JPH04313676A - 真空乾燥装置 - Google Patents

真空乾燥装置

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JPH04313676A
JPH04313676A JP10683691A JP10683691A JPH04313676A JP H04313676 A JPH04313676 A JP H04313676A JP 10683691 A JP10683691 A JP 10683691A JP 10683691 A JP10683691 A JP 10683691A JP H04313676 A JPH04313676 A JP H04313676A
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JP
Japan
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vacuum
vacuum chamber
block
endless belt
upper block
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Pending
Application number
JP10683691A
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English (en)
Inventor
Akishige Ienari
家成 昭重
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RITSUKUSU KK
Original Assignee
RITSUKUSU KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄した実装プリント
基板等の乾燥作業に使用する真空乾燥装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、実装プリント基板等の乾燥に使用
する乾燥装置では、乾燥室をオーブンタイプのドアで密
閉して減圧することにより乾燥室を真空状態にし、室内
に設けたヒータで実装プリント基板を加熱することによ
り、部品間の微細な隙間に付着した洗浄液でも乾燥させ
るように形成されていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の真空乾燥装置では、実装プリント基板の出し入れを
人手で行うように形成されていたため、手間がかかるし
、また、そのためラインに組み込んで自動化できないと
いう問題があった。また、実装プリント基板には熱に強
い部品や弱い部品が混在し、また、コネクターのように
微細な隙間が多い部品が使用されているが、乾燥室内で
は必要な個所のみ重点的に加熱することができないため
、加熱温度も限られ効率的に処理することができないと
いう問題があった。本発明はかかる従来の問題点を解決
し、実装プリント基板の乾燥処理を自動化すると共にラ
インに組み込み可能にし、また、必要個所のみ集中的に
加熱することによって熱に弱い部品に危害を加えず効率
的に乾燥させることができるようにした真空乾燥装置を
提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の手段として本発明請求項1記載の真空乾燥装置では、
ワークを載置し間欠駆動されるベルトコンベアと;内部
の真空室を水平に上下2分した状態で上部ブロックと下
部ブロックに2分割可能に形成され、前記真空室の上部
を形成する逆凹状空間部を有した上部ブロックが前記ベ
ルトコンベアの搬送面上部に配置されると共に、真空室
の下部を形成する凹状空間部を有した下部ブロックが前
記ベルトコンベアの搬送面下部に配置された真空容器と
;前記上部ブロックの空間部に装着された加熱手段と;
前記上部ブロックと下部ブロックとをそれぞれ前記ベル
トコンベアの無端ベルトを挟んだ状態で上下から押圧し
前記空間部同士を減圧することにより真空室を形成させ
る昇降手段と;を備えている構成とした。
【0005】また、請求項2記載の真空乾燥装置では、
前記加熱手段が発熱体や冷却剤の挿通部を多数設けたセ
ラミックス体である構成とした。
【0006】また、請求項3記載の真空乾燥装置では、
前記上部ブロックと下部ブロックとで形成される真空室
が無端ベルトの搬送方向に向け複数個所配置されている
構成とした。
【0007】
【作用】本発明請求項1記載の真空乾燥装置では、無端
ベルトにワークを載置して上部ブロックの下まで搬送さ
せた後、上部ブロックを昇降手段で下降させて逆凹状空
間部に前記ワークを収納させると共に、下部ブロックを
昇降手段で上昇させ前記無端ベルトを挟んだ状態にして
押圧させる。このとき、上部ブロックと下部ブロックと
の空間部同士によって密閉室が形成され、前記ワークは
この密閉室に収納された状態となるから、室内を真空に
し加熱手段で加熱することによりワークを乾燥させるこ
とができる。また、ワークの乾燥後、上下ブロックを離
して無端ベルトを間欠駆動させることにより、乾燥した
