JPH0431024B2 - - Google Patents

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JPH0431024B2
JPH0431024B2 JP62283878A JP28387887A JPH0431024B2 JP H0431024 B2 JPH0431024 B2 JP H0431024B2 JP 62283878 A JP62283878 A JP 62283878A JP 28387887 A JP28387887 A JP 28387887A JP H0431024 B2 JPH0431024 B2 JP H0431024B2
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/32Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
    • C23C18/34Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
    • C23C18/36Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents using hypophosphites

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、金属又はセラミツク、ガラス、プラ
スチツク等の基材表面に黒色皮膜を形成する方法
に関し、特に、光カロリーメータの受光素子等に
利用される光吸収量が極めて高い超黒色皮膜を形
成する方法に関するものである。
[従来の技術] 従来、黒色皮膜を形成する方法としては、黒色
塗料を用いた塗膜、黒色の表面酸化物、金属化合
物の皮膜、電気めつき法による黒色クロメート、
黒色クロム、黒色ニツケル皮膜及び陽極酸化法に
より生成した多孔質皮膜に黒色塗料を入れる黒染
処理法等があつた。しかし、これらの黒色皮膜は
一般に全反射率が3〜10%程度あり、かつ、波長
依存性も高いという問題があり、光パワーの測定
等の光吸収体として用いるには不満足であつた。
光吸収体として、上記皮膜よりも全反射率の低
いものに、金黒があり、金黒の皮膜は全反射率が
約0.5%で上記黒色塗料等に比べて一段と低く、
光パワー測定の受光体としても利用されている。
また、米国特許第4233107号明細書(対応特開
昭57−114655)には、ニツケル・リンめつき皮膜
を硝酸水溶液で酸化処理して得られる黒色皮膜が
開示されている。
[発明が解決しようとする問題点] 従来光パワー測定に用いられている金黒は、そ
の全反射率が小さく、超黒色の受光体として利用
されているが、機械的振動や摩擦などで簡単には
げ落ち、高温度条件下では水分を吸収して反射率
が増加し、乾燥によつても元の反射率を回復しな
いという問題があり、実用上難点が多い。
また、米国特許第4233107号明細書に開示され
ている黒色皮膜は、全反射率が1.0%以下で、か
つ、皮膜強度が高い点で実用性が高いが、反射率
に波長依存性があり、0.4〜2.0μmという広い波
長帯域で高精度で光パワーを測定する受光体とし
て用いるにはなお問題がある。
本発明の目的は、金属、セラミツク、ガラス、
プラスチツク等の基材表面に、光吸収量が極めて
高く、波長依存性が少なく、さらに機械的強度、
耐湿性の優れた超黒色皮膜の形成された光吸収材
料及びそのための黒色皮膜形成方法を提供するこ
とにある。
[問題点を解決するための手段] すなわち本発明は、基材上のニツケル・リン合
金皮膜が、蜂の巣状に隣接する無数の凹穴からな
り、かつ、該凹穴の壁面に更に微細な凹凸を有す
る表面構造であることを特徴とする黒色皮膜を有
する基材を提供するものである。
また、本発明は、ニツケル・リン合金めつき液
により、ニツケル・リン合金めつき皮膜を形成
