JPH04296040A - 静電チャック - Google Patents
静電チャックInfo
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- JPH04296040A JPH04296040A JP3083000A JP8300091A JPH04296040A JP H04296040 A JPH04296040 A JP H04296040A JP 3083000 A JP3083000 A JP 3083000A JP 8300091 A JP8300091 A JP 8300091A JP H04296040 A JPH04296040 A JP H04296040A
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- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
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- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N oxo(oxolanthaniooxy)lanthanum Chemical compound O=[La]O[La]=O KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
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- 229910017583 La2O Inorganic materials 0.000 claims description 3
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は静電チャックに関するも
のである。
のである。
【0002】
【従来の技術】近年、集積回路等の半導体の製造工程で
パターンニング等の微細加工を施すときに半導体ウエハ
ーを固定する治具に静電チャックが用いられている。図
1に示すように、これ等の静電チャックの基本原理は、
誘電体1を隔てて内部電極2と吸着物3との間に電圧を
印加し、両者の間にクーロン力を発現させることによっ
て吸着物3を吸着するものである。静電チャックの単位
面積あたりの吸着力Fは次式で与えられる。 F=1/2 ε′ε0 (V/d)2 但し、ε′は誘電体の比誘導率、ε0 は真空の誘電率
、Vは電圧、dは誘電体層の厚みを示す。従って、比誘
電率ε′が大きい程、誘電体の吸着力は大きい。
パターンニング等の微細加工を施すときに半導体ウエハ
ーを固定する治具に静電チャックが用いられている。図
1に示すように、これ等の静電チャックの基本原理は、
誘電体1を隔てて内部電極2と吸着物3との間に電圧を
印加し、両者の間にクーロン力を発現させることによっ
て吸着物3を吸着するものである。静電チャックの単位
面積あたりの吸着力Fは次式で与えられる。 F=1/2 ε′ε0 (V/d)2 但し、ε′は誘電体の比誘導率、ε0 は真空の誘電率
、Vは電圧、dは誘電体層の厚みを示す。従って、比誘
電率ε′が大きい程、誘電体の吸着力は大きい。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来、このような静電
チャックは、誘電体としてAl2O3, CaTiO3
, BaTiO3 等のセラミックスを用いたものが知
られている(例えば、特公昭60−58104号参照)
。然し、前述の3つの誘電体セラミックスでAl2O3
は吸着/脱着応答速度が体積抵抗率により変化し、か
つ体積抵抗率は温度の上昇により減少する。CaTiO
3は温度上昇による絶縁耐圧の低下が大きい。 BaTiO3は比誘電率ε′の温度依存性が大きい為、
200 ℃程度までしか使用できない欠点があった。
チャックは、誘電体としてAl2O3, CaTiO3
, BaTiO3 等のセラミックスを用いたものが知
られている(例えば、特公昭60−58104号参照)
。然し、前述の3つの誘電体セラミックスでAl2O3
は吸着/脱着応答速度が体積抵抗率により変化し、か
つ体積抵抗率は温度の上昇により減少する。CaTiO
3は温度上昇による絶縁耐圧の低下が大きい。 BaTiO3は比誘電率ε′の温度依存性が大きい為、
200 ℃程度までしか使用できない欠点があった。
【0004】この欠点を解消する為、誘電体を上下2層
以上から構成し、誘電層間には電極を配置し、使用温度
の上昇に従い電圧を印加する電極を下部に切換えてゆく
ことで、吸着力を発現する誘電層の平均体積抵抗率の温
