JPH04313042A - Ｏｔｆ測定装置 - Google Patents
Ｏｔｆ測定装置Info
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- JPH04313042A JPH04313042A JP3020353A JP2035391A JPH04313042A JP H04313042 A JPH04313042 A JP H04313042A JP 3020353 A JP3020353 A JP 3020353A JP 2035391 A JP2035391 A JP 2035391A JP H04313042 A JPH04313042 A JP H04313042A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 33
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 24
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 abstract description 7
- 238000007689 inspection Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
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- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はスリットパターンを走査
して光学系の線像分布関数（Ｌｉｎｅ Ｓｐｒｅａｄ
Ｆｕｎｃｔｉｏｎ； ＬＳＦ） を取ることにより光学
的伝達関数を測定する装置に関するものである。
して光学系の線像分布関数（Ｌｉｎｅ Ｓｐｒｅａｄ
Ｆｕｎｃｔｉｏｎ； ＬＳＦ） を取ることにより光学
的伝達関数を測定する装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】各種の光学系及び光学装置の結像特性を
統一的、定量的に評価する尺度として光学的伝達関数（
Ｏｐｔｉｃａｌ Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｆｕｎｃｔｉｏｎ
； ＯＴＦ）、あるいは変調伝達関数（Ｍｏｄｕｌａｔ
ｉｏｎ Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｆｕｎｃｔｉｏｎ； Ｍ
ＴＦ）、位相伝達関数（Ｐｈａｓｅ Ｔｒａｎｓｆｅｒ
Ｆｕｎｃｔｉｏｎ； ＰＴＦ）と呼ばれる量が用いら
れている。これは空間的な周期構造をもった物体につい
て、その細かさを表す量として周期の逆数である空間周
波数νを考えたとき、いろいろな空間周波数νをもつ周
期構造の像が、ある光学系によってどのようなコントラ
ストで再現されるかを定量的に表現したものである。
統一的、定量的に評価する尺度として光学的伝達関数（
Ｏｐｔｉｃａｌ Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｆｕｎｃｔｉｏｎ
； ＯＴＦ）、あるいは変調伝達関数（Ｍｏｄｕｌａｔ
ｉｏｎ Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｆｕｎｃｔｉｏｎ； Ｍ
ＴＦ）、位相伝達関数（Ｐｈａｓｅ Ｔｒａｎｓｆｅｒ
Ｆｕｎｃｔｉｏｎ； ＰＴＦ）と呼ばれる量が用いら
れている。これは空間的な周期構造をもった物体につい
て、その細かさを表す量として周期の逆数である空間周
波数νを考えたとき、いろいろな空間周波数νをもつ周
期構造の像が、ある光学系によってどのようなコントラ
ストで再現されるかを定量的に表現したものである。
【０００３】従来ＯＴＦ、ＭＴＦ等を測定する装置は、
被検光学系で作られた像の強度分布を何らかの方法で走
査し、受光器で光電変換された電気信号からＯＴＦ、Ｍ
ＴＦ等を求めることを測定の原理としている。一般的に
本測定装置の対象となる被検光学系は、単レンズあるい
は単レンズを組合わせたもの、またはレンズ及びミラー
