JPH0431728Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0431728Y2 JPH0431728Y2 JP1982132927U JP13292782U JPH0431728Y2 JP H0431728 Y2 JPH0431728 Y2 JP H0431728Y2 JP 1982132927 U JP1982132927 U JP 1982132927U JP 13292782 U JP13292782 U JP 13292782U JP H0431728 Y2 JPH0431728 Y2 JP H0431728Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- sample
- scanning
- deflection
- deflector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 43
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 14
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 7
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 7
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 2
Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は走査透過電子顕微鏡に関し、特に試料
の低倍観察に適した走査透過電子顕微鏡に関す
る。
の低倍観察に適した走査透過電子顕微鏡に関す
る。
近時、電子線通過域をライナーチユーブにした
走査透過電子顕微鏡が用いられているが、電子線
通過域をライナーチユーブにすると、真空排気し
なければならない領域の体積を小さくし得るとと
もに、ライナーチユーブで包囲することによつて
被排気領域からのガス放出を極めて小さくできる
ことから、電子線通過域を極めて高真空にしてク
リーンな真空系を実現できる。しかしながら、こ
のような走査透過電子顕微鏡において試料を低倍
観察するために電子線の走査幅を大きくすると、
試料を透過した電子線のうちあるタイミングのも
のはライナーチユーブの壁面に当つてカツトされ
てしまうことが生じ不都合であつた。
走査透過電子顕微鏡が用いられているが、電子線
通過域をライナーチユーブにすると、真空排気し
なければならない領域の体積を小さくし得るとと
もに、ライナーチユーブで包囲することによつて
被排気領域からのガス放出を極めて小さくできる
ことから、電子線通過域を極めて高真空にしてク
リーンな真空系を実現できる。しかしながら、こ
のような走査透過電子顕微鏡において試料を低倍
観察するために電子線の走査幅を大きくすると、
試料を透過した電子線のうちあるタイミングのも
のはライナーチユーブの壁面に当つてカツトされ
てしまうことが生じ不都合であつた。
本考案はこのような従来の問題を解決するため
になされたもので、電子銃よりの電子線を試料に
細く絞つて照射するための手段と、該電子線を試
料上において２次元的に走査するための手段と、
試料を透過した電子線を検出するための手段と、
前記走査手段による電子線の走査と同期走査され
前記検出器よりの信号に基づいて試料像を表示す
るための表示手段とを備えた装置において、試料
を透過した電子線を前記走査手段による偏向に同
期して偏向し該電子線を光軸方向に振り戻すため
の第１の偏向手段と、該第１の偏向手段によつて
偏向された電子線が光軸に沿つて進行するように
偏向するため第１の偏向手段に同期した偏向を行
なう第２の偏向手段とを具備していることを特徴
としている。
になされたもので、電子銃よりの電子線を試料に
細く絞つて照射するための手段と、該電子線を試
料上において２次元的に走査するための手段と、
試料を透過した電子線を検出するための手段と、
前記走査手段による電子線の走査と同期走査され
前記検出器よりの信号に基づいて試料像を表示す
るための表示手段とを備えた装置において、試料
を透過した電子線を前記走査手段による偏向に同
期して偏向し該電子線を光軸方向に振り戻すため
の第１の偏向手段と、該第１の偏向手段によつて
偏向された電子線が光軸に沿つて進行するように
偏向するため第１の偏向手段に同期した偏向を行
なう第２の偏向手段とを具備していることを特徴
としている。
以下図面に基づいて本考案の一実施例を詳述す
る。
る。
本考案の一実施例を示す図面において、１は試
料走査用の偏向器であり、この偏向器１には走査
電源２より電子線EBを２次元的に走査するため
の鋸歯状の走査信号が増幅率可変増幅器３を介し
て供給されている。４は試料室であり、この試料
室４内には対物レンズの前方及び後方磁界に基づ
いて各々レンズ５ａとレンズ５ｂが形成されてお
り、これら両レンズの間には試料６が配置されて
いる。偏向器１は電子線EBを試料に入射させる
際にこの偏向器による偏向にかかわらず常にこの
電子線を光軸Ｃに平行に入射させるためレンズ５
ａの前焦点面に一致した位置に配置されている。
７は電子銃よりの電子線を試料室４に導くための