度変化を抑制する静電チャックが特開平 2−1604
44 号に記載されている。各誘電体の体積抵抗率はT
iO2の添加量によって調整されている。この場合、A
l2O3, Si3N4, AlN 又はSiCから成
る基材のグリーンシート上に、ペースト状にした電極を
印刷したグリーンシートを熱圧着して積層した後、焼成
して静電チャックを得ている。グリーンシート積層法の
他に、印刷法、プラズマ溶射、エッチング又は蒸着法も
利用できるとしている。然し、この静電チャックは構造
が複雑である上、電圧を印加する電極を使用温度により
選択する機能が必要であった。
以上から構成し、誘電層間には電極を配置し、使用温度
の上昇に従い電圧を印加する電極を下部に切換えてゆく
ことで、吸着力を発現する誘電層の平均体積抵抗率の温
度変化を抑制する静電チャックが特開平 2−1604
44 号に記載されている。各誘電体の体積抵抗率はT
iO2の添加量によって調整されている。この場合、A
l2O3, Si3N4, AlN 又はSiCから成
る基材のグリーンシート上に、ペースト状にした電極を
印刷したグリーンシートを熱圧着して積層した後、焼成
して静電チャックを得ている。グリーンシート積層法の
他に、印刷法、プラズマ溶射、エッチング又は蒸着法も
利用できるとしている。然し、この静電チャックは構造
が複雑である上、電圧を印加する電極を使用温度により
選択する機能が必要であった。
【0005】Al2O3 −TiO2系誘電体はε′≒
10であるが、ジョンソン−ラーベリック効果を利用し
ているので、吸着力は高いが、吸着/脱着応答速度が体
積抵抗率により変化する。すなわち、体積抵抗率が10
14Ωcm以上では電圧の印加からウエハの静電チャッ
クへの吸着までの時間が長く実用的ではない。脱着に関
しても応答が遅い。体積抵抗率の減少に伴い、吸着/脱
着応答速度は大きくなるが、吸着物に流れる電流を増加
する。吸着物である半導体ウエハの保護を考えると体積
抵抗率は1011Ωcm程度が限度とされている。従っ
て使用範囲は体積抵抗率が1011〜1014Ωcmの
範囲にある温度領域に限定される。20℃で1014Ω
cmの体積抵抗率を持つAl2O3−TiO2系誘電体
が1011Ωcm以上の体積抵抗率を維持できるのは約
200 ℃以下である。CaTiO3誘電体は温度の上
昇に伴い絶縁耐圧が低下するため、必要な吸着力を出す
為の印加電圧が絶縁耐圧を越えないのは200 ℃以下
に限られる。BaTiO3誘電体はキューリー温度が約
120 ℃で、200 ℃程度までしか高誘電率を維持
できない。
10であるが、ジョンソン−ラーベリック効果を利用し
ているので、吸着力は高いが、吸着/脱着応答速度が体
積抵抗率により変化する。すなわち、体積抵抗率が10
14Ωcm以上では電圧の印加からウエハの静電チャッ
クへの吸着までの時間が長く実用的ではない。脱着に関
しても応答が遅い。体積抵抗率の減少に伴い、吸着/脱
着応答速度は大きくなるが、吸着物に流れる電流を増加
する。吸着物である半導体ウエハの保護を考えると体積
抵抗率は1011Ωcm程度が限度とされている。従っ
て使用範囲は体積抵抗率が1011〜1014Ωcmの
範囲にある温度領域に限定される。20℃で1014Ω
cmの体積抵抗率を持つAl2O3−TiO2系誘電体
が1011Ωcm以上の体積抵抗率を維持できるのは約
200 ℃以下である。CaTiO3誘電体は温度の上
昇に伴い絶縁耐圧が低下するため、必要な吸着力を出す
為の印加電圧が絶縁耐圧を越えないのは200 ℃以下
に限られる。BaTiO3誘電体はキューリー温度が約
120 ℃で、200 ℃程度までしか高誘電率を維持
できない。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、簡単な
構造で200 ℃より高温でも良好な作動特性を有する
静電チャックを提供するにある。
構造で200 ℃より高温でも良好な作動特性を有する
静電チャックを提供するにある。
【0007】本発明は誘電体がPbTiO3系セラミッ
クスから成ることを特徴とする静電チャックである。
クスから成ることを特徴とする静電チャックである。
【0008】本発明に係る誘電体PbTiO3系セラミ
ックスは、30 mol%以下のLa2O3 又はLa
2O3 ・2TiO2 を含有することができ、或いは
90 mol%以下のBaTiO3又はSrTiO3を
含有することができる。
ックスは、30 mol%以下のLa2O3 又はLa
2O3 ・2TiO2 を含有することができ、或いは
90 mol%以下のBaTiO3又はSrTiO3を
含有することができる。
【0009】或いはまた、本発明に係る誘電体PbTi
O3系セラミックスは、PbTiO3−PbZrO3−