、プリズムなどの組合わせで構成されたものである。
被検光学系で作られた像の強度分布を何らかの方法で走
査し、受光器で光電変換された電気信号からＯＴＦ、Ｍ
ＴＦ等を求めることを測定の原理としている。一般的に
本測定装置の対象となる被検光学系は、単レンズあるい
は単レンズを組合わせたもの、またはレンズ及びミラー
、プリズムなどの組合わせで構成されたものである。
【０００４】さて、ＯＴＦは点像あるいは線像強度分布
のフーリエ変換と定義されているが、点像の強度分布を
測定することは必要光量確保の点で不利なので、線像の
強度分布から一次元のＯＴＦを求める測定が主として行
われている。その場合には、細いスリットから発散して
くる光を被検レンズで結像し、受光器と走査機構を組合
わせた走査部において像の強度分布を電気信号に変換す
る。従来のＯＴＦ測定装置要部の模式図を図４に示した
。
のフーリエ変換と定義されているが、点像の強度分布を
測定することは必要光量確保の点で不利なので、線像の
強度分布から一次元のＯＴＦを求める測定が主として行
われている。その場合には、細いスリットから発散して
くる光を被検レンズで結像し、受光器と走査機構を組合
わせた走査部において像の強度分布を電気信号に変換す
る。従来のＯＴＦ測定装置要部の模式図を図４に示した
。
【０００５】図４において、４は光源、５は照明光学系
で、１が被検光学系であり、テストパターン板３による
像を光電検出手段７により検出する構成となっている。 前述した線像の走査はテストパターン板３に設けられた
スリット開口により行われる。像を走査するためには、
ここに示したように、受光板８を固定して、受光板８の
スリット状開口部上を像が移動するか、あるいは固定し
た像に対して受光板８のスリット状開口部が移動すれば
よい。
で、１が被検光学系であり、テストパターン板３による
像を光電検出手段７により検出する構成となっている。 前述した線像の走査はテストパターン板３に設けられた
スリット開口により行われる。像を走査するためには、
ここに示したように、受光板８を固定して、受光板８の
スリット状開口部上を像が移動するか、あるいは固定し
た像に対して受光板８のスリット状開口部が移動すれば
よい。
【０００６】さて、スリット走査で得られた電気信号は
、線像の強度分布そのものであるから、これをアナログ
的またはデジタル的にフーリエ変換するとＯＴＦが求ま
る。また、スリットの代わりに格子で走査したときに得
られる受光器の出力は、格子のパターンで決まる空間周
波数に対応した電気的な周波数成分を含んでおり、ある
周波数の信号はＭＴＦに対応した値となり、位相はＰＴ
Ｆの値そのものを与える。さらに、格子の間隔を次々と
変えて走査し、格子の間隔で決る空間周波数の成分を電
気的に取り出してやればＯＴＦを測定することができる
。
、線像の強度分布そのものであるから、これをアナログ
的またはデジタル的にフーリエ変換するとＯＴＦが求ま
る。また、スリットの代わりに格子で走査したときに得
られる受光器の出力は、格子のパターンで決まる空間周
波数に対応した電気的な周波数成分を含んでおり、ある
周波数の信号はＭＴＦに対応した値となり、位相はＰＴ
Ｆの値そのものを与える。さらに、格子の間隔を次々と
変えて走査し、格子の間隔で決る空間周波数の成分を電
気的に取り出してやればＯＴＦを測定することができる
。
【０００７】ところで、画角のある場合の光学系におい
てＯＴＦを測定するためには、メリジオナル方向（以下
、ｍ方向と略称する）と、サジタル方向（以下、ｓ方向
と略称する）の両方向について測定しなければならない
。図５（ａ） はｍ方向についてＯＴＦを測定する際の
装置の状態を示す図である。
てＯＴＦを測定するためには、メリジオナル方向（以下
、ｍ方向と略称する）と、サジタル方向（以下、ｓ方向
と略称する）の両方向について測定しなければならない
。図５（ａ） はｍ方向についてＯＴＦを測定する際の
装置の状態を示す図である。
【０００８】このとき、スリット開口をｍ方向に位置合
わせしたのち、Ｄで示す方向に走査を行う。次にｓ方向
について測定する場合は、スリット開口を今度はｓ方向
に位置合わせして、図５（ｂ） 中のＥで示す方向に走