ライナーチユーブであり、８はレンズ５ｂを通過
した電子線を後段の検出器（図示せず）まで導く
ためのライナーチユーブである。この検出器によ
つて検出された信号は前記偏向器１による電子線
の走査と同期走査されている図示外の陰極線管に
供給される。９，１０は偏向器１によつて電子線
EBが走査されるにもかかわらず、試料６を透過
した電子線EBを常にライナーチユーブ（光軸）
に沿つて進行させるための２段の偏向器である。
１１は走査電源２よりの同期信号に基づいて、偏
向器１に供給される走査信号と同期した偏向信号
を発生する偏向電源である。この偏向電源１１よ
りの偏向信号は前記偏向器９，１０に各々増幅率
可変増幅器１２，１３を介して供給されている。
偏向器９は偏向器１を構成するコイルと同じ向き
に巻かれた偏向コイルからなつており、偏向器１
０は偏向器１及び９とは逆向きに巻かれたコイル
からなつている。増幅率可変増幅器１２，１３の
増幅率は観察倍率の変化に伴なう増幅率可変増幅
器３の増幅率の変化にかかわらず、偏向器９によ
り常に電子線EBを偏向器１０の偏向面と光軸Ｃ
との交点Ａに入射させ、且つこの交点Ａに入射し
た電子線EBを偏向器１０により常に光軸Ｃに沿
つて進行するように偏向させるため、増幅率可変
増幅器３の増幅率の変化に連動して所定の関係を
有して変化するようになつている。
料走査用の偏向器であり、この偏向器１には走査
電源２より電子線EBを２次元的に走査するため
の鋸歯状の走査信号が増幅率可変増幅器３を介し
て供給されている。４は試料室であり、この試料
室４内には対物レンズの前方及び後方磁界に基づ
いて各々レンズ５ａとレンズ５ｂが形成されてお
り、これら両レンズの間には試料６が配置されて
いる。偏向器１は電子線EBを試料に入射させる
際にこの偏向器による偏向にかかわらず常にこの
電子線を光軸Ｃに平行に入射させるためレンズ５
ａの前焦点面に一致した位置に配置されている。
７は電子銃よりの電子線を試料室４に導くための
ライナーチユーブであり、８はレンズ５ｂを通過
した電子線を後段の検出器（図示せず）まで導く
ためのライナーチユーブである。この検出器によ
つて検出された信号は前記偏向器１による電子線
の走査と同期走査されている図示外の陰極線管に
供給される。９，１０は偏向器１によつて電子線
EBが走査されるにもかかわらず、試料６を透過
した電子線EBを常にライナーチユーブ（光軸）
に沿つて進行させるための２段の偏向器である。
１１は走査電源２よりの同期信号に基づいて、偏
向器１に供給される走査信号と同期した偏向信号
を発生する偏向電源である。この偏向電源１１よ
りの偏向信号は前記偏向器９，１０に各々増幅率
可変増幅器１２，１３を介して供給されている。
偏向器９は偏向器１を構成するコイルと同じ向き
に巻かれた偏向コイルからなつており、偏向器１
０は偏向器１及び９とは逆向きに巻かれたコイル
からなつている。増幅率可変増幅器１２，１３の
増幅率は観察倍率の変化に伴なう増幅率可変増幅
器３の増幅率の変化にかかわらず、偏向器９によ
り常に電子線EBを偏向器１０の偏向面と光軸Ｃ
との交点Ａに入射させ、且つこの交点Ａに入射し
た電子線EBを偏向器１０により常に光軸Ｃに沿
つて進行するように偏向させるため、増幅率可変
増幅器３の増幅率の変化に連動して所定の関係を
有して変化するようになつている。
このような構成において、偏向器１による偏向
によつて電子線EBは試料６上で走査されるが、
このような走査に伴つて試料６を透過した電子線
はレンズ５ｂによる集束作用によつて光軸Ｃに向
かう向きに振り戻され、光軸Ｃと交差してライナ
ーチユーブ８に入射する。次に電子線EBは偏向
器９に入射するが、偏向器９には偏向器１におけ
る偏向力と同じ向きの偏向力が生じるように偏向
器１に供給される走査信号と同期した偏向信号が
供給されているため、電子線EBは光軸Ｃに向か
う向きに振り戻される。次に電子線EBは偏向器
１０に入射するが、この偏向器１０には前述した
ように偏向器９と逆向きの偏向力が生じるように
なつているため、電子線EBは光軸Ｃに沿つて進
むように偏向される。従つて電子線EBは偏向器
１による電子線EBの振り幅にかかわらず、常に
光軸Ｃに沿つてライナーチユーブ８を通過し、後
段の検出器に入射して検出される。この検出器よ
りの信号は陰極線管に供給され、低倍観察時にお
いても陰極線管に試料像を表示することができ
る。
によつて電子線EBは試料６上で走査されるが、
このような走査に伴つて試料６を透過した電子線
はレンズ５ｂによる集束作用によつて光軸Ｃに向
かう向きに振り戻され、光軸Ｃと交差してライナ
ーチユーブ８に入射する。次に電子線EBは偏向
器９に入射するが、偏向器９には偏向器１におけ
る偏向力と同じ向きの偏向力が生じるように偏向
器１に供給される走査信号と同期した偏向信号が
供給されているため、電子線EBは光軸Ｃに向か
う向きに振り戻される。次に電子線EBは偏向器
１０に入射するが、この偏向器１０には前述した
ように偏向器９と逆向きの偏向力が生じるように
なつているため、電子線EBは光軸Ｃに沿つて進
むように偏向される。従つて電子線EBは偏向器
１による電子線EBの振り幅にかかわらず、常に
光軸Ｃに沿つてライナーチユーブ８を通過し、後
段の検出器に入射して検出される。この検出器よ
