JPH0774724B2 - Inspection method - Google Patents

Inspection method

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JPH0774724B2
JPH0774724B2 JP60191324A JP19132485A JPH0774724B2 JP H0774724 B2 JPH0774724 B2 JP H0774724B2 JP 60191324 A JP60191324 A JP 60191324A JP 19132485 A JP19132485 A JP 19132485A JP H0774724 B2 JPH0774724 B2 JP H0774724B2
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inspected
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slit
symbol
window
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義一 柿木
護俊 安藤
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の概要〕 本発明は、基板に実装される被検物体の位置や傾き等を
検査する被検物検査方法に関するものであり、単に被検
物体の位置や傾きを取得するだけでなく、その位置や傾
きの情報から、被検物体表面に描かれている記号を認識
するためのウインドを設定するようにしたことにより、
たとえ被検物体の挿入位置がずれていたり、傾いていた
りしている場合であっても、実際に記号の描かれている
位置にウインドを正確に設定することを可能にし、その
結果、記号認識処理の対象となるデータ量を極力抑えた
高速検査を実現したものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Outline of the Invention] The present invention relates to an inspection object inspection method for inspecting the position, inclination, and the like of an inspection object mounted on a substrate, and simply relates to the position and inclination of the inspection object. By not only acquiring, but also by setting the window for recognizing the symbol drawn on the surface of the object to be inspected from the information of its position and inclination,
Even if the insertion position of the object to be inspected is shifted or tilted, it is possible to accurately set the window at the position where the symbol is actually drawn, and as a result, the symbol recognition is performed. This is a high-speed inspection that minimizes the amount of data to be processed.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は、基板に実装され表面に記号の描かれた被検物
体の検査方法に関するものであり、更に詳しくは、基板
に対する被検物体の位置、傾き、上記記号等を検査する
被検物検査方法に関する。
The present invention relates to a method for inspecting an object to be inspected, which is mounted on a board and has a symbol drawn on its surface, and more specifically, an inspection of an object to inspect the position, inclination, the above-mentioned symbol, etc. of the object to be inspected with respect to the board. Regarding the method.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、電子機器等の生産量の向上により、その製造工程
の自動化は非常に進んでいるが、検査工程、特に電子機
器の外観検査は目視にたよっている場合が多い。ところ
が、このような外観検査による場合、製造量の急激な増
加に対応しきれないといった問題があるため、このよう
な問題を解消するための電気試験機も開発されている。
この電気試験機による検査方法としては、例えば、プリ
ント基板上に実装された部品を上方から撮像手段を介し
て撮像し、部品の有無や位置を検査するものが知られて
いる。
In recent years, the automation of the manufacturing process has been greatly advanced due to the improvement in the production amount of electronic devices and the like, but in many cases, the inspection process, especially the visual inspection of electronic devices, is based on visual inspection. However, such a visual inspection has a problem that it cannot cope with a rapid increase in the production amount, and therefore an electric tester for solving such a problem has been developed.
As an inspection method using this electric tester, for example, a method is known in which an image of a component mounted on a printed circuit board is picked up from above via an image pickup means, and the presence or position of the component is inspected.

しかしながら、このような検査方法によると、被検物体
がコントラスト良く検知できない、基板に傾いて取り付
けられた被検物体の位置を検出できない、基板に取り付
けられた被検物体が浮き上がった(完全に挿入されてい
ない)場合の三次元姿勢を検知できない、等の多くの問
題があり、検査方法として実用化するのが困難であっ
た。
However, according to such an inspection method, the object to be inspected cannot be detected with good contrast, the position of the object to be inspected attached to the substrate cannot be detected, and the object to be inspected attached to the substrate is lifted (completely inserted). There are many problems such as not being able to detect the three-dimensional posture in the case of (not performed), and it was difficult to put it into practical use as an inspection method.

そこで、このような問題を解決するために提案された1
つの検査装置として、第23図に示すような光切断法を用
いた光切断投影装置が知られている。この原理は、第23
図に示すように、まず、光源2からの光をスリット3と
スリットレンズ4を介して細長いスリット上の光に変換
したものを、被検物体1の上面に対し傾斜した角度(例
えば45゜)で照射して、スリットの像(スリット像)5
を形成する。そして、このスリット像5を投影レンズ6
により投影面7に投影することにより、被検物体1の表
面をスリットと光軸を含む平面で切断したような断面形
状を有する凹凸拡大像8が得られる。
Therefore, 1 which was proposed to solve such a problem
As one inspection device, a light-section projector using a light-section method as shown in FIG. 23 is known. This principle is the 23rd
As shown in the figure, first, the light from the light source 2 is converted into the light on the elongated slit through the slit 3 and the slit lens 4, and the angle is inclined with respect to the upper surface of the object 1 to be inspected (for example, 45 °). Illuminate with a slit image (slit image) 5
To form. Then, the slit image 5 is projected onto the projection lens 6
By projecting onto the projection surface 7 by means of the above, an unevenness enlarged image 8 having a cross-sectional shape obtained by cutting the surface of the object 1 to be inspected by a plane including the slit and the optical axis can be obtained.

このような光切断法の原理を用いて考えられる光切断検
査装置の構成を第24図に示す。同図では、不図示のプリ
ント基板に実装されたコンデンサ等の被検物体1をX−
Yステージ11上に載置し、また、光源2としてHe−Neレ
ーザを用い、スリット3としてシリンドリカルレンズを
用いて、上記被検物体1に斜め上方からスリット状のレ
ーザビームを照射する。そして、被検物体1をその上方
からレンズ系10を介し撮像手段9で撮像する。この撮像
手段9で得られた撮像画像信号をアナログ−デジタル変
換器12でデジタル信号に変換して画像メモリ13に収納す
る。この収納した画像信号をコンピュータ14が任意にア
クセスすることにより、インターフェースを介して接続
されたCRTからなる表示装置15上に撮像装置を表示す
る。この撮像画像は、x軸方向が基板面に沿った位置に
対応し、y軸方向が基板からの高さに対応し、撮像画像
に含まれるスリット像37が例えば所定のx位置で高さh
(x)であることを知ることにより、被検物体1のプリ
ント基板に対する位置と高さを求めることが可能とな
る。
FIG. 24 shows the configuration of a light-section inspection device that can be considered using the principle of such a light-section method. In the figure, an object to be inspected 1 such as a capacitor mounted on a printed circuit board (not shown) is
The object 1 is placed on the Y stage 11, a He-Ne laser is used as the light source 2, and a cylindrical lens is used as the slit 3. Then, the object 1 to be inspected is imaged from above by the imaging means 9 via the lens system 10. The picked-up image signal obtained by the image pickup means 9 is converted into a digital signal by the analog-digital converter 12 and stored in the image memory 13. When the computer 14 arbitrarily accesses the stored image signal, the image pickup device is displayed on the display device 15 including the CRT connected through the interface. In this captured image, the x-axis direction corresponds to the position along the substrate surface, the y-axis direction corresponds to the height from the substrate, and the slit image 37 included in the captured image has a height h at a predetermined x-position, for example.
By knowing that it is (x), the position and height of the object 1 to be inspected with respect to the printed circuit board can be obtained.

なお、上記構成例において、X−Yステージ11はコンピ
ュータ14で駆動制御され、必要に応じて縦横に移動可能
となっている。
In the above configuration example, the XY stage 11 is drive-controlled by the computer 14 and can be moved vertically and horizontally as needed.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

上述の構成の検査装置によると、被検物体1の高さを検
出することはできるが、次のような種々の問題が生じて
いた。
According to the inspection device having the above-described configuration, the height of the object 1 to be inspected can be detected, but the following various problems have occurred.

(1)処理すべきデータが多く、高速な検査が望めな
い。
(1) There is much data to be processed, and high-speed inspection cannot be expected.

(2)被検物体の表面に記号が描かれているようなも
の、例えばキーボードのキーのようにその表面に記号
(文字、マーク)が描かれているもの、或いは、タンタ
ルコンデンサのようにその表面に極性を示す記号が描か
れているもの等においては、その記号を検出することが
できない。特に、基板に対する被検物体の挿入位置がず
れていたり、傾いたりしている場合は、その被検物体に
描かれている記号の位置もずれてしまうため、たとえ記
号検出のための撮像手段を別個に設けたとしても、記号
の位置を正確に把握することができず、記号を認識する
ことは全く不可能となる。
(2) An object on which a symbol is drawn, such as a key on a keyboard, or a symbol such as a tantalum capacitor. In the case where a symbol showing polarity is drawn on the surface, the symbol cannot be detected. In particular, if the insertion position of the object to be inspected with respect to the substrate is displaced or tilted, the position of the symbol drawn on the object to be inspected is also displaced, so even if the image sensing means for detecting the symbol is used. Even if they are provided separately, the position of the symbol cannot be accurately grasped, and the symbol cannot be recognized at all.

(3)被検物体の表面の光沢、色等や取り付けの傾き等
で画像の輝度が著しく変化する。
(3) The brightness of the image remarkably changes due to the gloss, color, etc. of the surface of the object to be inspected and the inclination of mounting.

(5)照明によっては被検物体の表面が光って、被検物
体に描かれた記号を読み取ることが困難である。
(5) The surface of the object to be inspected illuminates depending on the illumination, and it is difficult to read the symbol drawn on the object to be inspected.

本発明は、上記の問題点に鑑みなされたものであり、そ
の目的は、たとえ被検物体の位置がずれていたり、傾い
ている場合であっても、その被検物体の位置や傾きだけ
でなく、その表面に描かれた記号をも極めて高速に検査
することの可能な被検物検査方法を提供することにあ
る。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is only to position or tilt the object to be inspected, even if the position of the object to be inspected is shifted or tilted. It is another object of the present invention to provide a method for inspecting an object capable of inspecting a symbol drawn on the surface at an extremely high speed.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、基板上に実装され表面に記号の描かれた三次
元形状の被検物体の前記基板に対する位置、傾き及び前
記記号を検査する被検物検査方法において、上記目的を
達成するために、以下のステップを備えたことを特徴と
するものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides a method for inspecting an object, which is mounted on a substrate and inspects the position, inclination, and the symbol of a three-dimensional object to be inspected with a symbol drawn on the surface with respect to the substrate. The following steps are provided.

(1)第1の照明手段によりスリット状の第1の波長の
レーザ光を前記基板上の前記被検物体に対し傾斜した入
射角で照射するステップ。
(1) A step of irradiating a slit-shaped laser beam having a first wavelength by the first illuminating means to the object to be measured on the substrate at an inclined incident angle.

(2)第2の照明手段により前記第1の波長とは異なる
第2の波長の光を前記被検物体へ全面照射するステッ
プ。
(2) A step of irradiating the object to be inspected with light having a second wavelength different from the first wavelength by the second illuminating means.

(3)前記第1、第2の照明手段でそれぞれ光照射され
前記被検物体から反射された第1、第2の波長の光を波
長選択ミラーで互いに分離するステップ。
(3) A step of separating the lights of the first and second wavelengths, which are respectively irradiated by the first and second illumination means and reflected from the object to be inspected, by a wavelength selection mirror.

(4)該波長選択ミラーで分離して得られたスリット状
の第1の波長の光を検知して、該スリット状の光に対応
したスリット像を含む構造画像を得て、該構造画像を画
像メモリに格納するステップ。
(4) Detecting the slit-shaped light of the first wavelength obtained by separating with the wavelength selection mirror, obtaining a structural image including a slit image corresponding to the slit-shaped light, and Storing in image memory.

(5)前記波長選択ミラーで分離して得られた第2の波
長の光を検知して、前記被検物体に描かれた前記記号を
含む記号画像を得て、該記号画像を画像メモリに格納す
るステップ。
(5) The light of the second wavelength obtained by being separated by the wavelength selection mirror is detected to obtain a symbol image including the symbol drawn on the object to be inspected, and the symbol image is stored in an image memory. Step to store.

(6)前記画像メモリ内に格納された構造画像に対し
て、正常な被検物体がある位置にウインドを設定し、該
ウインド内における前記スリット像を切り出すステッ
プ。
(6) A step of setting a window at a position where a normal object to be inspected with respect to the structure image stored in the image memory, and cutting out the slit image in the window.

(7)該切り出されたスリット像の位置と傾きから前記
被検物体の位置と傾きを求めると共に、該スリット像の
長さが規定値以下である場合は被検物体がないと判断す
るステップ。
(7) A step of obtaining the position and inclination of the object to be inspected from the position and inclination of the cut out slit image, and determining that there is no object to be inspected when the length of the slit image is equal to or less than a specified value.

(8)前記求められた被検物体の位置と傾きから、前記
被検物体上の前記記号が描かれている位置にウインドを
設定するステップ。
(8) A step of setting a window at a position where the symbol is drawn on the object to be inspected, based on the obtained position and inclination of the object to be inspected.