査を行う。図からわかるように、従来の装置では、ｍ，
ｓ両方向のＯＴＦを測定するには、テストパターン板３
を含む走査機構全体を光軸回りに９０°回転させる（図
においてＦで示す）必要があった。
わせしたのち、Ｄで示す方向に走査を行う。次にｓ方向
について測定する場合は、スリット開口を今度はｓ方向
に位置合わせして、図５（ｂ） 中のＥで示す方向に走
査を行う。図からわかるように、従来の装置では、ｍ，
ｓ両方向のＯＴＦを測定するには、テストパターン板３
を含む走査機構全体を光軸回りに９０°回転させる（図
においてＦで示す）必要があった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】すなわち、従来のＯＴ
Ｆ測定装置では走査動作部分に回転機構を設けなければ
ならない。テストパターン板の回転精度（再現性を含め
て）は測定結果に誤差をもたらす大きな原因となるため
、正確な測定を実現するにはその回転位置決め精度を厳
しくしなくてはならなかった。一般に、走査動作を行う
構造物に対して、さらに高精度の回転機構をもたせるこ
とは技術的に難かしいため、装置を大型化、複雑化せざ
るを得なかった。この点で、精度の面だけでなく、コス
トの面においても、装置作製上で改良を要する問題とな
っていた。
Ｆ測定装置では走査動作部分に回転機構を設けなければ
ならない。テストパターン板の回転精度（再現性を含め
て）は測定結果に誤差をもたらす大きな原因となるため
、正確な測定を実現するにはその回転位置決め精度を厳
しくしなくてはならなかった。一般に、走査動作を行う
構造物に対して、さらに高精度の回転機構をもたせるこ
とは技術的に難かしいため、装置を大型化、複雑化せざ
るを得なかった。この点で、精度の面だけでなく、コス
トの面においても、装置作製上で改良を要する問題とな
っていた。
【００１０】本発明はこのような従来の問題点に鑑みて
なされたもので、複雑な回転機構を必要としない簡便な
方式で、ｍ、ｓ両方向の精密測定を可能とするＯＴＦ測
定装置を提供することを目的とする。
なされたもので、複雑な回転機構を必要としない簡便な
方式で、ｍ、ｓ両方向の精密測定を可能とするＯＴＦ測
定装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項第１項の
ＯＴＦ測定装置は、テストパターン板に形成された所定
のパターンを被検光学系を介して投影し、該投影像の強
度分布を光電的に検出することによりＯＴＦを測定する
ものであって、前記テストパターン板が互いに９０°の
角度をなす少なくとも１対のスリットパターンを有して
おり、前記スリットパターンに対して４５°の角度をな
す方向にテストパターン板を移動させる走査手段を具備
させることにより、上記問題点を解決している。
ＯＴＦ測定装置は、テストパターン板に形成された所定
のパターンを被検光学系を介して投影し、該投影像の強
度分布を光電的に検出することによりＯＴＦを測定する
ものであって、前記テストパターン板が互いに９０°の
角度をなす少なくとも１対のスリットパターンを有して
おり、前記スリットパターンに対して４５°の角度をな
す方向にテストパターン板を移動させる走査手段を具備
させることにより、上記問題点を解決している。
【００１２】本発明の請求項第２項のＯＴＦ測定装置は
、テストパターン板に形成された所定のパターンを被検
光学系を介して投影し、該投影像の強度分布を光電的に
検出することによりＯＴＦを測定するものであって、前
記光電手段は互いに９０°の角度をなす少なくとも１対
のスリット状開口部をもつ受光板を有し、該受光板を前
記１対のスリット状開口部に対して４５°の角度をなす
方向に移動させる走査手段を具備させることにより、上
記問題点を解決している。
、テストパターン板に形成された所定のパターンを被検
光学系を介して投影し、該投影像の強度分布を光電的に
検出することによりＯＴＦを測定するものであって、前
記光電手段は互いに９０°の角度をなす少なくとも１対
のスリット状開口部をもつ受光板を有し、該受光板を前
記１対のスリット状開口部に対して４５°の角度をなす
方向に移動させる走査手段を具備させることにより、上
