JPH04300847A - 4−オキソヘプタンジアール誘導体およびその製造方法 - Google Patents
4−オキソヘプタンジアール誘導体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH04300847A JPH04300847A JP6717991A JP6717991A JPH04300847A JP H04300847 A JPH04300847 A JP H04300847A JP 6717991 A JP6717991 A JP 6717991A JP 6717991 A JP6717991 A JP 6717991A JP H04300847 A JPH04300847 A JP H04300847A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dial
- represented
- oxoheptane
- acetal
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- FXJPWEZCHRHMEX-UHFFFAOYSA-N 4-oxoheptanedial Chemical class O=CCCC(=O)CCC=O FXJPWEZCHRHMEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 41
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 36
- -1 acetal compound Chemical class 0.000 claims abstract description 115
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 51
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 21
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 30
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 29
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 24
- BFQQCOKRCLPJFF-UHFFFAOYSA-N 4-nitroheptanedial Chemical compound O=CCCC([N+](=O)[O-])CCC=O BFQQCOKRCLPJFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 9
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 9
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 6
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 claims description 6
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 claims description 5
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 claims description 5
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 claims description 3
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004421 aryl sulphonamide group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 238000005576 amination reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims 29
- OQVYMXCRDHDTTH-UHFFFAOYSA-N 4-(diethoxyphosphorylmethyl)-2-[4-(diethoxyphosphorylmethyl)pyridin-2-yl]pyridine Chemical compound CCOP(=O)(OCC)CC1=CC=NC(C=2N=CC=C(CP(=O)(OCC)OCC)C=2)=C1 OQVYMXCRDHDTTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 4-heptanone Chemical compound CCCC(=O)CCC HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 8
- 229960002508 pindolol Drugs 0.000 abstract description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 abstract description 5
- JZQKKSLKJUAGIC-UHFFFAOYSA-N pindolol Chemical compound CC(C)NCC(O)COC1=CC=CC2=C1C=CN2 JZQKKSLKJUAGIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 abstract 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract 2
- KFVBMBOOLFSJHV-UHFFFAOYSA-K aluminum;sodium;hexane-1,2,3,4,5,6-hexol;carbonate;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Al+3].[O-]C([O-])=O.OCC(O)C(O)C(O)C(O)CO KFVBMBOOLFSJHV-UHFFFAOYSA-K 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 53
- 150000001241 acetals Chemical group 0.000 description 45
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 43
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 25
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 20
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 20
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 19
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 17
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 13
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 13
- OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;hexane Chemical compound CCCCCC.CCOC(C)=O OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 11
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 9
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 9
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 9
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 8
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 7
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 6
- 229940054051 antipsychotic indole derivative Drugs 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 6
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 6
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 6
- PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N trimethyl orthoformate Chemical compound COC(OC)OC PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ODWGSGRDYONRMR-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-[1-(4-methylphenyl)sulfonylindol-4-yl]oxypropan-2-ol Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)N1C2=CC=CC(OCC(O)CCl)=C2C=C1 ODWGSGRDYONRMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- FSEOAFCJZZTKFA-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethoxy-1-[1-(4-methylphenyl)sulfonylpyrrol-3-yl]butan-1-one Chemical compound C1=C(C(=O)CCC(OC)OC)C=CN1S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 FSEOAFCJZZTKFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012027 Collins reagent Substances 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- ZKQFHRVKCYFVCN-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;hexane Chemical compound CCOCC.CCCCCC ZKQFHRVKCYFVCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-diol Chemical compound OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NPRDHMWYZHSAHR-UHFFFAOYSA-N pyridine;trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O.C1=CC=NC=C1.C1=CC=NC=C1 NPRDHMWYZHSAHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UUVMVWDDLRKYCB-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methylphenyl)sulfonylindol-4-ol Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)N1C2=CC=CC(O)=C2C=C1 UUVMVWDDLRKYCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HDECRAPHCDXMIJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzenesulfonyl chloride Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(Cl)(=O)=O HDECRAPHCDXMIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=C1 WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODZZAIFAQLODKN-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-1,1-dimethoxypropane Chemical compound COC(OC)CCBr ODZZAIFAQLODKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SSZWWUDQMAHNAQ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CCl SSZWWUDQMAHNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLMQHXUGJIAKTH-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxyindole Chemical class OC1=CC=CC2=C1C=CN2 NLMQHXUGJIAKTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005727 Friedel-Crafts reaction Methods 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N oxalyl chloride Chemical compound ClC(=O)C(Cl)=O CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N oxidanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound O.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- IVDFJHOHABJVEH-UHFFFAOYSA-N pinacol Chemical compound CC(C)(O)C(C)(C)O IVDFJHOHABJVEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000006188 syrup Substances 0.000 description 2
- 235000020357 syrup Nutrition 0.000 description 2
- 125000005147 toluenesulfonyl group Chemical group C=1(C(=CC=CC1)S(=O)(=O)*)C 0.000 description 2
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- JZQKKSLKJUAGIC-NSHDSACASA-N (S)-(-)-pindolol Chemical compound CC(C)NC[C@H](O)COC1=CC=CC2=C1C=CN2 JZQKKSLKJUAGIC-NSHDSACASA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGYGFUAIIOPWQD-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazolidine Chemical class C1CSCN1 OGYGFUAIIOPWQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXWIEWFMRVJGNY-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methylphenyl)sulfonylpyrrole Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)N1C=CC=C1 OXWIEWFMRVJGNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 2,2,5,8-tetramethyl-3,4-dihydrochromen-6-ol Chemical compound C1CC(C)(C)OC2=C1C(C)=C(O)C=C2C MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POXIZPBFFUKMEQ-UHFFFAOYSA-N 2-cyanoethenylideneazanide Chemical class [N-]=C=[C+]C#N POXIZPBFFUKMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZJMTVDTJVSGHF-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobutanoyl chloride Chemical compound CCC(C(Cl)=O)[N+]([O-])=O RZJMTVDTJVSGHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QXTULTGFYDPEKQ-UHFFFAOYSA-N 3-(4-methylphenyl)sulfonyl-1H-pyrrole Chemical compound S(=O)(=O)(C1=CC=C(C)C=C1)C=1C=CNC=1 QXTULTGFYDPEKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 4-toluenesulfonyl chloride Chemical compound CC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010020772 Hypertension Diseases 0.000 description 1