ワークを先の工程に送り込むと共に次のワークを前のラ
インから受け取ることができる。また、このためライン
の途中に該真空乾燥装置を組み込んで自動的に乾燥処理
を行わせることができる。
【0008】また、請求項2記載の真空乾燥装置では、
挿通部に入れた発熱体でセラミックスを加熱することに
よって加熱部分から遠赤外線が輻射され、ワークをこの
輻射熱によって乾燥させることができる。また、発熱体
の近くに冷却剤を挿通させ発熱体からの熱伝導を阻止す
ることにより特定方向への遠赤外線の輻射を防止するこ
とができるので、あらかじめ発熱体と冷却剤の配置を調
整して真空室内の温度分布をコントロールし、ワークの
向きをそれに合わせて搬送コンベアに載置することによ
り熱に弱い部品を傷めることなく加熱力を上げて効率的
に乾燥させることができる。
【0009】また、請求項3記載の真空乾燥装置では、
無端ベルトの搬送方向に複数個所配置されている真空室
のうち、ラインからの受け取り側に近い真空室には、ワ
ーク全体の加熱用として加熱体を挿通部に全面的に挿通
させ、次の真空室には、ワークを適宜温度に保温できる
程度の加熱体を挿通部に挿通させ、そしてラインへの受
け渡し側に近い真空室には、集中加熱必要部分に近い挿
通部にのみ加熱体を挿通させると共に加熱が不要な部分
に近い挿通部に冷却剤を挿通させるようにすることがで
きるので、無端ベルトを間欠的に駆動させながら、最初
の真空室では真空中でワークを一定時間全面的に加熱し
、次の真空室ではワークを保温する程度に加熱し、最後
の真空室ではワークのコネクター部など微細な隙間部分
のみ加熱させるようにすることができる。
【0010】
【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づいて詳細に
説明する。図1は本実施例の真空乾燥装置を示す側面図
、図2は乾燥時の状態を示す説明図、図3は無端ベルト
に実装プリント基板をセットした平面の状態を示す説明
図である。本実施例の真空乾燥装置Aは、ベルトコンベ
ア1と、支持枠2と、真空容器3と、加熱手段4と、昇
降手段5とを主要な構成としている。
【0011】前記ベルトコンベア1は、実装プリント基
板Wをラインから受け取って間欠的に搬送させるもので
あって、フィルム状(実施例では厚さ0.2mm程度)
のステンレス板で形成され両縁に所定ピッチで送り用穴
10aを設けた無端ベルト10と、所定ピッチ離して水
平に配置され前記送り用穴10aに歯11aを係止して
無端ベルト10の搬送部10bを形成させる一対のスプ
ロケット11,11と、該スプロケット11とチェン連
結され前記無端ベルト10をタイマーの設定時間により
間欠駆動させる送り装置12と、無端ベルト10を緊張
させるオートテンションシリンダ13とを備えている。 また、図1において、無端ベルト10の左方がラインか
らの受け取り側L1 、右側がラインへの受け渡し側L
2 となる。また、図中14は無端ベルト10の受け取
り側と受け渡し側に配置した搬送部10bの水平保持用
ローラ、13aはホイルである。尚、本実施例では、実
装プリント基板Wは、図3に示すように、平板状のコン
テナ15に固定されてベルトコンベア1に供給される。 このコンテナ15には、実装プリント基板Wを固定する
爪15aが表面側四隅に設けられ、また、無端ベルト1
0に所定ピッチで設けたピン穴10cに挿通してコンテ
ナ15自身を無端ベルト10に固定するピン15bが裏
面側四隅に設けられている。図中、W1 は実装プリン
ト基板上のコネクター部である。
【0012】前記支持枠2は、真空容器3を上下摺動自
在に支持して搬送部10b上の実装プリント基板Wの移
動を支障なく移動させるものであって、搬送部10bの
上下方向を十分カバーできる高さのガイド支柱20,2
0と、該ガイド支柱20,20の上端同士を連結した上
ビーム21と、ガイド支柱20,20の下端同士を連結
した下ビーム22とを有している。
【0013】前記真空容器3は、洗浄後付着した洗浄液
をエアーブローした程度の実装プリント基板Wを真空雰
囲気内で加熱して乾燥させるものであって、該真空容器
3を水平に2分割した状態の上部ブロック30と下部ブ
ロック31とで構成されている。前記上部ブロック30
には、水平状下面30aに逆凹状の空間部30bを一列
に3個所配置し、その両端には前記支持枠2のガイド支
柱20に挿入し該上部ブロック30を搬送部10bの上
方位置で水平に昇降させる摺動部30c,30cを備え
ている。図中32はシリコンゴム等で形成し空間部30
bの下面縁に装着させたガスケットである。
【0014】また、前記下部ブロック31も前記上部ブ
ロック30と同様に、水平状上面31aに凹状空間部3
1bを一列に3個所配置し、その両端には前記支持枠2
のガイド支柱20に挿入し該下部ブロック31を搬送部
10bの下方位置で水平に昇降させる摺動部31c,3
1cを備えている。また、前記上部ブロック30と下部
ブロック31との空間部30bと31bとは、前記無端
ベルト10の横幅より広く形成され、両ブロックで無端
ベルト10を挟んだとき、無端ベルト10より幅の広い
真空室33が形成される。また、前記下部ブロック31
の空間部31bには、外部の吸引ポンプ(図示せず)と