記問題点を解決している。
【００１３】なお特許請求の範囲にいう「テストパター
ン板」とは、被検光学系の被写体となるスリット、ピン
ホール、ナイフエッジ、格子等のテストパターンが設け
られた部材をいう。
ン板」とは、被検光学系の被写体となるスリット、ピン
ホール、ナイフエッジ、格子等のテストパターンが設け
られた部材をいう。
【００１４】
【作用】本発明においては線像の走査を行うテストパタ
ーン板か、あるいは受光板が互いに９０°の角度をなす
少なくとも１対のスリットパターンを有しており、画角
のある場合のＯＴＦ測定はｍ方向、ｓ方向それぞれ専用
のスリットを所望の位置に設定して走査を行う。この際
に、前記スリットパターンに対して４５°の角度をなす
方向にテストパターン板を移動させる走査手段を有して
いるため、両方向の測定を連続して行う際にテストパタ
ーン板あるいは受光板の回転動作を必要とせず、一方向
の走査だけでｍ，ｓ両方向のＯＴＦが測定可能である。
ーン板か、あるいは受光板が互いに９０°の角度をなす
少なくとも１対のスリットパターンを有しており、画角
のある場合のＯＴＦ測定はｍ方向、ｓ方向それぞれ専用
のスリットを所望の位置に設定して走査を行う。この際
に、前記スリットパターンに対して４５°の角度をなす
方向にテストパターン板を移動させる走査手段を有して
いるため、両方向の測定を連続して行う際にテストパタ
ーン板あるいは受光板の回転動作を必要とせず、一方向
の走査だけでｍ，ｓ両方向のＯＴＦが測定可能である。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。 （第１実施例）図１は、本発明の第１実施例のＯＴＦ測
定装置を示す模式図である。
する。 （第１実施例）図１は、本発明の第１実施例のＯＴＦ測
定装置を示す模式図である。
【００１６】１は本実施例の被検光学系としての被検レ
ンズである。本実施例では、被検光学系として単レンズ
を使用しているが、単レンズを組合わせたもの、または
レンズ及びミラー、プリズムなどの組合わせで構成され
た光学系に対しても本装置が適用可能であることは言う
までもない。
ンズである。本実施例では、被検光学系として単レンズ
を使用しているが、単レンズを組合わせたもの、または
レンズ及びミラー、プリズムなどの組合わせで構成され
た光学系に対しても本装置が適用可能であることは言う
までもない。
【００１７】テストターゲット部２は、被検光学系の被
写体となるテストパターン板１３を有し、被検レンズの
一方の共役結像側に設置される。テストターゲット部に
は、光源４及び照明光学系５、測定光の波長を選択する
ためのフィルタ６、拡散板（不図示）、リレー光学系（
不図示）などが含まれる。本実施例では、テストパター
ンとして細いスリットを用いているが、この他にナイフ
エッジ、ラインアンドスペース等の周期パターンなどを
用いることができる。
写体となるテストパターン板１３を有し、被検レンズの
一方の共役結像側に設置される。テストターゲット部に
は、光源４及び照明光学系５、測定光の波長を選択する
ためのフィルタ６、拡散板（不図示）、リレー光学系（
不図示）などが含まれる。本実施例では、テストパター
ンとして細いスリットを用いているが、この他にナイフ
エッジ、ラインアンドスペース等の周期パターンなどを
用いることができる。
【００１８】１０はコリメータレンズで、被検レンズの
ＯＴＦを無限遠の物体位置に対して測定する場合に、被
検レンズに入射する平行光束を作るためのものである。 １１は、受光板８の開口上に測定に適した大きさの像を
リレーして形成するために用いる付加光学系としてのリ
レーレンズである。
ＯＴＦを無限遠の物体位置に対して測定する場合に、被
検レンズに入射する平行光束を作るためのものである。 １１は、受光板８の開口上に測定に適した大きさの像を
リレーして形成するために用いる付加光学系としてのリ
レーレンズである。
【００１９】受光部７は本実施例の光電検出手段であり
、被検レンズ１で作られたテストターゲットの像の光の
強度分布を電気信号に変換する部分である。受光部の構
成要素は、集光光学系（不図示）、受光器（不図示）な