- WRYCSMQKUKOKBP-UHFFFAOYSA-N Imidazolidine Chemical class C1CNCN1 WRYCSMQKUKOKBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- WYNCHZVNFNFDNH-UHFFFAOYSA-N Oxazolidine Chemical class C1COCN1 WYNCHZVNFNFDNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000006859 Swern oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 208000001871 Tachycardia Diseases 0.000 description 1
- DFQNMODTAFTGHS-SECBINFHSA-N [(2r)-2,3-dihydroxypropyl] 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S(=O)(=O)OC[C@H](O)CO)C=C1 DFQNMODTAFTGHS-SECBINFHSA-N 0.000 description 1
- QJJXJVZQHFECBR-UHFFFAOYSA-M [H]C([H])([H])OC([H])(OC([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])[Mg]Br Chemical compound [H]C([H])([H])OC([H])(OC([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])[Mg]Br QJJXJVZQHFECBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004036 acetal group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- ZRBROGSAUIUIJE-UHFFFAOYSA-N azanium;azane;chloride Chemical compound N.[NH4+].[Cl-] ZRBROGSAUIUIJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTEXIPZMMDUXMR-UHFFFAOYSA-N benzene;ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O.C1=CC=CC=C1 RTEXIPZMMDUXMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- MDHYEMXUFSJLGV-UHFFFAOYSA-N beta-phenethyl acetate Natural products CC(=O)OCCC1=CC=CC=C1 MDHYEMXUFSJLGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- PCDHSSHKDZYLLI-UHFFFAOYSA-N butan-1-one Chemical compound CCC[C]=O PCDHSSHKDZYLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 235000008504 concentrate Nutrition 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N diphosphonate Chemical compound O=P(=O)OP(=O)=O YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004252 dithioacetals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 150000002081 enamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000002085 enols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- BHBKJSBTRATHKT-UHFFFAOYSA-N hexane;methyl acetate Chemical compound COC(C)=O.CCCCCC BHBKJSBTRATHKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- URVXBXKKZDMNKO-UHFFFAOYSA-N methanol;nitromethane Chemical compound OC.C[N+]([O-])=O URVXBXKKZDMNKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- BSCHIACBONPEOB-UHFFFAOYSA-N oxolane;hydrate Chemical compound O.C1CCOC1 BSCHIACBONPEOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentoxide Inorganic materials O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000006794 tachycardia Effects 0.000 description 1
- 229940124597 therapeutic agent Drugs 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005424 tosyloxy group Chemical group S(=O)(=O)(C1=CC=C(C)C=C1)O* 0.000 description 1
- GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N triethyl orthoformate Chemical compound CCOC(OCC)OCC GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は各種医薬品の製造に有用
な4−オキソヘプタンジアール誘導体およびその製造方
法;および該4−オキソヘプタンジアール誘導体を用い
たピロール誘導体およびインドール誘導体の製造方法に
関する。 【0002】 【従来の技術】高血圧および頻脈の治療剤として有用な
ピンドロール〔1−(インドール−4−イルオキシ)−
3−(イソプロピルアミノ)プロパン−2−オール〕な
どの4−アルコキシインドール誘導体を得るには、4−
ヒドロキシインドールをアルキル化する方法が用いられ
てきた。しかし、4−ヒドロキシインドールは空気中で
不安定であるため精製が難しいという欠点があった。発
明者らは、ピロールから、次式(D)で示されるピロー
ル誘導体を得、これにR2OH(R2は、炭素数1〜5
のアルキル基、アルキル部分の炭素数が1〜5のアラル
キル基、または炭素数1〜5のヒドロキシアルキル基、
またはR3CH2CH(OH)CH2−であり、R3は
脱離基である)を反応させることにより式(C)で示さ
れるインドール誘導体を得る方法を開発している。R2
OHとして、例えば、ClCH2−CH(OH)CH2
OHを用い、次いでイソプロピルアミンを反応させた後
、脱保護することによりピンドロールが得られる(特願
平2−256050号)。 【0003】 【化29】 【0004】 【化30】 【0005】上記化合物(D)は、例えば、1−トシル
ピロール(トシルはトルエンスルホニル示す)および4
−ニトロ酪酸クロリドをフリーデルクラフト触媒を用い
て反応させ、次いでニトロ基をアセタール基に変換した
後、環化することにより製造され得る。このようにして
、各種医薬品の中間体として有用な上記化合物(C)お
よび(D)を比較的容易に得ることができるようになっ
たが、使用する原料が高価であり、かつ大量生産に不向
きなフリーデルクラフト反応を使用するという欠点があ
る【0006】。 【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の課題を解決するものであり、その目的とするところは
、ピンドロールなどの各種医薬品や工業製品の中間原料
として有用である上記化合物(C)または(D)のよう
なピロール誘導体またはインドール誘導体を、容易に、
かつ安価に製造し得る方法を提供することにある。 【0007】 【課題を解決するための手段】本発明の4−オキソヘプ
タンジアールは、 【0008】 【化31】 【0009】で示される。 【0010】本発明の上記4−オキソヘプタンジアール
の製造方法は、ニトロメタンとアクロレインより得られ
る4−ニトロヘプタンジアールを必要に応じてアルデヒ
ト保護反応に付し、 【0011】 【化32】 【0012】で示される4−ニトロ体を得る工程、およ
び該ニトロ体を過マンガン酸カリウムにより酸化する工
程、を包含する。 【0013】本発明の上記4−オキソヘプタンジアール
の他の製造方法は、 【0014】 【化33】 【0015】で示されるギ酸アルキルエステルと、【0
016】 【化34】 【0017】で示されるグリーニャル試薬とをグリーニ
ャル反応条件下で反応させ、 【0018】 【化35】 【0019】で示される4−ヒドロキシ体を得る工程、
および該4−ヒドロキシ体をクロム酸系酸化剤で酸化す
る工程、を包含する。 【0020】本発明の3−アリールスルホニルアミノメ
チレン−4−オキソヘプタンジアールは、【0021】 【化36】 【0022】で示される。 【0023】本発明の上記3−アリールスルホニルアミ
ノメチレン−4−オキソヘプタンジアールの製造方法は
、 【0024】 【化37】 【0025】で示される4−オキソヘプタンジアールに
、 【0026】 【化38】 【0027】で示されるギ酸アルキルエステルを作用さ
せ、 【0028】 【化39】 【0029】で示される3−ヒドロキシメチレン体を得
る工程、該3−ヒドロキシメチレン体をアミノ化して【
0030】 【化40】 【0031】で示される3−アミノメチレン体を得る工
程、および該3−アミノメチレン体をアリールスルホニ
ルハライドと反応させる工程、を包含する。 【0032】本発明の上記3−アリールスルホニルアミ
ノメチレン−4−オキソヘプタンジアールの他の製造方
法は、 【0033】 【化41】 【0034】で示される4−オキソヘプタンジアールに
、 【0035】 【化42】 【0036】で示される化合物を作用させる工程を包含
する。 【0037】本発明のインドール誘導体の製造方法は、
【0038】 【化43】 【0039】で示される3−アリールスルホニルアミノ
メチレン−4−オキソヘプタンジアールに、酸の存在下
で、R2OH(式中、R2は炭素数1〜5のアルキル、
アルキル部分の炭素数が1〜5のアラルキル、炭素数1
〜5のヒドロキシアルキルまたはR3CH2CH(OH
)CH2−であり、R3は脱離基である)で示されるア
ルコールを作用させ、【0040】 【化44】 【0041】で示されるインドール誘導体を得る工程を
包含する。 【0042】本発明のピロール誘導体の製造方法は、【
0043】 【化45】 【0044】で示される3−アリールスルホニルアミノ
メチレン−4−オキソヘプタンジアールを、酸の存在下
で閉環させ、 【0045】 【化46】 【0046】で示されるピロール誘導体を得る工程を包
含する。 【0047】さらに詳細には、本発明の4─オキソヘプ
タンジアールのアセタール体の製造方法は、(a)ニト
ロメタンとアクロレインより4−ニトロヘプタンジアー
ルを得る工程、(b)該4−ニトロヘプタンジアールを
アセタール化して、4−ニトロヘプタンジアールのアセ
タール体を得る工程、および(c)該4−ニトロヘプタ
ンジアールのアセタール体を過マンガン酸カリウムによ
り酸化し、次式(A)で示される、4−オキソヘプタン
ジアールのアセタール体を得る工程、を包含する。 【0048】 【化47】 【0049】本発明の4−オキソヘプタンジアールのア
セタール体の製造方法は、ギ酸アルキルに、2−ホルミ
ルエチルマグネシウムハライドのアセタール体を作用さ
せて4−ヒドロキシヘプタンジアールのアセタール体を
得る工程、および該4−ヒドロキシヘプタンジアールの
アセタール体をクロム酸系酸化剤により酸化して、上記
式(A)で示される、4−オキソヘプタンジアールのア
セタール体を得る工程、を包含する。 【0050】本発明は、上記式(A)で示される4−オ
キソヘプタンジアールのアセタール体を包含する。 【0051】本発明の3−アリールスルホニルアミノメ
チレン−4─オキソヘプタンジアールのアセタール体の
製造方法は、(a)上記式(A)で示される4−オキソ
ヘプタンジアールのアセタール体をホルミル化し、3−
ヒドロキシメチレン−4−オキソヘプタンジアールのア
セタール体を得る工程、(b)該3−ヒドロキシメチレ
ン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール体をアミ
ノ化することにより、3−アミノメチレン−4−オキソ
ヘプタンジアールのアセタール体を得る工程、および(
c)該3−アミノメチレン−4−オキソヘプタンジアー
ルのアセタール体をアリールスルホン化することにより
、次式(B)で示される3−アリールスルホニルアミノ
メチレン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール体
を得る工程、を包含する。 【0052】 【化48】 【0053】本発明の3−アリールスルホニルアミノメ
チレン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール体の
製造方法は、上記式(A)で示される4−オキソヘプタ
ンジアールのアセタール体に、ジアルキルアミノメチリ
デンアリールスルホンアミドを作用させて、上記式(B
)で示される、3−アリールスルホニルアミノメチレン
−4−オキソヘプタンジアールのアセタールを得る工程
を包含する。 【0054】本発明は、上記式(B)で示される3−ア
リールスルホニルアミノメチレン4−オキソヘプタンジ
アールのアセタール体を包含する。 【0055】本発明のインドール誘導体の製造方法は、
上記式(B)で示される3−アリールスルホニルアミノ
メチレン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール体
に酸の存在下でR2OH(R2は炭素数1〜5のアルキ
ル、アルキル部分の炭素数が1〜5のアラルキル、また
は炭素数1〜5のヒドロキシアルキル、またはR3CH
2CH(OH)CH2−であり、R3は脱離基である)
を作用させて、次式(C)で示されるインドール誘導体
を得る工程を包含する。 【0056】 【化49】 【0057】本発明のピロール誘導体の製造方法は、上
記式(B)で示される3−アリールスルホニルアミノメ
チレン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール体を
酸の存在下で閉環させて、上記式(D)で示される4−
オキソ−4−(1−アリールスルホニル−3−ピロリル
)ブタナールまたはそのアセタール誘導体を得る工程を
包含する。 【0058】本明細書において、炭素数1〜5のアルキ
ル基とは、炭素数が1〜5個であって直鎖状または分枝
鎖状のアルキル基である。その例としては、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、イ
ソペンチルなどが挙げられる。 【0059】置換フェニル基とは炭素数1〜5のアルキ
ル、炭素数1〜5のアルコキシなどで置換されたフェニ
ルを意味し、そのような置換フェニルの例としては、ト
リル、4−メトキシフェニルなどが挙げられる。 【0060】アルキル部分の炭素数が1〜5のアラルキ
ル基とは、アリール基で置換された炭素数1〜5のアル
キル基を意味し、そのような基の例としては、ベンジル
、フェネチルなどが挙げられる。 【0061】炭素数1〜5のヒドロキシアルキル基とは
、炭素数1〜5のアルキル基の水素が水酸基で置換され
ている基であって、そのような基の例としては、ヒドロ
キシエチル、ヒドロキシプロピルなどが挙げられる。 【0062】脱離基とは、化合物の反応性の基を保護す
る基であり、該化合物の反応に影響を与えず、かつ反応
後に容易に脱離して所望の化合物を与える基である。そ
のような基の例としては、トシルオキシ基またはハロゲ
ン原子(例えば、塩素、臭素、ヨウ素など)が挙げられ
る。 【0063】本発明の4−オキソヘプタンジアール誘導
体である新規化合物(A)および(B)の調製、および
化合物(B)から、各種インドール誘導体の原料となり
うる化合物(C)および(D)を調製するためのスキー
ムを次に示す。 【0064】 【化50】 【0065】上記化合物(A)、(B)、(C)および
(D)の調製を次に説明する。 【0066】(1)4−オキソヘプタンジアールのアセ
タール体(A)の調製 ■ニトロメタンからの調製 【0067】 【化51】 【0068】ニトロメタン(I)に、アルカリの存在下
でアクロレインを作用させると、4−ニトロヘプタンジ
アール(IIa)が生成する。例えば、ニトロメタン(
I)のアルコール性水酸化カリウム溶液にアクロレイン
を徐々に加える。このようにして生成した4−ニトロヘ
プタンジアールを精製することも可能であるが、通常、
精製されることなく引き続いて常法に従い、各種誘導体
に導かれ、アルデヒド基の保護が行われる。例えば、ア
ルデヒドは、アセタール、ヘミチオアセタール基、ジチ
オアセタール、エノール、エナミン、セミカルバゾンオ
キシム、置換ヒドラゾン、シアノホドリン、シッフ塩、
オキサゾリジン、チアゾリジン、イミダゾリジン、また
はジシアノメチレン誘導体などとされる。好ましくはア
セタール、より好ましくはジアルキルアセタールに導い
て保護される。特に、4−ニトロヘプタンジアールジア
ルキルアセタールに導いてアルデヒド基を保護するのが
最も好ましい。例えば、この4−ニトロヘプタンジアー
ルに塩化アンモニウムの存在下でオルトギ酸トリアルキ
ル(オルトギ酸トリメチルまたはオルトギ酸トリエチル
など)を作用させることまたはアルコール(メタノール
、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ペン
タノール、エチレングリコール、プロピレングリコール
、トリメチレングリコール、ピナコール、ベンジルアル
