JPH04332828A - ファブリ・ペロー型可変波長フィルター及びその製造方法 - Google Patents
ファブリ・ペロー型可変波長フィルター及びその製造方法Info
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- JPH04332828A JPH04332828A JP3102281A JP10228191A JPH04332828A JP H04332828 A JPH04332828 A JP H04332828A JP 3102281 A JP3102281 A JP 3102281A JP 10228191 A JP10228191 A JP 10228191A JP H04332828 A JPH04332828 A JP H04332828A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
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- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/28—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals
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- G—PHYSICS
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
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- G02B6/29359—Cavity formed by light guide ends, e.g. fibre Fabry Pérot [FFP]
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ファブリ・ペローエタ
ロンの共振器幾何学長を変えることにより透過する光の
波長を変化させる可変波長フィルター及びその製造方法
に関するものである。
ロンの共振器幾何学長を変えることにより透過する光の
波長を変化させる可変波長フィルター及びその製造方法
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバーを用いた通信方式において
は、光の波長多重技術を用いることにより高効率な通信
が実現できる。この場合、波長の異なる複数の光から特
定の波長を持つ光を取り出すことが必要になるが、一つ
の方法として、機械式ファブリ・ペロー型の可変波長フ
ィルターがシステムの低価格化を可能にする点で魅力的
である。従来、機械式ファブリ・ペローとしてエタロン
を回転して共振器の幾何学長を変化されるものが、Ａ．
ＦｒｅｎｋｅｌおよびＣ．Ｌｉｎらによりアイイー
イー イー ジャーナル オブ ライトウェイ
ブ テクノロジー（ＩＥＥＥ Ｊ．Ｌｉｇｈｔｍｗ
ａｖｅ Ｔｅｃｈｎｏｌ．）のＶｏｌ．６，ｐｐ．６
１５−６２５，１９８９に報告されている。この方法で
は、エタロンの厚みが大きくなると、エタロン出射ビー
ムの位置ずれが大きくなり挿入損失が増加するという欠
点があった。これを解決する方法として、鏡を移動する
ことによりエタロンの幾何学長を変化させることが行な
われている。この方式の代表例として、光ファイバーの
端面に鏡を形成し、この光ファイバーを圧電アクチュエ
ータにより動かしてエタロンの共振幾何学長を変化され
る方法が、Ｊ．ＳｔｏｎｅおよびＬ．Ｗ．Ｓｔｕｌｚら
によりエレクトロンレター（ＥｌｅｃｔｒｏｎＬｅｔｔ
．）のＶｏｌ．２３，ｐｐ．７８１−７８３，１９８７
に報告されている。
は、光の波長多重技術を用いることにより高効率な通信
が実現できる。この場合、波長の異なる複数の光から特
定の波長を持つ光を取り出すことが必要になるが、一つ
の方法として、機械式ファブリ・ペロー型の可変波長フ
ィルターがシステムの低価格化を可能にする点で魅力的
である。従来、機械式ファブリ・ペローとしてエタロン
を回転して共振器の幾何学長を変化されるものが、Ａ．
ＦｒｅｎｋｅｌおよびＣ．Ｌｉｎらによりアイイー
イー イー ジャーナル オブ ライトウェイ
ブ テクノロジー（ＩＥＥＥ Ｊ．Ｌｉｇｈｔｍｗ