どである。なお、集光光学系は開口に入る光をすべて受
光器に入射させるために用いるものである。
、被検レンズ１で作られたテストターゲットの像の光の
強度分布を電気信号に変換する部分である。受光部の構
成要素は、集光光学系（不図示）、受光器（不図示）な
どである。なお、集光光学系は開口に入る光をすべて受
光器に入射させるために用いるものである。
【００２０】受光器が発生する出力信号は、信号処理系
（アナログ回路、デジタル回路、あるいはそれらを混成
した電気回路）１２に送られる。信号処理系１２では、
出力信号を処理して、ＯＴＦ、あるいはＭＴＦ、ＰＴＦ
の値に相当する信号を求め、さらにこの信号から表示及
び記録装置（不図示）へ供給する電気信号を作る。
（アナログ回路、デジタル回路、あるいはそれらを混成
した電気回路）１２に送られる。信号処理系１２では、
出力信号を処理して、ＯＴＦ、あるいはＭＴＦ、ＰＴＦ
の値に相当する信号を求め、さらにこの信号から表示及
び記録装置（不図示）へ供給する電気信号を作る。
【００２１】テストパターン板１３上には１対のテスト
パターンすなわちｍ方向用スリットＢ、ｓ方向用スリッ
トＡが各々のなす角度を９０°とし、かつ走査方向Ｃに
対して４５°の角度となるように配置されている。
パターンすなわちｍ方向用スリットＢ、ｓ方向用スリッ
トＡが各々のなす角度を９０°とし、かつ走査方向Ｃに
対して４５°の角度となるように配置されている。
【００２２】次に本実施例の動作について図２を用いて
説明する。先ず、不図示の観察光学系により、被検レン
ズ１で作られたテストターゲットの像を観察し、走査開
口の位置決めを行う。ｍ方向の測定の際は図２（ａ）
のようにスリットＢを所望の位置に合わせ、その後走査
手段により、Ｃ方向に走査を行う。これにより受光板８
上をスリット像が横に走り、被検レンズ１の線像分布関
数（Ｌｉｎｅ Ｓｐｒｅａｄ Ｆｕｎｃｔｉｏｎ； Ｌ
ＳＦ） を得ることができ、ｍ方向のＯＴＦが測定でき
る。
説明する。先ず、不図示の観察光学系により、被検レン
ズ１で作られたテストターゲットの像を観察し、走査開
口の位置決めを行う。ｍ方向の測定の際は図２（ａ）
のようにスリットＢを所望の位置に合わせ、その後走査
手段により、Ｃ方向に走査を行う。これにより受光板８
上をスリット像が横に走り、被検レンズ１の線像分布関
数（Ｌｉｎｅ Ｓｐｒｅａｄ Ｆｕｎｃｔｉｏｎ； Ｌ
ＳＦ） を得ることができ、ｍ方向のＯＴＦが測定でき
る。
【００２３】ｓ方向を測定する場合は図２（ｂ） のよ
うにスリットＡの方を所望の位置に合わせてからｍ方向
と同様にＣ方向に走査を行う。これにより受光板８上を
スリット像が今度は縦に走るのでｓ方向のＯＴＦ測定が
できる。なお、本実施例において受光部７は受光板のス
リット開口の方向を同一平面内で変化させ、スリットＡ
の方向と一致させるための調節機構を有している。
うにスリットＡの方を所望の位置に合わせてからｍ方向
と同様にＣ方向に走査を行う。これにより受光板８上を
スリット像が今度は縦に走るのでｓ方向のＯＴＦ測定が
できる。なお、本実施例において受光部７は受光板のス
リット開口の方向を同一平面内で変化させ、スリットＡ
の方向と一致させるための調節機構を有している。
【００２４】（第２実施例）図３は、本発明第２実施例
のＯＴＦ測定装置を示す模式図である。本実施例のＯＴ
Ｆ測定装置においては、前述した線像の走査を受光器９
の前に設けた受光板１８を移動させることによって行う
点で、第１実施例のものと異なっている。このため本実
施例においては、受光板１８に１対のスリット状の開口
部を設けている。
のＯＴＦ測定装置を示す模式図である。本実施例のＯＴ
Ｆ測定装置においては、前述した線像の走査を受光器９
の前に設けた受光板１８を移動させることによって行う
点で、第１実施例のものと異なっている。このため本実
施例においては、受光板１８に１対のスリット状の開口
部を設けている。
【００２５】ここで、ｍ方向の測定の際は第１実施例と
同様にスリットＢを所望の位置に合わせ、その後走査手
段により、Ｃ方向に走査を行う。これにより受光器上を
スリット像が横に走り、被検レンズ１のＬＳＦを得るこ
とができ、ｍ方向のＯＴＦが測定できる。