コール、フェネチルアルコール、アリルアルコールなど
)を作用させることなどにより、上記式(IIb)で示
される4−ニトロヘプタンジアールのアセタール体が得
られる。4−ニトロヘプタンジアールのアセタール体は
カラムクロマトグラフィーなどにより単離・精製され得
、あるいは、そのまま次の反応に供される。 【0069】次いで、この4─ニトロヘプタンジアール
のアセタール体(IIb)を酸化することにより、上記
式(A)で示される4−オキソヘプタンジアールのアセ
タール体が得られる。酸化反応は、例えば、水酸化カリ
ウムおよび硫酸マグネシウムの存在下で過マンガン酸カ
リウムを作用させることにより行われる。 【0070】■ギ酸アルキルからの調製【0071】 【化52】 【0072】まず、ギ酸アルキル(III)とホルミル
が保護されていてもよい2−ホルミルエチルマグネシウ
ムハライド〔例えば、3,3−ジメトキシプロピルマグ
ネシウムブロマイドを得(J.Chem.Soc.Pe
rkin I,1979,2550)〕をグリーニャ
ル反応の常法に従い反応させることにより、4−ヒドロ
キシヘプタンジアールのアセタール体(IV)が得られ
る。上記グリーニャル試薬と、ギ酸メチル(3)とを反
応させることにより、4−ヒドロキシヘプタンジアール
のアセタール体(4)が得られる。4−ヒドロキシヘプ
タンジアールのアセタール体(IV)は、蒸留により分
解するので、通常、カラムクロトマトグラフィーにより
精製される。あるいは、単離・精製することなく次の反
応に供される。 【0073】次いで、4−ヒドロキシヘプタンジアール
のアセタール体(IV)をクロム酸系の酸化剤で酸化す
ることにより、上記式(A)で示される4−オキソヘプ
タンジアールのアセタール体が得られる。クロム酸系酸
化剤としては、例えば、上記式CrO3・Py2(Py
はピリジンを示す)で示されているコリンズ試薬(Te
trahedron Lett.,1968,33
63)が好適に利用される。 【0074】(2) 3−アリールスルホニルアミノメ
チレン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール体の
調製■第1の方法 【0075】 【化53】 【0076】4−オキソヘプタンジアールのアセタール
体(A)をホルミル化することにより3─ホルミル−4
−オキソヘプタンジアールのアセタール体(Va)およ
び3−ヒドロキシメチレン−4−オキソヘプタンジアー
ルのアセタール体(Vb)が生成する。これらの化合物
(Va)および(Vb)は、ケト−エノール互変異性体
として存在する。例えば、4−オキソヘプタンジアール
テトラメチルアセタール(A−1)を水素化ナトリウム
と反応させ、次いでギ酸メチルを作用させることにより
、3−ヒドロキシメチレン−4−オキソヘプタンジアー
ルテトラメチルアセタール(5b)および3−ホルミル
−4−オキソヘプタンジアールテトラメチルアセタール
(5a)の混合物(混合比約5:2)が得られる。次い
で、(Va)および(Vb)をアミノ化することにより
、上記式(VI)で示される3−アミノメチレン−4−
オキソヘプタンジアールのアセタール体が得られる、例
えば、上記(5a)および(5b)の混合物をアンモニ
ア性アルコール中でアミノ化すると、3−アミノメチレ
ン−4−オキソヘプタンジアールテトラメチルアセター
ル(6)が生成する。 上記反応において化合物(Va)、(Vb)、および(
VI)は、それぞれカラムクロマトグラフィーなどによ
り精製され得、あるいは、単離・精製することなく次の
反応に供される。 【0077】次に、化合物(VI)をアリールスルホン
化することにより、上記式(B)で示される3−アリー
ルスルホニルアミノメチレン−4−オキソヘプタンジア
ールのアセタール体が得られる。例えば、化合物(6)
にトルエンスルホニルクロリドを作用させることにより
、3−トルエンスルホニルアミノメチレン−4−オキソ
ヘプタンジアールテトラメチルアセタール(B−1)が
得られる。化合物(B)は、カラムクロマトグラフィー
、適当な溶媒を用いた再結晶などにより精製され得る。 【0078】■第2の方法 【0079】 【化54】 【0080】4−オキソヘプタンジアールのアセタール
体(A)にジアルキルアミノメチリデンアリールスルホ
ンアミド(VII)を作用させると、縮合反応により上
記式(B)で示される3−アリールスルホニルアミノメ
チレン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール体が
得られる。例えば、4−オキソヘプタンジアールテトラ
メチルアセタール(A−1)にメチルアミノメチリデン
トルエンスルホンアミド(7)〔Chem.Ber.,
97,483(1964)〕を作用させることにより、
3−トルエンスルホニルアミノメチレン−4−オキソヘ
プタンジアールテトラメチルアセタール(B−1)が生
成する。化合物(VII)はアリールスルホンアミドに
チオニルハライドを作用させてArSO2−N=S=O
を得、次いで、ジアルキルホルムアミドと反応させるこ
とにより得られる。 【0081】(3)インドール誘導体の調製【0082
】 【化55】 【0083】3−アリールスルホニルアミノメチレン−
4−オキソヘプタンジアールのアセタール体(B)に脱
水力の強い酸(例えば硫酸、P−トルエンスルホン酸な
ど)の存在下でR2OHを好ましくは脱水反応条件下作
用させることにより、上記式(C)で示されるインドー
ル誘導体が得られる。例えば、硫酸の存在下で、1,3
−プロパンジオールを作用させると、次式(Ca)で示
される3−(1−アリールスルホニル−4−インドリル
オキシ)プロパン−1−オールが得られる。3−クロロ
−1,2−プロパンジオールを作用させると、次式(C
b)で示される1−クロロ−3−(1−アリールスルホ
ニル−4−インドリルオキシ)プロパン−2−オールが
得られ、さらに副生成物として、次式(Cc)で示され
る化合物が得られる。 【0084】 【化56】 【0085】(4)ピロール誘導体の調製【0086】 【化57】 【0087】 【化58】 【0088】3−アリールスルホニルアミノメチレン−
4−オキソヘプタンジアールのアセタール体(B)に酸
(例えば、塩酸、酢酸、P−トルエンスルホン酸) を
作用させて水を含む反応系で閉環させると、4−オキソ
−4−(1−アリールスルホニル−3−ピロリル)ブタ
ナール(D)または、そのアセタール誘導体が得られる
。例えば、3−トルエンスルホニルアミノメチレン−4
−オキソヘプタンジアールテトラメチルアセタール(B
−1)を、2.5%の塩酸を含有するテトラヒドロフラ
ン水溶液(THF:水=1:1)中で加熱することによ
り、4−オキソ−4−(1−トシル−3−ピロリル)ブ
タナール(D−1)が得られる。酢酸中で加熱すること
によっても(D−1)が得られる。アルコール中でp−
トルエンスルホン酸を作用させると、上式で示される4
,4−ジアルコキシ−1−(1−トシル−3−ピロリル
)ブタン−1−オンが得られる。例えば、メタノール中
でp−トルエンスルホン酸を作用させることにより、4
,4−ジメトキシ−1−(1−トシル−3−ピロリル)
ブタン−1−オン(D−2)が得られる。 【0089】上記本発明の化合物(B)から得られるイ
ンドール誘導体(C)およびピロール誘導体(D)は、
医薬品、医薬品原料、またはその他の工業原料として有
用な種々の化合物に誘導され得る。その例を以下に参考
例として示す。 【0090】■(±)−ピンドロールの調製【0091
】 【化59】 【0092】1−クロロ−3−(1−トシル−4−イン
ドリルオキシ)プロパン−2−オール(C−2)に、イ
ソプロピルアミン存在下でアルカリ水溶液を作用させた
後、脱保護させることにより、上記式で示されるピンド
ロール〔1−(インドール−4−イルオキシ)−3−(
イソプロピルアミノ)プロパン−2−オール〕が得られ
る。 【0093】■4−ヒドロキシ−1−トシルインドール
の調製 【0094】 【化60】 【0095】3−(1−トシル−4−インドリルオキシ
)プロパン−1−オール(C−1)にジメチルスルホキ
シド−シュウ酸クロリドを作用させて(Swern酸化
)ヒドロキシプロピル基を除くことにより、上記式で示
される4−ヒドロキシ−1−トシルインドールが得られ
る。 【0096】■ピロール誘導体からインドール誘導体の
調製 【0097】 【化61】 【0098】4−オキソ−4−(1−トシル−3−ピロ
リル)ブタナール(D−1)に触媒量H2SO4の存在
下で(R)−3−トシルオキシ−1,2−プロパンジオ
ールを作用させ、上記4−アルコキシインドール誘導体
を得た後、前記(±)−ピンドロールの調製と同様にア
ミノ化、脱保護反応に付すことにより上記(−)−ピン
ドロールを得ることができる。 【0099】以下に実施例を示し、本発明をさらに詳し
く説明するが、本発明は、これらの実施例に限定される
ものではない。 【0100】 【実施例】(実施例1)(ニトロメタンからの4−オキ
ソヘプタンジアールテトラメチルアセタール(A−1)
の調製) (i)段階的調製法 工程A 【0101】 【化62】 【0102】ニトロメタン1 616mg(0.01
0モル)のメタノール(8ml)溶液に、水酸化カリウ
ム粉末144mg(0.25当量)を加え、−20℃で
撹拌する。5分後に市販のアクロレイン1.635g(
2.31当量)のメタノール(15ml)溶液を1時間
かけゆっくりと滴下し、さらに30分間撹拌を続ける。 反応溶液にクエン酸を加え、pH4とし食塩を加えて塩
析した後、ジクロロメタンにて抽出する。有機層を飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧に
て濃縮する。残渣1.747gおよびオルトギ酸メチル
3mlのメタノール(3ml)溶液に、塩化アンモニウ
ム191mg(0.35当量)を加え、室温にて14時
間撹拌する。反応溶液に水を添加し、ジクロロメタンに
て抽出後、有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧にて溶媒を留去する。得られた残渣2.381
gをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付す。 ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出し、無色の油状
物(4−ニトロヘプタンジアールテトラメチルアセター
ル)(2b)1479mg(収率55%)を得る。 【0103】質量分析 m/z:265(M+)赤外
吸収スペクトル(neat)νmax:1557cm−
1 1H−NMR(90MHz、CDCl3)δ:1.43
〜2.27(8H、m)、3.30(12H、s)、4
.32(2H、t、J=5.5Hz)、4.32〜4.
67(1H、m)。 【0104】工程B 【0105】 【化63】 【0106】次に、上記4−ニトロヘプタンジアールテ
トラメチルアセタール(2b)1.340g(0.00
5モル)のメタノール(10ml)溶液に水酸化カリウ
ム粉末352mg(1.05当量)を加え、氷冷下撹拌
する。25分後に過マンガン酸カリウム541mg(0
.68当量)と硫酸マグネシウム503mg(0.83
当量)の水溶液(15ml)を30分かけて滴下する。 これをさらに氷冷下にて30分間撹拌する。反応溶液に
飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、沈澱物を溶解
させた後、クエン酸を加えてpH4とし、ジクロロメタ
ンにて抽出する。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、減圧濃縮する。残渣1.355gをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エ
チル(2:1)溶出画分より無色油状物〔4−オキソヘ
プタンジアールテトラメチルアセタール(A−1)〕1
065mg(収率90%)を得る。 【0107】形態:無色油状 沸点:120〜124℃/1mmHg 質量分析 m/z:234(M+) 赤外吸収スペクトル(neat)νmax:1720c
m−1 1H−NMR(90MHz,CDCl3)δ:1.86
(4H,dt,J=5.5,7Hz),2.47(4H
,t,J=7Hz),3.33(12H,s),4.3
2(2H,t,J=5.5Hz)。 【0108】(ii)連続反応による調製法市販の50
%ニトロメタン−メタノール溶液10.749g(0.
10モル)のメタノール(100ml)溶液に、−20
℃にて撹拌しつつ、水酸化カリウム粉末728mg(0
.110当量)を加え、20分後に蒸留直後のアクロレ
イン17.077g(3.049当量)のメタノール(
100ml)溶液を、−20℃にて1時間かけて滴下し
、さらに1時間撹拌する。酢酸751mg(0.125
当量)のメタノール(10ml)溶液を添加したのち、
減圧にてメタノールを留去し約30mlまで濃縮する。 濃縮液に飽和食塩水を加え、酢酸エチル200mlで2
回抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムにて乾燥し、減圧濃縮する。残渣23gとオル
トギ酸トリメチル25mlのメタノール(25ml)溶
液に塩化アンモニウム703mg(0.131当量)を
添加し室温にて14時間撹拌する。反応液に飽和食塩水
100mlを加え、酢酸エチル200mlで2回抽出す
る。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、
粗製の4−ニトロヘプタンジアールテトラメチルアセタ
ール(2b)を27.719g得る。 【0109】上記粗製4−ニトロヘプタンジアールテト
ラメチルアセタール(2b)27.719gのメタノー
ル(100ml)溶液に、氷冷下で水酸化カリウム粉末
7.281g(1. 103当量)を添加し、30分間
撹拌する。次に反応溶液中に、過マンガン酸カリウム7
.912g(0.501当量)と硫酸マグネシウム7.
577g(0.631当量)の水溶液(150ml)を
1時間かけて滴下し、さらに30分間氷冷下で撹拌する
。 セライト40g、酢酸エチル300mlを順次加えて1
0分間撹拌した後、濾過する。濾過物を酢酸エチル(2
00ml)で洗浄し、濾液に合する。濾液の酢酸エチル
層を分取した後、水層に食塩を加え酢酸エチル200m
lにて2回抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無
水硫酸ナトリウムにて乾燥する。溶媒を減圧留去し、残
渣を減圧蒸留に付す。 【0110】124〜129°/2mmHgにて11.
402g、さらに初留および後留部より122〜125
°/1mmHgにて0.839g、計12.241g(
収率52%)の4−オキソヘプタンジアールテトラメチ
ルアセタール(A−1)を無色油状物として得る。 【0111】(実施例2)(ギ酸メチルからの4−オキ
ソヘプタンジアールテトラメチルアセタール(A−1)
の調製) (i)段階的調製法 工程A 【0112】 【化64】 【0113】カール状マグネシウム1.449g(3.
30当量)の無水テトラヒドロフラン(30ml)懸濁
液に3−ブロモプロパナールジメチルアセタール11.
028g(3.34当量)のテトラヒドロフラン(15
ml)溶液を30分かけて滴下し、滴下後さらに1時間
20分室温にて撹拌する。調製されたグリニヤール試薬
に、氷冷下でギ酸メチル(3)1.081g(0.01
8モル)のテトラヒドロフラン(5ml)溶液を添加し
、室温にて30分撹拌する。氷冷下で飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加え、テトラヒドロフラン層を分取し、水
層をジクロロメタンで抽出する。有機層を飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧濃縮する
。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付す。 ヘキサン−酢酸エチル(1:1)にて溶出し、無色油状
の4−ヒドロキシヘプタンジアールテトラメチルアセタ
ール(4)を4.116g(収率97%)得る。 【0114】質量分析m/z:173(M+−MeOH
−OMe )赤外吸収スペクトル(neat)νmax
:3470cm−1 1H−NMR(90MHz,CDCl3)δ:1.30
〜1.97(8H,m),2.93(1H,brs,O
H),3.30(6H,s),3.34(6H,s),
3.45〜3.75(1H,m),4.34(2H,t
,J=5Hz)。 【0115】工程B 【0116】 【化65】 【0117】4−ヒドロキシヘプタンジアールテトラメ
チルアセタール(4)154mg(0.65ミリモル)
の無水ジクロロメタン(15ml)溶液に、コリンズ試
薬(CrO3Py2;Tetrahedron Le
tt,1968,3363)1.343g(8.0当量
)を加え、30分間撹拌する。これに5%水酸化ナトリ
ウム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出する。有機層
を、飽和硫酸銅水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
および水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムにて乾
燥し減圧下で溶媒を留去する。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付す。ヘキサン−酢酸エチル(
1:1)にて溶出し無色油状の4−オキソヘプタンジア
ールテトラメチルアセタール(A−1)140mg(収
率92%)を得る。(ii)連続反応による調製法【0
118】 【化66】 【0119】カール状マグネシウム7.221g(3.
01当量)の無水テトラヒドロフラン(150ml)懸
濁液に、3−ブロモプロパナールジメチルアセタール5
5.711g(3.04当量)の無水テトラヒドロフラ
ン(100ml)溶液を撹拌下、1時間15分かけて滴
下し、さらに1時間撹拌を続け、グリニヤール試薬を調
製する。氷冷下で、グリニヤール試薬中へギ酸メチル(
3)6.007g(0.10モル)の無水テトラヒドロ
フラン(50ml)溶液を滴下し、滴下終了後室温にて
1時間撹拌する。これに氷冷下で飽和塩化アンモニウム
水溶液50mlを加えて分液し、テトラヒドロフラン層
を飽和食塩水で洗浄する。水層と上記食塩水層とを合し
酢酸エチル200mlで2回抽出する。有機層を飽和食
塩水で洗浄した後、上記テトラヒドロフラン層と合し、
無水硫酸ナトリウムにて乾燥する。各々溶媒を減圧留去
し、32.080gの粗4−ヒドロキシヘプタンジアー
ルテトラメチルアセタール(4)を得る。これを精製す
ることなく次の酸化反応に供する。氷冷下、コリンズ試
薬169g(6.55当量)と無水ジクロロメタン1.