ａｖｅ Ｔｅｃｈｎｏｌ．）のＶｏｌ．６，ｐｐ．６
１５−６２５，１９８９に報告されている。この方法で
は、エタロンの厚みが大きくなると、エタロン出射ビー
ムの位置ずれが大きくなり挿入損失が増加するという欠
点があった。これを解決する方法として、鏡を移動する
ことによりエタロンの幾何学長を変化させることが行な
われている。この方式の代表例として、光ファイバーの
端面に鏡を形成し、この光ファイバーを圧電アクチュエ
ータにより動かしてエタロンの共振幾何学長を変化され
る方法が、Ｊ．ＳｔｏｎｅおよびＬ．Ｗ．Ｓｔｕｌｚら
によりエレクトロンレター（ＥｌｅｃｔｒｏｎＬｅｔｔ
．）のＶｏｌ．２３，ｐｐ．７８１−７８３，１９８７
に報告されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では、圧電アクチュエータを使用するために価格が高
くなり、また、ファイバーの位置ずれを防ぐためにファ
イバーをスリーブの中に設ける必要があるため、部品点
数が増え組み立てが複雑になるという欠点があった。
法では、圧電アクチュエータを使用するために価格が高
くなり、また、ファイバーの位置ずれを防ぐためにファ
イバーをスリーブの中に設ける必要があるため、部品点
数が増え組み立てが複雑になるという欠点があった。
【０００４】本発明の目的は、これらの欠点をなくし、
圧電アクチュエータを使わずに、組立が容易で低価格化
が可能なファブリ・ペロー型可変波長フィルター及びそ
の製造方法を提供することにある。
圧電アクチュエータを使わずに、組立が容易で低価格化
が可能なファブリ・ペロー型可変波長フィルター及びそ
の製造方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、ファブ
リ・ペローエタロンの共振器幾何学長を変えることによ
り透過する光の波長を変化させる可変波長フィルターで
あって、複数の光ファイバーがシリコン基板の表面の溝
に設けられるとともに、これらの複数の光ファイバーの
うち２本の光ファイバーの端面に鏡が形成され、かつ一
方の光ファイバーをシリコン基板の中で静電気的に動か
される可動なシリコン部に設けることにより、上記の端
面に鏡が形成された２本のファイバーで形成されるエタ
ロンの共振器幾何学長を変化させることを特徴とするフ
ァブリ・ペロー型可変波長フィルター、このファブリ・
ペロー型可変波長フィルターの製造方法において、シリ
コン基板として（１００）面を主面に持つシリコンを用
い、異方性エッチングにより表面に（１１１）面と等価
な面を側面に持つ溝を形成して光ファイバーの設置用溝
とするとともに、レーザ加工、イオンミリングあるいは
放電加工によりシリコン基板に貫通溝を設けシリコン基
板に可動部を形成することを特徴とするファブリ・ペロ
ー型可変波長フィルダーの製造方法、上記のファブリ・
ペロー型可変波長フィルターの製造方法において、シリ
コン基板として（１１０）面を主面に持つシリコンを用
い、異方性エッチングにより（１１１）面と等価な面を
側面に持つ貫通溝を設けシリコン基板に可動部を形成す
るとともに、シリコン基板の表面に等方性エッチングあ
るいはブレードを用いた切削により溝を形成して光ファ
イバーの設置に用いることを特徴とするファブリ・ペロ
ー型可変波長フィルターの製造方法、上記のファブリ・
ペロー型可変波長フィルターの製造方法において、シリ
コン基板にダイアフラム部をエッチングにより形成する
とともに、このシリコン基板の上下の面に他のシリコン
基板を張り合わせたのち、この複数のシリコン板からな
る基板をダイシングによりチップに分離し、各々のチッ
プのダイシング面にエッチングまたはブレードにより溝
を形成して光ファイバーの設置用溝とすることを特徴と
するファブリ・ペロー型可変波長フィルターの製造方法
を得ることができる。
リ・ペローエタロンの共振器幾何学長を変えることによ
り透過する光の波長を変化させる可変波長フィルターで
あって、複数の光ファイバーがシリコン基板の表面の溝
に設けられるとともに、これらの複数の光ファイバーの
うち２本の光ファイバーの端面に鏡が形成され、かつ一
方の光ファイバーをシリコン基板の中で静電気的に動か
される可動なシリコン部に設けることにより、上記の端
面に鏡が形成された２本のファイバーで形成されるエタ
ロンの共振器幾何学長を変化させることを特徴とするフ
ァブリ・ペロー型可変波長フィルター、このファブリ・
