JPH04333216A - 縮小投影型露光装置 - Google Patents
縮小投影型露光装置Info
- Publication number
- JPH04333216A JPH04333216A JP3102335A JP10233591A JPH04333216A JP H04333216 A JPH04333216 A JP H04333216A JP 3102335 A JP3102335 A JP 3102335A JP 10233591 A JP10233591 A JP 10233591A JP H04333216 A JPH04333216 A JP H04333216A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor substrate
- levelness
- reduction projection
- pattern
- horizontality
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 13
- 230000005055 memory storage Effects 0.000 abstract 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レチクルにおけるパタ
ーンを縮小投影し、パターンを半導体基板に転写する縮
小投影型露光装置に関する。
ーンを縮小投影し、パターンを半導体基板に転写する縮
小投影型露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来の一例を示す縮小投影型露光
装置の模式断面図である。
装置の模式断面図である。
【０００３】従来、この種の縮小投影型露光装置は、例
えば、図２に示すように、半導体基板７上に形成された
パターンと転写すべきパターンと目合せするために位置
決め用のアライメント光学系６と、半導体基板７に光を
投射する光照射部４と、半導体基板７より反射する光を
受光して半導体基板７の水平度を検出する水平度検出部
１１と、レチクルのパターンを縮小して半導体基板７の
水平度を検出する水平度検出部１１と、レチクルのパタ
ーンを縮小して半導体基板７にパターンを投影する縮小
レンズ系１と、アライメント光学系６と水平度検出部１
１の情報を受け、可動ステージ３の移動を制御する駆動
制御部５とを有していた。また、光学レンズ及び水平度
検出部は光が洩れないように外郭部２で覆われていた。
えば、図２に示すように、半導体基板７上に形成された
パターンと転写すべきパターンと目合せするために位置
決め用のアライメント光学系６と、半導体基板７に光を
投射する光照射部４と、半導体基板７より反射する光を
受光して半導体基板７の水平度を検出する水平度検出部
１１と、レチクルのパターンを縮小して半導体基板７の
水平度を検出する水平度検出部１１と、レチクルのパタ
ーンを縮小して半導体基板７にパターンを投影する縮小
レンズ系１と、アライメント光学系６と水平度検出部１
１の情報を受け、可動ステージ３の移動を制御する駆動
制御部５とを有していた。また、光学レンズ及び水平度
検出部は光が洩れないように外郭部２で覆われていた。
【０００４】この縮小投影型露光装置で半導体基板７に
パターンを転写する毎に、半導体基板のパターンと転写
すべきパターンとを位置合せするために、アライメント
光学系６を用いて目合せしたり、水平度検出部１１を使
用して、半導体基板７が縮小レンズ系１の光軸と垂直に
なるように可動ステージ３を調整していた。
パターンを転写する毎に、半導体基板のパターンと転写
すべきパターンとを位置合せするために、アライメント
光学系６を用いて目合せしたり、水平度検出部１１を使
用して、半導体基板７が縮小レンズ系１の光軸と垂直に
なるように可動ステージ３を調整していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の縮小投
影型露光装置では、目合せのショット毎に半導体基板表
面の水平度を計測し、そのデーターを用いてその都度ス
テージの水平位置決めを行っていた。露光時間以外の無
駄な時間を浪費し、スループットが悪いという問題があ
った。
影型露光装置では、目合せのショット毎に半導体基板表
面の水平度を計測し、そのデーターを用いてその都度ス
テージの水平位置決めを行っていた。露光時間以外の無
駄な時間を浪費し、スループットが悪いという問題があ
った。
【０００６】本発明の目的は、かかる問題を解消すべく
スループットの大きい縮小投影型露光装置を提供するこ
とである。
スループットの大きい縮小投影型露光装置を提供するこ
とである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の縮小投影型露光
装置は、半導体基板を搭載するとともに基準水平面をも
つ定盤と、この定盤に搭載される半導体基板に光を投射
してその反射光を捕捉して水平度を測定する水平度測定
器とを露光する領域を囲む外郭部外に備え、この水平度
測定器の測定結果を記憶する記憶部を有している。
装置は、半導体基板を搭載するとともに基準水平面をも
つ定盤と、この定盤に搭載される半導体基板に光を投射
してその反射光を捕捉して水平度を測定する水平度測定
器とを露光する領域を囲む外郭部外に備え、この水平度
測定器の測定結果を記憶する記憶部を有している。
【０００８】
【実施例】本発明について図面を参照して説明する。
【０００９】図１は、一実施例模式を示す縮小投影型露
光装置の断面図である。この縮小投影型露光装置は、図
１に示すように、露光動作を行っている外郭部２外に、
半導体基板１ａを載置する定盤１０と、この定盤に載置
される半導体基板７ａに光を照射する光照射部４ａと、
半導体基板７ａから反射する光を入力し、水平度を測定
する水平度検出部１１ａと、この水平度検出部１１ａの
測定結果情報を記憶する記憶部８とを設けたことである
。
光装置の断面図である。この縮小投影型露光装置は、図
１に示すように、露光動作を行っている外郭部２外に、
半導体基板１ａを載置する定盤１０と、この定盤に載置
される半導体基板７ａに光を照射する光照射部４ａと、
半導体基板７ａから反射する光を入力し、水平度を測定
する水平度検出部１１ａと、この水平度検出部１１ａの
