JPH04334397A - α−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−フェニルアラニンメチルエステルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、含有不純物量の少ない
α−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−フェニルアラニンメチルエ
ステル（以下、α−ＡＰＭと略す。）の製造方法に関す
る。さらに詳しくは、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−
Ｌ−アスパルチル−Ｌ−フェニルアラニンメチルエステ
ル（以下、Ｚ−ＡＰＭと略す。）反応液中に微量存在す
る、分子量４０９を有する不純物の生成原因となるＮ−
ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−アスパラギン酸無水物
（以下、Ｚ−Ａｓｐ無水物と略す。）を、還元脱ベンジ
ルオキシカルボニル化反応の前に、任意の量の低級アル
コールと反応させて分解することを特徴とするα−ＡＰ
Ｍの製造方法に関する。本発明記載のα−ＡＰＭは、ジ
ペプチド系の甘味料として広く知られている。良質な甘
味特性、並びに、蔗糖の２００倍近い高甘味度を有し、
ダイエット甘味料としてその需要が大きく伸長している
ものである。

【０００２】

【従来の技術】α−ＡＰＭは、Ｌ−アスパラギン酸とＬ
−フェニルアラニンメチルエステルとからなるジペプチ
ド化合物であり、その製法は化学的な方法と微生物を利
用した生化学的な方法に大別され、それぞれ種々の方法
が開示されている。

【０００３】化学的な製法としては、アミノ基を保護し
たＬ−アスパラギン酸無水物とＬ−フェニルアラニンメ
チルエステルを適当な溶媒中で縮合させたのち、常法に
よって保護基を脱離させて製造する方法（例えば米国特
許　　３７８６０３９号）が代表的なものである。また
、生化学的製法としてはＮ−ベンジルオキシカルボニル
−Ｌ−アスパラギン酸とＬ−フェニルアラニンメチルエ
ステルを金属プロテアーゼの存在下に縮合させ、Ｎ−ベ
ンジルオキシカルボニル−α−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−
フェニルアラニンメチルエステルを製造したのち、接触
還元によりベンジルオキシカルボニル基を除去して製造
する方法を挙げることができる。しかし、これら従来の
方法のうち、Ｚ−Ａｓｐ無水物とＬ−フェニルアラニン
メチルエステルを用いる方法で合成したα−ＡＰＭを分
析した結果、分子量４０９に相当する不純物が、含まれ
ていることが明らかになった。α−ＡＰＭは、食品とし
て用いられるために、このような不純物の混入は好まし
いことではない。

【０００４】工業的にα−ＡＰＭを製造する場合、α−
ＡＰＭを単離して最終製品とするに際し、粗製のα−Ａ
ＰＭを精製する工程は不可欠である。この精製工程は、
通常、水または低級アルコール（以下、水および水を含
む溶媒を水性媒体という）からの再結晶精製によるのが
一般的である。しかしながら、このような精製法によっ
ても、上記分子量４０９のα−ＡＰＭ中の不純物は除去
することが非常に困難であることも判明した。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明は、Ｚ−
Ａｓｐ無水物とＬ−フェニルアラニンメチルエステルを
反応してα−ＡＰＭを製造する方法において、上記分子
量４０９の不純物を含有しないα−ＡＰＭを製造するこ
とを課題とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
した結果、有機溶媒中でＺ−Ａｓｐ無水物とＬ−フェニ
ルアラニンメチルエテル（以下、Ｌ−ＰＭと略す。）よ
り製造したＺ−ＡＰＭ反応液中に微量残存するＺ−Ａｓ
ｐ無水物が、分子量４０９を有する不純物生成の原因と
なることを見出し、さらに、この縮合液中に残存したＺ
−Ａｓｐ無水物を任意の量の低級アルコールと反応させ
て分解させた後、還元脱ベンジルオキシカルボニル化反
応を行うことにより不純物の少ないα−ＡＰＭを得るこ
とができることを見出し本発明を完成した。

【０００７】すなわち本発明は、Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニル−Ｌ−アスパラギン酸無水物とＬ−フェニルア
ラニンメチルエステルを有機溶媒中で反応させたＮ−ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−フェ
ニルアラニンメチルエステル反応液を低級アルコールで
処理し、反応液中のＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ
−アスパラギン酸無水物を分解した後、還元脱ベンジル
オキシカルボニル化反応を行うことを特徴とするα−Ｌ
−アスパルチル−Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル
の製造方法である。