ペロー型可変波長フィルターの製造方法において、シリ
コン基板として（１００）面を主面に持つシリコンを用
い、異方性エッチングにより表面に（１１１）面と等価
な面を側面に持つ溝を形成して光ファイバーの設置用溝
とするとともに、レーザ加工、イオンミリングあるいは
放電加工によりシリコン基板に貫通溝を設けシリコン基
板に可動部を形成することを特徴とするファブリ・ペロ
ー型可変波長フィルダーの製造方法、上記のファブリ・
ペロー型可変波長フィルターの製造方法において、シリ
コン基板として（１１０）面を主面に持つシリコンを用
い、異方性エッチングにより（１１１）面と等価な面を
側面に持つ貫通溝を設けシリコン基板に可動部を形成す
るとともに、シリコン基板の表面に等方性エッチングあ
るいはブレードを用いた切削により溝を形成して光ファ
イバーの設置に用いることを特徴とするファブリ・ペロ
ー型可変波長フィルターの製造方法、上記のファブリ・
ペロー型可変波長フィルターの製造方法において、シリ
コン基板にダイアフラム部をエッチングにより形成する
とともに、このシリコン基板の上下の面に他のシリコン
基板を張り合わせたのち、この複数のシリコン板からな
る基板をダイシングによりチップに分離し、各々のチッ
プのダイシング面にエッチングまたはブレードにより溝
を形成して光ファイバーの設置用溝とすることを特徴と
するファブリ・ペロー型可変波長フィルターの製造方法
を得ることができる。
【０００６】
【作用】本発明によれば、ファブリ・ペロー型可変波長
フィルターを構成する光ファイバーはシリコン表面の溝
に設けられるため、光ファイバーの設置、組み立てが精
度良く容易に行なえる。また、端面に鏡が形成された光
ファイバーがシリコン基板の可動部に設けられるが、シ
リコンは完全弾性体に近くヒステリシスが小さいため、
静電気的な力で光ファイバーの位置が精度良くコントロ
ールされ、高性能なファブリ・ペロー型可変波長フィル
ターを得ることができる。また、本発明による製造方法
によればシリコンウェハーに多数の素子が同時に形成さ
れるため、大量生産および低価格化が可能になる。
フィルターを構成する光ファイバーはシリコン表面の溝
に設けられるため、光ファイバーの設置、組み立てが精
度良く容易に行なえる。また、端面に鏡が形成された光
ファイバーがシリコン基板の可動部に設けられるが、シ
リコンは完全弾性体に近くヒステリシスが小さいため、
静電気的な力で光ファイバーの位置が精度良くコントロ
ールされ、高性能なファブリ・ペロー型可変波長フィル
ターを得ることができる。また、本発明による製造方法
によればシリコンウェハーに多数の素子が同時に形成さ
れるため、大量生産および低価格化が可能になる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明について図面を参照して詳細に
説明する。図１は本発明によるファブリ・ペロー型可変
波長フィルターの一実施例の平面図で、図２は図１の光
ファイバーの位置における断面図である。図１および図
２において、１ａ、１ｂ、１ｃは光ファイバー、４ａ、
４ｂ、４ｃはシリコン、７は電極、８はガラス、９は接
着剤である。光ファイバー１ａの右端および光ファイバ
ー１ｂの右端の表面は、ファブリ・ペロー共振器を形成
するために鏡面になっている。３本の光ファイバーは、
それぞれ、シリコン４ａ、シリコン４ｂ、シリコン４ｃ
の表面に形成された溝内に設置され、接着剤９により固
定されている。また、シリコン４ａ、シリコン４ｂ、シ
リコン４ｃはガラス８に接合され固定されるが、このう
ちシリコン４ｂは部分的にガラス８の上に浮かんだ構造
を持ち光ファイバーの支持部および梁部が可動部となっ
ている。さらに、シリコン４ａ、シリコン４ｂ、シリコ
ン４ｃには、それぞれ、電極７が形成され所定の電圧が
加えられる。
説明する。図１は本発明によるファブリ・ペロー型可変
波長フィルターの一実施例の平面図で、図２は図１の光
ファイバーの位置における断面図である。図１および図
２において、１ａ、１ｂ、１ｃは光ファイバー、４ａ、
４ｂ、４ｃはシリコン、７は電極、８はガラス、９は接
着剤である。光ファイバー１ａの右端および光ファイバ
ー１ｂの右端の表面は、ファブリ・ペロー共振器を形成
するために鏡面になっている。３本の光ファイバーは、
それぞれ、シリコン４ａ、シリコン４ｂ、シリコン４ｃ