La2O3 系三元組成物から成り、その組成が次の一
般式
O3系セラミックスは、PbTiO3−PbZrO3−
La2O3 系三元組成物から成り、その組成が次の一
般式
【化2】
(式中、xは0〜0.15の数、yは0.5 〜0.7
の数、zは0.3 〜0.4 の数を示す。ただし、
y+z=1)で表わされる物であっても良い。
の数、zは0.3 〜0.4 の数を示す。ただし、
y+z=1)で表わされる物であっても良い。
【0010】本発明の静電チャックの使用にあたっては
、通常、吸着力を一定に保つ為、温度に対応して電圧を
代えて運転する。従来、一般的に必要とされる吸着力は
、50〜100 g/cm2 である。本発明では目標
とする吸着力を100 g/cm2 以上とし、主要な
使用温度範囲内で十分高い比誘電率が得られるように、
誘電体の組成を前述の範囲内で調整する。
、通常、吸着力を一定に保つ為、温度に対応して電圧を
代えて運転する。従来、一般的に必要とされる吸着力は
、50〜100 g/cm2 である。本発明では目標
とする吸着力を100 g/cm2 以上とし、主要な
使用温度範囲内で十分高い比誘電率が得られるように、
誘電体の組成を前述の範囲内で調整する。
【0011】本発明に用いる誘電体PbTiO3−La
2O3 、PbTiO3−BaTiO3、PbTiO3
−La2O3 ・2TiO2 、PbTiO3−SrT
iO3及びPbTiO3−PbZrO3−La2O3
の温度と比誘電率との関係を図2〜6に夫々示す。但し
、図6のPbTiO3−PbZrO3−La2O3 と
しては
2O3 、PbTiO3−BaTiO3、PbTiO3
−La2O3 ・2TiO2 、PbTiO3−SrT
iO3及びPbTiO3−PbZrO3−La2O3
の温度と比誘電率との関係を図2〜6に夫々示す。但し
、図6のPbTiO3−PbZrO3−La2O3 と
しては
【化3】
を用いた。図2〜5の曲線に付した数字はLa2O3
、BaTiO3、La2O3 ・2TiO2 及びSr
TiO3のモル%を夫々示し、図6中の曲線に付した数
字はxを示す。
、BaTiO3、La2O3 ・2TiO2 及びSr
TiO3のモル%を夫々示し、図6中の曲線に付した数
字はxを示す。
【0012】
【作用】PbTiO3系セラミックスを使用することに
より、キューリー点の高い複合強誘電体が得られる。複
合強誘電体の為、誘電率が高く、吸着力の大きな静電チ
ャック又は低電圧で作動可能な静電チャックが得られる
。なお、PbTiO3セラミックス単体では、キュリー
温度が非常に高く誘電率を維持できる温度範囲が狭い為
、例えば室温〜600 ℃といった広い温度範囲では、
充分な吸着力を得ることができない。
より、キューリー点の高い複合強誘電体が得られる。複
合強誘電体の為、誘電率が高く、吸着力の大きな静電チ
ャック又は低電圧で作動可能な静電チャックが得られる
。なお、PbTiO3セラミックス単体では、キュリー
温度が非常に高く誘電率を維持できる温度範囲が狭い為
、例えば室温〜600 ℃といった広い温度範囲では、
充分な吸着力を得ることができない。
【0013】
【実施例】以下、本発明を実施例につきさらに詳細に説
明する。
明する。
【0014】実施例1
88 mol% PbTiO3 −12 mol% L
a2O3から成る誘電体を作製し、この誘電体を用いて
図1に示す構造の静電チャックを製造した。この誘電体
の比誘電率ε′は常温で1000、厚さdは300 μ
m であった。電圧V=500 Vの条件ではε0 は
8.85×10−12 (F/m) であることから、
吸着力Fは略々125 g/cm2 であり、一般的に
必要とされる吸着力の50〜100 g/cm2 に対
して十分な吸着力が得られた。 この静電チャックは155 ℃でキューリー点に達し、
比誘電率ε′は5600、厚さdは300 μm で、
電圧Vは500 Vで、吸着力Fは702.3 g/c
m2 と最大となった。この静電チャックの吸着力を1
00 g/cm2 と一定とした場合の印加電圧−温度
特性の関係を図7に示す。なお、上記実施例は本発明の
特定の例及び数値につき説明したが、本発明の広汎な精
神と視野を逸脱することなく種々の変更と修正が可能な
こと勿論である。
a2O3から成る誘電体を作製し、この誘電体を用いて
図1に示す構造の静電チャックを製造した。この誘電体
の比誘電率ε′は常温で1000、厚さdは300 μ
m であった。電圧V=500 Vの条件ではε0 は
8.85×10−12 (F/m) であることから、
吸着力Fは略々125 g/cm2 であり、一般的に
必要とされる吸着力の50〜100 g/cm2 に対
