JPH04307444A - 光記録担体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光学的に情報の記録・再
生を行なう光学的情報記録担体及びその製造方法に関す
るものである。

【０００２】近年、社会の情報化が進み、多種多様の情
報を効率良く取扱う手段として、光ディスク、光カード
、光テープ等の光学的情報の記録又は再生を行う情報記
録担体及び情報の記録再生装置が多く提案されている。 前記情報記録担体には、二値化された情報が反射率の変
化、ピット（穴）の有無のような表面形状の変化に伴う
反射光の強度の変化に変換して、検出出来るものがある
。

【０００３】光学的反射率の変化に依る記録担体として
は、記録層にレーザービームなどのエネルギービームを
スポット状に照射して記録層の一部を状態変化させて記
録する所謂ヒートモード記録材料が提案されている。こ
れらの記録材料は情報の書き込み後、現像処理などの必
要がなく、高密度記録が可能であり、追加書き込みも可
能である。

【０００４】光学的な情報の記録・再生装置に於いて、
書き込み、読み出しのトラックサーボの為、基板表面に
あらかじめ一定の間隔で溝を形成しておく方式もある。 この方式では溝が読み出しの案内役を果す為、レーザー
ビームのトラック制御精度が向上し、従来の溝無し基板
を用いた方式よりも高速アクセスが可能となる。

【０００５】図５は従来の密着封止型の溝を有する光学
的情報記録担体の模式的断面図である。同図５に於いて
、１は樹脂製の透明基板、２はトラック溝部、３は光記
録層、４は接着層、５は保護基材である。

【０００６】同図５に於いて、情報の記録・再生は透明
基板１及びトラック溝部２を通して光学的に書き込みと
読み出しを行なう。光の案内溝に相当するトラック溝の
微細な凹凸を利用してレーザービームの反射光の位相差
によりトラッキングを行なえる様にしてある。また、透
明基板１のトラック溝部２上に光記録層３を形成し、保
護基材５を接着層４を介して貼り合わせて密着封止型の
光学的情報記録担体は容易に製造されるものである。

【０００７】上記の様に従来の光学的情報記録担体はト
ラック部を有する透明基板上に光記録層を形成し、接着
層を介して保護基材を熱圧着する事により製造されるが
、接着層に使用される接着剤としては熱可塑性接着剤が
一般的であった。これは、光記録層が接着剤中に含まれ
る物質により変質しやすい場合が多く、重合開始剤、増
感剤或は触媒等を含む様な従来型の硬化型接着剤を使用
することが出来なかったためである。そのうえ、熱可塑
性接着剤の中にも光記録層３を変質させるものがあるた
め、接着剤の選択はかなり制限されていた。そのため、
接着層を介してのトラック溝部を有する透明基板と保護
基材との接着は、密着性が充分でない等の問題があった
。

【０００８】他方、光記録層が有機系色素により形成さ
れた上記の図５に示す様な密着封止型の光学的情報記録
担体は、従来より知られている中空構造型の、例えば空
気層（又は空間層）を設けた光ディスクの如き光学的情
報記録担体に比べて、一般に記録感度が低いという欠点
があった。例えば、中空構造型である場合、光記録層を
構成する記録材料が光吸収して光→熱変換により該記録
材料が融解分解または昇華する事により記録ピット（小
穴）を形成する結果、記録部の透過率や反射率等の光学
的特性が著しく変化する。これに対して、密着封止型の
場合は上記した物理的変化、すなわち融解または昇華に
よるピット形成等の形状変化がかなり抑制され、これに
代って化学的変化、例えば光吸収して光→熱変換により
光記録層を構成する記録材料の熱変化等が主に起こり、
変色や脱色による記録ピットを形成する結果、記録部の
透過率や反射率等の光学的特性の変化が主となり記録感
度が低下するという欠点があった。

【０００９】これは、透明基材に光硬化転写物を形成し
て透明基板としたとき、より顕著となるため、光重合性
樹脂組成物の選択も容易ではなかった。

【００１０】この様な密着封止型の光記録担体の問題点
を解決するものとして例えば特開昭６０−１９７９５６
号公報や特開昭５８−１１１１４１号公報には記録層上
に記録層の表面変形を吸収する様なシリコーン系樹脂や
シリコーンゴム等の有機材層を設け更にその上に保護基
板を形成した。記録時のピットの形成を妨げない高感度
の光記録担体が記載され又、これらの光記録担体に於て
シリコーン系樹脂等からなる層の形成方法として光記録
層上に塗布した後、加熱して硬化させる方法が開示され
ている。