5Lとの溶液に、上記粗製中間体(4)32.080g
の無水ジクロロメタン(100ml)溶液を加え、30
分撹拌する。傾瀉にて沈澱物を除いた層を2%水酸化ナ
トリウム200mlで2回、飽和硫酸銅水溶液200m
lで2回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水にて
順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。有機層を
減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留に付す。120〜124℃
/1mmHgにて17.099g、初留部よりさらに1
23〜126℃/2mmHgにて0.891g、計17
.990g(収率77%)の4−オキソヘプタンジアー
ルテトラメチルアセタール(A−1)を無色抽状物とし
て得る。 【0120】(実施例3)3−トシルアミノメチレン−
4−オキソヘプタンジアールテトラメチルアセタール(
B−1)の調製 ■調製法1 (i)段階的調製法 工程A 【0121】 【化67】 【0122】4−オキソヘプタンジアールテトラメチル
アセタール(A−1)471mg(2.0ミリモル)と
無水ジメチルホルムアミド(3ml)無水ベンゼン(6
ml)の溶液に、60%水素化ナトリウム98mg(1
.22当量)を添加する。室温で撹拌しながら、ギ酸メ
チル0.50ml(4当量)を滴下し、14時間撹拌す
る。反応液の溶媒を減圧下で留去後、飽和食塩水を加え
、クエン酸にてpH4とする。ジクロロメタンにて抽出
し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
にて乾燥する。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付す。ヘキサン−酢酸エチル(1
:1)にて溶出し、不安定な淡黄色シロップ状の3−ホ
ルミル−4−オキソヘプタンジアールテトラメチルアセ
タール(5a)および3−ヒドロキシメチレン−4−オ
キソヘプタンジアールテトラメチルアセタール(5b)
の混合物460mg(収率87%)を得る。 【0123】質量分析m/z:230(M+−MeOH
) 赤外吸収スペクトル(CHCl3)νmax:3300
、1712、1642(sh)、1626 cm−1
1H−NMR(90MHz,CDCl3)δ:3.26
,3.30,3.34,3.39および3.44(2H
,s,each),4.17〜4.48(2H,m),
7.95(brd,J=5.5Hz,D2O添加により
s),9.54(d,J=2Hz),〔7.95および
9.54のシグナル(5:2)は併せて1Hに相当する
〕。 【0124】上記NMRスペクトルにおいて、7.95
は化合物(5b)によるピークであり、9.54は(5
a)によるピークである。(5b):(5a)のNMR
上の比はおよそ5:2である。 【0125】工程B 【0126】 【化68】 【0127】上記化合物(5a)および(5b)の混合
物423mg(1.6ミリモル)と塩化アンモニウム1
17mg(1.35当量)のメタノール(3ml)懸濁
液に、氷冷下でアンモニアガスを導入し、飽和後、密栓
して室温にて48時間撹拌する。これに飽和食塩水に加
え、10%メタノール含有ジクロロメタンで抽出する。 有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて
乾燥した後、溶媒を減圧留去する。残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、ベンゼン−酢酸エチ
ル(1:1)溶出画分より無色シロップ状の3−アミノ
メチレン−4−オキソヘプタンジアールテトラメチルア
セタール(6)318mg(収率75.5%)を得る。 【0128】質量分析m/z:261(M+)赤外吸収
スペクトル(CHCl3)νmax:3520、340
0、1650、1620、1595cm−11H−NM
R(90MHz,CDCl3)δ:1.77〜2.07
(2H,m),2.37〜2.77(4H,m),3.
33(6H,s),3.39(6H,s)4.20(1
H,t,J=5Hz),4.34(1H,t,J=5.
5Hz),5.12(2H,brd,J=10.5Hz
,NH2),6.74および7.51(1H,t e
ach,J=10.5Hz)。 【0129】工程C 【0130】 【化69】 【0131】アミノ中間体である3−アミノメチレン−
4−オキソヘプタンジアールテトラメチルアセタール(
6)180mg(0.7ミリモル)の無水テトラヒドロ
フラン(3ml)と無水ジメチルホルムアミド(0.3
ml)溶液に、60%水素化ナトリウム50mg(1.
81当量)を加え、室温で撹拌する。10分後に、p−
トルエンスルホン酸クロリド161mg(1.22当量
)を添加し、室温で1時間撹拌する。氷冷後、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出す
る。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。 減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付す。ヘキサン−酢酸エチル(1:1)に
て溶出後、エーテル−ヘキサンより再結晶し、無色プリ
ズム晶として、3−トシルアミノメチレン−4−オキソ
ヘプタンジアールテトラメチルアセタール(B−1)1
86mg(収率65%)を得る。 【0132】融点:79〜80.5℃ 元素分析値(C19H29NO7S)として理論値(%
):C,54.92;H,7.04;N,3.37 実測値(%):C,54.69;H,6.97;N,3
.47 赤外吸収スペクトル(KBr)νmaX:3180,1
658(sh),1640cm−1 1H−NMR(90MHz,CDCl3) δ:1.9
1(2H,dt,J=5.5,7Hz).2.42(3
H,s),2.50〜2.80(4H,m),3.28
(6H,s),3.34(6H,s),4.14(1H
,t,J=4.5Hz),4.38(1H,t,J=5
.5Hz),7.33および7.77(A2B2,J=
8.5Hz),6.91および7.56(1H,d
each,J=10.5Hz),8.60(1H,br
d,J=10.5Hz,NH)。 【0133】(ii)連続反応による調製法【0134
】 【化70】 【0135】60%水素化ナトリウム373mg(2.
01当量)を、無水ベンゼン10mlにて洗浄後、ジメ
チルホルムアミド7mlに懸濁し、4−オキソヘプタン
ジアールテトラメチルアセタール(A−1)1.083
g(4.6ミリモル)およびギ酸メチル1.00ml(
3.5当量)を含むベンゼン(3ml)溶液を滴下し、
室温にて16時間撹拌する。50℃以下で減圧下溶媒を
留去する。残留物のメタノール(9ml)溶液に塩化ア
ンモニウム612mg(2.46当量)を加え、室温で
10分撹拌する。これを氷冷し、アンモニアガスを導入
しアンモニア飽和溶液とする。この反応溶液を密栓し、
室温にて30時間撹拌する。飽和食塩水を加え10%メ
タノール含有ジクロロメタンで抽出する。有機層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、残渣
を五酸化リン上、減圧下で乾燥する。 【0136】60%水素化ナトリウム279mg(1.
50当量)のベンゼン(5ml)とジメチルホルムアミ
ド(2ml)懸濁液に上記残渣のベンゼン(10ml)
溶液を滴下し、5分間撹拌した後、氷冷下でp−トルエ
ンスルホン酸クロリド890mg(1.01当量)を加
え、室温にて1時間撹拌する。氷冷後、水を加えベンゼ
ンにて抽出する。有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウム
にて乾燥し、減圧濃縮する。残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(1
:1)にて溶出後、エーテル−ヘキサンより再結晶して
、1047mg(収率54%)の3−トシルアミノメチ
レン−4−オキソヘプタンジアールテトラメチルアセタ
ール(B−1)を無色プリズム晶として得る。融点78
〜80℃。 【0137】■調製法2 【0138】 【化71】 【0139】4−オキソヘプタンジアールテトラメチル
アセタール(A−1)1.177g(5ミリモル)の無
水ベンゼン(5ml)と、無水ジメチルホルムアミド(
10ml)に、60%水素化ナトリム403mg(2.
01当量)を加え、室温で5分間撹拌後、ジメチルアミ
ノメチリデントルエンスルホンアミド(7)(Chem
.Ber.97, 483 (1964))2.273
g(2.00当量)を加え、室温にて14時間撹拌する
。減圧下、50℃以下で溶媒を留去し、残渣に飽和塩化
アンモニウム水溶液および食塩を加え、酢酸エチルにて
抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄後無水硫酸ナトリ
ムで乾燥し、減圧濃縮する。残留物にヘキサン−酢酸エ
チル(2:1)30mlを加え、沈澱部と溶液部に分け
る。沈澱部より上記化合物(7)446mgを回収する
。溶液部をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
、ヘキサン−酢酸エチル(1:1)溶出画分をエーテル
−ヘキサンで再結晶し、3−トシルアミノメチレン−4
−オキソヘプタンジアールテトラメチルアセタール(B
−1)1.556g(収率75%)を無色プリズム晶と
して得る。さらに酢酸エチル溶出画物より化合物(7)
201mgを回収する。 【0140】(実施例3) (インドール誘導体(C)の調製)■3−(1−トシル
−4−インドリルオキシ)プロパン−1−オール(C−
1)の合成 【0141】 【化72】 【0142】3−トシルアミノメチレン−4−オキソヘ
プタンジアールテトラメチルアセタール(B−1)20
8mg(0.50ミリモル)、1,3−プロパンジオー
ル0.50ml(13当量)、および95%硫酸23m
g(0.45当量)を含む1,2−ジクロロエタン(1
3ml)懸濁液を、ディーンスターク装置を使い、水を
除去しつつ4時間加熱還流する。冷却後、飽和炭酸水素
ナトリム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出する。有
機層を水洗し、無水硫酸ナトリムで乾燥した後、減圧下
溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付す。ヘキサン−酢酸メチル(7:4)で溶出
し、無色油状の3−(1−トシル−4−インドリルオキ
シ)プロパン−1−オール(C−1)134mg(収率
77.5%)を得る。 【0143】質量分析m/z:345(M+)1H−N
MR(90MHz,CDCl3)δ:1.98(2H,
tt,J=6,6Hz),1.98〜2.40(1H,
brs.OH),2.21(3H,S),3.78(2
H,t,J=6Hz),4.09(2H,t,J=6H
z),6.55(1H,d,J=8Hz),6.68(
1H,d,J=4Hz),7.07および7.66(A
2B2,J=8Hz),7.12(1H,dd,J=8
.8Hz),7.38(1H,d,J=4Hz),7.
54(1H,d,J=8Hz)。 【0144】■1−クロロ−3−(1−トシル−4−イ
ンドリルオキシ)プロパン−2−オール(C−2)の合
成 【0145】 【化73】 【0146】3−トシルアミノメチレン−4−オキソヘ
プタンジアールテトラメチルアセタール(B−1)10
1mg(0.24ミリモル)、3−クロロ−1,2−プ
ロパンジオール209mg(10当量)および95%H
2SO425mg(1当量)のジクロロメタン(5ml
)懸濁液を、ディーンスターク装置を用い、水を除去し
つつ、2時間加熱還流する。冷却後、飽和炭酸水素ナト
リム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出し、有機層を
水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧濃縮し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付す。ヘキサ
ン−酢酸エチル(9:2)で溶出すると、先に流出する
無色油状物61mg(収率66%)が上記の化合物(C
−2)である。さらに副生成物として化合物(C−3)
6mg(収率6.5%)を無色油状物として得る。 【0147】化合物(C−2)の機器分析データ質量分
析m/z:379および381(M+)赤外吸収スペク
トル(CHCl3中)νmax:3600cm−1 1H−NMR(90MHz,CDCl3)δ:2.24
(3H,s),2.81(1H,brs,OH),3.
52〜3.88(2H,m),3.99〜4.31(2
H,m),6.56(1H,d,J=8Hz),6.6
8(1H,d,J=4Hz),7.09および7.66
(A2B2,J=8.5Hz),7.14(1H,dd
,J=8,8Hz),7.40(1H,d,J=4Hz
),7.57(1H,d,J=8Hz)。 【0148】(実施例4) (ピロール誘導体(D)の調製)■4−オキソ−4−(
1−トシル−3−ピロリル)ブタナール(D−1)の合
成 【0149】 【化74】 【0150】3−トシルアミノメチレン−4−オキソヘ
プタンジアールテトラメチルアセタール(B−1)83
0mg(2.0ミリモル)を、2.5%塩酸含有テトラ
ヒドロフラン−水(1:1)溶液(12ml)に溶解さ
せ、70℃にて30分間加熱撹拌する。冷却後、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液を添加し、酢酸エチルで抽出す
る。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後
、溶媒を減圧留去して残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付す。ヘキサン−酢酸エチル(1:1)で
溶出し、無色シロップ状の化合物(D−1)を571m
g(収率94%)得る。 【0151】質量分析m/z:305(M+)赤外吸収
スペクトル(CHCl3)νmax:1722,167
9cm−1 1H−NMR(90MHz,CDCl3)δ:2.38
(3H,s),2.66〜2.93(2H,m),2.
93〜3.21(2H,m),6.62(1H,dd,
J=3,1.5Hz),7.10(1H,dd,J=3
,2Hz),7.28および7.76(A2B2,J=
8Hz),7.77(1H,dd,J=2,1.5Hz
),9.78(1H,s)。 【0152】■4,4−ジメトキシ−1−(1−トシル
−3−ピロリル)ブタン−1−オン(D−2)の合成【
0153】 【化75】 【0154】3−トシルアミノメチレン−4−オキソヘ
プタンジアールテトラメチルアセタール(B−1)21
2mg(0.51ミリモル)の無水メタノール(5ml
)溶液に、p−トルエンスルホン酸1水和物57mg(
0.59当量)を添加し、70℃にて20分間加熱撹拌
する。冷却後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え酢
酸エチルで抽出する。有機層を水洗後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧濃縮する。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(
3:2)溶出画分より無色シロップ状の4,4−ジメト
キシ−1−(1−トシル−3−ピロリル)ブタン−1−
オン(D−2)を150mg(収率83.5%)得る。 【0155】質量分析m/z:351(M+)赤外吸収
スペクトル(CHCl3)νmax:1679cm−1 1H−NMR(90MHz,CDCl3)δ:1.97
(2H,dt,J=5.5,7Hz),2.37(3H
,s),2.81(2H,t,J=7Hz),3.30
(6H,s),4.39(1H,t,J=5.5Hz)
,6.64(1H,dd,J=3,1.5Hz),7.