の表面に形成された溝内に設置され、接着剤９により固
定されている。また、シリコン４ａ、シリコン４ｂ、シ
リコン４ｃはガラス８に接合され固定されるが、このう
ちシリコン４ｂは部分的にガラス８の上に浮かんだ構造
を持ち光ファイバーの支持部および梁部が可動部となっ
ている。さらに、シリコン４ａ、シリコン４ｂ、シリコ
ン４ｃには、それぞれ、電極７が形成され所定の電圧が
加えられる。
【０００８】シリコン４ｂの可動部の梁の幅が２０μｍ
、長さが５ｍｍ、可動部とシリコン４ａの隙間が１０μ
ｍの場合、シリコン４ａとシリコン４ｂの間に加える電
圧を０Ｖから８０Ｖに変化させることにより、鏡面を持
つ２本の光ファイバーで形成されるファブリ・ペロー共
振器の共振器長は約５０ｎｍ変化し、透過する光の波長
を選択することができる。
、長さが５ｍｍ、可動部とシリコン４ａの隙間が１０μ
ｍの場合、シリコン４ａとシリコン４ｂの間に加える電
圧を０Ｖから８０Ｖに変化させることにより、鏡面を持
つ２本の光ファイバーで形成されるファブリ・ペロー共
振器の共振器長は約５０ｎｍ変化し、透過する光の波長
を選択することができる。
【０００９】次に、本発明によるファブリ・ペロー型可
変波長フィルターの製造方法の一実施例について、図３
〜図８の図面を参照して詳述する。図３は平面図で、図
４および図５はそれぞれ図３のａ−ａ′、ｂ−ｂ′にお
ける断面図である。図６は平面図で、図７および図８は
図６のａ−ａ′、ｂ−ｂ′における断面図である。これ
らの図において１０は酸化シリコン、１１は（１００）
面を主面に持つシリコン、７はメタル電極、８はパイレ
ックスガラスである。まず、（１００）面を主面に持つ
シリコンを熱酸化し両面に酸化シリコン１０を３００ｎ
ｍの厚さに形成する。その後、酸化シリコン１０をフォ
トリソグラフィーによりエッチングし所定の場所のシリ
コンを露出させ、水酸化カリウム溶液などの異方性エッ
チング液によりエッチングを行なう。この工程により図
３〜図５に示すようにシリコンの表面には（１１１）面
と等価な面で精密にきまる溝２０を形成することができ
た。同時に、シリコンの裏面の可動部を含む領域にエッ
チングにより窪み２１をもうける。次に、酸化シリコン
を除去し、シリコン１１をパイレックスガラス８に静電
的に結合する。電極７をシリコン１１の表面に形成した
後、レーザ加工、イオンミリングあるいは放電加工によ
り貫通溝２２を設け、可動部を形成する。その後、光フ
ァイバーをシリコン１１の表面に形成された溝に接着剤
で固定する。
変波長フィルターの製造方法の一実施例について、図３
〜図８の図面を参照して詳述する。図３は平面図で、図
４および図５はそれぞれ図３のａ−ａ′、ｂ−ｂ′にお
ける断面図である。図６は平面図で、図７および図８は
図６のａ−ａ′、ｂ−ｂ′における断面図である。これ
らの図において１０は酸化シリコン、１１は（１００）
面を主面に持つシリコン、７はメタル電極、８はパイレ
ックスガラスである。まず、（１００）面を主面に持つ
シリコンを熱酸化し両面に酸化シリコン１０を３００ｎ
ｍの厚さに形成する。その後、酸化シリコン１０をフォ
トリソグラフィーによりエッチングし所定の場所のシリ
コンを露出させ、水酸化カリウム溶液などの異方性エッ
チング液によりエッチングを行なう。この工程により図
３〜図５に示すようにシリコンの表面には（１１１）面
と等価な面で精密にきまる溝２０を形成することができ
た。同時に、シリコンの裏面の可動部を含む領域にエッ
チングにより窪み２１をもうける。次に、酸化シリコン
を除去し、シリコン１１をパイレックスガラス８に静電
的に結合する。電極７をシリコン１１の表面に形成した
後、レーザ加工、イオンミリングあるいは放電加工によ
り貫通溝２２を設け、可動部を形成する。その後、光フ
ァイバーをシリコン１１の表面に形成された溝に接着剤
で固定する。
【００１０】次に、本発明によるファブリ・ペロー型可
変波長フィルターの製造方法の第２の実施例について、
図９〜図１４の図面を参照して詳述する。図９は平面図
で、図１０および図１１は、それぞれ図９のａ−ａ′、
ｂ−ｂ′における断面図である。図１２は平面図で、図
１３および図１４は図１２のａ−ａ′、ｂ−ｂ′におけ
る断面図である。これらの図において、１０は酸化シリ
コン、１１は（１１０）面を主面に持つシリコン、７は
メタル電極、８はパイレックスガラスである。まず、（