【００１１】しかしながらこの様な方法で有機材層を形
成した場合、有機材層の塗布、硬化時の加熱によって光
記録層が劣化することがあり、又、硬化に要する時間が
長く生産性が悪い、硬化温度が高すぎるという問題点が
あった。又ＵＳＰ４，８７１，６０１には記録層上にフ
ィルム、被覆層を接着層を介することなく積層して、記
録層上にミクロな空気層を形成させて密着構造の光記録
媒体の低感度を改善している。

【００１２】しかしこの構成も光記録媒体に部分的に圧
力が加わった場合この空気層が無くなってしまう為、記
録感度にムラが生じ易いという問題点があった。

【００１３】

【発明が解決しようとしている課題】本発明は、上記問
題点に鑑みなされたものであって記録感度及び保存安定
性に優れ、且つ、製造時に記録層へ悪影響を及ぼすこと
のない光記録媒体を提供することを目的とするものであ
る。

【００１４】また、本発明は、記録層に悪影響を与える
ことなく、記録感度および保存安定性に優れた光記録媒
体の製造方法を提供することを目的とするものである。

【００１５】

【課題を解決するための手段】即ち本発明の光記録媒体
は、基板上に記録層を有し、該記録層上に該記録層との
間に接着層を介在させることなく積層されたシリコーン
樹脂フィルム被覆層及び、該シリコーン樹脂フィルム被
覆層を被覆するように設けられた固定化層を有すること
を特徴とするものである。

【００１６】また本発明の光記録媒体の製造方法は、基
板上に記録層を形成し、該記録層上に該光記録層との間
に接着層を介することなくシリコーン樹脂フィルム被覆
層を積層し、次いで該シリコーン樹脂フィルム被覆層を
被覆する様に固定化層を積層することを特徴とするもの
である。

【００１７】即ち本発明によれば、記録層上にシリコー
ン樹脂を塗布したりシリコーン樹脂層を硬化させるため
に光記録媒体を加熱する必要がなく、記録層の熱や溶媒
による劣化を防ぎ且つ記録層上に、記録層の変形を抑制
せずまた防湿性に優れたシリコーン樹脂層を有する高感
度で保存耐久性に優れた光記録媒体を得ることができる
ものである。

【００１８】以下、本発明を詳細に説明する。

【００１９】図１は、本発明の密着封止型の光学的情報
記録担体（以下、光記録担体と記す）の模式的断面図及
び図２は全体の構成の一例を示す断面図である。

【００２０】同図に於いて、１は透明基板、２はトラッ
ク溝部、３は光記録層、６はフィルム被覆層、４ａは固
定化層、５は保護基材である。

【００２１】図１及び図２では、トラック溝部を具備し
た光記録担体を図示したが、本発明はそれらに何ら制限
されるものではない。

【００２２】まず透明基板１のトラック溝部２上に、例
えば有機色素薄膜からなる光記録層を塗工で設け、該光
記録層３の記録有効部分８の上に樹脂薄膜、特にシリコ
ーン系樹脂フィルムなどに代表されるフィルム被覆層６
を載せ、さらにその上に接着剤等からなる固定化層４ａ
を積層し保護基材５と接着せしめることにより、フィル
ム被覆層６を光記録層３の上に固定化してなるものであ
る。

【００２３】なお、保護基材５を省略して光ディスクと
する事が可能である。また、上記の様に固定化層４ａを
形成し、保護基材５を積層、固定化すれば光カードや光
ディスクとすることも可能である。いずれにしても、本
発明の光記録担体は光記録層３とフィルム被覆層６とが
密着、固定されていることに特徴がある。保護基材５は
あってもなくても良い。

【００２４】透明基板１としては、光学的な記録・再生
に於いて不都合の少ないものが好ましく、使用する光に
対して透過率の高いものであればよく、例えばアクリル
系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビ
ニル系樹脂、ポリスルホン樹脂、ポイミド系樹脂、ポリ
アセタール樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂
、セルロース誘導体などを用いる事が出来る。

【００２５】トラック溝部を基板へ形成するには、基板
が熱可塑性樹脂である場合には、融点以上の温度での射
出成型や熱プレス成型、熱ロール成形等の方法によりス
タンパー型を熱転写する方法、或いは透明基材上に光硬
化性樹脂組成物を塗布し、スタンパー型を密着させ、紫
外線等を照射して該光硬化性樹脂組成物を硬化させる方
法によりスタンパー型を光転写した基板を形成する方法
等により実施される。