して十分な吸着力が得られた。 この静電チャックは155 ℃でキューリー点に達し、
比誘電率ε′は5600、厚さdは300 μm で、
電圧Vは500 Vで、吸着力Fは702.3 g/c
m2 と最大となった。この静電チャックの吸着力を1
00 g/cm2 と一定とした場合の印加電圧−温度
特性の関係を図7に示す。なお、上記実施例は本発明の
特定の例及び数値につき説明したが、本発明の広汎な精
神と視野を逸脱することなく種々の変更と修正が可能な
こと勿論である。
【0015】
【発明の効果】以上詳細に説明した通り、本発明の静電
チャックは、簡単な構造で200 ℃より高温でも十分
な吸着力が得られる。また、低電圧でも作動可能である
為、産業上極めて有用である。
チャックは、簡単な構造で200 ℃より高温でも十分
な吸着力が得られる。また、低電圧でも作動可能である
為、産業上極めて有用である。
【図1】静電チャックの原理を示す説明図である。
【図2】本発明に用いる誘電体PbTiO3−La2O
3 の温度と比誘電率との関係を示す特性線図である。
3 の温度と比誘電率との関係を示す特性線図である。
【図3】本発明に用いる誘電体PbTiO3−BaTi
O3の温度と比誘電率との関係を示す特性線図である。
O3の温度と比誘電率との関係を示す特性線図である。
【図4】本発明に用いる誘電体PbTiO3−La2O
3 ・2TiO2 の温度と比誘電率との関係を示す特
性線図である。
3 ・2TiO2 の温度と比誘電率との関係を示す特
性線図である。
【図5】本発明に用いる誘電体PbTiO3−SrTi
O3の温度と比誘電率との関係を示す特性線図である。
O3の温度と比誘電率との関係を示す特性線図である。
【図6】本発明に用いる誘電体PbTiO3−PbZr
O3−La2O3 の温度と比誘電率との関係を示す特
性線図である。
O3−La2O3 の温度と比誘電率との関係を示す特
性線図である。
【図7】静電チャックの印加電圧−温度特性の関係を示
す特性線図である。
す特性線図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 誘電体がPbTiO3系セラミックス
から成ることを特徴とする静電チャック。 - 【請求項2】 誘電体PbTiO3系セラミックスが
PbTiO3−La2O3 (La2O3 は30mo
l%以下)である請求項1記載の静電チャック。 - 【請求項3】 誘電体PbTiO3系セラミックスが
PbTiO3−BaTiO3(BaTiO3は90mo
l%以下)である請求項1記載の静電チャック。 - 【請求項4】 誘電体PbTiO3系セラミックスが
PbTiO3−La2O3 ・ 2TiO2(La2O
3 ・ 2TiO2は30 mol%以下)である請求
項1記載の静電チャック。 - 【請求項5】 誘電体PbTiO3系セラミックスが
PbTiO3−SrTiO3(SrTiO3は90mo
l%以下)である請求項1記載の静電チャック。 - 【請求項6】 誘電体PbTiO3系セラミックスが
PbTiO3−PbZrO3−La2O3 系三元組成
物から成り、その組成が次の一般式 【化1】 (式中、xは0〜0.15の数、yは0.5 〜0.7
の数、zは0.3 〜0.4 の数を示す。ただし、
y+z=1)で表わされる請求項1記載の静電チャック
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8300091A JPH0831517B2 (ja) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | 静電チャック |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8300091A JPH0831517B2 (ja) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | 静電チャック |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04296040A true JPH04296040A (ja) | 1992-10-20 |
JPH0831517B2 JPH0831517B2 (ja) | 1996-03-27 |
Family
ID=13789967