連通する排気用配管34がそれぞれ連結されている。ま
た、上部ブロック30の空間部30bの上面側と、下部
ブロック31の空間部31bの低面側にはセラミックス
による断熱材35が嵌着されている。図中36は空間部
31bの上面縁に装着させたガスケットである。
【0015】前記加熱手段4は、実装プリント基板Wを
真空室33の内部で加熱して乾燥させるものであって、
下面側には実装プリント基板Wを1個収納可能な収納部
40を有し、前記上部ブロック30の空間部30b上部
に嵌着するようにセラミックスで形成されている(従っ
て、真空室33は、この加熱手段4の装着によって狭め
られる)。また、前記収納部40の上部には、7本の水
平貫通穴41が設けられ、上部ブロック30の空間部3
0bにそれぞれ装着されている。そして、搬送部10b
の受け取り側L1 に近い加熱手段4には、貫通穴41
の全てにヒータ42が挿入され、次の加熱手段4には、
貫通穴41の半数にヒータ42が挿入されている。また
、搬送部10bの受け渡し側L2 に配置された加熱手
段4には、終端の貫通穴41にのみヒータ42が挿入さ
れ、その前の貫通穴41には冷却水43の給排水路(図
示せず)が接続されている。
【0016】前記昇降手段5は、上部ブロック30と下
部ブロック31とを面合させた状態で押圧させて真空室
33を形成させるものであって、前記上ビーム21と上
ブロック30とに連結されたエアシリンダ50と、下ビ
ーム22と下ブロック31とに連結されたエアシリンダ
51とを備え、特にエアシリンダ50は実装プリント基
板Wの通過をスムーズに行えるよう十分長いストローク
のものを使用している。
【0017】次に本実施例の作用を説明する。まず、実
装プリント基板Wがコネクター部W1 を先端側に配置
した状態でコンテナ15に爪15aで固定されて搬送部
10bの受け取り側L1 に供給され、コンテナのピン
15bをピン穴10cに挿入した状態で無端ベルト10
上に固定される。送り装置12が無端ベルト10を間欠
駆動し、実装プリント基板Wを上部ブロック30の最初
の空間部30bの下方に配置させる。エアシリンダ50
,51をそれぞれ作動させ、上部ブロック30と下部ブ
ロック31とを無端ベルト10を挟んだ状態に押圧させ
る。 このとき、実装プリント基板Wは加熱手段4の収納部4
0に収まり、空間部30bと31bとによって真空室3
3が形成されるので、外部のポンプにより真空室33内
を排気させ、真空状態の中でヒータ42を加熱させる。 ヒータ42はセラミックスを全面的に加熱することで、
該セラミックスから輻射された遠赤外線が実装プリント
基板Wの許容される温度まで加熱温度を急速に立ち上げ
る。所定温度まで上昇した後、タイマーの指示によりエ
アシリンダ50,51を作動させて上部ブロック30と
下部ブロック31とを開放し、前記と同様にして実装プ
リント基板Wを中央の真空室33に収納させる。この中
央部の真空室33では、前記加熱温度を維持させること
により、残った洗浄液を蒸発させる。この後、最後の真
空室33に収納するが、この真空室33では、ヒータ4
2の熱伝導を冷却水43で阻止することによってヒータ
42による輻射熱を真空室33の終端部のみに限定して
輻射させているため、コネクター部W1など微細隙間の
ある部品のみを集中的に加熱することになり完全な乾燥
を行うことができる。
【0018】以上説明してきたように本実施例によれば
、ベルトコンベア1の無端ベルト10に載置したまま自
動的に乾燥作業が行えるので、ラインに組み込むことが
できる。また、構造も簡単に形成することができる。 また、加熱手段4をセラミックスで形成したので、遠赤
外線の輻射熱により効率的に乾燥させることができる。 また、加熱部分を冷却水43によって制限できるので、
真空室33内の温度分布を自在に設定することができる
。このため、実装プリント基板Wの必要個所を集中的に
加熱し、熱に弱い部品を傷めることなく乾燥させること
ができる。また、3つの異なる雰囲気条件の中で加熱す
るようにしたので、熱に弱い部品や強い部品が混在して
いても熱に弱い部品を保護しつつラインの流れに合わせ
てコネクター等の微細な隙間の内部でも早急に乾燥させ
ることができる。また、真空室33はワークWを1個収
納し、その室内広さもワーク1個分の大きさに形成でき
るので、どのワークも同等に加熱され、また、吸引容量
も少くすることができる。
【0019】以上本発明の実施例を説明してきたが、本
発明の具体的な構成はこの実施例に限定されるものでは
なく、発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等があっ
ても本発明に含まれる。例えば、実施例では、真空室3
3は3個所設けるとしたが、真空室の数は1個でも4個
でもよく、その数は任意に設定することができる。
【0020】また、実施例では、真空室33を無端ベル
ト10の横幅より広く形成することによって、排気側の
下部ブロックと連通させるようにしたが、これに限らず
、真空室33を無端ベルト10より幅狭く形成して無端
ベルト10に連通孔を設けてもよい。
【0021】また、実施例では、昇降手段5はエアシリ
ンダ50,51を使用するとしたが、これに限らず、油