同様にスリットＢを所望の位置に合わせ、その後走査手
段により、Ｃ方向に走査を行う。これにより受光器上を
スリット像が横に走り、被検レンズ１のＬＳＦを得るこ
とができ、ｍ方向のＯＴＦが測定できる。
【００２６】ｓ方向の場合はスリットＡの方を所望の位
置に合わせてからｍ方向と同様にＣ方向に走査を行う。 これにより受光器上をスリット像が今度は縦に走るので
ｓ方向のＯＴＦ測定ができる。
置に合わせてからｍ方向と同様にＣ方向に走査を行う。 これにより受光器上をスリット像が今度は縦に走るので
ｓ方向のＯＴＦ測定ができる。
【００２７】ここで、第２実施例の測定装置においては
テストパターン板３のスリットの方向を同一平面内で変
化させ、受光板１８のスリット状開口部の方向と一致さ
せるための調節機構を有している。なお、テストパター
ン板３に設けるテストパターンをスリットでなくピンホ
ールとする場合には、テストパターン板を回転させる機
構は必要がない。
テストパターン板３のスリットの方向を同一平面内で変
化させ、受光板１８のスリット状開口部の方向と一致さ
せるための調節機構を有している。なお、テストパター
ン板３に設けるテストパターンをスリットでなくピンホ
ールとする場合には、テストパターン板を回転させる機
構は必要がない。
【００２８】また、上記第１、第２実施例において、あ
る方向（ｍ，ｓ方向以外の）のＯＴＦを測定する必要が
あるような場合には、適宜の角度を有するスリットをテ
ストパターン板あるいは受光板に設ければよい。さらに
、このような場合スリットに限らず、ラインアンドスペ
ースの周期パターン等を各種方向に設けることも同様に
有効である。
る方向（ｍ，ｓ方向以外の）のＯＴＦを測定する必要が
あるような場合には、適宜の角度を有するスリットをテ
ストパターン板あるいは受光板に設ければよい。さらに
、このような場合スリットに限らず、ラインアンドスペ
ースの周期パターン等を各種方向に設けることも同様に
有効である。
【００２９】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、走査機構
を有する構造物を光軸のまわりに回転させることなくｍ
，ｓ両方向のＯＴＦ測定が可能となるので回転機構が不
要となり、回転の位置決め誤差に起因する測定誤差から
開放される。また、回転による位置決め動作を省略でき
るので、測定時間の削減に対しても寄与するものである
。さらに、測定装置が簡略化できるので装置の作製が容
易となり、より精密な装置にすることが可能となるので
測定の精度がさらに向上する。
を有する構造物を光軸のまわりに回転させることなくｍ
，ｓ両方向のＯＴＦ測定が可能となるので回転機構が不
要となり、回転の位置決め誤差に起因する測定誤差から
開放される。また、回転による位置決め動作を省略でき
るので、測定時間の削減に対しても寄与するものである
。さらに、測定装置が簡略化できるので装置の作製が容
易となり、より精密な装置にすることが可能となるので
測定の精度がさらに向上する。
【図１】本発明第１実施例のＯＴＦ測定装置の斜視図で
ある。
ある。
【図２】（ａ） 、（ｂ） は本発明第１実施例のＯＴ
Ｆ測定装置の動作を示す説明図である。
Ｆ測定装置の動作を示す説明図である。
【図３】本発明第２実施例のＯＴＦ測定装置の斜視図で
ある。
ある。
【図４】従来方式によるＯＴＦ測定装置の斜視図である
。
。
【図５】（ａ） 、（ｂ） は従来方式によるＯＴＦ測
定装置の動作を示す説明図である。
定装置の動作を示す説明図である。
１ 被検レンズ
２ テストターゲット部
３、１３ テストパターン板
４ 光源
５ 照明光学系
６ フィルタ
７ 受光部
８、１８ 受光板
１０ コリメータレンズ
１１ リレー光学系
Ａ ｓ方向測定用スリット
Ｂ ｍ方向測定用スリット
Ｃ 走査する方向
Ｄ ｍ方向測定時の走査方向
Ｅ ｓ方向測定時の走査方向
Claims (2)
- 【請求項１】 テストパターン板に形成された所定の
テストパターンを被検光学系を介して投影し、該投影像
の強度分布を光電的に検出する光電検出手段により被検
光学系のＯＴＦを測定するＯＴＦ測定装置において、前
