手段を備えたことを
特徴とする位置測定装置。
3. A position detection device that detects the tip position of each of the plurality of strip-shaped objects to be measured from an image obtained by irradiating light from an oblique direction to each of the plurality of strip-shaped objects to be measured. 1. A position measuring device comprising an edge detection means for determining a peripheral distribution in the longitudinal direction by setting a long area with respect to the object, and detecting a side edge of each of the objects to be measured from the peripheral distribution.
【請求項4】  エッジ検出手段は前記被測定体の長手
方向に対して長い領域を設定してこの長手方向の周辺分
布を求める周辺分布検出部と、この周辺分布検出部によ
り求められた周辺分布の分布幅から前記被測定体を判断
する分布幅判断手段と、この分布幅判断手段により判断
された被測定体に対してパターンマッチングを行って前
記被測定体のサイドエッジを検出するエッジ検出部を有
する請求項(3) 記載の位置測定装置。
4. The edge detection means includes a peripheral distribution detecting section that sets a long region in the longitudinal direction of the object to be measured and obtains a peripheral distribution in the longitudinal direction, and a peripheral distribution detected by the peripheral distribution detecting section. distribution width determining means for determining the object to be measured from the distribution width of the distribution width; and an edge detecting section for detecting side edges of the object by performing pattern matching on the object to be measured determined by the distribution width determining means. The position measuring device according to claim (3).
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07120233A (en) * 1993-10-26 1995-05-12 Denshi Giken:Kk Method for inspecting soldering
WO1996011377A1 (en) * 1994-10-06 1996-04-18 Advantest Corporation Illuminator for inspecting appearance of device and automatic apparatus for inspecting appearance of device using the illumination device
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