11(1H,dd,J=3,2Hz),7.27および
7.77(A2B2,J=8.5Hz),7.74(1
H,dd,J=2,1.5Hz)。 【0156】 【発明の効果】本発明によれば、このように、各種医薬
品の製造に有用な4−オキソヘプタンジアール誘導体お
よびその製造方法が提供される。この4−オキソヘプタ
ンジアール誘導体は、本発明方法によりピロール誘導体
およびインドール誘導体に誘導され得、さらにピンドロ
ールなどの各種医薬品、または工業原料などが容易に製
造され得る。
な4−オキソヘプタンジアール誘導体およびその製造方
法;および該4−オキソヘプタンジアール誘導体を用い
たピロール誘導体およびインドール誘導体の製造方法に
関する。 【0002】 【従来の技術】高血圧および頻脈の治療剤として有用な
ピンドロール〔1−(インドール−4−イルオキシ)−
3−(イソプロピルアミノ)プロパン−2−オール〕な
どの4−アルコキシインドール誘導体を得るには、4−
ヒドロキシインドールをアルキル化する方法が用いられ
てきた。しかし、4−ヒドロキシインドールは空気中で
不安定であるため精製が難しいという欠点があった。発
明者らは、ピロールから、次式(D)で示されるピロー
ル誘導体を得、これにR2OH(R2は、炭素数1〜5
のアルキル基、アルキル部分の炭素数が1〜5のアラル
キル基、または炭素数1〜5のヒドロキシアルキル基、
またはR3CH2CH(OH)CH2−であり、R3は
脱離基である)を反応させることにより式(C)で示さ
れるインドール誘導体を得る方法を開発している。R2
OHとして、例えば、ClCH2−CH(OH)CH2
OHを用い、次いでイソプロピルアミンを反応させた後
、脱保護することによりピンドロールが得られる(特願
平2−256050号)。 【0003】 【化29】 【0004】 【化30】 【0005】上記化合物(D)は、例えば、1−トシル
ピロール(トシルはトルエンスルホニル示す)および4
−ニトロ酪酸クロリドをフリーデルクラフト触媒を用い
て反応させ、次いでニトロ基をアセタール基に変換した
後、環化することにより製造され得る。このようにして
、各種医薬品の中間体として有用な上記化合物(C)お
よび(D)を比較的容易に得ることができるようになっ
たが、使用する原料が高価であり、かつ大量生産に不向
きなフリーデルクラフト反応を使用するという欠点があ
る【0006】。 【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の課題を解決するものであり、その目的とするところは
、ピンドロールなどの各種医薬品や工業製品の中間原料
として有用である上記化合物(C)または(D)のよう
なピロール誘導体またはインドール誘導体を、容易に、
かつ安価に製造し得る方法を提供することにある。 【0007】 【課題を解決するための手段】本発明の4−オキソヘプ
タンジアールは、 【0008】 【化31】 【0009】で示される。 【0010】本発明の上記4−オキソヘプタンジアール
の製造方法は、ニトロメタンとアクロレインより得られ
る4−ニトロヘプタンジアールを必要に応じてアルデヒ
ト保護反応に付し、 【0011】 【化32】 【0012】で示される4−ニトロ体を得る工程、およ
び該ニトロ体を過マンガン酸カリウムにより酸化する工
程、を包含する。 【0013】本発明の上記4−オキソヘプタンジアール
の他の製造方法は、 【0014】 【化33】 【0015】で示されるギ酸アルキルエステルと、【0
016】 【化34】 【0017】で示されるグリーニャル試薬とをグリーニ
ャル反応条件下で反応させ、 【0018】 【化35】 【0019】で示される4−ヒドロキシ体を得る工程、
および該4−ヒドロキシ体をクロム酸系酸化剤で酸化す
る工程、を包含する。 【0020】本発明の3−アリールスルホニルアミノメ
チレン−4−オキソヘプタンジアールは、【0021】 【化36】 【0022】で示される。 【0023】本発明の上記3−アリールスルホニルアミ
ノメチレン−4−オキソヘプタンジアールの製造方法は
、 【0024】 【化37】 【0025】で示される4−オキソヘプタンジアールに
、 【0026】 【化38】 【0027】で示されるギ酸アルキルエステルを作用さ
せ、 【0028】 【化39】 【0029】で示される3−ヒドロキシメチレン体を得
る工程、該3−ヒドロキシメチレン体をアミノ化して【
0030】 【化40】 【0031】で示される3−アミノメチレン体を得る工
程、および該3−アミノメチレン体をアリールスルホニ
ルハライドと反応させる工程、を包含する。 【0032】本発明の上記3−アリールスルホニルアミ
ノメチレン−4−オキソヘプタンジアールの他の製造方
法は、 【0033】 【化41】 【0034】で示される4−オキソヘプタンジアールに
、 【0035】 【化42】 【0036】で示される化合物を作用させる工程を包含
する。 【0037】本発明のインドール誘導体の製造方法は、
【0038】 【化43】 【0039】で示される3−アリールスルホニルアミノ
メチレン−4−オキソヘプタンジアールに、酸の存在下
で、R2OH(式中、R2は炭素数1〜5のアルキル、
アルキル部分の炭素数が1〜5のアラルキル、炭素数1
〜5のヒドロキシアルキルまたはR3CH2CH(OH
)CH2−であり、R3は脱離基である)で示されるア
ルコールを作用させ、【0040】 【化44】 【0041】で示されるインドール誘導体を得る工程を
包含する。 【0042】本発明のピロール誘導体の製造方法は、【
0043】 【化45】 【0044】で示される3−アリールスルホニルアミノ
メチレン−4−オキソヘプタンジアールを、酸の存在下
で閉環させ、 【0045】 【化46】 【0046】で示されるピロール誘導体を得る工程を包
含する。 【0047】さらに詳細には、本発明の4─オキソヘプ
タンジアールのアセタール体の製造方法は、(a)ニト
ロメタンとアクロレインより4−ニトロヘプタンジアー
ルを得る工程、(b)該4−ニトロヘプタンジアールを
アセタール化して、4−ニトロヘプタンジアールのアセ
タール体を得る工程、および(c)該4−ニトロヘプタ
ンジアールのアセタール体を過マンガン酸カリウムによ
り酸化し、次式(A)で示される、4−オキソヘプタン
ジアールのアセタール体を得る工程、を包含する。 【0048】 【化47】 【0049】本発明の4−オキソヘプタンジアールのア
セタール体の製造方法は、ギ酸アルキルに、2−ホルミ
ルエチルマグネシウムハライドのアセタール体を作用さ
せて4−ヒドロキシヘプタンジアールのアセタール体を
得る工程、および該4−ヒドロキシヘプタンジアールの
アセタール体をクロム酸系酸化剤により酸化して、上記
式(A)で示される、4−オキソヘプタンジアールのア
セタール体を得る工程、を包含する。 【0050】本発明は、上記式(A)で示される4−オ
キソヘプタンジアールのアセタール体を包含する。 【0051】本発明の3−アリールスルホニルアミノメ
チレン−4─オキソヘプタンジアールのアセタール体の
製造方法は、(a)上記式(A)で示される4−オキソ
ヘプタンジアールのアセタール体をホルミル化し、3−
ヒドロキシメチレン−4−オキソヘプタンジアールのア
セタール体を得る工程、(b)該3−ヒドロキシメチレ
ン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール体をアミ
ノ化することにより、3−アミノメチレン−4−オキソ
ヘプタンジアールのアセタール体を得る工程、および(
c)該3−アミノメチレン−4−オキソヘプタンジアー
ルのアセタール体をアリールスルホン化することにより
、次式(B)で示される3−アリールスルホニルアミノ
メチレン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール体
を得る工程、を包含する。 【0052】 【化48】 【0053】本発明の3−アリールスルホニルアミノメ
チレン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール体の
製造方法は、上記式(A)で示される4−オキソヘプタ
ンジアールのアセタール体に、ジアルキルアミノメチリ
デンアリールスルホンアミドを作用させて、上記式(B
)で示される、3−アリールスルホニルアミノメチレン
−4−オキソヘプタンジアールのアセタールを得る工程
を包含する。 【0054】本発明は、上記式(B)で示される3−ア
リールスルホニルアミノメチレン4−オキソヘプタンジ
アールのアセタール体を包含する。 【0055】本発明のインドール誘導体の製造方法は、
上記式(B)で示される3−アリールスルホニルアミノ
メチレン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール体
に酸の存在下でR2OH(R2は炭素数1〜5のアルキ
ル、アルキル部分の炭素数が1〜5のアラルキル、また
は炭素数1〜5のヒドロキシアルキル、またはR3CH
2CH(OH)CH2−であり、R3は脱離基である)
を作用させて、次式(C)で示されるインドール誘導体
を得る工程を包含する。 【0056】 【化49】 【0057】本発明のピロール誘導体の製造方法は、上
記式(B)で示される3−アリールスルホニルアミノメ
チレン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール体を
酸の存在下で閉環させて、上記式(D)で示される4−
オキソ−4−(1−アリールスルホニル−3−ピロリル
)ブタナールまたはそのアセタール誘導体を得る工程を
包含する。 【0058】本明細書において、炭素数1〜5のアルキ
ル基とは、炭素数が1〜5個であって直鎖状または分枝
鎖状のアルキル基である。その例としては、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、イ
ソペンチルなどが挙げられる。 【0059】置換フェニル基とは炭素数1〜5のアルキ
ル、炭素数1〜5のアルコキシなどで置換されたフェニ
ルを意味し、そのような置換フェニルの例としては、ト
リル、4−メトキシフェニルなどが挙げられる。 【0060】アルキル部分の炭素数が1〜5のアラルキ
ル基とは、アリール基で置換された炭素数1〜5のアル
キル基を意味し、そのような基の例としては、ベンジル
、フェネチルなどが挙げられる。 【0061】炭素数1〜5のヒドロキシアルキル基とは
、炭素数1〜5のアルキル基の水素が水酸基で置換され
ている基であって、そのような基の例としては、ヒドロ
キシエチル、ヒドロキシプロピルなどが挙げられる。 【0062】脱離基とは、化合物の反応性の基を保護す
る基であり、該化合物の反応に影響を与えず、かつ反応
後に容易に脱離して所望の化合物を与える基である。そ
のような基の例としては、トシルオキシ基またはハロゲ
ン原子(例えば、塩素、臭素、ヨウ素など)が挙げられ
る。 【0063】本発明の4−オキソヘプタンジアール誘導
体である新規化合物(A)および(B)の調製、および
化合物(B)から、各種インドール誘導体の原料となり
うる化合物(C)および(D)を調製するためのスキー
ムを次に示す。 【0064】 【化50】 【0065】上記化合物(A)、(B)、(C)および
(D)の調製を次に説明する。 【0066】(1)4−オキソヘプタンジアールのアセ
タール体(A)の調製 ■ニトロメタンからの調製 【0067】 【化51】 【0068】ニトロメタン(I)に、アルカリの存在下
でアクロレインを作用させると、4−ニトロヘプタンジ
アール(IIa)が生成する。例えば、ニトロメタン(
I)のアルコール性水酸化カリウム溶液にアクロレイン
を徐々に加える。このようにして生成した4−ニトロヘ
プタンジアールを精製することも可能であるが、通常、
精製されることなく引き続いて常法に従い、各種誘導体
に導かれ、アルデヒド基の保護が行われる。例えば、ア
ルデヒドは、アセタール、ヘミチオアセタール基、ジチ
オアセタール、エノール、エナミン、セミカルバゾンオ
キシム、置換ヒドラゾン、シアノホドリン、シッフ塩、
オキサゾリジン、チアゾリジン、イミダゾリジン、また
はジシアノメチレン誘導体などとされる。好ましくはア
セタール、より好ましくはジアルキルアセタールに導い
て保護される。特に、4−ニトロヘプタンジアールジア
ルキルアセタールに導いてアルデヒド基を保護するのが
最も好ましい。例えば、この4−ニトロヘプタンジアー
ルに塩化アンモニウムの存在下でオルトギ酸トリアルキ
ル(オルトギ酸トリメチルまたはオルトギ酸トリエチル
など)を作用させることまたはアルコール(メタノール
、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ペン
タノール、エチレングリコール、プロピレングリコール
、トリメチレングリコール、ピナコール、ベンジルアル
コール、フェネチルアルコール、アリルアルコールなど
)を作用させることなどにより、上記式(IIb)で示
される4−ニトロヘプタンジアールのアセタール体が得
られる。4−ニトロヘプタンジアールのアセタール体は
カラムクロマトグラフィーなどにより単離・精製され得
、あるいは、そのまま次の反応に供される。 【0069】次いで、この4─ニトロヘプタンジアール
のアセタール体(IIb)を酸化することにより、上記
式(A)で示される4−オキソヘプタンジアールのアセ
タール体が得られる。酸化反応は、例えば、水酸化カリ
ウムおよび硫酸マグネシウムの存在下で過マンガン酸カ
リウムを作用させることにより行われる。 【0070】■ギ酸アルキルからの調製【0071】 【化52】 【0072】まず、ギ酸アルキル(III)とホルミル
が保護されていてもよい2−ホルミルエチルマグネシウ
ムハライド〔例えば、3,3−ジメトキシプロピルマグ
ネシウムブロマイドを得(J.Chem.Soc.Pe
rkin I,1979,2550)〕をグリーニャ
ル反応の常法に従い反応させることにより、4−ヒドロ
キシヘプタンジアールのアセタール体(IV)が得られ
る。上記グリーニャル試薬と、ギ酸メチル(3)とを反
応させることにより、4−ヒドロキシヘプタンジアール
のアセタール体(4)が得られる。4−ヒドロキシヘプ
タンジアールのアセタール体(IV)は、蒸留により分
解するので、通常、カラムクロトマトグラフィーにより
精製される。あるいは、単離・精製することなく次の反
応に供される。 【0073】次いで、4−ヒドロキシヘプタンジアール
のアセタール体(IV)をクロム酸系の酸化剤で酸化す
ることにより、上記式(A)で示される4−オキソヘプ
タンジアールのアセタール体が得られる。クロム酸系酸
化剤としては、例えば、上記式CrO3・Py2(Py
はピリジンを示す)で示されているコリンズ試薬(Te
trahedron Lett.,1968,33
63)が好適に利用される。 【0074】(2) 3−アリールスルホニルアミノメ
チレン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール体の
調製■第1の方法 【0075】 【化53】 【0076】4−オキソヘプタンジアールのアセタール
体(A)をホルミル化することにより3─ホルミル−4
−オキソヘプタンジアールのアセタール体(Va)およ
び3−ヒドロキシメチレン−4−オキソヘプタンジアー
ルのアセタール体(Vb)が生成する。これらの化合物