記テストパターン板が互いに９０°の角度をなす少なく
とも１対のスリット状開口部を有しており、前記１対の
スリット状開口部に対して４５°の角度をなす方向にテ
ストパターン板を移動させる走査手段を備えたことを特
徴とするＯＴＦ測定装置。 - 【請求項２】 テストパターン板に形成された所定の
テストパターンを被検光学系を介して投影し、該投影像
の強度分布を光電的に検出する光電検出手段により被検
光学系のＯＴＦを測定するＯＴＦ測定装置において、前
記光電検出手段は互いに９０°の角度をなす少なくとも
１対のスリット状開口部をもつ受光板を有し、該受光板
を前記１対のスリット状開口部に対して４５°の角度を
なす方向に移動させる走査手段を備えたことを特徴とす
るＯＴＦ測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3020353A JP3019431B2 (ja) | 1991-01-22 | 1991-01-22 | Ｏｔｆ測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3020353A JP3019431B2 (ja) | 1991-01-22 | 1991-01-22 | Ｏｔｆ測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04313042A true JPH04313042A (ja) | 1992-11-05 |
| JP3019431B2 JP3019431B2 (ja) | 2000-03-13 |
Family
ID=12024753
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3020353A Expired - Lifetime JP3019431B2 (ja) | 1991-01-22 | 1991-01-22 | Ｏｔｆ測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3019431B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007024889A (ja) * | 2005-07-12 | 2007-02-01 | Canon Inc | Ｏｔｆ測定システム |
| JP2010112831A (ja) * | 2008-11-06 | 2010-05-20 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | キャピラリー・アレイ・シート検査装置及び検査方法 |
| CN112229603A (zh) * | 2020-09-07 | 2021-01-15 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 二维光学传递函数测量装置及方法 |
-
1991
- 1991-01-22 JP JP3020353A patent/JP3019431B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007024889A (ja) * | 2005-07-12 | 2007-02-01 | Canon Inc | Ｏｔｆ測定システム |
| JP2010112831A (ja) * | 2008-11-06 | 2010-05-20 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | キャピラリー・アレイ・シート検査装置及び検査方法 |
| CN112229603A (zh) * | 2020-09-07 | 2021-01-15 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 二维光学传递函数测量装置及方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3019431B2 (ja) | 2000-03-13 |
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