JPH04317315A - シャッター装置 - Google Patents

シャッター装置

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Publication number
JPH04317315A
JPH04317315A JP3109577A JP10957791A JPH04317315A JP H04317315 A JPH04317315 A JP H04317315A JP 3109577 A JP3109577 A JP 3109577A JP 10957791 A JP10957791 A JP 10957791A JP H04317315 A JPH04317315 A JP H04317315A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
disk
shutter device
optical path
disks
rotation
Prior art date
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Pending
Application number
JP3109577A
Other languages
English (en)
Inventor
Takasumi Yui
敬清 由井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP3109577A priority Critical patent/JPH04317315A/ja
Publication of JPH04317315A publication Critical patent/JPH04317315A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、露光装置のシャッター
装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の露光装置で用いるシャッター装置
は、円盤の一部を切欠いたものを回転させ、この切欠き
部が光路を横切るように設定して光路の開閉を行ってい
た。
【0003】図5は、従来のシャッター装置の一例を示
す。この従来例では、切欠きを2つ有し各切欠きの角度
を90度にした円盤を用いている。
【0004】この従来技術で示すように、一般に光路を
開閉する円盤はモーターで駆動される。この際、円盤の
切欠き部を光路上に位置決めさせるために、ロータリー
エンコーダ等を用いて位置フィードバック制御を行う位
置サーボ系を構成している。図6は、図5の構成におけ
る円盤の動きをモーター回転角と時間の関係について示
したものである。この図から分かるように、最適化され
たサーボ系においては、初期位置から最初に目標位置を
通過するまでに要する時間Tsの他に、適度なオーバー
シュートを含む過渡時間Ttが存在する。いま露光時間
をTeとしてこれをどこまで小さくできるかを考えてみ
る。開動作における円盤の位置決め終了から閉動作の開
始までの時間をToとすると、TeはTs+Tt+To
で表される。サーボ系が最適化されていて、Ts+Tt
が最小に抑えられているとすれば、To=0のときTe
は最小で、Te(min)=Ts+Ttとなる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光路の
開閉だけに着目すれば、Te(min)における過渡時
間Ttは無駄な時間である。また、露光光学系の性質上
Tsは出来るかぎり小さい方がよいので、過渡時間Tt
は大きくなる傾向があって、Tt≧Tsとなるのが普通
である。
【0006】近年、感光剤の改良が進み必要露光量が極
端に小さいものが開発されている。これらは、現在得ら
れている露光照度のもとで、Tsに近い露光時間しか必
要としない。このような感光剤の利点を生かし、高スル
ープットの露光装置を実現するために過渡時間Ttを極
小化する必要がある。しかしながら、現在のサーボ技術
において、さらにTtを小さくすることは非常に困難で
ある。
【0007】本発明は、上記の点に鑑みなされたもので
あって、過渡時間をさらに短縮可能とし最小露光時間の
短縮化を図ったシャッター装置の提供を目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段および作用】前記目的を達
成するため、本発明では、複数の回転開閉機構を設ける
ことによって、実質上Tt=0とみなせるようにし、そ
の結果最小露光時間をTe(min)=Tsとなるよう
にした。
【0009】
【実施例】図1は、本発明の実施例に係るシャッター装
置の構成図である。図において、1は光路、2は光路を
開閉する第1の円盤、3は第1の円盤を回転させるため
の第1のモーター、4は第1の円盤の位置情報を得るた
めの第1のエンコーダー、5は第1のモーターを駆動す
るための第1の駆動回路、6は光路を開閉する第2の円
盤、7は第2の円盤を回転させるための第2のモーター
、8は第2の円盤の位置情報を得るための第2のエンコ
ーダー、9は第2のモーターを駆動するための第2の駆
動装置、10は第1および第2の駆動回路に駆動指令を
出力して光路の開閉動作を行う制御部である。
【0010】次に、上記構成のシャッター装置の光路開
閉動作を図2を参照して順番に説明する。図2は、第1
の円盤2と第2の円盤6の動きを状態別に示す。図2の
グラフは、横軸を時間、縦軸を第1および第2の円盤の
回転角として表し、円盤の各状態との対応を示す。第1
および第2の円盤2,6の初期位置は、図2のaで示す
ように、互いの切欠きの位相が反転した状態である。こ
のとき、光路1は閉じている。この状態で、制御部10
は、第1の駆動回路5に開指令を出力する。第1の駆動
回路5は、第1のモーター3を駆動して開動作を開始す
る。この様子を図2のbに示す。第1の円盤2の回転に
伴い、やがて光路1は完全に開の状態になる。この状態
を図2のcに示す。グラフからわかるように、この後第
1の円盤2は、この系の過渡特性に従って収束するまで
振動する。このとき、収束するまでに要する時間が過渡
時間Ttである。
【0011】露光終了のタイミングTendになると、
制御部10は、第2の駆動回路9に閉指令を出力する。 第2の駆動回路9は、第2のモーター7を駆動して閉動
作を開始する。この様子を図2のdに示す。第2の円盤
6の回転に伴い、やがて光路1は完全に閉の状態となり
露光動作の1サイクルが終了する。この様子を図2のe
に示す。
【0012】図2のf以降は、前サイクルに続く次のサ
イクルを示す。このサイクルでは、第1の円盤と第2の
円盤の役割が逆になり、開動作を第2の円盤6で行い、
閉動作を第1の円盤2で行う。
【0013】図3は、上記構成のシャッター装置の動作
タイミングの別の例を示す。この例では、図2の露光終
了タイミングTendが開動作の過渡時間Tt内にある
場合を示す。開動作の過渡状態と閉動作がオーバーラッ
プしているが、動作は図2の動作と実質上同じである。
【0014】図4は、本発明のシャッター装置に係る別
の動作の例を示す。図2および図3の実施例では、第1
の露光サイクルにおける第1および第2の円盤の回転方
向とこれに続く第2の露光サイクルにおける各円盤の回
転方向は同じである。このような同一回転方向駆動に代
えて、図4の実施例では、サイクルごとに回転方向を変
えている。即ち、図2および図3の円盤回転方向を順方
向とすれば、図4の実施例では、第1の露光サイクルで
は順方向に駆動され、第2の露光サイクルでは逆方向に
駆動されている。その他の作用効果は前記実施例と同様
である。
【0015】
【発明の効果】以上説明したように、本発明においては
、露光動作における開動作と閉動作とをおのおの別の円
盤を駆動させて行うことにより、各動作に伴う過渡状態
の収束を待たずに次の動作に移行できるようになり、露
光時間が短縮される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るシャッター装置の構成図である。
【図2】本発明に係るシャッター装置の動作を表した説
明図である。
【図3】本発明に係るシャッター装置の別の動作を表し
た説明図である。
【図4】本発明に係るシャッター動作のさらに別の動作
を表した説明図である。
【図5】従来のシャッター装置の構成図である。
【図6】従来のシャッター装置の動作説明図である。
【符号の説明】
1  光路 2  第1の円盤 3  第1のモーター 4  第1のエンコーダー 5  第1の駆動回路 6  第2の円盤 7  第2のモーター 8  第2のエンコーダー 9  第2の駆動回路 10  制御部