測定結果情報を記憶する記憶部８とを設けたことである
。
【００１０】代りに従来、外郭部２内に設置されていた
光照射部と水平度検出部を撤去したことである。云い換
えれば、半導体基板の反りを検出して、水平度を測定す
るアライメント動作を外郭部外で行うようにしたことで
ある。
光照射部と水平度検出部を撤去したことである。云い換
えれば、半導体基板の反りを検出して、水平度を測定す
るアライメント動作を外郭部外で行うようにしたことで
ある。
【００１１】次に、この縮小投影型露光装置の動作を説
明する。まず、既に外郭部２内で半導体露光していると
きに、定盤１０に載置された半導体基板７ａに光照射部
４ａより光、例えばレーザ光基板７を照射する。このこ
とにより半導体基板７ａより光が反射される。水平度検
出部１１ａはこの反射光を捕捉して、水平度を電流値に
変換して出力する。次に、変換された出力情報を記憶部
８に記憶させる。次に、外郭部２内の半導体基板７ａを
可動ステージ３より取外し、搬送部９より半導体基板７
ａを可動ステージ３に移載する。
明する。まず、既に外郭部２内で半導体露光していると
きに、定盤１０に載置された半導体基板７ａに光照射部
４ａより光、例えばレーザ光基板７を照射する。このこ
とにより半導体基板７ａより光が反射される。水平度検
出部１１ａはこの反射光を捕捉して、水平度を電流値に
変換して出力する。次に、変換された出力情報を記憶部
８に記憶させる。次に、外郭部２内の半導体基板７ａを
可動ステージ３より取外し、搬送部９より半導体基板７
ａを可動ステージ３に移載する。
【００１２】次に、駆動制御部５ａが記憶部８より出力
情報を抽出し、基準水平度と比較し、その差を可動ステ
ージ３の回転駆動源に出力する。このことによって可動
ステージの傾きが補正され、半導体基板７ａは縮小レン
ズ１の光軸に対して垂直な面に補正される。
情報を抽出し、基準水平度と比較し、その差を可動ステ
ージ３の回転駆動源に出力する。このことによって可動
ステージの傾きが補正され、半導体基板７ａは縮小レン
ズ１の光軸に対して垂直な面に補正される。
【００１３】そして、従来と同様にアライメント光学系
６を利用して、転写済みのパターンと露光すべきパター
ンとの目合せを行い、レチクル上のパターンを半導体基
板７ａに転写する。このような操作をくり返して、順次
半導体基板にパターンを転写する。このことにより外郭
部内で行う水平度アライメント動作に要する時間を節約
出来る。
６を利用して、転写済みのパターンと露光すべきパター
ンとの目合せを行い、レチクル上のパターンを半導体基
板７ａに転写する。このような操作をくり返して、順次
半導体基板にパターンを転写する。このことにより外郭
部内で行う水平度アライメント動作に要する時間を節約
出来る。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、半導体基
板全面のそり量を測定する手段と、測定結果を記憶する
手段とを装置の外郭部外に設けることによって、外郭部
内で半導体基板の水平度を測定する動作を省略すること
が出来るので、スループットの大きい縮小投影型露光装
置が得られるという効果がある。
板全面のそり量を測定する手段と、測定結果を記憶する
手段とを装置の外郭部外に設けることによって、外郭部
内で半導体基板の水平度を測定する動作を省略すること
が出来るので、スループットの大きい縮小投影型露光装
置が得られるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示す縮小投影型露光装置の
模式断面図である。
模式断面図である。
【図２】従来の一例を示す縮小投影型露光装置の模式断
面図である。
面図である。
１ 縮小レンズ
２ 外郭部
３ 可動ステージ
４，４ａ 光照射部
５，５ａ 駆動制御部
６ アライメント光学系
７，７ａ 半導体基板
８ 記憶部
９ 搬出部
１０ 定盤
１１，１１ａ 水平度検出部
Claims (1)
- 【請求項１】 半導体基板を搭載するとともに基準水
平面をもつ定盤と、この定盤に搭載される半導体基板に
光を投射してその反射光を捕捉して水平度を測定する水
平度測定器とを露光する領域を囲む外郭部外に備え、こ
の水平度測定器の測定結果を記憶する記憶部を有するこ
とを特徴とする縮小投影型露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3102335A JPH04333216A (ja) | 1991-05-08 | 1991-05-08 | 縮小投影型露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3102335A JPH04333216A (ja) | 1991-05-08 | 1991-05-08 | 縮小投影型露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04333216A true JPH04333216A (ja) | 1992-11-20 |
Family
ID=14324644
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3102335A Pending JPH04333216A (ja) | 1991-05-08 | 1991-05-08 | 縮小投影型露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04333216A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006269867A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Canon Inc | 露光装置 |
-
1991
- 1991-05-08 JP JP3102335A patent/JPH04333216A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006269867A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Canon Inc | 露光装置 |
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