１１０）面を主面に持つシリコンを熱酸化し両面に酸化
シリコン１０を３００ｎｍの厚さに形成する。その後、
酸化シリコンをフォトリソグラフィーによりエッチング
し所定の場所のシリコンを露出させ、水酸化カリウムな
どの異方性エッチング液によりエッチングを行なう。こ
の時、（１１１）面と等価な面がエッチング時に側面に
現われるように酸化シリコンの形状を選ぶと、ほぼ表面
に垂直なエッチングが行なわれ貫通溝２２が形成される
。さらに、シリコンの裏面の可動部を含む領域にエッチ
ングにより窪み２１をもうける。次に、酸化シリコン１
０を除去し、シリコン１１をパイレックスガラス８に静
電的に結合する。電極７をシリコン１１の表面に形成し
た後、ダイシング用ブレードにより幅８０μｍ、深さ８
０μｍの溝２０を表面に形成する。この溝２０は酸化シ
リコンをマスクにしてシリコンを等方的にエッチングし
ても形成できる。（図１２〜図１４）その後、光ファイ
バーをシリコン１１の表面に形成された溝２０に接着剤
で固定する。
変波長フィルターの製造方法の第２の実施例について、
図９〜図１４の図面を参照して詳述する。図９は平面図
で、図１０および図１１は、それぞれ図９のａ−ａ′、
ｂ−ｂ′における断面図である。図１２は平面図で、図
１３および図１４は図１２のａ−ａ′、ｂ−ｂ′におけ
る断面図である。これらの図において、１０は酸化シリ
コン、１１は（１１０）面を主面に持つシリコン、７は
メタル電極、８はパイレックスガラスである。まず、（
１１０）面を主面に持つシリコンを熱酸化し両面に酸化
シリコン１０を３００ｎｍの厚さに形成する。その後、
酸化シリコンをフォトリソグラフィーによりエッチング
し所定の場所のシリコンを露出させ、水酸化カリウムな
どの異方性エッチング液によりエッチングを行なう。こ
の時、（１１１）面と等価な面がエッチング時に側面に
現われるように酸化シリコンの形状を選ぶと、ほぼ表面
に垂直なエッチングが行なわれ貫通溝２２が形成される
。さらに、シリコンの裏面の可動部を含む領域にエッチ
ングにより窪み２１をもうける。次に、酸化シリコン１
０を除去し、シリコン１１をパイレックスガラス８に静
電的に結合する。電極７をシリコン１１の表面に形成し
た後、ダイシング用ブレードにより幅８０μｍ、深さ８
０μｍの溝２０を表面に形成する。この溝２０は酸化シ
リコンをマスクにしてシリコンを等方的にエッチングし
ても形成できる。（図１２〜図１４）その後、光ファイ
バーをシリコン１１の表面に形成された溝２０に接着剤
で固定する。
【００１１】次に、本発明のファブリ・ペロー型可変波
長フィルターの製造方法の第３の実施例について、図１
５〜図１８の図面を参照して詳述する。図１５はシリコ
ンウェハーの一部分の断面図で１０は酸化シリコン、１
１はシリコンである。シリコン１１は酸化シリコン１０
をマスクにしてエッチングされ一部に薄い領域１１ａが
設けられる（図１５）。その後、酸化シリコン１０を一
部分残し、上下に２枚のシリコン１２ａ、１２ｂを張り
合わせる（図１６）。張り合わせには、直接熱的に接合
する方法、接着剤による方法などが可能である。次に、
この３枚のシリコン１２ａ、１１、１２ｂからなる基板
をダイシングによりチップに分離する。ダイシング面で
の断面図を図１６に示す。ダイシングにより分離された
チップは、図１７に示すようにダイシング面に電極７お
よび光ファイバーの設置用溝２０が設けられる。図１８
は図１７のａ−ａ′における断面図である。その後、光
ファイバーをそれぞれシリコン１２ａ、シリコン１１、
シリコン１２ｂ表面の溝２０に接着剤で固定する。
長フィルターの製造方法の第３の実施例について、図１
５〜図１８の図面を参照して詳述する。図１５はシリコ
ンウェハーの一部分の断面図で１０は酸化シリコン、１
１はシリコンである。シリコン１１は酸化シリコン１０
をマスクにしてエッチングされ一部に薄い領域１１ａが
設けられる（図１５）。その後、酸化シリコン１０を一
部分残し、上下に２枚のシリコン１２ａ、１２ｂを張り
合わせる（図１６）。張り合わせには、直接熱的に接合
する方法、接着剤による方法などが可能である。次に、
この３枚のシリコン１２ａ、１１、１２ｂからなる基板
をダイシングによりチップに分離する。ダイシング面で
の断面図を図１６に示す。ダイシングにより分離された
チップは、図１７に示すようにダイシング面に電極７お