【０００８】分子量４０９の不純物は、縮合液中に微量
残存するＺ−Ａｓｐ無水物が、還元反応中に脱ベンジル
オキシカルボニル化反応により生成したＡＰＭと反応し
、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−アスパルチル−
Ｌ−アスパルチル−Ｌ−フェニルアラニンメチルエステ
ルを生成し、これが、さらに還元脱ベンジルオキシカル
ボニル化されて生成するα−Ｌ−アスパルチル−α−Ｌ
−アスパルチル−Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル
、β−Ｌ−アスパルチル−α−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−
フェニルアラニンメチルエステル、α−Ｌ−アスパルチ
ル−β−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−フェニルアラニンメチ
ルエステル、または、β−Ｌ−アスパルチル−β−Ｌ−
アスパルチル−Ｌ−フェニルアラニンメチルエステルで
ある。

【０００９】本発明に用いられるＺ−ＡＰＭ反応液は、
Ｚ−Ａｓｐ無水物とＬ−ＰＭを縮合反応させて得られた
ものであり、使用する有機溶媒としては、ベンゼン、ト
ルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、１，２−ジクロロ
エタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸エチル、
酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、アセトン、メチルエ
チルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸などのカルボン酸
系溶媒などが挙げられる。

【００１０】本発明で、Ｚ−Ａｓｐ無水物を分解するた
めに使用される低級アルコールは、炭素数１〜５のアル
キルアルコールが好ましく、メチルアルコール、エチル
アルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉｓｏ−プロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチル
アルコール、ｎ−アミルアルコールなどが挙げられる。 Ｚ−Ａｓｐ無水物の低級アルコールによる分解では、例
えばメチルアルコールの場合、Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニル−α−Ｌ−アスパラギン酸メチルエステルまたは
Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−β−Ｌ−アスパラギン
酸メチルエステルが生成するが、これらの生成物は、以
後の処理により容易に分離することができ最終製品には
含まれない。

【００１１】使用する低級アルコールの量は任意である
が、Ｚ−ＡＰＭ反応液中に存在するＺ−Ａｓｐ無水物の
１〜２００倍モルが好ましい。また、縮合反応液中に無
水酢酸など、他の低級アルコールと反応する成分が存在
する場合、これらによって消費される低級アルコールを
余分に用いる必要がある。

【００１２】低級アルコールとＺ−ＡＰＭ反応液との反
応温度は、１０℃から使用する溶媒の還流温度の範囲で
あり、好ましくは３０℃以上である。低級アルコールと
Ｚ−ＡＰＭ反応液との反応時間は任意であるが、好まし
くは、０．５〜５時間である。

【００１３】Ｚ−ＡＰＭ反応液を低級アルコールで処理
した後、過剰の低級アルコールは、そのままで還元する
方法と減圧下加熱する等により除去した後還元する方法
がありいずれでもよい。

【００１４】還元脱ベンジルオキシカルボニル化反応は
、水素下、５％Ｐｄ−Ｃ（５０％ｗｅｔ）をＺ−ＡＰＭ
の２ｗｔ％用いて上記縮合溶媒記載の溶媒中、３５℃以
下で行う。還元液からのα−ＡＰＭの単離するには、触
媒のＰｄ−Ｃを濾過した後、溶媒を減圧下５０℃以下で
濃縮後、水を加え、６０℃に加熱し、約４％α−ＡＰＭ
溶液とする。有機層がある場合は分離して除去した後、
５℃に冷却し析出したα−ＡＰＭの結晶を濾過する。

【００１５】

【実施例】以下、実施例によりさらに詳細に説明する。 実施例１ Ｚ−Ａｓｐ無水物４８．２ｇを含む酢酸溶液３０３ｇと
Ｌ−ＰＭ３３．５ｇを含む酢酸溶液１９８ｇを１５〜２
０℃で３時間反応させた。これにメチルアルコール２２
．２ｇを加え、５０℃で２時間反応させた。その後、５
０〜６０℃、６０〜７０ｍｍＨｇにて、メチルアルコー
ル過剰分と酢酸の一部を合わせて６０ｇを流出させた。 その後、５％Ｐｄ−Ｃ（５０％ｗｅｔ）３．２ｇを加え
、水素下２５〜３０℃で還元した。還元液中のＨＬＣに
よる分子量４０９を有する不純物含有量は０．１％以下
であった。Ｐｄ−Ｃを濾過し、５０℃以下で酢酸を減圧
下濃縮後、全量が１０８０ｇになるまで水を加え、６０
℃で均一とした。これを、５℃まで冷却し、１時間攪拌
後、濾過、乾燥し３２．４ｇの結晶を得た。結晶中のＨ
ＬＣによる分子量４０９を有する不純物含有量は、０．
０５％以下であった。