し、該ニツケル・リン合金皮膜を硝酸水溶液で一
次酸化処理し、次いで硫酸を含有する硝酸塩水溶
液で二次酸化処理することにより、無数の微細な
穴を有し、かつ、該無数の微細穴の壁面に更に微
細な凹凸が形成された表面構造を有する皮膜が形
成されることを特徴とする黒色皮膜形成方法を提
供するものである。
本発明において、黒色皮膜の形成される基材と
しては、金属、ガラス、セラミツクス、プラスチ
ツクス等が用いられる。
基材には先ずニツケル・リン合金めつき液によ
りニツケル・リン合金めつき皮膜が施される。
このめつきは通常行なわれている無電解めつき
法が用いられる。基材が金属の場合はアルカリ液
で脱脂した後酸洗し、次いでニツケルストライク
めつきを行ない、無電解ニツケル・リン合金めつ
き液に浸漬して基材表面にリン濃度6〜9%程度
のニツケル・リン合金めつき皮膜を形成せしめ
る。
基材がガラス、セラミツクス、プラスチツクス
のような電気の不導体の場合には、塩化錫溶液及
び塩化パラジウム溶液で表面の活性化処理を行な
つた後無電解ニツケル・リンめつき液によるニツ
ケル・リン合金皮膜形成が行なわれる。
無電解ニツケル・リンめつき液は市販のものが
使用でき、通常80〜95°の液温で60分〜5時間浸
漬される。ニツケル・リン合金皮膜の厚さは少な
くとも30μm、好ましくは70〜80μmである。
ニツケル・リン合金めつき皮膜の形成された基
材は、水洗乾燥した後黒色化のために酸化処理さ
れる。
本発明の方法において、この酸化処理は硝酸水
溶液による第一次酸化処理と、硫酸を含有する硝
酸塩水溶液による第二次酸化処理の2工程からな
つている。
第一次酸化処理で基材が浸漬される硝酸の濃度
は、硝酸:水=1:5から濃硝酸までの範囲の濃
度で、液温は20〜100℃、浸漬時間は5秒〜5分
である。ニツケル・リン合金皮膜が黒色化される
時間は皮膜のリン含量、硝酸液の濃度及び液温に
よるが、通常50℃の1:1硝酸を用いて5〜30秒
である。皮膜が黒色化された基材は水洗後、乾燥
せずに第二次酸化処理される。
第二次酸化処理で用いられる硝酸塩は、通常硝
酸ナトリウムであり、その濃度は200〜450g/
、好ましくは300〜400g/、添加される硫酸
の濃度は300〜750g/、好ましくは400〜600
g/である。液温30〜80℃、浸漬時間5秒〜5
分で処理されるが、これらの濃度、液温、時間は
第一次酸化処理によるニツケル・リン合金めつき
皮膜の状態との関係で最適のものが選択される。
第二次酸化処理の後、水洗乾燥して得られた基
材の黒色皮膜は、極めて安定で、機械的にも、耐
湿性においても優れており、その全反射率は、
0.4〜2.0μmの波長域において、0.3%以下であり、
かつ、波長依存性が極めて小さかつた。
走査電子顕微鏡による観察によれば、本発明の
方法により得られた黒色皮膜の表面には、無数の
凹穴が蜂の巣状に隣接しており、該凹穴の内壁は
微小な凹凸が形成されている。この微小凹凸がさ
らに全反射率を低下させているものと考えられ
る。
[実施例] 実施例 1 直径8mm厚さ0.5mmの銅板の基材をアルカリ脱
脂液浴温50〜60℃で脱脂処理し、水洗後1:1の
塩酸により酸洗いし、次いでニツケルストライク
めつき(電気めつき)を行なつた後、浴温90℃の
無電解ニツケル・リンめつき液に3時間浸漬し、
基材表面にニツケル・リン合金めつき皮膜を約70
〜80μm析出させた。
このようにしてニツケル・リン合金めつき皮膜
の形成された胴の基材を水洗した後、第一次酸化
処理として浴温50℃の1:1硝酸水溶液で30秒処
理した。
第一次の酸化処理された基材を水洗し、乾燥せ
ずに第二次の酸化処理として硝酸ナトリウム400
g/、硫酸552g/含む水溶液100ml中に30秒
浸漬し、取出して水洗乾燥した。
銅の基材表面に形成された黒色の皮膜は極めて
安定で、機械的振動及び摩擦、耐湿性に対し優れ
ていた。