よび光ファイバーの設置用溝２０が設けられる。図１８
は図１７のａ−ａ′における断面図である。その後、光
ファイバーをそれぞれシリコン１２ａ、シリコン１１、
シリコン１２ｂ表面の溝２０に接着剤で固定する。
【００１２】
【発明の効果】以上、説明したとおり、本発明によれば
、シリコン基板を用いて可動部を形成し、可動部を静電
的に駆動するため、圧電アクチュエータが不要で、また
、シリコン表面に光ファイバー設置用の溝が設けられて
いるため、精度の高い組立が容易となり、さらに、シリ
コンウェーハを用いて製造するため一度にたくさんの素
子が形成でき、低価格なファブリ・ペロー型可変波長フ
ィルターの製造を可能にするという効果を有する。
、シリコン基板を用いて可動部を形成し、可動部を静電
的に駆動するため、圧電アクチュエータが不要で、また
、シリコン表面に光ファイバー設置用の溝が設けられて
いるため、精度の高い組立が容易となり、さらに、シリ
コンウェーハを用いて製造するため一度にたくさんの素
子が形成でき、低価格なファブリ・ペロー型可変波長フ
ィルターの製造を可能にするという効果を有する。
【図１】本発明によるファブリ・ペロー型可変波長フィ
ルターの一実施例の平面図である。
ルターの一実施例の平面図である。
【図２】図１の光ファイバーの位置における断面図であ
る。
る。
【図３】本発明によるファブリ・ペロー型可変波長フィ
ルターの製造方法の一実施例の平面図である。
ルターの製造方法の一実施例の平面図である。
【図４】図３のａ−ａ′における断面図である。
【図５】図３のｂ−ｂ′における断面図である。
【図６】図３の後の工程における平面図である。
【図７】図６のａ−ａ′における断面図である。
【図８】図６のｂ−ｂ′における断面図である。
【図９】本発明によるファブリ・ペロー型可変波長フィ
ルターの製造方法の一実施例を説明する平面図である。
ルターの製造方法の一実施例を説明する平面図である。
【図１０】図９のａ−ａ′における断面図である。
【図１１】図９のｂ−ｂ′における断面図である。
【図１２】図９の後の工程における平面図である。
【図１３】図１２のａ−ａ′における断面図である。
【図１４】図１２のｂ−ｂ′における断面図である。
【図１５】本発明によるファブリ・ペロー型可変波長フ
ィルターの製造方法の一実施例を説明する断面図である
。
ィルターの製造方法の一実施例を説明する断面図である
。
【図１６】図１５の後の工程の断面図である。
【図１７】図１６の後の工程で、ダイシング面に光ファ
イバーの設置用溝、及び電極が設けられた点での説明図
である。
イバーの設置用溝、及び電極が設けられた点での説明図
である。
【図１８】図１７のｂ−ｂ′における断面図である。
１ａ、１ｂ、１ｃ 光ファイバー４ａ、４ｂ、４
ｃ シリコン ７ 電極 ８ ガラス ９ 接着剤 １０ 酸化シリコン
ｃ シリコン ７ 電極 ８ ガラス ９ 接着剤 １０ 酸化シリコン
Claims (4)
- 【請求項１】 複数領域に分離されて可動部を有する
シリコン基板の前記各領域にまたがって延びる溝内に各
分離領域毎に光ファイバーが固定・設置されるとともに
、これらの複数の光ファイバーのうち２本の光ファイバ
ーの端面に鏡が形成され、かつ一方の光ファイバーをシ
リコン基板の中で静電気的に動かされる可動部に設ける
ことにより、上記の端面に鏡が形成された２本の光ファ
イバーでエタロンの共振器を形成したことを特徴とする
ファブリ・ペロー型可変波長フィルター。 - 【請求項２】 シリコン基板として（１００）面を主
面に持つシリコンを用い、異方性エッチングにより表面
に（１１１）面と等価な面を側面に持つ溝を形成して光
ファイバーの設置用溝とするとともに、レーザ加工、イ
オンミリングあるいは放電加工によりシリコン基板に貫
通溝を設けシリコン基板に可動部を形成することを特徴
とするファブリ・ペロー型可変波長フィルターの製造方
法。 - 【請求項３】 シリコン基板として（１１０）面を主
面に持つシリコンを用い、異方性エッチングにより（１
１１）面と等価な面を側面に持つ貫通溝を設けシリコン
基板に可動部を形成するとともに、シリコン基板の表面
に等方性エッチングあるいはブレードを用いた切削によ
り溝を形成して光ファイバーの設置に用いることを特徴
とするファブリ・ペロー型可変波長フィルターの製造方
法。 - 【請求項４】 シリコン基板にダイアフラム部をエッ