【００２６】熱転写法の場合には、トラツク部と透明基
板は同一体であるのに対して、光転写法の場合には、ト
ラック部は透明基材と同一体ではなく接着されている。 或は、スタンパー型の転写法とは別に、エッチング可能
な所望の厚みの透光性薄膜を有する透明基板上にレジス
ト膜を形成してトラック溝のパターンを有するフォトマ
スクを介して露光し、現像してレジストパターンを形成
してレジストパターンをマスクとして該薄膜をエッチン
グしてトラック部を基板に形成することも出来る。

【００２７】トラック溝部２の溝の幅は、光カードの場
合通常２及至４μｍが、光ディスクの場合通常０．８μ
ｍ前後であり、トラックピッチは前者で８μｍ及至１５
μｍ、後者で１．６μｍ前後である。

【００２８】また、溝の深さは使用する光源の波長をλ
、透明基板１の屈折率をｎとするとλ／４ｎ（またはλ
／８ｎ）の奇数倍がトラッキング信号検出の為には好ま
しい。溝部の成型性の再現性を考慮に入れると、位相成
分のみによる干渉効果による反射光量の検出が困難な場
合があり、かかる場合には、振幅成分の強度変化をも考
慮して反射光量の検出を制御する為に理論的な溝の深さ
を変更する場合もあるので規定は出来ない。トラック溝
部２に光記録層３を形成する場合、接着性向上、光学特
性（例えば透過率や反射率）の向上、基板からのガス放
出に対するガスバリヤー性の向上、光記録層の保存安定
性、再生光による劣化防止の為の導熱性向上などの目的
でプライマー処理や下引き層の形成、またはコロナ放電
処理、ＵＶ−オゾン処理、プラズマ処理などを施す事も
ある。

【００２９】光記録層３は、使用する光の波長付近、例
えば、再生光のエネルギービームの波長が６５０ｎｍ以
上、特に７００〜９００ｎｍである場合には、記録部で
あるピット等に於ける反射率と末記録部のそれとの差が
大きいものが好ましく、また、記録する為には上記の波
長域に吸収のある事が必要である。また、エネルギービ
ームの照射によって反射率の変化が生ずるのに必要とさ
れるエネルギーが小さい方が好ましい。更に、再生光の
エネルギービームによって記録部（ピット等）および未
記録部の反射率が変化し難いものが好ましい。

【００３０】例えば、Ｔｅ，Ｓｂ，Ｍｏ，Ｇｅ，Ｖ，Ｓ
ｎ等の酸化物、Ｔｅ−Ｓｎ，ＴｅＯｘ−Ｇｅなどの化合
物、Ｔｅ−ＣＨ４，Ｔｅ−ＣＳ２，Ｔｅ−スチレン、Ｓ
ｎ−ＳＯ２，ＧｅＳ−Ｓｎ，ＳｎＳ−Ｓなどの金属と有
機化合物、または無機硫化物との複合物、ニトロセルロ
ース、ポリスチレン、ポリエチレンなどの熱可塑性樹脂
中に銀等の金属粒子を分散させたもの、この様な熱可塑
性樹脂の表面に金属粒子を凝集させたもの、カルコゲン
或は発色型ＭｏＯ３−Ｃｕ，ＭｏＯ３−Ｓｎ−Ｃｕ等が
用いられる。

【００３１】また、エネルギービームで光学的な物性変
化可能な有機薄膜は溶液または分散系による連続塗布が
可能で量産製造に好ましく、安価で毒性の低い安全な光
記録材料である。

【００３２】例えば、アントラキノン誘導体（特にイン
ダスレン骨格を有する物）、ジオキサジン化合物及びそ
の誘導体、トリフェノジチアジン化合物、フェナンスレ
ン誘導体、シアニン化合物、メロシアニン化合物、ピリ
リウム系化合物、キサンテン系化合物、トリフェニルメ
タン系化合物、クロコニウム系色素、アゾ色素、クロコ
ン類、アジン類、インジゴイド類、ポリメチン系色素、
アズレン類、アミニウム、ジイモニウム塩類、スクアリ
ウム誘導体、硫化染料及び金属のジオチラート錯体等を
挙げる事が出来る。

【００３３】また、これらの色素に対し、これら色素の
励起種に対して消光剤となるものを混合した色素組成物
でもよい。例えば、消光剤は以下に挙げるもののうちよ
り、色素と溶媒に対する相溶姓を考慮して選択する。添
加量は、色素に対し、数重量％及至５０重量％が可能で
あるが、少ないと消光剤としての効果が余り見られず、
また５０重量％をこえて添加するとヒートモード記録材
料の絶対量の低下から感度の減少が顕著となる。従って
、色素に対して、１０重量％及至３０重量％が好ましい
。特に、感度の劣化を伴わず効果が高いものは、２０重
量％前後である。