【００１６】実施例２ Ｚ−Ａｓｐ無水物４８．２ｇを含む酢酸溶液３０３ｇと
Ｌ−ＰＭ３３．５ｇを含む酢酸溶液１９８ｇを１５〜２
０℃で３時間反応させた。これにメチルアルコール１０
．０ｇを加え、５０℃で２時間反応させた。その後、５
％Ｐｄ−Ｃ（５０％ｗｅｔ）３．２ｇを加え、水素下２
５〜３０℃で還元した。還元液中のＨＬＣによる分子量
４０９を有する不純物含有量は０．１％以下であった。 Ｐｄ−Ｃを濾過し、５０℃以下で酢酸を減圧下濃縮後、
全量が１０８０ｇになるまで水を加え、６０℃で均一と
した。これを、５℃まで冷却し、１時間攪拌後、濾過、
乾燥し３２．２ｇの結晶を得た。結晶中のＨＬＣによる
分子量４０９を有する不純物含有量は、０．０５％以下
であった。

【００１７】実施例３ Ｚ−Ａｓｐ無水物４８．２ｇを含む酢酸溶液３７７ｇと
Ｌ−ＰＭ３４．０ｇを含む酢酸溶液２０４ｇを１５〜２
０℃で３時間反応させた。これにメチルアルコール６７
．０ｇを加え、５０℃で２時間反応させた。その後、５
０〜６０℃、６０〜７０ｍｍＨｇにて、メチルアルコー
ル過剰分と酢酸の一部を合わせて１３４ｇを流出させた
。その後、５％Ｐｄ−Ｃ（５０％ｗｅｔ）３．２ｇを加
え、水素下２５〜３０℃で還元した。還元液中のＨＬＣ
による分子量４０９を有する不純物含有量は０．１％以
下であった。Ｐｄ−Ｃを濾過し、５０℃以下で酢酸を減
圧下濃縮後、全量が１０８０ｇになるまで水を加え、６
０℃で均一とした。これを、５℃まで冷却し、１時間攪
拌後、濾過、乾燥し３２．０ｇの結晶を得た。結晶中の
ＨＬＣによる分子量４０９を有する不純物含有量は、０
．０５％以下であった。

【００１８】実施例４ Ｚ−Ａｓｐ無水物４８．２ｇを含む酢酸溶液３０３ｇと
Ｌ−ＰＭ３４．０ｇを含む酢酸溶液１９８ｇを１５〜２
０℃で３時間反応させた。これにエチルアルコール１５
．０ｇを加え、５０℃で２時間反応させた。その後、加
熱し、常圧下７８〜１１８℃の間で、６０ｇエチルアル
コール過剰分と酢酸の一部を合わせて６０ｇを流出させ
た。その後、５％Ｐｄ−Ｃ（５０％ｗｅｔ）３．２ｇを
加え、水素下２５〜３０℃で還元した。還元液中のＨＬ
Ｃによる分子量４０９を有する不純物含有量は０．１％
以下であった。Ｐｄ−Ｃを濾過し、５０℃以下で酢酸を
減圧下濃縮後、全量が１０８０ｇになるまで水を加え、
６０℃で均一とした。これを、５℃まで冷却し、１時間
攪拌後、濾過、乾燥し３２．５ｇの結晶を得た。結晶中
のＨＬＣによる分子量４０９を有する不純物含有量は、
０．０５％以下であった。

【００１９】実施例５ Ｚ−Ａｓｐ無水物４８．２ｇを含む１，２−ジクロロエ
タン溶液３０３ｇとＬ−ＰＭ，３３．５ｇを含む１，２
−ジクロロエタン溶液１９８ｇを１５〜２０℃で３時間
反応させた。これにメチルアルコール２２．２ｇを加え
、５０℃で２時間反応させた。その後、５０〜６０℃、
６０〜７０ｍｍＨｇにて、メチルアルコール過剰分と１
，２−ジクロロエタンの一部を合わせて６０ｇを流出さ
せた。その後、水４０ｇと５％Ｐｄ−Ｃ（５０％ｗｅｔ
）３．２ｇを加え、水素下２５〜３０℃で還元した。還
元液中のＨＬＣによる分子量４０９を有する不純物含有
量は０．１％以下であった。Ｐｄ−Ｃを濾過し、５０℃
以下で１，２−ジクロロエタンを減圧下濃縮後、全量が
１０８０ｇになるまで水を加え、６０℃で溶解させた。 有機層を分液除去し、水層を、５℃まで冷却、１時間攪
拌後、濾過、乾燥し３２．４ｇの結晶を得た。結晶中の
ＨＬＣによる分子量４０９を有する不純物含有量は、０
．０５％以下であった。