りの信号は陰極線管に供給され、低倍観察時にお
いても陰極線管に試料像を表示することができ
る。
尚、上述した実施例においては、偏向器１０を
構成するコイルを偏向器９を構成するコイルと逆
向きに巻くようにしたが、例えば偏向器１０に供
給される信号の極性を逆にしてこの偏向器１０に
供給することにより、偏向器９，１０として同じ
向きに巻かれたコイルを使用することもできる。
構成するコイルを偏向器９を構成するコイルと逆
向きに巻くようにしたが、例えば偏向器１０に供
給される信号の極性を逆にしてこの偏向器１０に
供給することにより、偏向器９，１０として同じ
向きに巻かれたコイルを使用することもできる。
又、偏向器９，１０に電源２よりの信号を供給
することにより、電源１１を省いて実施すること
もできる。
することにより、電源１１を省いて実施すること
もできる。
図面は本考案の一実施例を示すためのものであ
る。 １，９，１０……偏向器、２……走査電源、
３，１２，１３……増幅率可変増幅器、４……試
料室、５ａ，５ｂ……レンズ、６……試料、１１
……偏向電源、Ｃ……光軸、EB……電子線。
る。 １，９，１０……偏向器、２……走査電源、
３，１２，１３……増幅率可変増幅器、４……試
料室、５ａ，５ｂ……レンズ、６……試料、１１
……偏向電源、Ｃ……光軸、EB……電子線。
Claims (1)
- 電子銃よりの電子線を試料に細く絞つて照射す
るための手段と、該電子線を試料上において２次
元的に走査するための手段と、試料を透過した電
子線を検出するための手段と、前記走査手段によ
る電子線の走査と同期走査され前記検出器よりの
信号に基づいて試料像を表示するための表示手段
とを備えた装置において、試料を透過した電子線
を前記走査手段による偏向に同期して偏向し該電
子線を光軸方向に振り戻すための第１の偏向手段
と、該第１の偏向手段によつて偏向された電子線
が光軸に沿つて進行するように偏向するため第１
の偏向手段に同期した偏向を行なう第２の偏向手
段とを具備していることを特徴とする走査透過電
子顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13292782U JPS5941854U (ja) | 1982-09-01 | 1982-09-01 | 走査透過電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13292782U JPS5941854U (ja) | 1982-09-01 | 1982-09-01 | 走査透過電子顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5941854U JPS5941854U (ja) | 1984-03-17 |
| JPH0431728Y2 true JPH0431728Y2 (ja) | 1992-07-30 |
Family
ID=30300024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13292782U Granted JPS5941854U (ja) | 1982-09-01 | 1982-09-01 | 走査透過電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5941854U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015029200A1 (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-05 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線レンズモジュール及びそれを備えた荷電粒子線装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS605503Y2 (ja) * | 1980-03-26 | 1985-02-20 | 日本電子株式会社 | 透過型走査電子顕微鏡 |
-
1982
- 1982-09-01 JP JP13292782U patent/JPS5941854U/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015029200A1 (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-05 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線レンズモジュール及びそれを備えた荷電粒子線装置 |
| JPWO2015029200A1 (ja) * | 2013-08-30 | 2017-03-02 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線レンズモジュール及びそれを備えた荷電粒子線装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5941854U (ja) | 1984-03-17 |
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