【００３４】かかる消光剤としては、各種金属キレート
化合物、特にＺｎ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｃｒ，ＣＯ，Ｍｎ，Ｐ
ｄ，Ｚｒを中心金属とする多座配位子、例えばＮ４，Ｎ
２Ｏ２，Ｎ２Ｓ２，Ｓ４，Ｏ２Ｓ２，Ｏ４等の四座配位
子、またはＮ２Ｏ，ＮＯ２，ＮＳ２，Ｏ３，ＮＯＳ等の
三座配位子と他の配位子、例えば水、アンモニア、ハロ
ゲン、フォスフィン、アミン、アルシン、オレフィン等
、或は２つの二座配位子Ｎ２，ＮＯ，Ｏ２，Ｓ２の四配
位型の他、ビスシクロペンタジエニル配位子、シクロペ
ンタジエニルートロピリニウム配位子系、或は、上記の
組み合わせ等から成るものが挙げられる。又各種の芳香
族アミン類やジアミン類、含窒素芳香族及びそのオニウ
ム塩、例えばアミニウム塩、ジイモニウム塩、ピリジニ
ウム塩、イミダゾリニウム塩、キノリニウム塩等の安定
化剤を用いることもできる。更に、含酸素芳香族の塩で
あるピリリウム塩等でも良い。また、これらの消光剤や
安定化剤を複数組み合わせて使用する事も可能で、色素
組成物の塗布性、塗布被膜の安定性、光学的特性（反射
率や透過率）、記録感度等を考慮して適宜組成比を変え
る事が出来る。

【００３５】上記した有機系色素又は色素組成物から成
る光記録層３は公知の塗布方法により形成される。例え
ば、ディップコート、スプレーコート、スピナーコート
、バーコート、ブレードコート、ナイフコート、ロール
コート、カーテンコート等の方法を挙げる事が出来る。 光記録層３の厚さは、概ね、５００及至２０００Å位で
あり、好ましくは１０００Å前後である。特に記録感度
の点からは厚さは薄く、再生時のＣ／Ｎ比の点からは厚
めの方が好ましく、色素の種類によりその最適膜厚は異
なる。

【００３６】本発明に於けるフィルム被覆層６としては
、樹脂薄膜であって、且つ前記の光記録層との接触界面
に於いて、光記録層と少なくとも未記録状態に於いて、
実質的な変化を起こさない材料である事が必要で、固定
化層に使用される接着剤の光記録層への影響を防止し、
また記録時に於いて、照射エネルギーの光記録層の光→
熱変換により発生すると思われる熱エネルギーにより記
録層の変形を阻害しないものである事が望ましい。 この点で、熱可塑性樹脂薄膜をフィルム被覆層として挙
げることができる。

【００３７】上記樹脂薄膜はフィルム被覆層に使用する
場合、材質にも異るが、通常０．０５〜１００μｍ、好
ましくは０．１〜５０μｍが望ましい。

【００３８】これらの材料はフィルム状として容易に入
手可能であり、厚みも数μｍから揃っているが、特にそ
の表面の平滑性は光記録担体の光記録層３の記録特性に
まで影響を与える。平滑性が悪い場合、Ｃ／Ｎ比が悪く
十分な信号検出が困難となる。また被覆の際、表面平滑
性を損うと同様のこととなる。

【００３９】また、透過率変化で信号を検出する場合に
は、使用する再生光に対して透明である事が望ましい。 反射率変化で信号を検出する場合には使用する再生光に
対する限定はない。

【００４０】表面平滑性をあまり問題にせず、光記録層
の変形を阻害しない材料としては、それ自身熱伝導率が
高くなく、融解せずとも変形しやすいもの、変形弾性体
が挙げられる。

【００４１】シリコーン系樹脂フィルムは、この場合の
好適な材料で、表面の平滑性が多少悪くとも、光記録層
に圧着することにより、Ｃ／Ｎ比を低下させることはな
い。

【００４２】シリコーン系樹脂フィルムとしては、液状
シリコーンゴムを硬化させたペースト状シリコーン材料
、熱加硫型シリコーン材料などのシリコーンゴム系が良
く、硬さはＪＩＳＡで１５０以下、好ましくは８０以下
、厚みは０．５〜１００μｍ、好ましくは２μｍ〜５０
μｍのものが良い。

【００４３】所望のフィルムは、市販品で入手可能であ
るが、上記材料を硬化・成型しても良い。この場合、Ｕ
Ｖ硬化、加熱硬化、加熱成形、空気中放置など硬化条件
は材質によって違うが、光記録層を劣化させず、フィル
ム被覆層として機能するならば、どんな条件でも良い。

【００４４】フィルム被覆層６の大きさは、光記録担体
の記録有効部を最低限被覆できる大きさで良いが、フィ
ルム被覆層には接着力がないことを考慮した場合、大き
くとも光記録担体の基板より小さい方が好ましい。

【００４５】フィルム被覆層６の上を固定化層４ａで被
覆する場合、両層の界面の密着性や接着性を向上させる
ために、フィルム被覆層６を構成する樹脂薄膜の表面を
片面のみ改質する事を行っても良い。また、接着層を兼
ねた接着層付きの樹脂薄膜を使用しても良い。いずれに
しても、光記録層３との接着界面に於いて未記録状態に
於いて実質的に光記録層を劣化させない樹脂薄膜である
事が重要である。

【００４６】本発明の固定化層４ａとしては、前記のフ
ィルム被覆層６を固定化する目的または保護基材５との
貼り合わせの目的で使用される。例えば、固定化する目
的ではフィルム被覆層６よりも軟化温度が低いか又は低
融点の熱可塑性フィルム又はドライフィルムタイプの熱
可塑性接着剤を使用する事が出来る。或は接着層として
は、熱可塑性接着剤、光硬化性接着剤、熱硬化性接着剤
、光・熱併用硬化性接着剤、粘着性接着剤或はあらかじ
めこれらの接着剤を片面に施した保護基材５を使用して
貼り合わせてもよい。

【００４７】次に、固定化層４ａに使用される接着剤の
具体例を示すと、例えば酢酸ビニル系、酢酸ビニルアク
リル系、酢酸ビニル共重合系、酢酸ビニルエマルジョン
系、アクリル系、アクリレート系、アクリル共重合系、
エチレン系、エチレン酢酸ビニル系、エチレン酢酸ビニ
ル共重合系、ポリエチレン系、塩化メチレン系、ポリア
ミド系、ポリアミド−アミン系、ポリイミド系、ユニア
系、エポキシ系、エポキシウレタン系、エポキシアクリ
レート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステル系、
クロロプレン系、クロロプレンゴム系、ニトリル系、ニ
トリルゴム系、ウレタン系、ビニルウレタン系、ポリウ
レタン系、オレフィン系、シアノアクリレート系、アル
キルアクリレート系、塩化ビニル系、フェノール系、Ｓ
ＢＲ系（スチレンブタジエンゴム）、ポリオール系、シ
リカアルミナ系、合成ゴム系、エマルジョン系、オリゴ
エステル系、セルロース系、ホルムアルデヒド系、紫外
線硬化型、有機溶剤、スチレンブタジエン系、フレオン
ＴＡ系等が利用できる。接着の際、熱、光、電子線等エ
ネルギーを必要とすものも、そのエネルギーが光記録材
料の機能を劣化させない限り有効である。

【００４８】従来は、光記録層を浸す様な接着剤、例え
ば硬化型接着剤や粘着型接着剤やアミド系熱可塑性接着
剤などは使用する事が不可能であったが、本発明のフィ
ルム被覆層は、これらに対し光記録層を保護するバリヤ
ー層としても働くので接着剤の選択の自由度が大幅に増
加した。

【００４９】保護基材５としては、通常の保護基材とし
て用いる事が出来るあらゆる材料が使用可能であり、具
体的にはポリ塩化ビニル、弗素置換エチレン重合体、塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、
ポリメタクリル酸メチル等アクリル重合体、ポリスチレ
ン、ポリビニルブチラール、アセチルセルロース、スチ
レン−ブタジエン共重合体、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリカーボネート、エポキシアクリロニトリル−
ブタジエン−スチレン共重合体等が用いられる。

【００５０】場合によっては鉄、ステンレス、アルミニ
ウム、スズ、銅、亜鉛等の金属シート、合成紙、紙、ま
た繊維強化プラスチック、磁性体等金属粉末とプラスチ
ックの複合材、セラミック等用途に応じて多種多様のも
のが使用可能である。無論透明基材に用いられるものを
用いても良い。

【００５１】これら保護基材５には、必要に応じてコロ
ナ放電処理、プラズマ処理、プライマー処理、オゾン処
理等の接着性改良の為の前処理をしても良い。

【００５２】図３に示すように、透明基板１に記録有効
部８を設け、光記録層３を該記録有効部８の上に設ける
。次に光記録層３を被覆するため樹脂フィルム６ａを載
せ、固定化層となるシート状接着剤４ｂを保護基材５で
挟む。最後にラミネーター等で熱圧着を行うことにより
、目的とする光記録担体を得ることができる。

【００５３】次に図４に本発明の光記録担体の他の例を
示す。同図４において、透明基板１に透明ポリカーボネ
ートを用い、光記録層３に染料を用いて、透明基板１の
全面に光記録層３を形成する。次いで、トラック溝部２
の上の光記録層３の光記録層有効部７をフィルム被覆層
６で被覆し、その上に前記染料を侵すポリアミド系接着
剤を用いて固定化層４ａを形成し、さらに最外層として
保護基材５を積層する。この様にして構成された光記録
担体においては、フィルム被覆層６で保護されていない
光記録層３と接着剤が密着して、該光記録層３を介しな
がらも透明基板１と保護基材５に高い接着強度を得るこ
とができ、又ここではピットの形成が抑制される。

【００５４】この様な構成の光記録担体では、前記図１
、図２で示すように、光記録層３を透明基板１上に部分
的に形成する必要もなくカード作成工程の簡略化を図る
ことができる。

【００５５】

【作用】有機系色素を使用した光記録担体について、密
着封止型の光記録担体は、従来より知られている中空構
造型の、例えば空気層（又は空間層）を設けた光ディス
クの如き光記録担体に比べて、一般に記録感度が低いと
いう欠点があった。例えば、中空構造型である場合、光
記録層を構成する記録材料が光吸収して光→熱変換によ
り該材料が融解、分解または昇華する事により記録ピッ
ト（小穴）を形成する結果、記録部の透過率や反射率等
の光学的特性が著しく変化する。これに対して、密着封
止型の場合は、上記した物理的変化（融解または昇華に
よるピット形成等の形状変化）がかなり抑制され、これ
に代って化学的変化、例えば光吸収して光→熱変換によ
り光記録層を構成する記録材料の熱分解、また光による
分解反応の割合が大きくなり、変色や脱色の記録ピット
形成に寄与する記録ビットの比率が大きくなる結果、記
録部の透過率や反射率等の光学的特性が変化している事
が見い出されている。この為、記録ピットの方が記録ビ
ットよりも記録コントラストが高いという傾向があると
共に記録に要するエネルギーも少なくてすむ。即ち、記
録感度が高い事が見い出されている。

【００５６】従って、分解反応により起こる変色や脱色
には多量のエネルギーを必要とし、これがコントラスト
の低下や記録感度が低いという原因であると考えられる
。この様に、密着封止型の光記録担体に於いては、変色
や脱色の如き化学的な変化を起こす事によるビット記録
の比率を下げ、抑制された物理的変化であるピット記録
を回復させる事により、コントラストの向上や記録感度
の向上が可能となる。本発明におけるフィルム被覆層６
は、接着層を介していないため、記録層の熱変形が従来
の密着封止型より抑制されず、光記録層の融解又は分解
・昇華による物理的変形を或る程度助けるものと思われ
る。特にそれがシリコーン系樹脂フィルムの場合、上記
効果の他に、高温でも安定なため記録時の熱変化による
吸熱が少なく、低温でも変形しやすい為感度ムラを抑え
ることができる。

【００５７】また、フィルム被覆層６は、中空構造の光
記録担体に比べて恒温恒湿耐久性が良い事も見い出され
ており、特にシリコーン系樹脂フィルムは高温高湿耐久
試験において効果があった。該フィルム被覆層は、光記
録層の保護層も兼ねており、中空構造中に残存する酸素
、水分等による劣化を防止するバリヤー層として働いて
いるものと考えられる。

【００５８】

【実施例】実施例１ 透明樹脂基板（厚さ０．４ｍｍ、紫外線吸収剤入りポリ
カーボネート板、パンライト２１１、帝人化成（株）製
）上に、ネオペンチルグリコールジアクリレート（７０
重量部）、ビスフェノール系エポキシアクリレート（３
０重量部）［エピコート８２８（商品名、油化シェルエ
ポキシ（株）製）にアクリル酸を付加した２官能アクリ
レート］、及びベンゾインイソプロピルエーテル（１重
量部）から成る光硬化性樹脂混合物を用いて、２Ｐ成型
法によりトラック溝を形成した。トラック溝３μｍ、ト
ラック溝ピッチ１３μｍ、トラック深さ１３００Åのス
トライプ状のトラック溝から成る光カード用基板を得た
。