圧シリンダ、電動シリンダ等を使用してもよいし、リン
ク構造のものを使用してもよい。また、その取付数や該
昇降手段を取り付ける支持枠2の形状等も任意である。
【0022】また、無端ベルト10の張設形状や実装プ
リント基板Wの取り付け状態等も任意に設定することが
できる。
【0023】また、乾燥させるワークは実装プリント基
板Wで説明したが、これに限らず、他の精密機械部品等
にも適用することができる。
【0024】
【発明の効果】以上説明してきたように本発明の請求項
1記載の真空乾燥装置にあっては、真空室を形成する真
空容器を上部ブロックと下部ブロックに分割可能に形成
し、ワークを搬送するベルトコンベアの無端ベルトをこ
の上部ブロックと下部ブロックとで挟んだ状態で押圧し
てワークを真空室に収納させるように形成したので、ラ
インから受け取ったワークを搬送中に自動的に乾燥させ
ることができる。また、そのためラインの途中に組み込
むことができるという効果が得られる。
【0025】また、請求項2記載の真空乾燥装置にあっ
ては、加熱手段をセラミックスで形成したので、遠赤外
線の輻射熱によってワークを効率的に乾燥させることが
できる。また、該セラミックスには発熱体や冷却剤の挿
通部を多数設けたので、発熱体や冷却剤の配置を適宜設
定することにより真空室内の温度分布を自在に設定する
ことができる。また、このためワークの必要個所を集中
的に加熱することができワークの熱に弱い部分を傷める
ことなく乾燥させることができるという効果が得られる
【0026】また、請求項3記載の真空乾燥装置にあっ
ては、真空室を無端ベルトの搬送方向に向け複数個所配
置したので、複数個の異なる雰囲気条件が設定でき、こ
のため熱に弱い部分や強い部分が混在していても、熱に
弱い部分を保護しつつラインの流れに合せて必要個所を
集中的に加熱し、微細な隙間の内部でも早急に乾燥させ
ることができるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明実施例の真空乾燥装置を示す側面図であ
る。
【図2】乾燥時の状態を示す説明図である。
【図3】無端ベルトに実装プリント基板をセットした平
面の状態を示す説明図である。
【符号の説明】
A  真空乾燥装置 W  実装プリント基板(ワーク) 1  ベルトコンベア 2  支持枠 3  真空容器 4  加熱手段 5  昇降手段 10  無端ベルト 30  上部ブロック 30b  空間部(真空室上部) 30c  摺動部 31  下部ブロック 31b  空間部(真空室下部) 31c  摺動部 32  ガスケット 33  真空室 36  ガスケット 41  水平貫通穴(挿通部) 42  ヒータ(発熱体) 43  冷却水(冷却剤)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  ワークを載置し間欠駆動されるベルト
    コンベアと;内部の真空室を水平に上下2分した状態で
    上部ブロックと下部ブロックに2分割可能に形成され、
    前記真空室の上部を形成する逆凹状空間部を有した上部
    ブロックが前記ベルトコンベアの搬送面上部に配置され
    ると共に、真空室の下部を形成する凹状空間部を有した
    下部ブロックが前記ベルトコンベアの搬送面下部に配置
    された真空容器と;前記上部ブロックの空間部に装着さ
    れた加熱手段と;前記上部ブロックと下部ブロックとを
    それぞれ前記ベルトコンベアの無端ベルトを挟んだ状態
    で上下から押圧し前記空間部同士を減圧することにより
    真空室を形成させる昇降手段と;を備えていることを特
    徴とする真空乾燥装置。
  2. 【請求項2】  前記加熱手段が発熱体や冷却剤の挿通
    部を多数設けたセラミックス体である請求項1記載の真
    空乾燥装置。
  3. 【請求項3】  前記上部ブロックと下部ブロックとで
    形成される真空室が無端ベルトの搬送方向に向け複数個
    所配置されている請求項1または請求項2記載の真空乾
    燥装置。
JP10683691A 1991-04-10 1991-04-10 真空乾燥装置 Pending JPH04313676A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006292261A (ja) * 2005-04-08 2006-10-26 Japan Field Kk 被洗浄物の乾燥装置及び蒸気洗浄装置
JP2016518579A (ja) * 2013-05-03 2016-06-23 ヘレーウス ノーブルライト ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングHeraeus Noblelight GmbH 基材上の金属含有インクを乾燥及び焼結するための装置
CN109654858A (zh) * 2018-12-27 2019-04-19 深圳市辉翰科技发展有限公司 一种具有适应性热源的烘干装置

Cited By (4)

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