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8300091A Expired - Lifetime JPH0831517B2 (ja) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | 静電チャック |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0831517B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5324053A (en) * | 1992-02-20 | 1994-06-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Electrostatic chuck |
US5633073A (en) * | 1995-07-14 | 1997-05-27 | Applied Materials, Inc. | Ceramic susceptor with embedded metal electrode and eutectic connection |
US5817406A (en) * | 1995-07-14 | 1998-10-06 | Applied Materials, Inc. | Ceramic susceptor with embedded metal electrode and brazing material connection |
US6631062B1 (en) | 1999-04-13 | 2003-10-07 | Nihon Ceratec Co., Ltd. | Electrically conductive ceramic material, a process of producing same, and an electrostatic chuck |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6335449A (ja) * | 1986-07-30 | 1988-02-16 | 三菱鉱業セメント株式会社 | 磁器組成物の製造方法 |
JPS63221506A (ja) * | 1987-03-09 | 1988-09-14 | 株式会社村田製作所 | 誘電体磁器組成物 |
JPH02226612A (ja) * | 1989-02-23 | 1990-09-10 | Murata Mfg Co Ltd | 誘電体磁器組成物 |
-
1991
- 1991-03-25 JP JP8300091A patent/JPH0831517B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6335449A (ja) * | 1986-07-30 | 1988-02-16 | 三菱鉱業セメント株式会社 | 磁器組成物の製造方法 |
JPS63221506A (ja) * | 1987-03-09 | 1988-09-14 | 株式会社村田製作所 | 誘電体磁器組成物 |
JPH02226612A (ja) * | 1989-02-23 | 1990-09-10 | Murata Mfg Co Ltd | 誘電体磁器組成物 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5324053A (en) * | 1992-02-20 | 1994-06-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Electrostatic chuck |
US5633073A (en) * | 1995-07-14 | 1997-05-27 | Applied Materials, Inc. | Ceramic susceptor with embedded metal electrode and eutectic connection |
US5817406A (en) * | 1995-07-14 | 1998-10-06 | Applied Materials, Inc. | Ceramic susceptor with embedded metal electrode and brazing material connection |
US6631062B1 (en) | 1999-04-13 | 2003-10-07 | Nihon Ceratec Co., Ltd. | Electrically conductive ceramic material, a process of producing same, and an electrostatic chuck |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0831517B2 (ja) | 1996-03-27 |
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