第1図は得られた黒色皮膜の0.4〜2.0μmの波
長域での全反射率を積分球分光光度計で測定した
結果を示す。実線がその測定値で、全波長域にわ
たつて0.2%以下であり、波長による反射率の変
化は極めて小さい。この皮膜を85℃で相対湿度85
%RHの環境に200時間及び500時間暴露したのち
に測定した全反射率を、それぞれ破線及び鎖線で
示す。全反射率の若干の増加が見られるが、なお
全波長域で0.2%前後であり、波長依存性は殆ど
見られない。
第2図はAが本実施例で得られた本発明の黒色
皮膜の全反射率測定値で、Bは本実施例において
第一次酸化処理のみで得られた黒色皮膜について
の測定値である。このBは米国特許第4233107号
明細書に開示されている黒色皮膜に相当し、Aの
第二次酸化処理皮膜に比して、全反射率レベルが
高く、かつ、波長依存性が見られる。Cは金黒皮
膜についての測定値である。
第二次酸化処理による表面状態の変化は第3図
及び第4図に示される。第3図は第一次酸化処理
のみで水洗乾燥した黒色皮膜Bの表面構造を示す
走査電子顕微鏡写真で、第4図は第二次酸化処理
によつて得られた本発明の黒色皮膜Aについての
同様な写真である。第4図においては凹穴の壁面
に微小な凹凸が形成されていることが観察され
る。
実施例 2〜6 実施例1において、第二次酸化処理に用いた硝
酸ナトリウム及び硫酸の濃度を変更して他は実施
例1と同様にして黒色皮膜を得た。これらの黒色
皮膜の全反射率測定結果を第5図〜第9図に示
す。
[発明の効果] 本発明は、基材の種類を問わず、6〜9%リン
含有ニツケルリン合金めつきめつき液から析出さ
せたニツケルリン合金めつきめつき皮膜を硝酸水
溶液及び硫酸を含有した硝酸塩水溶液の2段階酸
化処理で黒色化したことにより、0.4〜2.0μmの
波長範囲において波長依存性が少なく、機械的振
動及び摩擦に強く、耐湿性に対しても安定し、全
反射率が0.16〜0.2%と極めて低い反射率を有す
る皮膜が形成される。得られた皮膜は精密な光パ
ワー絶対値測定用の光吸収体として極めて有用で
あり、また、太陽光集熱板、光学機器内部反射防
止材等に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の黒色皮膜の全反射率の湿度変
化を示すグラフであり、第2図は本発明の方法に
よる第一次酸化処理皮膜及び金黒の全反射率を本
明の第二次酸化処理皮膜と比較したグラフであ
る。第3図は第一次酸化処理のみで水洗乾燥した
黒色皮膜Bの表面の粒子構造を示す走査電子顕微
鏡写真で、第4図は第二次酸化処理によつて得ら
れた本発明の黒色皮膜Aの表面の粒子構造を示す
走査電子顕微鏡写真である。第5図〜第9図は本
発明で第二次酸化処理液の組成を変更した他の実
施例により得られた黒色皮膜の全反射率の測定結
果を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 基材上のニツケル・リン合金皮膜が、蜂の巣
    状に隣接する無数の凹穴からなり、かつ、該凹穴
    の壁面に更に微細な凹凸を有する表面構造である
    ことを特徴とする黒色皮膜を有する基材。 2 ニツケル・リン合金めつき液により、ニツケ
    ル・リン合金めつき皮膜を形成し、該ニツケル・
    リン合金皮膜を硝酸水溶液で一次酸化処理し、次
    いで硫酸を含有する硝酸塩水溶液で二次酸化処理
    することにより、無数の微細な穴を有し、かつ、
    該無数の微細穴の壁面に更に微細な凹凸が形成さ
    れた表面構造を有する皮膜が形成されることを特
    徴とする黒色皮膜形成方法。
JP62283878A 1987-11-10 1987-11-10 黒色皮膜を有する基材及び黒色皮膜形成方法 Granted JPH01188680A (ja)

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