(9)該設定されたウインド内の記号を認識するステッ
プ。
(9) A step of recognizing a symbol in the set window.

〔作用〕[Action]

本発明では、基板上の被検物体に対し2種類の光が照射
される。すなわち、1つの光はスリット状の第1の波長
のレーザ光であって、被検物体に対し傾斜した入射角で
照射され、もう1つの光は第1の波長とは異なる第2の
波長の光であって、被検物体へ全面照射される。これら
第1、第2の波長の光は被検物体で反射され、波長選択
ミラーで互いに分離されてから撮像手段等により検知さ
れ、それぞれ構造画像、記号画像として画像メモリに格
納される。構造画像には、上記スリット状の光に対応し
たスリット像が含まれており、一方、記号画像には、被
検物体の表面に描かれた記号の画像が含まれている。こ
れら構造画像と記号画像に基づき、以下のようにして被
検物体の位置、傾き、記号を認識するための処理が行わ
れる。
In the present invention, two types of light are emitted to the object to be inspected on the substrate. That is, one light is a slit-shaped laser light having a first wavelength and is emitted at an inclined incident angle with respect to the object to be inspected, and the other light has a second wavelength different from the first wavelength. It is light, and the entire surface of the object to be inspected is illuminated. The lights of the first and second wavelengths are reflected by the object to be inspected, separated from each other by the wavelength selection mirror, detected by the image pickup means, etc., and stored in the image memory as a structural image and a symbol image, respectively. The structural image includes a slit image corresponding to the slit-shaped light, while the symbol image includes an image of a symbol drawn on the surface of the object to be inspected. Based on these structural images and symbol images, processing for recognizing the position, tilt, and symbol of the object to be inspected is performed as follows.

まず、構造画像に対して、正常な被検物体がある位置
(すなわち、被検物体の本来あるべき位置)にウインド
が設定され、このウインド内から上記スリット像が切り
出される。被検物体の位置がずれていたり、傾いていた
りすると、その状態がスリット像の位置と傾きに反映さ
れるので、このスリット像の位置と傾きを知ることによ
り、被検物体の位置と傾きを求めることができる。この
際、スリット像の長さが規定値以下である場合には、被
検物体の高さが本来の高さに満たないことになり、すな
わち、被検物体はその位置に無いと判断される。
First, with respect to the structure image, a window is set at a position where a normal inspection object is present (that is, a position where the inspection object should be), and the slit image is cut out from the window. If the position of the object to be inspected is shifted or tilted, the state is reflected in the position and inclination of the slit image.By knowing the position and inclination of this slit image, the position and inclination of the object to be inspected can be determined. You can ask. At this time, when the length of the slit image is equal to or less than the specified value, the height of the object to be inspected does not reach the original height, that is, it is determined that the object to be inspected is not at that position. .

一方、被検物体の位置がずれていたり、傾いていたりす
ると、被検物体表面に描かれている記号の位置も本来の
位置からずれている場合があるので、本発明では、先の
ステップで求められた被検物体の位置と傾きから、被検
物体上の記号の描かれている位置(実際に記号のある位
置)にウインドが設定され、このウインド内にある記号
が認識される。
On the other hand, if the position of the object to be inspected is displaced or tilted, the position of the symbol drawn on the surface of the inspected object may also deviate from its original position, so in the present invention, in the previous step From the obtained position and inclination of the object to be inspected, a window is set at the position where the symbol is drawn on the object to be inspected (the position where the symbol is actually present), and the symbol in this window is recognized.

以上のように、本発明では、2種類の波長の光を用いた
ことにより、単に被検物体の位置や傾きだけを光切断法
で検査するのではなく、被検物体の表面に描かれた記号
をも認識することが可能となる。
As described above, in the present invention, by using lights of two kinds of wavelengths, not only the position and the inclination of the object to be inspected are inspected by the light section method, but they are drawn on the surface of the object to be inspected. It is also possible to recognize symbols.

また、被検物体の位置、傾き、記号を認識するのに必ず
ウインドを設定するので、認識処理の対象となるデータ
量が極力抑えられ、その結果、高速検査が実現される。
しかも、被検物体の位置、傾きの情報を使用することに
より、実際に記号の描かれている位置に記号認識用のウ
インドを正確に設定することが可能なので、たとえ被検
物体の位置がずれていたり、傾いている場合であって
も、正確かつ高速の検査が可能となる。
Further, since the window is always set for recognizing the position, the inclination, and the symbol of the object to be inspected, the amount of data to be subjected to the recognition processing is suppressed as much as possible, and as a result, high-speed inspection is realized.
Moreover, by using the information on the position and inclination of the object to be inspected, the window for symbol recognition can be accurately set at the position where the symbol is actually drawn, so even if the position of the object to be inspected is displaced, Even if it is tilted or inclined, accurate and high-speed inspection can be performed.

〔実 施 例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説
明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を適用した実装部品検査装置
における光学系の構成図、第2図は同装置のブロック
図、第3図は本実施例におけるスリット光の照射位置を
示す図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of an optical system in a mounting component inspection apparatus to which an embodiment of the present invention is applied, FIG. 2 is a block diagram of the apparatus, and FIG. 3 is a diagram showing an irradiation position of slit light in the present embodiment. Is.

第1図において、被検物体1は例えばタンタルコンデン
サ等のように極性を持った三次元形状の電気部品で、不
図示のプリント基板(第2図にプリント基板31として示
す)に実装されてX−Yステージ11上に載置され、後述
のコンピュータ14(第2図)の制御により適宜縦横に移
動可能である。被検物体1の表面には、第3図に示すよ
うに、被検物体1の極性(例えばプラス側)を示す記号
18が描かれている。
In FIG. 1, an object 1 to be inspected is a three-dimensional electric component having polarity such as a tantalum capacitor, and is mounted on a printed circuit board (not shown) (shown as a printed circuit board 31 in FIG. 2) to be X-shaped. -It is placed on the Y stage 11 and can be moved vertically and horizontally as appropriate under the control of a computer 14 (FIG. 2) described later. As shown in FIG. 3, on the surface of the object to be inspected 1, a symbol indicating the polarity (for example, the positive side) of the object to be inspected 1
18 is drawn.

第1の照明手段として、赤色(第1の波長)のレーザ光
を出力するHe−Neレーザ等の光源2と、この光源2から
レーザ光をスリット状の光に変換するシリンドリカルレ
ンズ3とを備えており、このスリット状の光を被検物体
1に対し斜め上方から照射する。この光照射により、被
検物体1の上面には、上記スリット状の光による切断面
に対応したスリット像5aが被検物体1の長手方向とは直
交する方向に沿って形成される。また、上記光源2及び
シリンドリカルレンズ3と同様な組み合わせからなるも
う一組の光源16及びシリンドリカルレンズ17を備えてお
り、必要に応じて、上記スリット状の光とは直交する方
向からもう1つのスリット状の光を照射することによ
り、被検物体1の上面には、上記スリット像5aと直交す
る方向(被検物体1の長手方向)にもう1つのスリット
像5bが形成される。なお、本実施例においては、光源2
及びシリンドリカルレンズ3からなる照明手段と、光源
16及びシリンドリカルレンズ17からなる照明手段とを、
被検物体1の配置方向に応じて適宜切り換えて使用する
ようにし、例えば第1図に示すスリット像5aのように被
検物体1の長手方向とは直交する方向に沿ったスリット
像を形成可能な方の照明手段を使用する。しかも、スリ
ット状の光の照射位置(スリット像の形成位置は、第3
図に示すように、被検物体1の長手方向における前部と
後部の2箇所(第1、第2の照射位置32、33として示
す)に設定する。このような照射位置の切り換えは、後
述のコンピュータ14がX−Yステージ11の駆動モータ30
(第2図)を駆動制御して被検物体1を所望の位置へ移
動させることにより行う。
As a first illuminating means, a light source 2 such as a He-Ne laser that outputs red (first wavelength) laser light, and a cylindrical lens 3 that converts the laser light from this light source 2 into slit-shaped light are provided. The slit-shaped light is applied to the object 1 to be inspected from obliquely above. By this light irradiation, a slit image 5a corresponding to the cut surface by the slit-shaped light is formed on the upper surface of the object to be inspected 1 along a direction orthogonal to the longitudinal direction of the object to be inspected 1. Further, the light source 2 and the cylindrical lens 3 are provided with another pair of the light source 16 and the cylindrical lens 17, which are formed in the same combination, and if necessary, another slit is formed in a direction orthogonal to the slit-shaped light. By irradiating the object-shaped object 1, another slit image 5b is formed on the upper surface of the object 1 in the direction orthogonal to the slit image 5a (longitudinal direction of the object 1). In this embodiment, the light source 2
And an illumination means including the cylindrical lens 3, and a light source
16 and the illumination means consisting of the cylindrical lens 17,
The slit image can be formed by switching appropriately according to the arrangement direction of the object to be inspected 1 and forming a slit image along a direction orthogonal to the longitudinal direction of the object to be inspected 1 like the slit image 5a shown in FIG. 1, for example. Use the other lighting method. Moreover, the irradiation position of the slit-shaped light (the position where the slit image is formed is the third
As shown in the figure, it is set at two positions (shown as first and second irradiation positions 32 and 33) in the front part and the rear part in the longitudinal direction of the test object 1. Such switching of the irradiation position is performed by the computer 14 described later by the drive motor 30 of the XY stage 11.
(Fig. 2) is driven and controlled to move the object 1 to be inspected to a desired position.

一方、第2の照明手段として、ファイバリング22が被検
物体1の上方に配設され、このファイバリング22は直線
状の光ファイバ21の一端に接続され、光ファイバ2の他
端は青い光のみを透過するフィルタ20を介してランプハ
ウス19に接続されている。これにより、ランプハウス19
内の光源からの光のうち、青色(第2の波長)の光のみ
を、フィルタ20を介し光ファイバ21内に伝搬させ、ファ
イバリング22の周辺から、記号18の描かれている被検物
体1上面へ矢印で示すように全面照射する。第1図は光
ファイバ21及びファイバリング22を模式的に描いてある
が、正確には、光ファイバ21は多数の光ファイバを束ね
たファイバ束からなり、そのファイバ束の一端がフィル
タ20に対接し、他端が被検物体1の方を向いた状態でリ
ング状に並べて配設されることでファイバリング22が構
成されている。なお、上記第1の照明手段から得られる
スリット状の赤色のレーザ光は、ファイバリング22によ
って囲まれた領域を通過して、被検物体1に照射され
る。
On the other hand, as a second illumination means, a fiber ring 22 is arranged above the object 1 to be inspected, the fiber ring 22 is connected to one end of a linear optical fiber 21, and the other end of the optical fiber 2 is a blue light. It is connected to the lamp house 19 via a filter 20 that transmits only light. This allows the lamp house 19
Of the light from the light source inside, only the blue (second wavelength) light is propagated through the filter 20 into the optical fiber 21, and the object to be inspected indicated by the symbol 18 is drawn from around the fiber ring 22. 1 The entire surface is irradiated onto the upper surface as indicated by an arrow. Although FIG. 1 schematically shows the optical fiber 21 and the fiber ring 22, to be precise, the optical fiber 21 is composed of a bundle of a plurality of optical fibers, one end of which is connected to the filter 20. The fiber ring 22 is formed by arranging them in contact with each other and arranging them in a ring shape with the other end facing the object to be inspected 1. The slit-shaped red laser light obtained from the first illumination means passes through the area surrounded by the fiber ring 22 and is irradiated on the object 1 to be inspected.

被検物体1の上方には、波長選択ミラーとして、赤色の
光だけを選択的に反射させその他の色の光を透過させる
赤反射ミラー23が配置されており、被検物体1から反射
されてきた赤色と青色の光を赤反射ミラー23で分離す
る。そして、赤反射ミラー23で反射された赤色の光を結
像レンズ24を介しテレビカメラ等の第1の撮像手段で撮
像し、一方、赤反射ミラー23を透過した青色の光を結像
レンズ26を介しテレビカメラ等の第2の撮像手段27で撮
像する。これにより、第1の撮像手段からは上記のスリ
ット像5a又は5bを含んだ「構造画像」が得られ、一方、
第2の撮像手段からは上記の信号18を含んだ「記号画
像」が得られる。
A red reflection mirror 23 that selectively reflects only red light and transmits light of other colors is arranged above the object to be inspected 1 as a wavelength selection mirror and is reflected from the object to be inspected 1. The red and blue lights are separated by the red reflecting mirror 23. Then, the red light reflected by the red reflection mirror 23 is imaged by the first imaging means such as a television camera through the imaging lens 24, while the blue light transmitted through the red reflection mirror 23 is imaged by the imaging lens 26. An image is taken by the second imaging means 27 such as a television camera via the. As a result, a “structure image” including the slit image 5a or 5b is obtained from the first image pickup means, while
A "symbol image" containing the signal 18 is obtained from the second image pickup means.