【００５９】該光カード用基板を１２０℃で３ＨＲ乾燥
し、残留するモノマーの除去と重合を完了させ、下引き
層として、コルコート１０３Ｘ（コルコート（株）製）
をスピンコート法により塗布し、５０℃、３ＨＲ乾燥さ
せて、５００Åのシリカ薄膜を形成した。下引き層の上
に、下記に示す式（Ｉ）の色素をジクロルエタンに２．
１ｗｔ％濃度に溶解した溶液をスピンコート法により塗
布し、厚み１０００Åの光記録層を形成した。

【００６０】光記録層の上に短冊状の厚み２０μｍのシ
リコン系樹脂シートを重ね更に、厚さ５０μｍの熱可塑
性接着剤（エチレン−酢酸ビニル系ドライフィルム）を
重ねて、不透明カード基材として、０．３ｍｍの白色ポ
リカーボネート（タフロン、出光石油化学（株）製）を
重ねて、表面温度１１０℃の熱ロールにて熱圧着し、光
カードを作成した。

【００６１】なお、シリコーン系樹脂シートは、ＴＳＥ
３０３３（東芝シリコーン（株））をガラス基板に塗布
して１２０℃で加熱硬化したものを、ガラス基板から剥
離して用いた。

【００６２】次に、光カードの透明基板側から８３０ｎ
ｍの半導体レーザー光を用いて、レーザー光のパワー３
．９ｍｗ、スポット径３．２μｍφ、カード送り速度６
０ｍｍ／ｓの条件で、書き込みパルス幅１００μｓで記
録した処、コントラスト比０．８０を得た。未記録部の
反射率は１６％だった。但し、コントラスト比は非記録
部の反射率から記録部の反射率を差し引いた値に対する
非記録部の反射率の比を表わす。

【００６３】

【外１】

【００６４】実施例２ インジェクション成型法により、トラック溝０．８μｍ
、トラックピッチ１．６μｍ、トラック溝深さ６００Å
の溝付きアクリルディスク基板（直径１３０ｍｍ、内径
１５ｍｍ）に、コルコート１０３Ｘ（コルコート（株）
製）をスピンコートして厚み２００Åのシリカ薄膜から
成る下引き層を形成した。

【００６５】これに、下記に示す式（ＩＩ）の色素及び
消光剤として、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラキス（ｐ−
ジプロピルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニ
ウム過塩素酸塩（式（ＩＩＩ））を色素に対して２５重
量％添加した２．１重量％のジクロルエタン溶液をスピ
ンコート法により塗布し、厚み９００Åの光記録層を形
成した。

【００６６】この光記録層の上に、直径１２５ｍｍ、内
径３０ｍｍ、厚み２０μｍの輪帯状のシリコン系樹脂フ
ィルムを乗せ、更に、直径１３０ｍｍ、内径１５ｍｍの
粘着剤付きトリアセテートフィルム（７０μｍ厚み）を
圧着し、常温でラミネートし、密着封止型の光ディスク
を得た。

【００６７】なお、ここで用いたシリコン系樹脂フィル
ムは、ＴＵＶ６０００（東芝シリコン（株）製）をガラ
ス基板に塗布し、ＵＶ照射で硬化させたものを剥離して
成形したものである。

【００６８】この光ディスクの透明基板側から、８３０
ｎｍの半導体レーザー光を用いて、レーザー光パワー８
ｍＷ、記録周波数２ＭＨｚ、回転数１，８００ｒｐｍで
記録を行なった所、コントラスト０．７８を得た。反射
率のＣ／Ｎ値は５５ｄＢであった。

【００６９】光記録を施した光ディスクを６０℃、９０
％（相対湿度）の条件下で１，０００時間放置して保存
加速実験を行ない、反射率のＣ／Ｎ値を測定した処、Ｃ
／Ｎ値は５４ｄＢであった。

【００７０】

【外２】

【００７１】

【比較例】比較例１ フイルム被覆層を除いた以外は、実施例１と全く同様に
して光カードを作成した処、コントラスト比は０．２２
しか得られなかった。

【００７２】比較例２ フィルム被覆層を除いた以外は、実施例１と全く同様に
して光ディスクを作成した所、粘着剤と光記録層とが反
応したと思われ、反射率が低下し、記録が不可能であっ
た。

【００７３】比較例３ 実施例２のフィルム被覆層である２０μｍのシリコン系
樹脂フィルムを除き、粘着剤付きトリアセテートの代り
に、エチレン−酢酸ビニル系、５０μｍ厚の離型紙付熱
可塑性ドライフィルムを用いて１２０℃で熱圧着により
ラミネートして、光ディスクを作成した処、コントラス
ト比は０．２４しか得られなかった。

【００７４】比較例４ 光記録層を形成する所迄は実施例２と全く同様にして光
記録層を有するディスク基板を作製した。ディスク状ア
クリル基板（直径１３０ｍｍ、内径１５ｍｍ）の外周部
の内側と、内周部の外側のそれぞれに幅２ｍｍの輪帯状
、粒径３００μｍから成るスチレン−ジビニルベンゼン
樹脂ビーズを分散させたＵＶ硬化性接着剤を塗布し、光
記録層付きのディスク基板を重ね合せ、光記録層に相当
する部分を遮光してＵＶ光を照射して輪帯部を硬化させ
、空間層を有する光ディスクを製造した。

【００７５】得られた光ディスクを実施例２に示した記
録条件で記録した後、６０℃、９０％（相対湿度）の条
件下で、１０００時間放置して保存加速試験を行ない、
反射率のＣ／Ｎ値を測定した処、Ｃ／Ｎ値は５６ｄＢか
ら３９ｄＢと低下した。

【００７６】

【発明の効果】本発明の光記録担体は、透明基板上に設
けた光記録層をフィルム被覆層で被覆し、さらにその上
に固定化層を積層し、フィルム被覆層を光記録層に固定
化してなるので、光記録時のコントラストが向上する事
実から、材料をシリコン系樹脂フィルムを用いることで
、よりコントラストを改善することが可能となった。

【００７７】このフィルム被覆層は、光記録層を保護す
る機能もあり、特にシリコン系樹脂フィルムは湿度の高
い状況でも耐久性が向上させることができた。また、接
着剤の選択の自由度も向上した。

【００７８】有機材料を用いた光記録層のオーバーコー
トとして、製造工程上問題のあったシリコン系材料も、
本発明により使用可能となり、シート状なので連続生産
も可能となり、生産性の向上も可能となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の密着封止型の光記録担体の模式的断面
図。

【図２】その全体の構成の一例を示す断面図。

【図３】本発明の光記録担体の製造工程を簡便に表した
図。

【図４】本発明の光記録担体の他の例を示す断面図。

【図５】従来の密着封止型の光記録担体の模式的断面図
。

【符号の説明】

１　　透明基板 ２　　トラック溝部 ３　　光記録層 ４　　接着層 ４ａ　　固定化層 ４ｂ　　シート状接着剤 ５　　保護基材 ６　　フィルム被覆層 ７　　光記録層有効部 ８　　記録有効部分

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　基板上に形成されてなる記録層と該記
   録層上に、該記録層との間に接着層を介在させることな
   く積層されたシリコーン樹脂フィルム被覆層及び該シリ
   コーン樹脂フィルム被覆層を被覆するように設けられた
   固定化層を有することを特徴とする光記録担体。
2. 【請求項２】　　該記録層が有機系光吸収化合物を含有
   する請求項１の光記録担体。
3. 【請求項３】　　該基板が基材及び光硬化樹脂層の２層
   を有し、該基板の記録層が形成される側が光硬化樹脂層
   であって且つ該光硬化樹脂層の記録層が形成される面に
   プリフォーマットが形成されてなる請求項１の光記録担
   体。
4. 【請求項４】　　該光記録担体がカード形状を有する請
   求項１の光記録担体。
5. 【請求項５】　　基板上に記録層を形成し、該記録層上
   に、該光記録層との間に接着層を介することなくシリコ
   ーン樹脂フィルムを積層し、次いで該シリコーン樹脂フ
   ィルム被覆層を被覆する様に固定化層を積層することを
   特徴とする光記録担体の製造方法。
6. 【請求項６】　　該記録層を基板上に湿式塗布によって
   形成する請求項７の光記録担体の製造方法。
7. 【請求項７】　　該基板として、その記録層形成面に所
   定のプリフォーマットが形成されてなる基板を用いる請
   求項７の光記録担体の製造方法。
8. 【請求項８】　　該基板が基材及び光硬化樹脂層の２層
   を有し、該基板の記録層が形成される側が光硬化樹脂層
   であって且つ該光硬化樹脂層の記録層形成面に該プリフ
   ォーマットが形成されてなる基板を用いる請求項９の光
   記録担体の製造方法。