【００２０】実施例６ Ｚ−Ａｓｐ無水物４８．２ｇを含む酢酸ブチル溶液３０
３ｇとＬ−ＰＭ３３．５ｇを含む酢酸ブチル溶液１９８
ｇを１５〜２０℃で３時間反応させた。これにメチルア
ルコール２２．２ｇを加え、４０℃で２時間、５０℃で
１時間反応させた。その後、５０〜６０℃、６０〜７０
ｍｍＨｇにて、メチルアルコール過剰分と酢酸ブチルの
一部を合わせて６０ｇを流出させた。その後、水４０ｇ
と５％Ｐｄ−Ｃ（５０％ｗｅｔ）３．２ｇを加え、水素
下２５〜３０℃で還元した。還元液中のＨＬＣによる分
子量４０９を有する不純物含有量は０．１％以下であっ
た。Ｐｄ−Ｃを濾過し、５０℃以下で酢酸ブチルを減圧
下濃縮後、全量が１０８０ｇになるまで水を加え、６０
℃で溶解させた。有機層を分液除去し、水層を、５℃ま
で冷却、１時間攪拌後、濾過、乾燥し３２．０ｇの結晶
を得た。結晶中のＨＬＣによる分子量４０９を有する不
純物含有量は、０．０５％以下であった。

【００２１】実施例７ 無水酢酸２１．１ｇを用いて生成したＺ−Ａｓｐ無水物
４８．２ｇを含む酢酸溶液３０３ｇとＬ−ＰＭ３３．５
ｇを含む酢酸溶液１９８ｇを１５〜２０℃で３時間反応
させた。これにメチルアルコール２２．２ｇを加え、５
０℃で２時間反応させた。その後、５０〜６０℃、６０
〜７０ｍｍＨｇにて、メチルアルコール過剰分と酢酸の
一部を合わせて６０ｇを流出させた。その後、５％Ｐｄ
−Ｃ（５０％ｗｅｔ）３．２ｇを加え、水素下２５〜３
０℃で還元した。還元液中のＨＬＣによる分子量４０９
を有する不純物含有量は０．１％以下であった。Ｐｄ−
Ｃを濾過し、５０℃以下で酢酸を減圧下濃縮後、全量が
１０８０ｇになるまで水を加え、６０℃で均一とした。 これを、５℃まで冷却し、１時間攪拌後、濾過、乾燥し
３２．４ｇの結晶を得た。結晶中のＨＬＣによる分子量
４０９を有する不純物含有量は、０．０５％以下であっ
た。

【００２２】比較例 無水酢酸２１．１ｇを用いて生成したＺ−Ａｓｐ無水物
４８．２ｇを含む酢酸溶液２４３ｇとＬ−ＰＭ３３．５
ｇを含む酢酸溶液１９８ｇを１５〜２０℃で３時間反応
させた。これに、５％Ｐｄ−Ｃ（５０％ｗｅｔ）３．２
ｇを加え、水素下２５〜３０℃で還元した。還元液中の
ＨＬＣによる分子量４０９を有する不純物含有量は１．
５％であった。Ｐｄ−Ｃを濾過し、５０℃以下で酢酸を
濃縮後、水を加え１０８０ｇとし、６０℃に昇温し均一
とした。これを、５℃に冷却し１時間攪拌後、濾過、乾
燥し、３２．４ｇの結晶を得た。結晶中の分子量４０９
を有する不純物含有量は、１％であった。この結晶に、
水８９３ｇを加え、６０℃に昇温し均一とした。これを
５℃に冷却し１時間攪拌後、濾過、乾燥し、２５．０ｇ
の結晶を得た。結晶中の分子量４０９を有する不純物含
有量は１％であり、再結晶精製前とほとんど変わらなか
った。

【００２３】

【発明の効果】本発明の方法によれば、分子量４０９の
不純物をほとんど含まない高純度のα−ＡＰＭが得られ
る。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−
   アスパラギン酸無水物とＬ−フェニルアラニンメチルエ
   ステルを有機溶媒中で反応させたＮ−ベンジルオキシカ
   ルボニル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−フェニルアラニンメ
   チルエステル反応液を低級アルコールで処理し、反応液
   中のＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−アスパラギン
   酸無水物を分解した後、還元脱ベンジルオキシカルボニ
   ル化反応を行うことを特徴とするα−Ｌ−アスパルチル
   −Ｌ−フェニルアラニンメチルエステルの製造方法。
2. 【請求項２】　　低級アルコールを、Ｎ−ベンジルオキ
   シカルボニル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−フェニルアラニ
   ンメチルエステル反応液中に存在するＮ−ベンジルオキ
   シカルボニル−Ｌ−アスパラギン酸無水物の１〜２００
   倍モル使用することを特徴とする請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】　　Ｎ−ベンギルオキシカルボニル−Ｌ−
   アスパルチル−Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル反
   応液を低級アルコールと反応させ、続いて、低級アルコ
   ールの過剰分を系外へ除去した後、還元脱ベンジルオキ
   シカルボニル化反応を行うことを特徴とする請求項１記
   載の方法。