このようにして得られた構造画像と記号画像は、第2図
に示すように画像選択回路29に入力され、コンピュータ
14からの指令に従って画像の選択が行われる。そして、
この画像選択回路29を通過した画像(アナログ画像)
は、アナログ−デジタル変換器12によってデジタル画像
に変換されてから、画像メモリ13に格納される。このよ
うにして画像メモリ13に格納された構造画像と記号画像
に基づき、コンピュータ14が所定の処理を実行すること
により、プリント基板31に対する被検物体1の位置、傾
き、浮き状態、方向等を検査する。なお、コンピュータ
14は、検査しようとする被検物体の種類、正常な(本来
あるべき)位置、方向等のデータを予め備えており、こ
れらのデータを適宜使用する。
The structure image and the symbol image thus obtained are input to the image selection circuit 29 as shown in FIG.
The image is selected according to the command from 14. And
Image that has passed through this image selection circuit 29 (analog image)
Is converted into a digital image by the analog-to-digital converter 12 and then stored in the image memory 13. In this way, the computer 14 executes a predetermined process based on the structure image and the symbol image stored in the image memory 13 to determine the position, inclination, floating state, direction, etc. of the object 1 to be inspected with respect to the printed circuit board 31. inspect. Computer
The reference numeral 14 is preliminarily provided with data such as the type of the object to be inspected, the normal (original) position, and the direction, and these data are used as appropriate.

以下に、本実施例におけるコンピュータ14による処理ス
テップを、より具体的に説明する。
The processing steps performed by the computer 14 in this embodiment will be described below in more detail.

(A)まず、X−Yステージ11を適宜駆動することによ
り、スリット光が被検物体1の第1の照射位置32に照射
されるようにし、そのスリット像を第1の撮像手段25で
撮像して得られる構造画像を画像選択回路29で選択し、
そのデジタル変換された構造画像を画像メモリ13に格納
させる。
(A) First, by appropriately driving the XY stage 11, the slit light is irradiated to the first irradiation position 32 of the object 1 to be inspected, and the slit image thereof is picked up by the first image pickup means 25. Select the structural image obtained by the image selection circuit 29,
The digitally converted structure image is stored in the image memory 13.

(B)画像メモリ13に格納された構造画像に対して、プ
リント基板31上に本来あるべき被検物体1の正常な位置
にウインドを設定し、このウインド内からスリット像を
切り出す。第5図(B)は被検物体1がプリント基板31
に対し平行に配設された場合におけるウインド35の設定
例であり、第6図(B)は被検物体1がプリント基板31
に対し傾いて配設された場合におけるウインド35の設定
例である。これらの例では、連続したスリット像37の両
端で切り出しを行っており、その切り出しの位置は切り
出し部36として示してある。
(B) With respect to the structural image stored in the image memory 13, a window is set at a normal position of the object 1 to be inspected on the printed circuit board 31, and a slit image is cut out from this window. In FIG. 5B, the object 1 to be inspected is the printed circuit board 31.
FIG. 6 (B) shows an example of setting the window 35 when it is arranged in parallel with the printed circuit board 31.
7 is a setting example of the window 35 when the window 35 is inclined. In these examples, cutting is performed at both ends of the continuous slit image 37, and the position of the cutting is shown as the cutting portion 36.

(C)上記の切り出されたスリット像の位置と傾きか
ら、被検物体1の実際の位置と傾き(傾き角θ)を求め
る。このような位置と傾きは、従来の光切断法の原理に
基づいて求めることができる。それと共に、スリットの
長さを規定値(被検物体1の最小限の高さ或いはそれ以
下の高さに相当する値)と比較し、もし規定値以下であ
る場合には、プリント基板上に検査すべき被検物体が無
いと判断する。
(C) The actual position and inclination (inclination angle θ) of the object 1 to be inspected are obtained from the position and inclination of the cut-out slit image. Such a position and inclination can be obtained based on the principle of the conventional light cutting method. At the same time, the length of the slit is compared with a specified value (a value corresponding to the minimum height of the object to be inspected 1 or less), and if it is less than the specified value, it is placed on the printed circuit board. It is determined that there is no object to be inspected.

(D)続いて、第4図(B)に示すように、被検物体1
の傾き(傾き角θ)に基づき、被検物体1が正常な挿入
位置(正常挿入位置)33aに正しく挿入されているか、
或いは隣の誤った挿入位置33b、33cに挿入されていない
か、を判定する。
(D) Subsequently, as shown in FIG.
Whether the object 1 to be inspected is correctly inserted into the normal insertion position (normal insertion position) 33a based on the inclination (inclination angle θ) of
Alternatively, it is determined whether or not it is inserted into the next wrong insertion position 33b, 33c.

被検物体1がプリント基板31に対し平行に配置された場
合には、構造画像に含まれるスリット像は例えば第4図
(A)の(i)に示すように平行なスリット像37となる
が、第4図(B)に示すように被検物体1の幅方向に角
度θで傾いて配置された場合には、第4図(A)の(i
i)に示すように傾いたスリット像37となるので、この
スリット像37の傾き角から被検物体1の傾き角θを求め
ることができる。一方、スリット像における、被検物体
1上面にできたスリット像の位置とプリント基板上にで
きたスリット像の位置との差から、被検物体1の高さH
を求めることができる。
When the object 1 to be inspected is arranged parallel to the printed circuit board 31, the slit image included in the structural image becomes a parallel slit image 37 as shown in (i) of FIG. 4 (A), for example. , (I) of FIG. 4 (A), when the object 1 to be inspected is arranged at an angle of θ in the width direction as shown in FIG. 4 (b).
Since the slit image 37 is inclined as shown in i), the inclination angle θ of the object 1 to be inspected can be obtained from the inclination angle of the slit image 37. On the other hand, from the difference between the position of the slit image formed on the upper surface of the inspection object 1 and the position of the slit image formed on the printed board in the slit image, the height H of the inspection object 1 is calculated.
Can be asked.

このようにして傾き角θと高さHが求まったら、例えば
第4図(B)に示すように、M1=M+H sinθ等の数式
を用いることで、被検物体1の傾いた状態を撮像して得
られた位置Mを補正して、実際の挿入位置M1を求めるこ
とができる。ここで、上記のM、M1はx軸方向の位置を
示す。このようして得られた実際の挿入位置M1を、予め
知られている正常挿入位置と比較することにより、被検
物体1の正確な位置検出が可能となる。
When the tilt angle θ and the height H are obtained in this way, for example, as shown in FIG. 4 (B), the tilted state of the test object 1 is imaged by using a mathematical expression such as M 1 = M + H sin θ. The actual insertion position M 1 can be obtained by correcting the position M obtained in this way. Here, the above M and M 1 indicate the position in the x-axis direction. By comparing the actual insertion position M 1 obtained in this way with a previously known normal insertion position, it is possible to accurately detect the position of the test object 1.

(E)次に、X−Yステージ11を適宜駆動することによ
り、スリット光が被検物体1の第2の照射位置33に照射
されるようにし、そのスリット像を第1の撮像手段25で
撮像して得られる構造画像を画像選択回路29で選択し、
そのデジタル変換された構造画像を画像メモリ13に格納
させる。
(E) Next, by appropriately driving the XY stage 11, the slit light is irradiated onto the second irradiation position 33 of the object 1 to be inspected, and the slit image thereof is detected by the first image pickup means 25. Select the structural image obtained by imaging in the image selection circuit 29,
The digitally converted structure image is stored in the image memory 13.

(F)この画像メモリ13に格納された構造画像に対し、
上記(B)〜(D)と同様な処理を繰り返すことによ
り、被検物体1の位置、傾き、有無等の検査を行う。
(F) For the structure image stored in this image memory 13,
By repeating the processes similar to the above (B) to (D), the inspection of the position, inclination, presence or absence of the object 1 to be inspected is performed.

(G)以上の(A)〜(F)の処理で求めた被検物体1
の第1の照射位置32での平均高さと第2の照射位置33で
の平均高さの差を求めて、その値が所定の規定値以上の
場合には被検物体1がプリント基板31に対し浮き上がっ
た「浮き欠陥」であると判断する。
(G) Object to be inspected 1 obtained by the above processes (A) to (F)
The difference between the average height at the first irradiation position 32 and the average height at the second irradiation position 33 is calculated, and when the value is equal to or more than a predetermined specified value, the object 1 to be measured is printed on the printed circuit board 31. On the other hand, it is judged that it is a “floating defect” that has emerged.

被検物体1がタンタルコンデンサであるとすると、プリ
ント基板31に対して挿入される被検物体1のリード電極
は2つであるが、例えば一方のリード電極が深く入り込
んで半田付けされ、他のリード電極が浅く入り込んで半
田付けされた場合には、被検物体1が浮き上がる状態と
なる。このような状態では、第3図に示すように第1、
第2の照射位置32、33にスリット光を照射すると、第4
図(A)の(iii)に示すように2つのスリット像にお
けるy軸方向の高さh(x)、h′(x)が互いに異な
るために、これらh(x)とh′(x)の差が浮き上が
り量の大きさに相当し、この差から「浮き欠陥」か否か
を判断できる。
If the object to be inspected 1 is a tantalum capacitor, the object to be inspected 1 inserted into the printed circuit board 31 has two lead electrodes. For example, one of the lead electrodes is deeply inserted and soldered. When the lead electrodes are shallowly inserted and soldered, the object 1 to be inspected is in a floating state. In such a state, as shown in FIG.
When the slit light is emitted to the second irradiation positions 32 and 33, the fourth irradiation is performed.
Since the heights h (x) and h ′ (x) in the y-axis direction in the two slit images are different from each other as shown in (iii) of FIG. (A), these h (x) and h ′ (x) are different. Corresponds to the size of the floating amount, and from this difference it can be determined whether or not it is a “floating defect”.

(H)次に、第2の撮像手段27から得られた記号画像を
画像選択回路29で選択し、そのデジタル変調された記号
画像を画像メモリ13に格納させる。
(H) Next, the symbol image obtained from the second image pickup means 27 is selected by the image selection circuit 29, and the digitally modulated symbol image is stored in the image memory 13.

(I)画像メモリ13に格納された記号画像に対して、上
記(A)〜(G)の処理で求めた被検物体1の位置、傾
き、浮き上がり量に基づき、被検物体1上の記号18の描
かれているべき位置と、その反対側の位置に、それぞれ
ウインド(正方向ウインドと逆方向ウインド)を設定す
る。第5図(A)は被検物体1がプリント基板31に対し
平行に配設された場合における正、逆方向ウインド34
a、34bの設定例であり、第6図(A)は被検物体1がプ
リント基板31に対し傾いて配設された場合における正、
逆方向ウインド34a、34bの設定例である。
(I) For the symbol image stored in the image memory 13, the symbol on the object 1 to be inspected is calculated based on the position, the inclination, and the lift amount of the object 1 to be inspected, which are obtained by the processes (A) to (G). Set the windows (forward direction window and reverse direction window) at the 18 positions to be drawn and the position on the opposite side. FIG. 5 (A) shows the forward and reverse windows 34 when the object 1 to be inspected is arranged parallel to the printed circuit board 31.
6A is an example of setting a and 34b, and FIG. 6A shows a positive value when the object 1 to be inspected is arranged to be inclined with respect to the printed circuit board 31,
It is a setting example of the reverse windows 34a and 34b.

(J)記号画像に対して設定された上記2つのウインド
内において、記号認識のための処理を行い、正方向ウイ
ンド内で記号18が認識された場合には被検物体1の極性
が合っている(方向が正常である)と判断し、逆に、逆
方向ウインド内で記号18が認識された場合には被検物体
1の極性が逆である(方向が反対である)と判断する。
具体的には、上記2つのウインド内において、例えば輝
度が所定値以上のビット数を求め、正方向ウインド内の
ビット数が逆方向ウインド内のビット数よりも小さけれ
ば、記号18が逆方向ウインド内に存在することになるの
で、被検物体1の方向が反対であると判断する。第5図
(A)や第6図(A)では、記号18が正方向ウインド34
a内に存在しているため、正常であると判断される。な
お、記号18が第3図のような単なるマークの場合であっ
ても、或いは第6図(A)のような文字の場合であって
も、正確な方向判断が可能である。
(J) In the two windows set for the symbol image, the process for symbol recognition is performed, and when the symbol 18 is recognized in the forward direction window, the polarities of the object 1 to be measured are correct. If the symbol 18 is recognized in the reverse direction window, it is determined that the polarity of the object 1 to be inspected is opposite (direction is opposite).
Specifically, in the above two windows, for example, the number of bits whose brightness is equal to or larger than a predetermined value is obtained, and if the number of bits in the forward direction window is smaller than the number of bits in the backward direction window, symbol 18 indicates the backward direction window. Since it exists inside, it is determined that the direction of the object to be inspected 1 is opposite. In FIG. 5 (A) and FIG. 6 (A), the symbol 18 indicates the forward direction window 34.
Since it exists in a, it is judged to be normal. Even if the symbol 18 is a simple mark as shown in FIG. 3 or a character as shown in FIG. 6 (A), accurate direction determination is possible.