(Va)および(Vb)は、ケト−エノール互変異性体
として存在する。例えば、4−オキソヘプタンジアール
テトラメチルアセタール(A−1)を水素化ナトリウム
と反応させ、次いでギ酸メチルを作用させることにより
、3−ヒドロキシメチレン−4−オキソヘプタンジアー
ルテトラメチルアセタール(5b)および3−ホルミル
−4−オキソヘプタンジアールテトラメチルアセタール
(5a)の混合物(混合比約5:2)が得られる。次い
で、(Va)および(Vb)をアミノ化することにより
、上記式(VI)で示される3−アミノメチレン−4−
オキソヘプタンジアールのアセタール体が得られる、例
えば、上記(5a)および(5b)の混合物をアンモニ
ア性アルコール中でアミノ化すると、3−アミノメチレ
ン−4−オキソヘプタンジアールテトラメチルアセター
ル(6)が生成する。 上記反応において化合物(Va)、(Vb)、および(
VI)は、それぞれカラムクロマトグラフィーなどによ
り精製され得、あるいは、単離・精製することなく次の
反応に供される。 【0077】次に、化合物(VI)をアリールスルホン
化することにより、上記式(B)で示される3−アリー
ルスルホニルアミノメチレン−4−オキソヘプタンジア
ールのアセタール体が得られる。例えば、化合物(6)
にトルエンスルホニルクロリドを作用させることにより
、3−トルエンスルホニルアミノメチレン−4−オキソ
ヘプタンジアールテトラメチルアセタール(B−1)が
得られる。化合物(B)は、カラムクロマトグラフィー
、適当な溶媒を用いた再結晶などにより精製され得る。 【0078】■第2の方法 【0079】 【化54】 【0080】4−オキソヘプタンジアールのアセタール
体(A)にジアルキルアミノメチリデンアリールスルホ
ンアミド(VII)を作用させると、縮合反応により上
記式(B)で示される3−アリールスルホニルアミノメ
チレン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール体が
得られる。例えば、4−オキソヘプタンジアールテトラ
メチルアセタール(A−1)にメチルアミノメチリデン
トルエンスルホンアミド(7)〔Chem.Ber.,
97,483(1964)〕を作用させることにより、
3−トルエンスルホニルアミノメチレン−4−オキソヘ
プタンジアールテトラメチルアセタール(B−1)が生
成する。化合物(VII)はアリールスルホンアミドに
チオニルハライドを作用させてArSO2−N=S=O
を得、次いで、ジアルキルホルムアミドと反応させるこ
とにより得られる。 【0081】(3)インドール誘導体の調製【0082
】 【化55】 【0083】3−アリールスルホニルアミノメチレン−
4−オキソヘプタンジアールのアセタール体(B)に脱
水力の強い酸(例えば硫酸、P−トルエンスルホン酸な
ど)の存在下でR2OHを好ましくは脱水反応条件下作
用させることにより、上記式(C)で示されるインドー
ル誘導体が得られる。例えば、硫酸の存在下で、1,3
−プロパンジオールを作用させると、次式(Ca)で示
される3−(1−アリールスルホニル−4−インドリル
オキシ)プロパン−1−オールが得られる。3−クロロ
−1,2−プロパンジオールを作用させると、次式(C
b)で示される1−クロロ−3−(1−アリールスルホ
ニル−4−インドリルオキシ)プロパン−2−オールが
得られ、さらに副生成物として、次式(Cc)で示され
る化合物が得られる。 【0084】 【化56】 【0085】(4)ピロール誘導体の調製【0086】 【化57】 【0087】 【化58】 【0088】3−アリールスルホニルアミノメチレン−
4−オキソヘプタンジアールのアセタール体(B)に酸
(例えば、塩酸、酢酸、P−トルエンスルホン酸) を
作用させて水を含む反応系で閉環させると、4−オキソ
−4−(1−アリールスルホニル−3−ピロリル)ブタ
ナール(D)または、そのアセタール誘導体が得られる
。例えば、3−トルエンスルホニルアミノメチレン−4
−オキソヘプタンジアールテトラメチルアセタール(B
−1)を、2.5%の塩酸を含有するテトラヒドロフラ
ン水溶液(THF:水=1:1)中で加熱することによ
り、4−オキソ−4−(1−トシル−3−ピロリル)ブ
タナール(D−1)が得られる。酢酸中で加熱すること
によっても(D−1)が得られる。アルコール中でp−
トルエンスルホン酸を作用させると、上式で示される4
,4−ジアルコキシ−1−(1−トシル−3−ピロリル
)ブタン−1−オンが得られる。例えば、メタノール中
でp−トルエンスルホン酸を作用させることにより、4
,4−ジメトキシ−1−(1−トシル−3−ピロリル)
ブタン−1−オン(D−2)が得られる。 【0089】上記本発明の化合物(B)から得られるイ
ンドール誘導体(C)およびピロール誘導体(D)は、
医薬品、医薬品原料、またはその他の工業原料として有
用な種々の化合物に誘導され得る。その例を以下に参考
例として示す。 【0090】■(±)−ピンドロールの調製【0091
】 【化59】 【0092】1−クロロ−3−(1−トシル−4−イン
ドリルオキシ)プロパン−2−オール(C−2)に、イ
ソプロピルアミン存在下でアルカリ水溶液を作用させた
後、脱保護させることにより、上記式で示されるピンド
ロール〔1−(インドール−4−イルオキシ)−3−(
イソプロピルアミノ)プロパン−2−オール〕が得られ
る。 【0093】■4−ヒドロキシ−1−トシルインドール
の調製 【0094】 【化60】 【0095】3−(1−トシル−4−インドリルオキシ
)プロパン−1−オール(C−1)にジメチルスルホキ
シド−シュウ酸クロリドを作用させて(Swern酸化
)ヒドロキシプロピル基を除くことにより、上記式で示
される4−ヒドロキシ−1−トシルインドールが得られ
る。 【0096】■ピロール誘導体からインドール誘導体の
調製 【0097】 【化61】 【0098】4−オキソ−4−(1−トシル−3−ピロ
リル)ブタナール(D−1)に触媒量H2SO4の存在
下で(R)−3−トシルオキシ−1,2−プロパンジオ
ールを作用させ、上記4−アルコキシインドール誘導体
を得た後、前記(±)−ピンドロールの調製と同様にア
ミノ化、脱保護反応に付すことにより上記(−)−ピン
ドロールを得ることができる。 【0099】以下に実施例を示し、本発明をさらに詳し
く説明するが、本発明は、これらの実施例に限定される
ものではない。 【0100】 【実施例】(実施例1)(ニトロメタンからの4−オキ
ソヘプタンジアールテトラメチルアセタール(A−1)
の調製) (i)段階的調製法 工程A 【0101】 【化62】 【0102】ニトロメタン1 616mg(0.01
0モル)のメタノール(8ml)溶液に、水酸化カリウ
ム粉末144mg(0.25当量)を加え、−20℃で
撹拌する。5分後に市販のアクロレイン1.635g(
2.31当量)のメタノール(15ml)溶液を1時間
かけゆっくりと滴下し、さらに30分間撹拌を続ける。 反応溶液にクエン酸を加え、pH4とし食塩を加えて塩
析した後、ジクロロメタンにて抽出する。有機層を飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧に
て濃縮する。残渣1.747gおよびオルトギ酸メチル
3mlのメタノール(3ml)溶液に、塩化アンモニウ
ム191mg(0.35当量)を加え、室温にて14時
間撹拌する。反応溶液に水を添加し、ジクロロメタンに
て抽出後、有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧にて溶媒を留去する。得られた残渣2.381
gをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付す。 ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出し、無色の油状
物(4−ニトロヘプタンジアールテトラメチルアセター
ル)(2b)1479mg(収率55%)を得る。 【0103】質量分析 m/z:265(M+)赤外
吸収スペクトル(neat)νmax:1557cm−
1 1H−NMR(90MHz、CDCl3)δ:1.43
〜2.27(8H、m)、3.30(12H、s)、4
.32(2H、t、J=5.5Hz)、4.32〜4.
67(1H、m)。 【0104】工程B 【0105】 【化63】 【0106】次に、上記4−ニトロヘプタンジアールテ
トラメチルアセタール(2b)1.340g(0.00
5モル)のメタノール(10ml)溶液に水酸化カリウ
ム粉末352mg(1.05当量)を加え、氷冷下撹拌
する。25分後に過マンガン酸カリウム541mg(0
.68当量)と硫酸マグネシウム503mg(0.83
当量)の水溶液(15ml)を30分かけて滴下する。 これをさらに氷冷下にて30分間撹拌する。反応溶液に
飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、沈澱物を溶解
させた後、クエン酸を加えてpH4とし、ジクロロメタ
ンにて抽出する。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、減圧濃縮する。残渣1.355gをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エ
チル(2:1)溶出画分より無色油状物〔4−オキソヘ
プタンジアールテトラメチルアセタール(A−1)〕1
065mg(収率90%)を得る。 【0107】形態:無色油状 沸点:120〜124℃/1mmHg 質量分析 m/z:234(M+) 赤外吸収スペクトル(neat)νmax:1720c
m−1 1H−NMR(90MHz,CDCl3)δ:1.86
(4H,dt,J=5.5,7Hz),2.47(4H
,t,J=7Hz),3.33(12H,s),4.3
2(2H,t,J=5.5Hz)。 【0108】(ii)連続反応による調製法市販の50
%ニトロメタン−メタノール溶液10.749g(0.
10モル)のメタノール(100ml)溶液に、−20
℃にて撹拌しつつ、水酸化カリウム粉末728mg(0
.110当量)を加え、20分後に蒸留直後のアクロレ
イン17.077g(3.049当量)のメタノール(
100ml)溶液を、−20℃にて1時間かけて滴下し
、さらに1時間撹拌する。酢酸751mg(0.125
当量)のメタノール(10ml)溶液を添加したのち、
減圧にてメタノールを留去し約30mlまで濃縮する。 濃縮液に飽和食塩水を加え、酢酸エチル200mlで2
回抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムにて乾燥し、減圧濃縮する。残渣23gとオル
トギ酸トリメチル25mlのメタノール(25ml)溶
液に塩化アンモニウム703mg(0.131当量)を
添加し室温にて14時間撹拌する。反応液に飽和食塩水
100mlを加え、酢酸エチル200mlで2回抽出す
る。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、
粗製の4−ニトロヘプタンジアールテトラメチルアセタ
ール(2b)を27.719g得る。 【0109】上記粗製4−ニトロヘプタンジアールテト
ラメチルアセタール(2b)27.719gのメタノー
ル(100ml)溶液に、氷冷下で水酸化カリウム粉末
7.281g(1. 103当量)を添加し、30分間
撹拌する。次に反応溶液中に、過マンガン酸カリウム7
.912g(0.501当量)と硫酸マグネシウム7.
577g(0.631当量)の水溶液(150ml)を
1時間かけて滴下し、さらに30分間氷冷下で撹拌する
。 セライト40g、酢酸エチル300mlを順次加えて1
0分間撹拌した後、濾過する。濾過物を酢酸エチル(2
00ml)で洗浄し、濾液に合する。濾液の酢酸エチル
層を分取した後、水層に食塩を加え酢酸エチル200m
lにて2回抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無
水硫酸ナトリウムにて乾燥する。溶媒を減圧留去し、残
渣を減圧蒸留に付す。 【0110】124〜129°/2mmHgにて11.
402g、さらに初留および後留部より122〜125
°/1mmHgにて0.839g、計12.241g(
収率52%)の4−オキソヘプタンジアールテトラメチ
ルアセタール(A−1)を無色油状物として得る。 【0111】(実施例2)(ギ酸メチルからの4−オキ
ソヘプタンジアールテトラメチルアセタール(A−1)
の調製) (i)段階的調製法 工程A 【0112】 【化64】 【0113】カール状マグネシウム1.449g(3.
30当量)の無水テトラヒドロフラン(30ml)懸濁
液に3−ブロモプロパナールジメチルアセタール11.
028g(3.34当量)のテトラヒドロフラン(15
ml)溶液を30分かけて滴下し、滴下後さらに1時間
20分室温にて撹拌する。調製されたグリニヤール試薬
に、氷冷下でギ酸メチル(3)1.081g(0.01
8モル)のテトラヒドロフラン(5ml)溶液を添加し
、室温にて30分撹拌する。氷冷下で飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加え、テトラヒドロフラン層を分取し、水
層をジクロロメタンで抽出する。有機層を飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧濃縮する
。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付す。 ヘキサン−酢酸エチル(1:1)にて溶出し、無色油状
の4−ヒドロキシヘプタンジアールテトラメチルアセタ
ール(4)を4.116g(収率97%)得る。 【0114】質量分析m/z:173(M+−MeOH
−OMe )赤外吸収スペクトル(neat)νmax
:3470cm−1 1H−NMR(90MHz,CDCl3)δ:1.30
〜1.97(8H,m),2.93(1H,brs,O
H),3.30(6H,s),3.34(6H,s),
3.45〜3.75(1H,m),4.34(2H,t
,J=5Hz)。 【0115】工程B 【0116】 【化65】 【0117】4−ヒドロキシヘプタンジアールテトラメ
チルアセタール(4)154mg(0.65ミリモル)
の無水ジクロロメタン(15ml)溶液に、コリンズ試
薬(CrO3Py2;Tetrahedron Le
tt,1968,3363)1.343g(8.0当量
)を加え、30分間撹拌する。これに5%水酸化ナトリ
ウム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出する。有機層
を、飽和硫酸銅水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
および水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムにて乾
燥し減圧下で溶媒を留去する。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付す。ヘキサン−酢酸エチル(
1:1)にて溶出し無色油状の4−オキソヘプタンジア
ールテトラメチルアセタール(A−1)140mg(収
率92%)を得る。(ii)連続反応による調製法【0
118】 【化66】 【0119】カール状マグネシウム7.221g(3.
