KR970707432A - 패턴 결함 검출기(defect detection in patterned substrates using optical computing) - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광학 푸리에 연산을 사용하여 패턴의 결함을 검출하고 분류하는 시스템에 관한 것으로서, 푸리에 변환 광학렌즈(130)를 사용하여 검사중인 장치(DUT)의 이미지에 대한 푸리에 변환을 형성하기 위해 광원(110)으로 DUT를 조사함으로써 아날로그 광학 연산을 사용하여 패턴화된 장치의 결함을 검출하는데 사용되고, 이상적인 패턴을 가지는 푸리에 변환 성분은 분석기(170)에 측정된 패턴의 푸리에 변환 성분과 비교되고, 공간 성분의 세기의 차는 결함을 나타내고, 센서(160,162및164)로 병렬로 동시에 측정하고, 분석기(170)에서의 분석을 위해 거울(142,144)을 사용하고, 푸리에 변환의 여러 성분들을 여러 방향으로 향하게 하는데 공간분리기(140)가 사용되며, 통계 처리 제어를 사용하고, 푸리에 변환 성분의 차를 적절히 비교하여 결함이 부분적으로 분류되는 것을 특징으로 한다.

Description

패턴 결함 검출기(DEFECT DETECTION IN PATTERNED SUBSTRATES USING OPTICAL COMPUTING)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 한 실시예에 따른 결함 검출 시스템에 대한 블록도, 제2도는 본 발명의 다른 실시예에 따른 결함 검출 시스템에 대한 블록도, 제3A도 및 제3B도는 제1도 및 제2도의 실시예에 따른 공간 분리기의 예시적인 패턴을 보여주는 도면; 및 제4도는 본 발명의 다른 실시예에 따른 적응성 공간 분리기를 구성요소로 하는 서브시스템을 가지는 결함 검출 시스템에 대한 블록도이다.

Claims (24)

  1. 검사중인 장치로부터의 광에 대한 푸리에 변환 패턴을 형성하도록 위치한 푸리에 변환 광학렌즈; 상기 푸리에 변환 패턴의 제1성분으로부터 광을 수신하고, 이 광을 제1방향으로 향하게 하는 제1영역과 상기 푸리에 변환 패턴의 제2성분으로부터 광을 수신하고, 이 광을 상기 제1방향과는 다른 제2방향으로 향하게 하는 제2영역을 포함하는 복수의 영역을 가지며, 상기 푸리에 변환 광학렌즈로부터 광을 수신하도록 위치한 공간 분리기; 및 상기 공간 분리기에 의해 상기 제1방향으로 향하는 광과 상기 공간 분리기에 의해 상기 제2방향으로 향하는 광을 개별적으로 측정하는 센서시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  2. 제1항에 있어서, 사이 공간 분리기는 기판을 포함하고; 상기 제1영역은 상기 기판으로부터 광을 반사하는 기판의 일부를 포함하며; 상기 제2영역은 상기 기판을 통하여 광을 전달하는 기판의 일부를 포함하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제1영역은 상기 푸리에 변환 광학렌즈의 푸리에 평면내에 위치하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  4. 제3항에 있어서, 상기 공간 분리기는 상기 푸리에 변환 광학렌즈로부터 상기 제1및 제2영역으로 광을 전달하도록 위치한 빔 스플리터를 더 포함하며, 상기 제1영역은 상기 빔 스플리터로 광을 다시 반사하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  5. 제1항에 있어서, 상기 공간 분리기는 푸리에 평면에 위치한 홀로그래픽 격자를 더 포함하고, 상기 제1영역은 상기 제1방향으로 광을 회절시키는 제1라인 간격을 가지는 홀로그래픽 격자의 일부이며, 상기 제2영역은 상기 제2방향으로 광을 회절시키는 제2라인 간격을 가지는 홀로그래픽 격자의 일부인 것을 특징으로 하는 검출기.
  6. 제1항에 있어서, 상기 공간 분리기는 일단의 거울을 포함하고; 상기 제1영역은 상기 푸리에 변환 광학렌즈의 광축에 비례하는 제1각에 위치하며, 상기 제1방향으로 광을 반사하는 제1거울 세트를 포함하며; 상기 제2영역은 상기 푸리에 변환 광학렌즈의 광축에 비례하는 제2각에 위치하며, 상기 제2방향으로 광을 반사하는 제2거울 세트를 포함하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  7. 제6항에 있어서, 상기 일단의 거울은 각각 회전가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 검출기.
  8. 제7항에 있어서, 상기 일단의 거울은 각각 디지탈 마이크로미러를 포함하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  9. 제1항에 있어서, 검사중인 장치를 통하여 상기 푸리에 변환 광학렌즈로 광을 조사하는 광원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  10. 제1항에 있어서, 검사중인 장치로부터 상기 푸리에 변환 광학렌즈로 반사되는 광을 조사하는 광원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  11. 제1항에 있어서, 검사중인 장치는 상기 푸리에 변환 광학렌즈로 광을 조사하는 광원을 포함하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  12. 제1항에 있어서, 상기 센서시스템에 의해 측정된 값과 상기 무결함 패턴에 대한 예측값을 비교하는 분석기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  13. 제1항에 있어서, 상기 센서시스템은 복수의 광검출기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  14. 제1항에 있어서, 상기 센서시스템은 상기 공간 분리기의 제1영역 세트들로부터의 광을 사용하여 검사중인 장치의 이미지를 형성하는 광학렌즈; 및 상기 이미지의 일련의 위치에서 광의 세기를 측정하는 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  15. 제1항에 있어서, 상기 센서시스템은 복수의 분광계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  16. 제1항에 있어서, 상기 센서시스템은 복수의 편광계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  17. 제1패턴의 푸리에 변환을 나타내는 공간 성분들을 가지는 광 패턴을 형성하기 위해 푸리에 변환 광학렌즈로 상기 제1패턴에 위치하는 광을 이미지로 나타내는 단계; 상기 광 패턴의 제1공간 성분을 제1방향으로 향하게 하는 단계; 상기 광 패턴의 제2공간 성분을 제2방향으로 향하게 하는 단계; 상기 제1공간 성분을 나타내는 제1값과 상기 제2공간 성분을 나타내는 제2값을 동시에 결정하기 위해 병렬로 상기 제1 및 제2공간 성분을 측정하는 단계; 및 상기 제1값 및 상기 제2값을 상기 제2패턴의 대응하는 푸리에 성분을 나타내는 제3값 및 제4값과 비교하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 제1패턴과 제2패턴의 차를 측정하는 방법.
  18. 검사중인 장치로부터의 광을 이미지로 나타내도록 위치한 푸리에 변환 광학렌즈; 및 상기 푸리에 변환 광학렌즈로부터 광을 수신하도록 위치하며, 프로그램 가능한 방향으로 입사하는 광을 향하게 하는 일단의 개별적으로 할당 가능한 장치들을 포함하는 적응성 공간 분리기를 포함하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  19. 제18항에 있어서, 각각 개별적으로 할당 가능한 장치는 광을 향하게 하는 방향을 제어하는 제어회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  20. 제19항에 있어서, 한 장치의 푸리에 변환 패턴에 대한 이미지를 형성하는 이미징 시스템을 더 포함하며, 상기 제어회로는 상기 이미징 시스템에 의해 형성된 이미지로부터 상기 적응성 공간 분리기에 대한 구성을 결정하는 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  21. 제20항에 있어서, 상기 이미징 시스템은 전하결합소자; 및 상기 푸리에 변환 광학렌즈로부터 상기 전하결합소자로 광을 반사하는 반사기를 포함하며, 상기 전하결합소자는 상기 푸리에 변환 광학렌즈에 의해 형성된 푸리에 변환 패턴의 이미지를 형성하기 위해 상기 반사기에 의해 반사된 광을 사용하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  22. 제21항에 있어서, 상기 반사기는 이동 가능하게 설치되어 상기 푸리에 변환 광학소자로부터의 광의 광학경로에 삽입되며, 이 경로에서 제거되는 것을 특징으로 하는 검출기.
  23. 제1항에 있어서, 상기 푸리에 변환 광학렌즈는 배열된 부분 및 검사중인 장치의 결점으로부터 발생하는 배열되지 않은 부분을 가지는 광 패턴을 형성하고; 상기 제1영역이 상기 푸리에 변환 광학렌즈로부터 광의 배열된 부분을 수신하기 위해 형성되어 위치하며; 상기 제2영역이 상기 푸리에 변환 광학렌즈로부터 광의 배열되지 않은 부분을 수신하기 위해 형성되어 위치하는 것을 특징으로 하는 검출기.
  24. 제23항에 있어서, 상기 센서시스템은 제1광검출기; 상기 제1광검출기에 광의 배열된 부분을 집중하기 위해 위치한 제1집중렌즈; 제2광검출기; 및 상기 제2광검출기에 광의 배열되지 않은 부분을 집중하기 위해 위치한 제2집중렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 검출기.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019970702710A 1994-10-25 1995-10-20 패턴 결함 검출기(defect detection in patterned substrates using optical computing) KR970707432A (ko)

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