以上の(A)〜(J)の一連の処理によって、例えば極
性を有するタンタルコンデンサ等のような被検物体1個
の検査が終了する。プリント基板上に検査すべき部品等
が複数個ある場合には、以上の処理を各被検物体毎に繰
り出す。
Through the series of processes (A) to (J) described above, the inspection of one inspected object such as a polar tantalum capacitor is completed. When there are a plurality of parts or the like to be inspected on the printed circuit board, the above processing is repeated for each object to be inspected.

従って、本実施例によれば、被検物体1の位置、傾き、
浮き状態等の正確な検査が可能であるばかりか、その位
置や傾きの情報から記号認識用のウインドを正確に設定
できるようにしたので、たとえ被検物体1の挿入位置が
ずれていたり、傾いたりしている場合であっても、被検
物体に描かれた記号を認識でき、それにより被検物体の
方向をも正確に検査することができる。しかも、位置や
傾きの検査のためのウインドだけでなく、記号認識のた
めのウインドも正確に設定できることから、処理の対象
となるデータ量を極力抑えることができ、検査時間の大
幅な短縮を実現できる。
Therefore, according to the present embodiment, the position, inclination, and
Not only is it possible to perform an accurate inspection of the floating state, etc., but since the window for symbol recognition can be set accurately from the information of the position and inclination, even if the insertion position of the object 1 to be inspected is shifted or tilted. Even if it is, the symbol drawn on the test object can be recognized, so that the direction of the test object can be accurately inspected. Moreover, not only the window for inspecting the position and tilt but also the window for symbol recognition can be set accurately, so the amount of data to be processed can be suppressed as much as possible, and the inspection time can be greatly shortened. it can.

なお、上記実施例において採用した第2の照明手段は、
第1図に示したように、ファイバリング22によって被検
物体1を上方から青い光で照明するものである。この照
明手段の概略的な側面図と平面図をそれぞれ第7図
(A)、(B)に示す。ファイバリング22で照明される
被検物体1がプリント基板31に対して第7図(A)に示
すように傾いて取り付けられていると、ファイバリング
22からの照明光38が正反射光となって第2の撮像手段27
へ入射する場合があり、このような場合には、第7図
(B)に示すように被検物体1の上面が全体的に光って
光沢面39となり、被検物体1の表面に描かれた記号18を
読み取ることが不可能となる。このような状態で第2の
撮像手段27から得られる記号画像は、例えば第9図
(A)に示す記号画像40のように、被検物体1上面の記
号18の描かれている部分が正反射光によって真っ白な反
射面41となるだけでなく、記号の付されていない異色本
体部分も白く反射してしまう。このような場合、ファイ
バリング22を被検物体1に近づければ正反射光の発生を
抑えることができるが、被検物体1がその隣接配置され
た部品の影になってしまうという問題が生じる。
The second lighting means adopted in the above embodiment is
As shown in FIG. 1, the object 1 to be inspected is illuminated with blue light from above by the fiber ring 22. A schematic side view and a plan view of this illumination means are shown in FIGS. 7 (A) and (B), respectively. When the object 1 to be inspected illuminated by the fiber ring 22 is attached to the printed circuit board 31 while being inclined as shown in FIG.
Illumination light 38 from 22 becomes specular reflection light, and second imaging means 27
In some cases, the upper surface of the object 1 to be inspected shines as a glossy surface 39 as shown in FIG. 7 (B), and is drawn on the surface of the object 1 to be inspected. It becomes impossible to read the symbol 18. In the symbol image obtained from the second image pickup means 27 in such a state, for example, as in the symbol image 40 shown in FIG. Not only does it become a pure white reflecting surface 41 due to the reflected light, but also the different-colored main body portion not marked is also reflected in white. In such a case, the generation of specular reflection light can be suppressed by bringing the fiber ring 22 close to the object 1 to be inspected, but the object 1 to be inspected becomes a shadow of a component arranged adjacent thereto. .

そこで、このような被検物体1に描かれた記号18を高コ
ントラストで読み取るための手段として、例えば第8図
のように構成することが望ましい。この構成は、プリン
ト基板31に対して被検物体1が長手方向に傾くことはほ
とんどなく、被検物体1はその幅方向に傾く場合が多い
ことに鑑みてなされたものである。第8図(A)に示す
ように、被検物体1の傾き角θは幅方向に最大±20゜
程度である。そして、被検物体1の取り付け方向はプリ
ント基板31のx軸方向に被検物体1の長手方向を沿わせ
る場合と、y軸方向に沿わせる場合とがあるので、被検
物体1はプリント基板31の前後方向(x軸方向)もしく
は左右方向(y軸方向)に傾く。そこで、第8図では、
ファイバリング22の前後および左右の領域を遮光する遮
光板43を配設して、被検物体1の傾き易い方向から光が
照射されないように、すなわち正反射光の生じる方向か
らの光照射が行われないように構成したものである。
Therefore, it is desirable to configure, for example, as shown in FIG. 8 as a means for reading the symbol 18 drawn on the object 1 to be inspected with high contrast. This configuration is made in view of the fact that the object to be inspected 1 hardly tilts in the longitudinal direction with respect to the printed circuit board 31 and the object to be inspected 1 often tilts in the width direction. As shown in FIG. 8 (A), the inclination angle θ 1 of the object 1 to be inspected is about ± 20 ° at the maximum in the width direction. The mounting direction of the object to be inspected 1 may be along the longitudinal direction of the object to be inspected 1 in the x-axis direction of the printed circuit board 31 or in the direction of y-axis. Inclination in the front-back direction (x-axis direction) or left-right direction (y-axis direction) of 31. So, in FIG.
Light-shielding plates 43 that shield the front and rear and right and left regions of the fiber ring 22 are provided so that light is not emitted from the direction in which the object 1 to be inspected is likely to tilt, that is, light is emitted from the direction in which regular reflection light is generated. It is constructed so as not to be broken.

このような構成とすると、被検物体1に描かれた記号18
を第2の撮像手段27で明確に画像化することができる。
すなわち、第9図(B)に示す記号画像40のように、同
図(A)の場合と比べて被検物体1上面の記号18の描か
れている部分が正反射光によって真っ白な反射面となる
ことはなくなり、記号18をコントラスト良く読み取るこ
とができる。
With such a configuration, the symbol 18 drawn on the object 1 to be inspected
Can be clearly imaged by the second imaging means 27.
That is, as in the symbol image 40 shown in FIG. 9 (B), the portion where the symbol 18 is drawn on the upper surface of the object 1 to be inspected is pure white by the specular reflection light as compared with the case of FIG. 9 (A). And the symbol 18 can be read with good contrast.

また、上記実施例における構造画像からのスリット像の
切り出しは、第6図(B)に示したように、ウインド35
内でスリット像37の連続している部分の左右端を切り出
し部36として行っている。通常、スリット像37は平面部
のスリット像37aと側面部のスリット像37bとが連なって
いるため、上記のように連続している部分の左右端で切
り出しを行う方法では、被検物体1が傾きを持っていて
側面部にもスリット像が形成されていたり、他の隣接す
る部品と接触していたりすると、それら不要なスリット
像をも含めて切り出してしまうことがある。従って、被
検物体1の位置を誤って検出してしまうといった弊害も
生じかねない。そこで、このような弊害を解消するため
の切り出し方法を、以下に説明する。
In addition, the slit image is cut out from the structural image in the above-described embodiment as shown in FIG.
The left and right ends of the continuous portion of the slit image 37 are cut out as the cutout portion 36. In general, the slit image 37 is composed of the slit image 37a on the flat surface and the slit image 37b on the side surface. Therefore, in the method of cutting out at the left and right ends of the continuous portion as described above, If there is an inclination and a slit image is formed on the side surface portion, or if it is in contact with another adjacent component, the unnecessary slit image may be cut out. Therefore, there may be a problem that the position of the object to be inspected 1 is erroneously detected. Therefore, a clipping method for eliminating such an adverse effect will be described below.

この切り出し方法では、最初に一次切り出しを行い、次
に二次切り出しを行う。まず、一次切り出しについて説
明する。いま、第10図に示すように、ウインド35内のx
軸方向の任意の位置xにおけるスリット像37のy軸方向
の位置を高さh(x)として表すことにする。また、ウ
インド内にスリット像がない時はh(x)=0とする。
第11図にウインドとスリット像の切り出し位置との関係
を示し、第12図に切り出し処理を表すフローチャートを
示す。第11図で、ウインド35内をその左端である原点0
からx軸方向に右端xendまで走査し、高さh(x)を求
めていく。そして、次の(i)〜(iv)の条件の少なく
とも1つが成立した位置で、すなわち、高さに大きな差
が有る位置や、傾きが大きく変化する位置で、切り出し
(一次切り出し)を行う。第11図の例では、条件(ii)
を満たす位置C1と条件(iv)を満たす位置C2にそれぞれ
切り出し部が設定されている。
In this cutting method, first cutting is performed first, and then second cutting is performed. First, the primary cutout will be described. Now, as shown in FIG. 10, x in the window 35
A position in the y-axis direction of the slit image 37 at an arbitrary position x in the axial direction will be represented as a height h (x). When there is no slit image in the window, h (x) = 0.
FIG. 11 shows the relationship between the window and the cutout position of the slit image, and FIG. 12 shows a flowchart showing the cutout processing. In Fig. 11, the origin 0 at the left end of the window 35
To the right end x end in the x-axis direction to obtain the height h (x). Then, cutout (primary cutout) is performed at a position where at least one of the following conditions (i) to (iv) is satisfied, that is, at a position where there is a large difference in height or a position where the inclination changes significantly. In the example of FIG. 11, the condition (ii)
The cutouts are set at the position C 1 that satisfies the condition and the position C 2 that satisfies the condition (iv).

(i) |s(x)|≧hdiff (ii) h(x)>0 and h(x−1)=0 (iii) h(x)=0 and h(x−1)>0 (iv) |s(x+1)−s(x−1)|≧sdiff ここで、s(x)=h(x+1)−h(x−1)であっ
て、s(x)はスリット像の傾きに対応する。また、h
diffとsdiffはそれぞれ高さ断絶許容値と傾き断絶許容
値である。
(I) | s (x) | ≧ h diff (ii) h (x)> 0 and h (x−1) = 0 (iii) h (x) = 0 and h (x−1)> 0 (iv ) | S (x + 1) −s (x−1) | ≧ s diff where s (x) = h (x + 1) −h (x−1), where s (x) is the inclination of the slit image. Correspond. Also h
diff and s diff are the height break allowance and the slope break allowance, respectively.

このような一次切り出しの処理を、第12図のフローチャ
ートを用いて、以下に詳しく説明する。
Such a primary cutting process will be described in detail below with reference to the flowchart of FIG.

まず、第12図のステップ48で、x軸方向の位置x、この
位置xにスリット像が存在する場合に「1」が設定され
るフラグであるスリットフラグsflg、及び左端と右端の
切り出し位置C1、C2をいずれも初期値「0」に設定す
る。次に、ステップ49で、位置xにおけるスリット像の
高さh(x)の読み出しを行い、ステップ50で、高さh
(x)=0かどうか、すなわち位置xにスリット像が存
在しないかどうかの判別を行う。
First, in step 48 of FIG. 12, a position x in the x-axis direction, a slit flag s flg that is a flag that is set to “1” when a slit image exists at this position x, and the left and right cutout positions. Both C 1 and C 2 are set to the initial value “0”. Next, in step 49, the height h (x) of the slit image at the position x is read out, and in step 50, the height h (x) is read.
It is determined whether or not (x) = 0, that is, whether or not there is a slit image at the position x.

上記ステップ50においてh(x)=0と判別された場合
は、位置xにスリット像が存在しないことになるので、
今後はステップ52でスリットフラグsflg=0かどうかの
判別を行い、sflg=0であれば未だスリット像を検出し
ていないことになるので、ステップ53で位置xに1を加
えることで1つ次の位置を設定する。そしてステップ54
で、位置xがウインド35の右端である終了位置xend以下
であるかどうかを判別し、x≦xendであれば上記ステッ
プ49に戻る。
If h (x) = 0 is determined in step 50, it means that there is no slit image at the position x.
From now on, it is determined in step 52 whether or not the slit flag s flg = 0. If s flg = 0, it means that the slit image has not been detected yet. Therefore, in step 53, 1 is added to the position x. Set the next position. And step 54
Then, it is determined whether or not the position x is equal to or less than the end position x end which is the right end of the window 35. If x ≦ x end , the process returns to step 49.

上記ステップ50においてh(x)=0でないと判別され
た場合、すなわち位置xにスリット像が存在することが
分かった場合には、ステップ51でスリットフラグsflg
0かどうかを判別し、もしsflg=0である時には、スリ
ット像の左端が検出されたことになり、上記の条件(i
i)が成立するので、ステップ56へ進み、切り出し左端C
1にその時の位置xの値を設定すると共に、スリットフ
ラグsflgに「1」を設定してから、上記ステップ53へ移
る。
When it is determined in step 50 that h (x) = 0 is not satisfied, that is, when it is found that the slit image exists at the position x, the slit flag s flg =
It is determined whether or not 0. If s flg = 0, it means that the left edge of the slit image is detected, and the above condition (i
Since i) holds, proceed to step 56 and cut out the left end C
It sets the value of the position x at that time to 1, set to "1" to the slit flag s flg, proceeds to step 53.

一方、上記ステップ51においてsflg=0でないと判断さ
れた場合、すなわち、既にスリット像の左端の検出が済
んでいる場合には、ステップ57へ進み、位置xと位置x
−2における高さの差s(x−1)=h(x)−h(x
−2)を求め、この差が高さ断絶許容値hdiff以上かど
うか、すなわち上記の条件(i)が成立するかどうかを
ステップ58で判断する。高さの差s(x−1)の絶縁値
が高さ断絶許容値hdiffよりも小さければ、更にステッ
プ59へ進み、位置x−1における高さの差s(x−1)
から位置x−3における高さの差s(x−3)を差し引
いた値(傾きの差)ss=s(x−1)−s(x−3)を
求め、この傾きの差ssの絶対値が傾き断絶許容値sdiff
以上かどうか、すなわち上記の条件(iv)が成立するか
どうかをステップ60で判別する。もし、傾きの差ssの絶
対値か傾き断絶許容値sdiffよりも小さければ、その時
の位置xが切り出しを行うべきではないとして、上記ス
テップ53へ移行する。
On the other hand, if it is determined in step 51 that s flg = 0 is not established, that is, if the left end of the slit image has already been detected, the process proceeds to step 57, where x and x
Difference in height at −2 s (x−1) = h (x) −h (x
-2) is determined, and it is determined in step 58 whether this difference is equal to or greater than the height disconnection allowable value h diff , that is, whether the above condition (i) is satisfied. If the insulation value of the height difference s (x-1) is smaller than the height disconnection allowable value h diff , the process further proceeds to step 59, and the height difference s (x-1) at the position x-1.
Value (slope difference) ss = s (x-1) -s (x-3) obtained by subtracting the height difference s (x-3) at the position x-3 from the absolute value of the slope difference ss. Value slope disconnection tolerance s diff
It is determined in step 60 whether or not the above is satisfied, that is, whether or not the above condition (iv) is satisfied. If the absolute value of the slope difference ss is smaller than the slope disconnection allowable value s diff, it is determined that the position x at that time should not be clipped, and the process proceeds to step 53.

また、上記ステップ58で高さの差s(x−1)の絶対値
が高さ断絶許容値hdiff以上である場合(すなわち、上
記の条件(i)が成立する場合)、又は、上記ステップ
60で傾きの差ssの絶対値が傾き断絶許容値sdiff以上で
ある場合(すなわち、上記の条件(iv)が成立する場
合)、又は、上記ステップ52でスリットフラグsflg=0
でない場合(すなわち、上記の条件(iii)が成立する
場合)には、いずれも切り出しを行うべき右端位置であ
ることから、ステップ61へ進み、切り出し右端C2にその
時の位置xよりも1つ前の位置x−1の値を設定する。
そして、ステップ62で切り出し右端C2と切り出し左端C1
との差をとることにより、切り出されるスリット像のx
軸方向のサイズSを求める。切り出し位置が正しけれ
ば、上記サイズSは被検物体の横幅にほぼ等しい(傾い
ている分だけ若干小さくなる)はずである。そこで、切
り出し位置が正しいかどうかを判断するために、ステッ
プ63へ進み、上記サイズSが、被検物体の横幅の正常サ
イズSnに許容最小値MIN(例えば0.7程度)を掛けた値
(Sn×MIN)以上の大きさかどうかを判別し、S≧Sn×M
INであれば、2つの切り出し位置C1、C2は正しいものと
して、処理を終了する。
When the absolute value of the height difference s (x-1) is equal to or larger than the height disconnection allowable value hdiff in step 58 (that is, when the above condition (i) is satisfied), or the above step
If the absolute value of the slope difference ss is greater than or equal to the slope disconnection allowable value s diff at 60 (that is, the above condition (iv) is satisfied), or the slit flag s flg = 0 at step 52 above.
If it is not (that is, if the above condition (iii) is satisfied), it is the right end position where the cutout is to be performed, so the process proceeds to step 61, and the cutout right end C 2 is one position more than the position x at that time. Set the value of the previous position x-1.
Then, in step 62, the cutout right end C 2 and the cutout left end C 1
X of the slit image cut out by taking the difference with
The size S in the axial direction is calculated. If the cutout position is correct, the size S should be approximately equal to the lateral width of the object to be inspected (it becomes slightly smaller as it is inclined). Therefore, in order to determine whether or not the cutout position is correct, the process proceeds to step 63, and the size S is a value (Sn × MIN) or larger, and S ≧ Sn × M
If it is IN, the two cutout positions C 1 and C 2 are regarded as correct, and the processing ends.

一方、上記ステップ63においてS≧Sn×MINでなけれ
ば、切り出されたスリット像のサイズが異常に小さいこ
とになるので、その時の位置xを切り出し右端C2とする
のではなく、最初の切り出し位置である切り出し左端C1
とするのが正しく、既に切り出し左端C1に設定されてい
る位置は誤りであった(すなわち、例えば被検物体の側
面に形成された不要なスリット像の左端位置等であっ
た)と判断できる。そこで、このような場合には、ステ
ップ56へ進んで、改めて切り出し左端C1にその時の位置
xを設定すると共に、スリットフラグsflgに1を設定す
る。そして、本当の切り出し右端C2が見つかるまで、同
様な処理を続けることになる。
On the other hand, if S ≧ Sn × MIN in step 63, the size of the slit image cut out is abnormally small. Therefore, the position x at that time is not set as the cutout right end C 2 but the first cutout position. Is the cutout left edge C 1
Is correct, and it can be judged that the position already set at the left end C 1 of the cutout is incorrect (that is, the left end position of the unnecessary slit image formed on the side surface of the object to be inspected, for example). . Therefore, in such a case, the routine proceeds to step 56, where the position x at that time is newly set to the cutout left end C 1 and 1 is set to the slit flag s flg . Then, the same processing is continued until the real cutout right end C 2 is found.

ここで、以上のステップからなる一次切り出し処理を、
第13図を用いて具体的に説明してみる。被検物体1が傾
いて実装されている場合、第13図(A)に示すように、
ウインド35内には位置や傾きの検知に必要のない側面部
のスリット像37bを存在することになるが、この側面部
のスリット像37bは平面部のスリット像37bの一端と連続
して一連のスリット像37を構成し、また、平面部のスリ
ット像37aの他端はどのスリット像とも連続していな
い。そこで、このようなウインド35内から、平面部のス
リット像37aのみを切り出すために、まず、第13図
(B)に示すように、x軸方向にx=0の位置からy軸
方向の高さh(x)を求めていき、この高さh(x)が
急激に変化する位置45を第13図(D)のように左端の切
り出し位置(切り出し左端)C1とする。このようにして
切り出し左端C1が見つかったら、今度は第13図(C)に
示すように、互いに隣接する位置の高さh(x)の値か
ら傾きs(x)を求めていき、この傾きs(x)が大き
く変化する位置46を第13図(D)のように右端の切り出
し位置(切り出し右端)C2とする。
Here, the primary cutting process consisting of the above steps,
A concrete explanation will be given with reference to FIG. When the object 1 to be inspected is mounted at an inclination, as shown in FIG. 13 (A),
There will be a slit image 37b of the side surface that is not necessary for detecting the position and inclination in the window 35, but this slit image 37b of the side surface is continuous with one end of the slit image 37b of the flat surface and is a series of images. The slit image 37 is formed, and the other end of the slit image 37a on the plane portion is not continuous with any slit image. Therefore, in order to cut out only the slit image 37a of the flat portion from the inside of the window 35, first, as shown in FIG. 13 (B), the height in the y-axis direction is increased from the position of x = 0 in the x-axis direction. The height h (x) is calculated, and the position 45 at which the height h (x) changes abruptly is set as the left cutout position (cutout left end) C 1 as shown in FIG. 13 (D). When the cutout left end C 1 is found in this way, this time, as shown in FIG. 13 (C), the slope s (x) is obtained from the values of the heights h (x) at positions adjacent to each other. The position 46 at which the inclination s (x) greatly changes is defined as the cutout position at the right end (cutout right end) C 2 as shown in FIG. 13 (D).

また、被検物体1が第13図(A)の場合のは逆向きに傾
いている場合もありうるが、このような場合は側面部の
スリット像37bが平面部のスリット像37aの左端につなが
った状態となる。このようなスリット像の場合は、ま
ず、側面部のスリット像37bの右端を切り出し左端C1
し、スリット像37bの右端を切り出し右端C2としてしま
うが、このようにすると切り出されたスリット像のサイ
ズS(=C2−C1)が正常サイズの許容最小値(=Sn×MI
N)を下回ることになり、正しい切り出し位置ではない
ことがわかる。よって、このような場合には、改めて側
面部のスリット像37bの右端(すなわち平面部のスリッ
ト像37aの左端)を切り出し左端C1とし、その後、急激
に高さの変化する位置を見つけることにより、平面部の
スリット像37aの右端を切り出し右端C2とすることがで
きる。
The object 1 to be inspected may be tilted in the opposite direction to that in the case of FIG. 13 (A), but in such a case, the slit image 37b on the side surface portion is located at the left end of the slit image 37a on the flat surface portion. It becomes a connected state. For such slit image, first, the left end C 1 cut the right edge of the slit image 37b of the side portion, but results in the right end C 2 cut the right edge of the slit image 37b, the slit image which is cut out In this manner Size S (= C 2 −C 1 ) is the minimum allowable size (= Sn × MI)
It will be below N), and it can be seen that it is not the correct cutting position. Therefore, in such a case, the right end of the slit image 37b on the side surface (that is, the left end of the slit image 37a on the flat surface) is cut out again as the left end C 1, and then the position where the height changes abruptly is found. , The right end of the slit image 37a of the plane portion can be cut out and set as the right end C 2 .

次に、上記の一次切り出しに引き続いて行われる二次切
り出しについて、第14図のフローチャートを用いて説明
する。まずステップ65で、上記の一次切り出しの処理で
切り出されたスリット像のサイズS(=C2−C1)を求め
てから、次のステップ66へ進み、上記サイズSが、被検
物体1の横幅の正常サイズSnに許容最大値max(例え
ば、1.2程度)を掛けた値(Sn×max)よりも大きいかど
うかを判別し、もしS>Sn×maxでなければ、2つの切
り出し位置C1、C2は正しいものとして、全体の処理を終
了する。
Next, the secondary cutout performed after the above-mentioned primary cutout will be described with reference to the flowchart of FIG. First, in step 65, the size S (= C 2 −C 1 ) of the slit image cut out by the above-described primary cutting processing is obtained, and then the process proceeds to the next step 66, in which the size S is the size of the object 1 to be inspected. It is determined whether or not it is larger than a value (Sn × max) obtained by multiplying the normal width Sn of the width by an allowable maximum value max (for example, about 1.2), and if S> Sn × max, two cutting positions C 1 , C 2 is correct, and the whole process is terminated.

一方、上記ステップ66においてS>Sn×maxである場合
は、切り出されたスリット像のサイズが異常に大きいこ
とになるので、2つの切り出し位置C1、C2のどちらかが
正しくないと判断でき、よって、新たな切り出し位置を
探さなければならない。そこで、まずステップ68で、ウ
インドの終了位置xendを2分した値を求め、この値をウ
インドの中心位置xCENTとする。続いて、ステップ69
で、切り出し左端C1とウインド中心位置xCENTとの差の
絶対値を求めて、この値をウインド中心位置xCENTから
切り出し左端C1までの距離Lwとすると共に、切り出し右
端C2とウインド中心位置xCENTとの差の絶対値を求め
て、この値をウインド中心位置xCENTから切り出し左端C
2までの距離Rwとする。
On the other hand, if S> Sn × max in step 66, the size of the cut slit image is abnormally large, so it can be determined that either of the two cut positions C 1 and C 2 is incorrect. Therefore, we have to find a new cutting position. Therefore, first in step 68, a value obtained by dividing the end position x end of the window into two is obtained, and this value is set as the center position x CENT of the window. Then, step 69
, Find the absolute value of the difference between the left edge C 1 of the cutout and the center position x CENT of the window, and use this value as the distance Lw from the center position x CENT of the window to the left edge C 1 of the cutout, and the right edge C 2 of the cutout and the center of the window. Obtain the absolute value of the difference from the position x CENT, and cut this value from the window center position x CENT to the left end C
The distance to 2 is Rw.

そして、ステップ70で上記の距離Lw、Rwを互いに比較
し、Lw<Rwであれば、切り出し左端C1の位置は正しいが
切り出し右端C2の位置は右方向へ寄り過ぎていると判断
できるので、ステップ72で、切り出し左端C1の値に被検
物体1の横幅の正常サイズSnを加えた値を、新たな切り
出し右端C2として設定してから、全体の処理を終了す
る。一方、Lw<Rwでなければ、切り出し右端C2の位置は
正しいが切り出し左端C1の位置は左方向へ寄り過ぎてい
ると判断できるので、ステップ71で、切り出し右端C2
値から被検物体1の横幅の正常サイズSnを差し引いた値
を、新たな切り出し左端C1として設定してから、全体を
処理を終了する。すなわち、2つの切り出し位置C1、C2
のうちウインドの中心位置xCENTに近い方の切り出し位
置を正しいものと判断し、そこからSnだけ離れた位置に
もう1つの切り出し位置を新たに設定する。
Then, in step 70, the above distances Lw and Rw are compared with each other, and if Lw <Rw, it can be determined that the position of the cutout left end C 1 is correct, but the position of the cutout right end C 2 is too close to the right direction. In step 72, a value obtained by adding the normal size Sn of the lateral width of the object 1 to the value of the cutout left end C 1 is set as a new cutout right end C 2 , and then the entire process is ended. On the other hand, unless Lw <Rw, since the position of the cut-out right end C 2 is correct the position of the cut-out left C 1 can be determined to have too close to the left, at step 71, a test from the value of the cut-out right end C 2 A value obtained by subtracting the normal size Sn of the width of the object 1 is set as a new cutout left end C 1 , and then the entire process is terminated. That is, two cutting positions C 1 and C 2
The cutout position closer to the center position x CENT of the window is judged to be correct, and another cutout position is newly set at a position separated by Sn from that position.

以上のような一次及び二次の切り出し処理によって得ら
れる切り出し例を第15図と第17図に示す。第15図は、被
検物体1が基板に対し傾いて取り付けられ、しかも隣接
する部品とは接触していない場合であり、このような場
合は、一次切り出し処理によって得られた切り出し位置
C1、C2が正しい切り出し位置となり、これにより平面部
のスリット像37のみを正確に切り出することができる。
一方、第17図は、第16図に示すように被検物体1にその
隣の被検物体1aが接触している場合に得られるスリット
像を示しており、このような場合は、一次切り出しによ
って得られる切り出し位置C1、C2のうち切り出し左端C1
が被検物体1aの左端までずれてしまうが、二次切り出し
を行うことにより切り出し左端C1正しい位置に設定する
ことが可能となり、よって、被検物体1の平面部のスリ
ット像のみを正しく切り出すことができる。
15 and 17 show cutout examples obtained by the above-described primary and secondary cutout processing. FIG. 15 shows the case where the object 1 to be inspected is mounted at an angle to the substrate and is not in contact with the adjacent parts. In such a case, the cutting position obtained by the primary cutting process is performed.
C 1 and C 2 are the correct cutout positions, so that only the slit image 37 on the flat surface can be cut out accurately.
On the other hand, FIG. 17 shows a slit image obtained when the object to be inspected 1a adjacent to the object to be inspected 1a is in contact with the object to be inspected 1 as shown in FIG. Cutout left end C 1 of the cutout positions C 1 and C 2 obtained by
Although but shifted to the left edge of the object to be inspected 1a, it is possible to set the cut left C 1 correct position by performing the secondary cut, thus extracting only the slit image of the flat portion of the test object 1 properly be able to.

ところで、被検物体1の表面状態、例えば色彩、光沢、
傾き具合等が異なると、これを撮像する場合の輝度が著
しく変化することがある。そのため、光量変動に対して
の安定性と検査精度が劣化するといった問題も考えられ
る。そこで、このような問題を解決するための1つの手
段として、画像を多階調で検出し、これらの中で最大輝
度の画像を抽出していくようにした検査方法を以下に説
明する。
By the way, the surface condition of the object 1 to be inspected, such as color, gloss,
If the degree of inclination is different, the brightness when capturing an image may change significantly. Therefore, there may be a problem that the stability and the inspection accuracy with respect to the fluctuation of the light amount are deteriorated. Therefore, as one means for solving such a problem, an inspection method will be described below in which an image is detected in multiple gradations and an image with the maximum brightness is extracted from these.

まず、第19図に示すように、検査しようとする領域にウ
インド35を設定し、その中のx軸方向の各位置における
高さh(x)を検出していくわけだが、その際に、各位
置x毎に画像をy軸方向に走査し、その中で最高輝度を
持つビットをスリット像37の一部として検出する。この
ようにして得られたスリット像37はy軸方向に数ビット
の幅を持っているので、その中心の位置を求めて高さh
(x)とする。また、最高輝度を検出して得られる像を
スリット像とした場合、このスリット像が2箇所以上検
出される場合もあり得るが、このような場合には像の幅
の大きい方を本当のスリット像とする。また、検出した
最高輝度が最低限必要な輝度よりも小さい時は、スリッ
ト像37が存在しないものとする。
First, as shown in FIG. 19, the window 35 is set in the area to be inspected, and the height h (x) at each position in the x-axis direction is detected. At that time, The image is scanned in the y-axis direction at each position x, and the bit having the highest brightness is detected as a part of the slit image 37. Since the slit image 37 thus obtained has a width of several bits in the y-axis direction, the height h
(X). In addition, when the image obtained by detecting the maximum brightness is a slit image, this slit image may be detected at two or more locations. In such a case, the one with the larger image width is the real slit. Make it a statue. When the detected maximum brightness is lower than the minimum required brightness, it is assumed that the slit image 37 does not exist.

このような処理を第18図と第20図を用いて、以下に詳し
く説明する。なお、この処理は、x軸方向の各位置x毎
に行われるものである。
Such processing will be described in detail below with reference to FIGS. 18 and 20. Note that this process is performed for each position x in the x-axis direction.

第18図において、まずステップ75で、輝度の高低を判断
するためのスライスレベルSLを基本スライスレベルBSL
(スリット像の背景部分の輝度よりも若干高い輝度:第
20図参照)に設定すると共に、y軸方向の位置y(yア
ドレス)と、輝度がスライスレベルSLを越えた場合に
「1」が設定されるスリットフラグSと、スリット像の
y軸方向の幅を示すスリット幅バッファLBとを、いずれ
も初期値0に設定しておく。
In FIG. 18, first in step 75, the slice level SL for determining the brightness level is set to the basic slice level BSL.
(Brightness slightly higher than the background brightness of the slit image:
(See FIG. 20), the position y (y address) in the y-axis direction, the slit flag S that is set to “1” when the luminance exceeds the slice level SL, and the slit image in the y-axis direction. The slit width buffer LB indicating the width is set to the initial value 0 in both cases.

続いて、次のステップ76で、位置y(最初はy=0)に
おける輝度を計測し、その値を計測輝度Iとし、ステッ
プ77で上記計測輝度IがスライスレベルSL(最初はSL=
BSL)以上かどうかを判別する。もしI≧SLでなけれ
ば、ステップ48でスリットフラグSが0かどうかを判別
する。S=0であれば、現在の位置yまでは未だスライ
スレベルSL以上の輝度が得られていないことになるの
で、ステップ79で位置yに1を加えることで1つ次の位
置を設定する。そして、ステップ80で、位置yがウイン
ド35の上端である終了位置yEN(計測終了yアドレス)
以下であるかどうかを判別し、y≦yENであれば上記ス
テップ76に戻る。
Then, in the next step 76, the luminance at the position y (y = 0 at the beginning) is measured, and the value is set to the measured luminance I. In step 77, the measured luminance I is the slice level SL (first SL =
BSL) or above. If not I ≧ SL, it is determined in step 48 whether the slit flag S is 0 or not. If S = 0, it means that the brightness equal to or higher than the slice level SL has not yet been obtained up to the current position y, so that the next position is set by adding 1 to the position y in step 79. Then, in step 80, the end position y EN (measurement end y address) where the position y is the upper end of the window 35
If y ≦ y EN , it returns to step 76.

このような処理(ステップ76〜80)を繰り返していき、
もしステップ77でI≧SLであると判別された場合は、位
置yがスリット像の位置まで達したものと判断できるの
で、今度はステップ84で、輝度IがスライスレベルSLよ
りも大きいか、それともスライスレベルSLに等しいかを
判別する。もしI>SLであれば、ステップ85で、スライ
スレベルSLをその時の輝度Iに等しくなるように高く設
定しなおすと共に、スリット幅バッファLBを0に設定す
る。続いて、ステップ89で、スリット像の下端位置H
1(第19図参照)を示すスリット下端バッファH1Bにその
時の位置yの値を設定すると共に、第20図に示すように
スリットフラグSに1を設定する。その後は、上記ステ
ップ79へ移行して同様な処理を繰り返す。すなわち、新
たな位置yにおける輝度IがスライスレベルSLを越える
毎に、スライスレベルSLを新たに高く設定しなおすと共
に、スリット下端バッファH1Bもその都度その時の位置
yの値で更新していくことになる。
Repeat this process (steps 76-80),
If it is determined in step 77 that I ≧ SL, it can be determined that the position y has reached the position of the slit image. Therefore, in step 84, the luminance I is larger than the slice level SL, or It is determined whether it is equal to the slice level SL. If I> SL, in step 85, the slice level SL is reset to be high so as to be equal to the brightness I at that time, and the slit width buffer LB is set to 0. Then, in step 89, the lower end position H of the slit image
The value of the position y at that time is set in the slit lower end buffer H 1 B indicating 1 (see FIG. 19), and 1 is set in the slit flag S as shown in FIG. After that, the processing shifts to the above step 79 and the same processing is repeated. That is, each time the brightness I at the new position y exceeds the slice level SL, the slice level SL is newly set high and the slit lower end buffer H 1 B is updated with the value of the position y at that time. It will be.

もし、上記ステップ84においてI>SLでなければ、すな
わちI=SLであれば、ステップ84でスリットフラグSが
まだ0のままかどうか、すなわち位置yがまだスリット
像の位置まで達していなかったかどうかを調べて、S=
0であれば、現在の位置yで初めてスリット像の位置ま
で達したことになるので、上記ステップ89の処理を行
う。一方、上記ステップ86でS=0でなければ、すなわ
ちS=1であれば、もう既に位置yがスリット像の位置
まで達していることになり、しかも、現在の位置yにお
ける輝度Iがその前の位置y−1における輝度Iと等し
いことになるので(ステップ84、85参照)、ステップ89
を行わずに、すなわちスリット下端バッファH1Bを更新
することはせずに、そのままステップ79へ移行する。
If I> SL in the above step 84, that is, if I = SL, then in step 84 the slit flag S is still 0, that is, whether the position y has not yet reached the position of the slit image. , S =
If it is 0, it means that the position of the slit image is reached for the first time at the current position y, so the process of step 89 is performed. On the other hand, if S = 0 in step 86, that is, if S = 1, it means that the position y has already reached the position of the slit image, and the brightness I at the current position y is before that. Since it is equal to the brightness I at the position y−1 of the (steps 84 and 85), step 89
Is performed, that is, without updating the slit lower end buffer H 1 B, the process directly proceeds to step 79.

また、上記ステップ77においてI≧SLでないならば、す
なわち輝度IがスライスレベルSLよりも低下したなら
ば、ステップ78でスリットフラグSがまだ0のままかど
うかを調べて、S=0であれば、位置yがまだスリット
像の位置まで達していないことになるので、ステップ79
へ進んで同様な処理を繰り返す。一方、ステップ78にお
いてS=1であれば(ステップ89参照)、もう既に位置
yがスリット像の位置まで達していることになり、その
後に輝度IがスライスレベルSLよりも低下した(すなわ
ちスリット像の位置から外れた)ことになるので、この
ような場合にはステップ81へ進み、スリットフラグSを
0にすると共に、スリット像の上端位置H2(第19図参
照)を示すスリット上端バッファH2Bにその時の位置y
よりも1つ前の位置y−1の値を設定し、更に、このス
リット上端バッファH2Bの値から上記ステップ89で設定
されたスリット下端バッファH1Bの値を差し引いたもの
をスリット像の仮の幅(仮のスリット幅)Lとする。
If I ≧ SL is not satisfied in step 77, that is, if the brightness I is lower than the slice level SL, it is checked in step 78 whether the slit flag S is still 0, and if S = 0. , Position y has not yet reached the position of the slit image, so step 79
Go to and repeat the same process. On the other hand, if S = 1 in step 78 (see step 89), it means that the position y has already reached the position of the slit image, and then the brightness I becomes lower than the slice level SL (that is, the slit image SL). Therefore, in such a case, the process proceeds to step 81, the slit flag S is set to 0, and the slit upper end buffer H indicating the upper end position H 2 (see FIG. 19) of the slit image is displayed. 2 B then position y
The value of the position y−1, which is one before, is set, and the slit image is obtained by subtracting the value of the slit lower end buffer H 1 B set in step 89 from the value of the slit upper end buffer H 2 B. The temporary width (temporary slit width) L of

そして、ステップ82で、上記仮のスリット幅Lがスリッ
ト幅バッファLB(最初はLB=0)の値よりも小さいかど
うかを判別し、L<LBであれば、上記仮のスリット幅L
はスリット像の真の幅ではないものとして、そのままス
テップ79へ進む。一方、上記ステップ82においてL<LB
でなければ、ステップ83へ進んで、その時の仮のスリッ
ト幅Lの値をスリット幅バッファLBに設定すると共に、
その時のスリット下端バッファH1Bの値をスリット像の
下端位置H1とし、スリット上端バッファH2Bの値をスリ
ット像の上端位置H2とする。その後はステップ79へ進ん
で、同様な処理を繰り返す。
Then, in step 82, it is judged whether or not the temporary slit width L is smaller than the value of the slit width buffer LB (initially LB = 0), and if L <LB, the temporary slit width L
Is not the true width of the slit image, and the process proceeds directly to step 79. On the other hand, in step 82 above, L <LB
If not, the process proceeds to step 83 to set the value of the provisional slit width L at that time in the slit width buffer LB, and
The value of the slit lower end buffer H 1 B at that time is the lower end position H 1 of the slit image, and the value of the slit upper end buffer H 2 B is the upper end position H 2 of the slit image. After that, the routine proceeds to step 79, and the same processing is repeated.

以上の処理により、第20図に示すように、y軸方向に最
高輝度を持つ画素群(連続した画素の集まり)であっ
て、その中でも最も幅の広い画素群がスリット像(下端
位置H1、上端位置H2)として検出される。そして、第18
図のフローチャートには示されていないが、下端位置H1
と上端位置H2の中心の位置を求めてスリット像の高さh
(x)とする。
As a result of the above processing, as shown in FIG. 20, a pixel group having a maximum luminance in the y-axis direction (a group of consecutive pixels), of which the widest pixel group is the slit image (lower end position H 1 , The upper end position H 2 ) is detected. And the 18th
Although not shown in the flowchart of the figure, the lower end position H 1
And the center position of the upper end position H 2
(X).

このような処理により、第21図及び第22図に示すような
効果が得られる。第22図(A)は被検物体1に光切断法
によるレーザビームを斜めにWで示す円内面に照射した
もので、この時の測定例は第21図(A)に示すように光
強度が大きいとスリット像37は広がってしまうが、第22
図(B)に示す光強度のようにピーク検出89を行って処
理するため、第21図(B)に示すようにスリット像37は
極めて明確になり、光量変動による画像ノイズの乱れに
影響されない高精度の検査が可能となる。
By such processing, the effects as shown in FIGS. 21 and 22 can be obtained. FIG. 22 (A) shows the object 1 to be inspected by irradiating the inner surface of the circle indicated by W diagonally with the laser beam by the light cutting method. The measurement example at this time is as shown in FIG. 21 (A). Is large, the slit image 37 will spread, but
Since the peak detection 89 is performed like the light intensity shown in FIG. 21B for processing, the slit image 37 becomes extremely clear as shown in FIG. 21B and is not affected by the disturbance of the image noise due to the change in the light amount. High-precision inspection is possible.

なお、以上に述べた各実施例では、タンタルコンデンサ
等のような極性を持った実装部品のみを被検物体として
示したが、本発明の検査対象となる被検物体は必ずしも
このような極性を持った部品である必要はなく、例えば
キーボードの各キーのようなものもその検査対象とな
る。すなわち、光切断法により検知可能な形状(三次元
形状)であって、しかも、その表面に何らかの記号(例
えばタンタルコンデンサの場合には極性を示す記号であ
り、また、キーボードの各キーの場合にはそのキートッ
プに描かれている記号(文字)等)が描かれているもの
であれば、本発明の方法により検査可能である。光切断
法により検知可能な形状は、単なる立方体や直方体に限
られるものではなく、その他にも三角柱のような形状で
あってもよく、単に表面に平坦な部分があれば検知可能
であり、すなわち、被検物体の形状は当業者が常識的に
思いつく広い範囲のものを含んでいる。また、記号の描
かれている位置は、被検物体の表面であって、第2の照
明手段により照明可能な位置であればどの部分に描かれ
ていてもよく、必ずも被検物体の上面や平坦面に描かれ
ている必要はない。
In each of the embodiments described above, only mounted components having a polarity such as a tantalum capacitor are shown as the object to be inspected, but the object to be inspected of the present invention does not necessarily have such a polarity. It does not need to be a part that has, for example, each key of a keyboard is also an inspection target. In other words, it is a shape (three-dimensional shape) that can be detected by the light-section method, and also has some symbol on its surface (for example, a symbol indicating polarity in the case of a tantalum capacitor), and in the case of each key of the keyboard. Can be inspected by the method of the present invention as long as a symbol (character, etc.) drawn on the key top is drawn. The shape that can be detected by the light section method is not limited to a simple cube or a rectangular parallelepiped, and it may be a shape such as a triangular prism, and it can be detected if there is a flat portion on the surface, that is, The shape of the object to be inspected includes a wide range that the person skilled in the art can commonly think of. Further, the position where the symbol is drawn may be drawn on any part of the surface of the object to be inspected, as long as it can be illuminated by the second illuminating means. Does not have to be drawn on a flat surface.

また、上記実施例では極性を持つ部品を被検物体とした
ため、その方向(極性)を検出する作業も行っている
が、例えばキーボードのキー配列検知等のように単に記
号認識を目的として行う検査の場合には、その方向検知
を行う必要はない。特に、上記実施例のように方向(極
性)検知を行う場合には記号画像中に正・逆の2つのウ
インドを設定したが、単に記号認識を行うためであれば
ただ1つのウインドを設定するだけで十分である。
Further, in the above-mentioned embodiment, since the component having the polarity is used as the object to be inspected, the work for detecting the direction (polarity) is also performed, but the inspection is performed simply for the purpose of symbol recognition such as the key arrangement detection of the keyboard. In the case of, it is not necessary to detect the direction. In particular, when the direction (polarity) is detected as in the above embodiment, two windows, normal and reverse, are set in the symbol image, but only one window is set for simply performing symbol recognition. Just enough.

更に、第1図では1組のスリット光照明手段(2、3)
の他にも1組のスリット光照明手段(16、17)を設けた
が、本発明ではスリット光照明手段を必ずしも2組備え
ている必要はない。第3図や第4図等に示された光切断
法の原理に従えば、ただ1つのスリット光照明手段だけ
で、被検物体の位置や傾きを検出することが可能であ
る。勿論、第1図のように2組のスリット光照明手段を
設けて、互いに交差する方向にスリット像を形成できる
ようにすることは、検査機能を向上させる上で有用であ
る。
Further, in FIG. 1, a set of slit light illuminating means (2, 3) is provided.
Besides, one set of slit light illuminating means (16, 17) is provided, but in the present invention, it is not always necessary to provide two sets of slit light illuminating means. According to the principle of the light section method shown in FIGS. 3 and 4, it is possible to detect the position and the inclination of the object to be inspected by only one slit light illuminating means. Of course, it is useful to improve the inspection function by providing two sets of slit light illuminating means as shown in FIG. 1 so that slit images can be formed in directions intersecting with each other.

加えて、上記実施例では第3図のように被検物体に対し
2つのスリット像を形成するようにしているが、これは
被検物体の浮き状態を検査するためであり、浮き状態の
検査を行わずに位置と傾きの検査だけを行う場合にはた
だ1つのスリット像だけで十分である。
In addition, in the above embodiment, two slit images are formed on the object to be inspected as shown in FIG. 3, but this is for inspecting the floating state of the object to be inspected. If only position and tilt inspections are performed without performing, only one slit image is sufficient.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明によれば、構造画像における被検物体の存在する
位置にスリット像認識用のウインドを設定するようにし
ただけでなく、そのスリット像に基づいて得られる被検
物体の位置と傾きの情報を用いて、記号画像における被
検物体表面の実際に記号の描かれている位置に記号認識
用のウインドを設定できるようにしたので、たとえ被検
物体の挿入位置がずれていたり、傾いていたりしている
場合であっても、被検物体の位置や傾きを正確に検査で
きるだけでなく、その表面の記号をも正確に認識するこ
とが可能となる。しかも、上記のようにスリット像認識
用のウインドだけでなく記号認識用のウインドをも設定
できるようにしたことにより、認識処理の対象となるデ
ータ量を著しく減少させることができ、その結果、著し
い高速検査を実現できる。
According to the present invention, not only the window for slit image recognition is set at the position where the object to be inspected in the structural image, but also the position and inclination information of the object to be inspected obtained based on the slit image. By using, the window for symbol recognition can be set at the position where the symbol is actually drawn on the surface of the object to be inspected in the symbol image, so even if the insertion position of the object to be inspected is shifted or tilted. Even if it is, it is possible not only to accurately inspect the position and inclination of the object to be inspected, but also to accurately recognize the symbol on the surface. Moreover, as described above, not only the window for slit image recognition but also the window for symbol recognition can be set, so that the amount of data to be recognized can be significantly reduced. High-speed inspection can be realized.

また、構造画像のウインド内からスリット像を切り出す
際に、スリット像が大きく変化する2つの位置で切り出
しを行い(一次切り出し)、これに基づいて得られる被
検物体の大きさが規定値より大きいとき、上記2つの切
り出し位置のうちウインドの中心に近い方の切り出し位
置を正しい切り出し位置とし、この位置からもう1つの
切り出し位置の方へ上記規定値だけ離れた位置をもう1
つの正しい切り出し位置とすれば(二次切り出し)、他
の隣接部品の接した状態であっても、被検物体の平面部
のスリット像だけを正確に切り出すことができる。
Further, when the slit image is cut out from the window of the structural image, the cutout is performed at two positions where the slit image greatly changes (primary cutout), and the size of the object to be inspected obtained based on this is larger than the specified value. At this time, one of the above two cutting positions, which is closer to the center of the window, is set as a correct cutting position, and another position separated by the above specified value from this position to the other cutting position is set to another position.
If one correct cutout position is set (secondary cutout), only the slit image of the plane portion of the object to be inspected can be cut out accurately even when other adjacent parts are in contact with each other.

また、ウインド内のデータからスリット像を認識する
際、ウインド内をその高さ方向に走査し、最高輝度を持
つ画素群の中でも最も幅の広い部分を中心位置をスリッ
ト像の中心像とするようにすれば、光量変動に対する検
査精度の安定性を確保することができる。
Also, when recognizing the slit image from the data in the window, scan the window in the height direction and set the widest part of the pixel group with the highest brightness as the center image of the slit image. With this, it is possible to ensure the stability of the inspection accuracy with respect to the fluctuation of the light amount.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例を適用した実装部品検査装置
の検知系を示す模式図、 第2図は本発明の一実施例を適用した実装部品検査装置
のブロック図、 第3図は本発明の一実施例を適用した検知系での被検物
体上のスリット光照明位置を示す被検物体の斜視図、 第4図(A)、(B)は基板に対し被検物体を挿入した
場合の正常挿入位置の判定を説明するための図であっ
て、同図(A)は被検物体上のスリット像を示す平面
図、同図(B)は基板に対し傾いて取り付けられた被検
物体の側面図、 第5図(A)、(B)はそれぞれ記号画像と構造画像の
一例を示す図、 第6図(A)、(B)はそれぞれ記号画像と構造画像の
他の例を示す図、 第7図(A)、(B)は上記実装部品検査装置に用いる
照明手段の一例を示す側面図と平面図、 第8図(A)、(B)は上記実装部品検査装置に用いる
照明手段の他の例を示す側面図と平面図、 第9図(A)、(B)はそれぞれ第7図と第8図の照明
手段を用いて得られた記号画像の一例を示す図、 第10図はウインド内のスリット像の高さh(x)を説明
する図、 第11図はウインド内の切り出し部を説明する図、 第12図は本発明の一実施例における一次切り出し処理を
示すフローチャート、 第13図(A)、(B)、(C)、(D)は第12図の一次
切り出し処理を説明するための図、 第14図は本発明の一実施例における二次切り出し処理を
示すフローチャート、 第15図はウインド内のスリット像の切り出し方法を示す
被検物体パターンの平面図、 第16図は隣接する実装部品が互いに接した状態の撮像パ
ターンを示す図、 第17図は第16図のパターンを実際に切り出したときのパ
ターン図、 第18図は本発明の一実施例における最高輝度検出のため
のフローチャート、 第19図は最高輝度を検出するためのウインド内スリット
の走査方法を説明するための被検物体の平面パターン
図、 第20図は最高輝度を検出するためのy軸に沿った輝度パ
ターンを示す図、 第21図(A)は第22図(A)にWで示す拡大部の撮像パ
ターン図であり、第21図(B)は第21図(A)を最高輝
度を取り出して処理したウインド内のスリットパターン
図、 第22図(A)は被検物体に斜め方向から光切断法を用い
てレーザビームを照射するようにした斜視図であり、第
22図(B)は光強度を三次元表示した図、 第23図は従来の光切断法の原理図、 第24図は従来の光切断法を用いた検査装置の構成図であ
る。 1……被検物体、 2……光源、 3……シリンドリカルレンズ、 5a、5b……スリット像、 11……X−Yステージ、 12……アナログ−デジタル変換器、 13……画像メモリ、 14……コンピュータ、 16……光源、 17……シリンドリカルレンズ、 18……記号、 19……ランプハウス、 20……青透過フィルタ、 21……光ファイバ、 22……ファイバリング、 23……赤反射ミラー、 24……結像レンズ、 25……第1の撮像手段、 26……結像レンズ、 27……第2の撮像手段、 29……画像選択回路、 30……駆動モータ、 31……プリント基板、 34a……正方向ウインド、 34b……逆方向ウインド、 35……ウインド、 36……切り出し部、 37……スリット像.
FIG. 1 is a schematic diagram showing a detection system of a mounted component inspection device to which an embodiment of the present invention is applied, FIG. 2 is a block diagram of a mounted component inspection device to which an embodiment of the present invention is applied, and FIG. FIG. 4A and FIG. 4B are perspective views of a test object showing slit light illumination positions on the test object in a detection system to which an embodiment of the present invention is applied. FIG. 6A is a diagram for explaining the determination of the normal insertion position in the case of being performed, where FIG. 6A is a plan view showing a slit image on the object to be inspected, and FIG. A side view of the object to be inspected, FIGS. 5A and 5B show examples of the symbol image and the structural image, respectively, and FIGS. 6A and 6B show other images of the symbol image and the structural image, respectively. The figure which shows an example, FIG. 7 (A), (B) is a side view and a top view which show an example of the illumination means used for the said mounting component inspection apparatus, 8 (A) and 8 (B) are a side view and a plan view showing another example of the illuminating means used in the mounted component inspection apparatus, and FIGS. 9 (A) and 9 (B) are FIGS. 7 and 8, respectively. FIG. 10 is a diagram showing an example of a symbol image obtained by using the illumination means of FIG. 10, FIG. 10 is a diagram for explaining the height h (x) of the slit image in the window, and FIG. 11 is a diagram for explaining the cutout portion in the window. FIG. 12 is a flow chart showing a primary cutting process in an embodiment of the present invention, and FIGS. 13 (A), (B), (C) and (D) are for explaining the primary cutting process of FIG. FIG. 14, FIG. 14 is a flow chart showing a secondary cutting process in one embodiment of the present invention, FIG. 15 is a plan view of a test object pattern showing a cutting method of a slit image in a window, and FIG. Fig. 17 is a diagram showing the imaging pattern when the mounted parts are in contact with each other. Fig. 17 shows the pattern of Fig. 16. FIG. 18 is a pattern diagram when the image is actually cut out, FIG. 18 is a flow chart for detecting the maximum luminance in one embodiment of the present invention, and FIG. 19 is a method for scanning the in-window slit for detecting the maximum luminance. Fig. 20 is a plane pattern diagram of the object to be measured, Fig. 20 is a diagram showing a luminance pattern along the y-axis for detecting the maximum luminance, Fig. 21 (A) is an enlarged view shown by W in Fig. 22 (A). FIG. 21 (B) is an imaging pattern diagram of a portion, FIG. 21 (B) is a slit pattern diagram in a window obtained by extracting the highest brightness from FIG. 21 (A), and FIG. 22 (A) is an oblique view of an object to be inspected. It is a perspective view of a laser beam irradiation using a light cutting method,
FIG. 22 (B) is a diagram showing the light intensity three-dimensionally, FIG. 23 is a principle diagram of a conventional light cutting method, and FIG. 24 is a configuration diagram of an inspection apparatus using the conventional light cutting method. 1 ... Object to be inspected, 2 ... Light source, 3 ... Cylindrical lens, 5a, 5b ... Slit image, 11 ... XY stage, 12 ... Analog-digital converter, 13 ... Image memory, 14 Computer, 16 Light source, 17 Cylindrical lens, 18 Symbol, 19 Lamphouse, 20 Blue transmission filter, 21 Optical fiber, 22 Fiber ring, 23 Red reflection Mirror, 24 ... Imaging lens, 25 ... First imaging means, 26 ... Imaging lens, 27 ... Second imaging means, 29 ... Image selection circuit, 30 ... Drive motor, 31 ... Printed circuit board, 34a …… forward window, 34b …… reverse window, 35 …… window, 36 …… cutout, 37 …… slit image.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に実装され表面に記号の描かれた三
次元形状の被検物体の前記基板に対する位置、傾き及び
前記記号を検査する被検物検査方法において、 第1の照明手段によりスリット状の第1の波長のレーザ
光を前記基板上の前記被検物体に対し傾斜した入射角で
照射するステップと、 第2の照明手段により前記第1の波長とは異なる第2の
波長の光を前記被検物体へ全面照射するステップと、 前記第1、第2の照明手段でそれぞれ光照射され前記被
検物体から反射された第1、第2の波長の光を波長選択
ミラーで互いに分離するステップと、 該波長選択ミラーで分離して得られたスリット状の第1
の波長の光を検知して、該スリット状の光に対応したス
リット像を含む構造画像を得て、該構造画像を画像メモ
リに格納するステップと、 前記波長選択ミラーで分離して得られた第2の波長の光
を検知して、前記被検物体に描かれた前記記号を含む記
号画像を得て、該記号画像を画像メモリに格納するステ
ップと、 前記画像メモリ内に格納された構造画像に対して、正常
な被検物体がある位置にウインドを設定し、該ウインド
内における前記スリット像を切り出すステップと、 該切り出されたスリット像の位置と傾きから前記被検物
体の位置と傾きを求めると共に、該スリット像の長さが
規定値以下である場合は被検物体がないと判断するステ
ップと、 前記求められた被検物体の位置と傾きから、前記被検物
体上の前記記号が描かれている位置にウインドを設定す
るステップと、 該設定されたウインド内の記号を認識するステップと、 を備えたことを特徴とする被検物検査方法。
1. A method of inspecting an object for inspecting the position, inclination, and the symbol of a three-dimensional object to be inspected, which is mounted on a substrate and has a symbol drawn on the surface thereof, comprising: The step of irradiating the slit-shaped laser beam of the first wavelength with respect to the object to be measured on the substrate at an inclined incident angle, and the step of irradiating the second wavelength of the second wavelength different from the first wavelength by the second illumination means. Irradiating the entire surface of the object to be inspected with light, and mutually irradiating the light of the first and second wavelengths, which are respectively irradiated by the first and second illumination means and reflected from the object to be inspected, by a wavelength selection mirror. Separating step, and slit-shaped first obtained by separating with the wavelength selection mirror
Of light having a wavelength of, a structure image including a slit image corresponding to the slit-shaped light is obtained, and the structure image is stored in an image memory; and the structure image is separated by the wavelength selection mirror. Detecting light having a second wavelength to obtain a symbol image including the symbol drawn on the object to be inspected, and storing the symbol image in an image memory; and a structure stored in the image memory. With respect to the image, a step of setting a window at a position where a normal object to be inspected and cutting out the slit image in the window, and the position and inclination of the object to be inspected from the position and inclination of the cut out slit image And a step of determining that there is no object to be inspected when the length of the slit image is equal to or less than a specified value, from the obtained position and inclination of the object to be inspected, the symbol on the object to be inspected. Is drawn A method of inspecting an object, comprising: a step of setting a window at a position; and a step of recognizing a symbol in the set window.
【請求項2】前記第1の照明手段は前記被検物体が前記
基板上に実装されるべき位置の前部及び後部の2箇所に
前記スリット状のレーザ光を照射するようにし、これに
より該2箇所に対応した2つのスリット像を含む構造画
像を得て、該2つのスリット像の位置と傾きから前記被
検物体の位置、傾き及び浮き状態を検出することを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の被検物検査方法。
2. The first illuminating means irradiates the slit-shaped laser light to two portions, namely, a front portion and a rear portion of a position where the object to be inspected is to be mounted on the substrate, and thereby the slit-shaped laser light is emitted. A structure image including two slit images corresponding to two locations is obtained, and the position, the inclination, and the floating state of the object to be inspected are detected from the positions and the inclinations of the two slit images. The method for inspecting an object according to item 1.
【請求項3】前記被検物体の表面に描かれた前記記号は
前記被検物体の極性を示す記号であり、該記号を認識す
ることにより前記被検物体の方向を求めることを特徴と
する特許請求の範囲第1項又は第2項記載の被検物検査
方法。
3. The symbol drawn on the surface of the object to be inspected is a symbol indicating the polarity of the object to be inspected, and the direction of the object to be inspected is obtained by recognizing the symbol. The method for inspecting an object according to claim 1 or 2.
【請求項4】前記記号が描かれている位置に設定された
前記ウインドとは反対位置にもう1つのウインドを設定
し、これら2つのウインドのどちらで前記記号が認識さ
れたかに基づいて前記被検物体の方向を求めることを特
徴とする特許請求の範囲第3項記載の被検物検査方法。
4. A second window is set at a position opposite to the window set at the position where the symbol is drawn, and based on which of these two windows the symbol is recognized, The inspection method according to claim 3, wherein the direction of the inspection object is obtained.
【請求項5】前記構造画像に設定したウインド内からス
リット像を切り出す際に、該ウインド内のスリット像が
大きく変化する2つの位置で切り出しを行うことを特徴
とする特許請求の範囲第1項乃至第4項のいずれかに記
載の被検物検査方法。
5. When the slit image is cut out from the window set in the structural image, the cutting is performed at two positions where the slit image in the window greatly changes. The method for inspecting an object according to any one of items 4 to 4.
【請求項6】前記2つの切り出し位置に基づいて得られ
る前記被検物体の大きさが規定値より大きい時に、前記
2つの切り出し位置のうち前記ウインドの中心に近い方
の切り出し位置を正しい切り出し位置とし、該正しい切
り出し位置からもう1つの切り出し位置の方へ前記規定
値だけ離れた位置をもう1つの正しい切り出し位置とす
ることを特徴とする特許請求の範囲第5項記載の被検物
検査方法。
6. When the size of the object to be inspected obtained based on the two cutout positions is larger than a specified value, the cutout position closer to the center of the window among the two cutout positions is the correct cutout position. 6. The method for inspecting an object according to claim 5, wherein a position distant from the correct cutting position to the other cutting position by the specified value is set as another correct cutting position. .
【請求項7】前記構造画像に設定したウインド内から切
り出されたスリット像の位置と傾きを求める際に、前記
ウインド内をその幅方向の各位置毎に高さ方向に走査し
ていき、最高輝度を持つ画素群の中で最も幅の広いもの
の中心位置を前記スリット像の中心像とすることを特徴
とする特許請求の範囲第1項乃至第6項のいずれかに記
載の被検物検査方法。
7. When obtaining the position and inclination of the slit image cut out from the inside of the window set in the structural image, the inside of the window is scanned in the height direction at each position in the width direction, and the maximum is obtained. The test object inspection according to any one of claims 1 to 6, wherein the center position of the widest one of the pixel groups having brightness is set as the center image of the slit image. Method.
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