01当量)の無水テトラヒドロフラン(150ml)懸
濁液に、3−ブロモプロパナールジメチルアセタール5
5.711g(3.04当量)の無水テトラヒドロフラ
ン(100ml)溶液を撹拌下、1時間15分かけて滴
下し、さらに1時間撹拌を続け、グリニヤール試薬を調
製する。氷冷下で、グリニヤール試薬中へギ酸メチル(
3)6.007g(0.10モル)の無水テトラヒドロ
フラン(50ml)溶液を滴下し、滴下終了後室温にて
1時間撹拌する。これに氷冷下で飽和塩化アンモニウム
水溶液50mlを加えて分液し、テトラヒドロフラン層
を飽和食塩水で洗浄する。水層と上記食塩水層とを合し
酢酸エチル200mlで2回抽出する。有機層を飽和食
塩水で洗浄した後、上記テトラヒドロフラン層と合し、
無水硫酸ナトリウムにて乾燥する。各々溶媒を減圧留去
し、32.080gの粗4−ヒドロキシヘプタンジアー
ルテトラメチルアセタール(4)を得る。これを精製す
ることなく次の酸化反応に供する。氷冷下、コリンズ試
薬169g(6.55当量)と無水ジクロロメタン1.
5Lとの溶液に、上記粗製中間体(4)32.080g
の無水ジクロロメタン(100ml)溶液を加え、30
分撹拌する。傾瀉にて沈澱物を除いた層を2%水酸化ナ
トリウム200mlで2回、飽和硫酸銅水溶液200m
lで2回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水にて
順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。有機層を
減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留に付す。120〜124℃
/1mmHgにて17.099g、初留部よりさらに1
23〜126℃/2mmHgにて0.891g、計17
.990g(収率77%)の4−オキソヘプタンジアー
ルテトラメチルアセタール(A−1)を無色抽状物とし
て得る。 【0120】(実施例3)3−トシルアミノメチレン−
4−オキソヘプタンジアールテトラメチルアセタール(
B−1)の調製 ■調製法1 (i)段階的調製法 工程A 【0121】 【化67】 【0122】4−オキソヘプタンジアールテトラメチル
アセタール(A−1)471mg(2.0ミリモル)と
無水ジメチルホルムアミド(3ml)無水ベンゼン(6
ml)の溶液に、60%水素化ナトリウム98mg(1
.22当量)を添加する。室温で撹拌しながら、ギ酸メ
チル0.50ml(4当量)を滴下し、14時間撹拌す
る。反応液の溶媒を減圧下で留去後、飽和食塩水を加え
、クエン酸にてpH4とする。ジクロロメタンにて抽出
し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
にて乾燥する。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付す。ヘキサン−酢酸エチル(1
:1)にて溶出し、不安定な淡黄色シロップ状の3−ホ
ルミル−4−オキソヘプタンジアールテトラメチルアセ
タール(5a)および3−ヒドロキシメチレン−4−オ
キソヘプタンジアールテトラメチルアセタール(5b)
の混合物460mg(収率87%)を得る。 【0123】質量分析m/z:230(M+−MeOH
) 赤外吸収スペクトル(CHCl3)νmax:3300
、1712、1642(sh)、1626 cm−1
1H−NMR(90MHz,CDCl3)δ:3.26
,3.30,3.34,3.39および3.44(2H
,s,each),4.17〜4.48(2H,m),
7.95(brd,J=5.5Hz,D2O添加により
s),9.54(d,J=2Hz),〔7.95および
9.54のシグナル(5:2)は併せて1Hに相当する
〕。 【0124】上記NMRスペクトルにおいて、7.95
は化合物(5b)によるピークであり、9.54は(5
a)によるピークである。(5b):(5a)のNMR
上の比はおよそ5:2である。 【0125】工程B 【0126】 【化68】 【0127】上記化合物(5a)および(5b)の混合
物423mg(1.6ミリモル)と塩化アンモニウム1
17mg(1.35当量)のメタノール(3ml)懸濁
液に、氷冷下でアンモニアガスを導入し、飽和後、密栓
して室温にて48時間撹拌する。これに飽和食塩水に加
え、10%メタノール含有ジクロロメタンで抽出する。 有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて
乾燥した後、溶媒を減圧留去する。残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、ベンゼン−酢酸エチ
ル(1:1)溶出画分より無色シロップ状の3−アミノ
メチレン−4−オキソヘプタンジアールテトラメチルア
セタール(6)318mg(収率75.5%)を得る。 【0128】質量分析m/z:261(M+)赤外吸収
スペクトル(CHCl3)νmax:3520、340
0、1650、1620、1595cm−11H−NM
R(90MHz,CDCl3)δ:1.77〜2.07
(2H,m),2.37〜2.77(4H,m),3.
33(6H,s),3.39(6H,s)4.20(1
H,t,J=5Hz),4.34(1H,t,J=5.
5Hz),5.12(2H,brd,J=10.5Hz
,NH2),6.74および7.51(1H,t e
ach,J=10.5Hz)。 【0129】工程C 【0130】 【化69】 【0131】アミノ中間体である3−アミノメチレン−
4−オキソヘプタンジアールテトラメチルアセタール(
6)180mg(0.7ミリモル)の無水テトラヒドロ
フラン(3ml)と無水ジメチルホルムアミド(0.3
ml)溶液に、60%水素化ナトリウム50mg(1.
81当量)を加え、室温で撹拌する。10分後に、p−
トルエンスルホン酸クロリド161mg(1.22当量
)を添加し、室温で1時間撹拌する。氷冷後、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出す
る。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。 減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付す。ヘキサン−酢酸エチル(1:1)に
て溶出後、エーテル−ヘキサンより再結晶し、無色プリ
ズム晶として、3−トシルアミノメチレン−4−オキソ
ヘプタンジアールテトラメチルアセタール(B−1)1
86mg(収率65%)を得る。 【0132】融点:79〜80.5℃ 元素分析値(C19H29NO7S)として理論値(%
):C,54.92;H,7.04;N,3.37 実測値(%):C,54.69;H,6.97;N,3
.47 赤外吸収スペクトル(KBr)νmaX:3180,1
658(sh),1640cm−1 1H−NMR(90MHz,CDCl3) δ:1.9
1(2H,dt,J=5.5,7Hz).2.42(3
H,s),2.50〜2.80(4H,m),3.28
(6H,s),3.34(6H,s),4.14(1H
,t,J=4.5Hz),4.38(1H,t,J=5
.5Hz),7.33および7.77(A2B2,J=
8.5Hz),6.91および7.56(1H,d
each,J=10.5Hz),8.60(1H,br
d,J=10.5Hz,NH)。 【0133】(ii)連続反応による調製法【0134
】 【化70】 【0135】60%水素化ナトリウム373mg(2.
01当量)を、無水ベンゼン10mlにて洗浄後、ジメ
チルホルムアミド7mlに懸濁し、4−オキソヘプタン
ジアールテトラメチルアセタール(A−1)1.083
g(4.6ミリモル)およびギ酸メチル1.00ml(
3.5当量)を含むベンゼン(3ml)溶液を滴下し、
室温にて16時間撹拌する。50℃以下で減圧下溶媒を
留去する。残留物のメタノール(9ml)溶液に塩化ア
ンモニウム612mg(2.46当量)を加え、室温で
10分撹拌する。これを氷冷し、アンモニアガスを導入
しアンモニア飽和溶液とする。この反応溶液を密栓し、
室温にて30時間撹拌する。飽和食塩水を加え10%メ
タノール含有ジクロロメタンで抽出する。有機層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、残渣
を五酸化リン上、減圧下で乾燥する。 【0136】60%水素化ナトリウム279mg(1.
50当量)のベンゼン(5ml)とジメチルホルムアミ
ド(2ml)懸濁液に上記残渣のベンゼン(10ml)
溶液を滴下し、5分間撹拌した後、氷冷下でp−トルエ
ンスルホン酸クロリド890mg(1.01当量)を加
え、室温にて1時間撹拌する。氷冷後、水を加えベンゼ
ンにて抽出する。有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウム
にて乾燥し、減圧濃縮する。残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(1
:1)にて溶出後、エーテル−ヘキサンより再結晶して
、1047mg(収率54%)の3−トシルアミノメチ
レン−4−オキソヘプタンジアールテトラメチルアセタ
ール(B−1)を無色プリズム晶として得る。融点78
〜80℃。 【0137】■調製法2 【0138】 【化71】 【0139】4−オキソヘプタンジアールテトラメチル
アセタール(A−1)1.177g(5ミリモル)の無
水ベンゼン(5ml)と、無水ジメチルホルムアミド(
10ml)に、60%水素化ナトリム403mg(2.
01当量)を加え、室温で5分間撹拌後、ジメチルアミ
ノメチリデントルエンスルホンアミド(7)(Chem
.Ber.97, 483 (1964))2.273
g(2.00当量)を加え、室温にて14時間撹拌する
。減圧下、50℃以下で溶媒を留去し、残渣に飽和塩化
アンモニウム水溶液および食塩を加え、酢酸エチルにて
抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄後無水硫酸ナトリ
ムで乾燥し、減圧濃縮する。残留物にヘキサン−酢酸エ
チル(2:1)30mlを加え、沈澱部と溶液部に分け
る。沈澱部より上記化合物(7)446mgを回収する
。溶液部をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
、ヘキサン−酢酸エチル(1:1)溶出画分をエーテル
−ヘキサンで再結晶し、3−トシルアミノメチレン−4
−オキソヘプタンジアールテトラメチルアセタール(B
−1)1.556g(収率75%)を無色プリズム晶と
して得る。さらに酢酸エチル溶出画物より化合物(7)
201mgを回収する。 【0140】(実施例3) (インドール誘導体(C)の調製)■3−(1−トシル
−4−インドリルオキシ)プロパン−1−オール(C−
1)の合成 【0141】 【化72】 【0142】3−トシルアミノメチレン−4−オキソヘ
プタンジアールテトラメチルアセタール(B−1)20
8mg(0.50ミリモル)、1,3−プロパンジオー
ル0.50ml(13当量)、および95%硫酸23m
g(0.45当量)を含む1,2−ジクロロエタン(1
3ml)懸濁液を、ディーンスターク装置を使い、水を
除去しつつ4時間加熱還流する。冷却後、飽和炭酸水素
ナトリム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出する。有
機層を水洗し、無水硫酸ナトリムで乾燥した後、減圧下
溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付す。ヘキサン−酢酸メチル(7:4)で溶出
し、無色油状の3−(1−トシル−4−インドリルオキ
シ)プロパン−1−オール(C−1)134mg(収率
77.5%)を得る。 【0143】質量分析m/z:345(M+)1H−N
MR(90MHz,CDCl3)δ:1.98(2H,
tt,J=6,6Hz),1.98〜2.40(1H,
brs.OH),2.21(3H,S),3.78(2
H,t,J=6Hz),4.09(2H,t,J=6H
z),6.55(1H,d,J=8Hz),6.68(
1H,d,J=4Hz),7.07および7.66(A
2B2,J=8Hz),7.12(1H,dd,J=8
.8Hz),7.38(1H,d,J=4Hz),7.
54(1H,d,J=8Hz)。 【0144】■1−クロロ−3−(1−トシル−4−イ
ンドリルオキシ)プロパン−2−オール(C−2)の合
成 【0145】 【化73】 【0146】3−トシルアミノメチレン−4−オキソヘ
プタンジアールテトラメチルアセタール(B−1)10
1mg(0.24ミリモル)、3−クロロ−1,2−プ
ロパンジオール209mg(10当量)および95%H
2SO425mg(1当量)のジクロロメタン(5ml
)懸濁液を、ディーンスターク装置を用い、水を除去し
つつ、2時間加熱還流する。冷却後、飽和炭酸水素ナト
リム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出し、有機層を
水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧濃縮し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付す。ヘキサ
ン−酢酸エチル(9:2)で溶出すると、先に流出する
無色油状物61mg(収率66%)が上記の化合物(C
−2)である。さらに副生成物として化合物(C−3)
6mg(収率6.5%)を無色油状物として得る。 【0147】化合物(C−2)の機器分析データ質量分
析m/z:379および381(M+)赤外吸収スペク
トル(CHCl3中)νmax:3600cm−1 1H−NMR(90MHz,CDCl3)δ:2.24
(3H,s),2.81(1H,brs,OH),3.