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  切欠きを有する回転円盤の該切欠きを
    光路を横断する位置に配置し、該円盤の回転により前記
    光路を開閉するシャッター装置において、前記光路上に
    相互に切欠きの位相位置が異なる複数の回転円盤を設け
    、各円盤ごとに回転駆動手段を設け、両回転駆動手段を
    駆動制御する制御部を有することを特徴とするシャッタ
    ー装置。
  2. 【請求項2】  前記複数の円盤は、第1および第2の
    2つの円盤からなり、各円盤はそれぞれ180°位相の
    ずれた2か所に切欠きを有し、第1および第2の円盤の
    切欠き同士は相互に90°位相のずれた位置に配置した
    ことを特徴とする請求項1のシャッター装置。
  3. 【請求項3】  前記制御部は、前記第1および第2の
    円盤を交互に回転駆動させるように構成したことを特徴
    とする請求項2のシャッター装置。
  4. 【請求項4】  前記各円盤は、それぞれ一定の方向に
    回転することを特徴とする請求項3のシャッター装置。
  5. 【請求項5】  前記各円盤は、それぞれ正逆回転を順
    番に繰り返して駆動制御されることを特徴とする請求項
    3のシャッター装置。
JP3109577A 1991-04-16 1991-04-16 シャッター装置 Pending JPH04317315A (ja)

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JP3109577A JPH04317315A (ja) 1991-04-16 1991-04-16 シャッター装置

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ID=14513793

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016107543A1 (zh) * 2014-12-31 2016-07-07 上海微电子装备有限公司 一种用于光刻机曝光系统的自阻尼快门装置
CN107290938A (zh) * 2016-03-31 2017-10-24 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种用于光刻机曝光的快门装置及其使用方法

Cited By (4)

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US10712668B2 (en) 2016-03-31 2020-07-14 Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. Shutter device used for exposure in lithography machine, and method for use thereof

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