チングにより形成するとともに、このシリコン基板の上
下の面に他のシリコン基板を張り合わせたのち、この複
数のシリコン板からなる基板をダイシングによりチップ
に分離し、各々のチップのダイシング面にエッチングま
たはブレードにより溝を形成して光ファイバーの設置用
溝とすることを特徴とするファブリ・ペロー型可変波長
フィルターの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3102281A JP2697353B2 (ja) | 1991-05-08 | 1991-05-08 | ファブリ・ペロー型可変波長フィルター及びその製造方法 |
| US07/880,227 US5251275A (en) | 1991-05-08 | 1992-05-08 | Tunable fiber Fabry-Perot etalon optical filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3102281A JP2697353B2 (ja) | 1991-05-08 | 1991-05-08 | ファブリ・ペロー型可変波長フィルター及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04332828A true JPH04332828A (ja) | 1992-11-19 |
| JP2697353B2 JP2697353B2 (ja) | 1998-01-14 |
Family
ID=14323226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3102281A Expired - Fee Related JP2697353B2 (ja) | 1991-05-08 | 1991-05-08 | ファブリ・ペロー型可変波長フィルター及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5251275A (ja) |
| JP (1) | JP2697353B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011530092A (ja) * | 2008-08-07 | 2011-12-15 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | テラヘルツビーム源およびテラヘルツビームを形成する方法 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR0153860B1 (ko) * | 1995-06-24 | 1998-10-15 | 윤덕용 | 광결합기 2 x 2 광스위치 및 그를 이용한 광스위칭 방법 |
| US6291813B1 (en) | 1999-06-07 | 2001-09-18 | Agere Systems Optoelectronics Guardian Corp. | Method and system for deriving a control signal for a frequency stabilized optical source |
| US6608685B2 (en) | 2000-05-15 | 2003-08-19 | Ilx Lightwave Corporation | Tunable Fabry-Perot interferometer, and associated methods |
| US6445838B1 (en) | 2000-09-29 | 2002-09-03 | Corning Incorporated | Tunable optical component |
| US6721098B2 (en) * | 2000-12-22 | 2004-04-13 | Axsun Technologies, Inc. | Triple electrode MOEMS tunable filter and fabrication process therefor |
| US6600846B2 (en) * | 2001-01-15 | 2003-07-29 | Coretek, Inc. | Single-etalon, multi-point wavelength calibration reference and fully integrated optical system using the same |
| US20030020926A1 (en) * | 2001-05-15 | 2003-01-30 | Nicolae Miron | Tunable band pass optical filter unit with a tunable band pass interferometer |
| US6721468B2 (en) | 2001-06-08 | 2004-04-13 | Ilx Lightwave Corporation | Resonantly driven fiber polarization scrambler |
| US6885782B2 (en) * | 2001-06-26 | 2005-04-26 | Ilx Lightwave Corporation | Feedback polarization controller |
| US20030202799A1 (en) * | 2002-04-29 | 2003-10-30 | Zhou Dennis Chi | Optical channel monitor using an angle-tuned fabry-perot optical filter |
| EP1558955A4 (en) * | 2002-10-15 | 2006-04-19 | Micron Optics Inc | FABRY-PEROT FIBER FILTERS WITHOUT PLATE |
| US7063466B2 (en) * | 2002-12-20 | 2006-06-20 | Micron Optics, Inc. | Selectable and tunable ferrule holder for a fiber Fabry-Perot filter |
| US6996312B2 (en) * | 2003-04-29 | 2006-02-07 | Rosemount, Inc. | Tunable fabry-perot filter |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4830451A (en) * | 1986-03-05 | 1989-05-16 | American Telephone And Telegraph Company | Technique and apparatus for fabricating a fiber Fabry-Perot etalon |
| US4861136A (en) * | 1987-07-15 | 1989-08-29 | American Telephone And Telegraph Company | Optical communication systems using fabry-perot cavities |
| US4994791A (en) * | 1987-10-13 | 1991-02-19 | Texas A & M University System | Progressively monitorable fire alarm system |
-
1991
- 1991-05-08 JP JP3102281A patent/JP2697353B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-05-08 US US07/880,227 patent/US5251275A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011530092A (ja) * | 2008-08-07 | 2011-12-15 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | テラヘルツビーム源およびテラヘルツビームを形成する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2697353B2 (ja) | 1998-01-14 |
| US5251275A (en) | 1993-10-05 |
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