52〜3.88(2H,m),3.99〜4.31(2
H,m),6.56(1H,d,J=8Hz),6.6
8(1H,d,J=4Hz),7.09および7.66
(A2B2,J=8.5Hz),7.14(1H,dd
,J=8,8Hz),7.40(1H,d,J=4Hz
),7.57(1H,d,J=8Hz)。 【0148】(実施例4) (ピロール誘導体(D)の調製)■4−オキソ−4−(
1−トシル−3−ピロリル)ブタナール(D−1)の合
成 【0149】 【化74】 【0150】3−トシルアミノメチレン−4−オキソヘ
プタンジアールテトラメチルアセタール(B−1)83
0mg(2.0ミリモル)を、2.5%塩酸含有テトラ
ヒドロフラン−水(1:1)溶液(12ml)に溶解さ
せ、70℃にて30分間加熱撹拌する。冷却後、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液を添加し、酢酸エチルで抽出す
る。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後
、溶媒を減圧留去して残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付す。ヘキサン−酢酸エチル(1:1)で
溶出し、無色シロップ状の化合物(D−1)を571m
g(収率94%)得る。 【0151】質量分析m/z:305(M+)赤外吸収
スペクトル(CHCl3)νmax:1722,167
9cm−1 1H−NMR(90MHz,CDCl3)δ:2.38
(3H,s),2.66〜2.93(2H,m),2.
93〜3.21(2H,m),6.62(1H,dd,
J=3,1.5Hz),7.10(1H,dd,J=3
,2Hz),7.28および7.76(A2B2,J=
8Hz),7.77(1H,dd,J=2,1.5Hz
),9.78(1H,s)。 【0152】■4,4−ジメトキシ−1−(1−トシル
−3−ピロリル)ブタン−1−オン(D−2)の合成【
0153】 【化75】 【0154】3−トシルアミノメチレン−4−オキソヘ
プタンジアールテトラメチルアセタール(B−1)21
2mg(0.51ミリモル)の無水メタノール(5ml
)溶液に、p−トルエンスルホン酸1水和物57mg(
0.59当量)を添加し、70℃にて20分間加熱撹拌
する。冷却後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え酢
酸エチルで抽出する。有機層を水洗後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧濃縮する。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(
3:2)溶出画分より無色シロップ状の4,4−ジメト
キシ−1−(1−トシル−3−ピロリル)ブタン−1−
オン(D−2)を150mg(収率83.5%)得る。 【0155】質量分析m/z:351(M+)赤外吸収
スペクトル(CHCl3)νmax:1679cm−1 1H−NMR(90MHz,CDCl3)δ:1.97
(2H,dt,J=5.5,7Hz),2.37(3H
,s),2.81(2H,t,J=7Hz),3.30
(6H,s),4.39(1H,t,J=5.5Hz)
,6.64(1H,dd,J=3,1.5Hz),7.
11(1H,dd,J=3,2Hz),7.27および
7.77(A2B2,J=8.5Hz),7.74(1
H,dd,J=2,1.5Hz)。 【0156】 【発明の効果】本発明によれば、このように、各種医薬
品の製造に有用な4−オキソヘプタンジアール誘導体お
よびその製造方法が提供される。この4−オキソヘプタ
ンジアール誘導体は、本発明方法によりピロール誘導体
およびインドール誘導体に誘導され得、さらにピンドロ
ールなどの各種医薬品、または工業原料などが容易に製
造され得る。
Claims (20)
- 【請求項1】 【化1】 で示される4−オキソヘプタンジアール。
- 【請求項2】ニトロメタンとアクロレインより得られる
4−ニトロヘプタンジアールを必要に応じてアルデヒト
保護反応に付し、 【化2】 で示される4−ニトロ体を得る工程、および該ニトロ体
を過マンガン酸カリウムにより酸化する工程、を包含す
る、請求項1に記載の4−オキソヘプタンジアールの製
造方法。 - 【請求項3】 【化3】 で示されるギ酸アルキルエステルと、 【化4】 で示されるグリーニャル試薬とをグリーニャル反応条件
下で反応させ、 【化5】 で示される4−ヒドロキシ体を得る工程、および該4−
ヒドロキシ体をクロム酸系酸化剤で酸化する工程、を包
含する請求項1に記載の4−オキソヘプタンジアールの
製造方法。 - 【請求項4】 【化6】 で示される3−アリールスルホニルアミノメチレン−4
−オキソヘプタンジアール。 - 【請求項5】 【化7】 で示される4−オキソヘプタンジアールに、【化8】 で示されるギ酸アルキルエステルを作用させ、【化9】 で示される3−ヒドロキシメチレン体を得る工程、該3
−ヒドロキシメチレン体をアミノ化して【化10】 で示される3−アミノメチレン体を得る工程、および該
3−アミノメチレン体をアリールスルホニルハライドと
反応させる工程、を包含する、請求項4に記載の3−ア
リールスルホニルアミノメチレン−4−オキソヘプタン
ジアールの製造方法。 - 【請求項6】中間体を単離、精製することなく連続して
反応を行う、請求項2、3または5に記載の製造方法。 - 【請求項7】 【化11】 で示される4−オキソヘプタンジアールに、【化12】 で示される化合物を作用させる工程を包含する、請求項
4に記載の3−アリールスルホニルアミノメチレン−4
−オキソヘプタンジアールの製造方法。 - 【請求項8】 【化13】 で示される3−アリールスルホニルアミノメチレン−4
−オキソヘプタンジアールに、酸の存在下で、R2OH
(式中、R2は炭素数1〜5のアルキル、アルキル部分
の炭素数が1〜5のアラルキル、炭数1〜5のヒドロキ
シアルキルまたはR3CH2CH(OH)CH2−であ
り、R3は脱離基である)で示されるアルコールを作用
させる工程を包含する、 【化14】 で示されるインドール誘導体の製造方法。 - 【請求項9】 【化15】 で示される3−アリールスルホニルアミノメチレン−4
−オキソヘプタンジアールを、酸の存在下で閉環させる
工程を包含する、 【化16】 で示されるピロール誘導体の製造方法。 - 【請求項10】(a)ニトロメタンとアクロレインより
4−ニトロヘプタンジアールを得る工程、(b)該4−
ニトロヘプタンジアールをアセタール化して、4−ニト
ロヘプタンジアールのアセタール体を得る工程、および
(c)該4−ニトロヘプタンジアールのアセタール体を
過マンガン酸カリウムにより酸化し、4−オキソヘプタ
ンジアールのアセタール体を得る工程、を包含する、次
式(A)で示される4−オキソヘプタンジアールのアセ
タール体の製造方法。 【化17】 - 【請求項11】前記4−ニトロヘプタンジアールおよび
4−ニトロヘプタンジアールのアセタール体を単離・精
製することなく連続して反応を行う、請求項10に記載
の製造方法。 - 【請求項12】ギ酸アルキルに、2−ホルミルエチルマ
グネシウムハライドのアセタール体を作用させて4−ヒ
ドロキシヘプタンジアールのアセタール体を得る工程、
および該4−ヒドロキシヘプタンジアールのアセタール
体をクロム酸系酸化剤により酸化して、4−オキソヘプ
タンジアールのアセタール体を得る工程、を包含する、
次式(A)で示される4−オキソヘプタンジアールのア
セタール体の製造方法。 【化18】 - 【請求項13】前記4−ヒドロキシヘプタンジアールの
アセタール体を単離・精製することなく連続して反応を
行う、請求項12に記載の製造方法。 - 【請求項14】次式で示される4−オキソヘプタンジア
ールのアセタール体。 【化19】 - 【請求項15】(a)次式(A)で示される4−オキソ
ヘプタンジアールのアセタール体をホルミル化し、3−
ヒドロキシメチレン−4−オキソヘプタンジアールのア
セタール体を得る工程、(b)該3−ヒドロキシメチレ
ン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール体をアミ
ノ化することにより、3−アミノメチレン−4−オキソ
ヘプタンジアールのアセタール体を得る工程、および(
c)該3−アミノメチレン−4−オキソヘプタンジアー
ルのアセタール体をアリールスルホン化することにより
、3−アリールスルホニルアミノメチレン−4−オキソ
ヘプタンジアールのアセタール体を得る工程、を包含す
る、次式(B)で示される3−アリールスルホニルアミ
ノメチレン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール
体の製造方法。 【化20】 【化21】 - 【請求項16】前記3−ヒドロキシメチレン−4−オキ
ソヘプタンジアールのアセタール体、および3−アミノ
メチレン−4−オキソヘプタンジアールのアセタール体
を単離・精製することなく連続して反応を行う、請求項
15に記載の製造方法。 - 【請求項17】次式(A)で示される4−オキソヘプタ
ンジアールのアセタール体に、ジアルキルアミノメチリ
デンアリールスルホンアミドを作用させて、3−アリー
ルスルホニルアミノメチレン−4−オキソヘプタンジア
ールのアセタール体を得る工程を包含する、次式(B)
で示される3−アリールスルホニルアミノメチレン−4
−オキソヘプタンジアールのアセタール体の製造方法。 【化22】 【化23】 - 【請求項18】次式(B)で示される3−アリールスル
ホニルアミノメチレン−4−オキソヘプタンジアールの
アセタール体。 【化24】 - 【請求項19】次式(B)で示される3−アリールスル
ホニルアミノメチレン−4−オキソヘプタンジアールの
アセタール体に酸の存在下でR2OH(R2は炭素数1
〜5のアルキル、アルキル部分の炭素数が1〜5のアラ
ルキル、または炭素数1〜5のヒドロキシアルキル、ま
たはR3CH2CH(OH)CH2−であり、R3は脱
離基である)を作用させて、インドール誘導体を得る工
程、を包含する次式(C)で示されるインドール誘導体
の製造方法。 【化25】 【化26】 - 【請求項20】次式(B)で示される3−アリールスル
ホニルアミノメチレン−4−オキソヘプタンジアールの
アセタール体を酸の存在下で閉環させて、4−オキソ−
4−(1−アリールスルホニル−3−ピロリル)ブタナ
ールまたはそのアセタール体を得る工程、を包含する次
式(D)で示されるピロール誘導体またはそのアセター
ル体の製造方法。 【化27】 【化28】
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6717991A JPH04300847A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 4−オキソヘプタンジアール誘導体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6717991A JPH04300847A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 4−オキソヘプタンジアール誘導体およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04300847A true JPH04300847A (ja) | 1992-10-23 |
Family
ID=13337404
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6717991A Withdrawn JPH04300847A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 4−オキソヘプタンジアール誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04300847A (ja) |
-
1991
- 1991-03-29 JP JP6717991A patent/JPH04300847A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3202607B2 (ja) | 2−(4−アルコキシ−3−シアノフェニル)チアゾール誘導体の製造法 | |
EP0550313A1 (fr) | Nouveaux dérivés de 2-(tétrazol-5-yl)-(1,1'-biphényle), leur préparation et leur utilisation comme intermédiaires de synthèse | |
EP0912495B1 (en) | Asymetric synthesis of chiral beta-amino acids | |
Tanikaga et al. | Stereochemical behavior of intermediary compounds in the amine-catalyzed Knoevenagel reaction. | |
Padwa et al. | Generation and cycloaddition reactions of phenylsulfonyl-substituted 1, 3-butadienes | |
JPS6046104B2 (ja) | ブテン誘導体の製造方法 | |
EP0511031B1 (fr) | Dérivés d'aryl-3 oxazolidinone, leur procédé de préparation et leur application en thérapeutique | |
US5554764A (en) | Preparation of pyrrol and oxazole compounds: formation of C-acyl-α-amino acid esters therefrom | |
JPH04300847A (ja) | 4−オキソヘプタンジアール誘導体およびその製造方法 | |
JPS6317077B2 (ja) | ||
JPH0662591B2 (ja) | 新規なチオプロリン誘導体 | |
WO1996036603A1 (fr) | Procede ameliore pour preparer la 4-hydroxy-2-pyrrolidone | |
US5672717A (en) | Preparation of pyrrol and oxazole compounds; formation of porphyrins and C-acyl-α-amino acid esters therefrom | |
JPH0262854A (ja) | 置換フェノキシアセトアルデヒドオキシム類の製造方法 | |
EP0713865B1 (fr) | Dérivés d'acide 2-aminobenzènesulfonique et de chlorure de 2-aminobenzènesulfonyle, leur préparation et leur utilisation comme intermédiaires de synthèse | |
JPH05238998A (ja) | シクロブテン誘導体 | |
JPH1121275A (ja) | アミノニトリル誘導体の製造方法 | |
JPH06501021A (ja) | 特定のビス−アザ2環式不安解消薬の製法およびその中間体 | |
JP4491104B2 (ja) | カルボニル化合物の製造方法 | |
JPH02255673A (ja) | 4―アリールオキシー1,3―ベンゾジオキソール類およびその製造方法 | |
JPH03176463A (ja) | ピロリジノール誘導体およびその製法 | |
JPS5927340B2 (ja) | N− ジメチルアリル −3− ベンズアゾシンノ セイゾウホウ | |
LU82341A1 (fr) | Hydroxyimino-aminoacetonitriles et leur preparation | |
JPH0248594A (ja) | D−グルコフラノース又はd−キシロフラノース誘導体の製法 | |
JPH07324077A (ja) | 2h−ベンゾイミダゾール類およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |