JPH04292413A - アンモニアの精製方法 - Google Patents
アンモニアの精製方法Info
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- JPH04292413A JPH04292413A JP3313165A JP31316591A JPH04292413A JP H04292413 A JPH04292413 A JP H04292413A JP 3313165 A JP3313165 A JP 3313165A JP 31316591 A JP31316591 A JP 31316591A JP H04292413 A JPH04292413 A JP H04292413A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01C—AMMONIA; CYANOGEN; COMPOUNDS THEREOF
- C01C1/00—Ammonia; Compounds thereof
- C01C1/02—Preparation, purification or separation of ammonia
- C01C1/024—Purification
-
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- C01C1/02—Preparation, purification or separation of ammonia
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、不純なアンモニアから
不純物の除去のための方法に関するものである。
不純物の除去のための方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】アンモニア（ＮＨ３ ）ガスは、半導体
業界において、化学的蒸着（ＣＶＤ）及びエピタキシー
のようなプロセスにおいて広く使用されている。
業界において、化学的蒸着（ＣＶＤ）及びエピタキシー
のようなプロセスにおいて広く使用されている。
【０００３】このアンモニアガスの純度は、作製される
回路の収率がこのガスの純度に大きく依存するので非常
に重要である。不純物水準が作製された回路において見
出される欠陥の程度即ち欠陥の数に関連するとはまでは
言えないにせよ、使用されるガスの純度が高い程使用可
能な回路の収率は高いということは出来る。
回路の収率がこのガスの純度に大きく依存するので非常
に重要である。不純物水準が作製された回路において見
出される欠陥の程度即ち欠陥の数に関連するとはまでは
言えないにせよ、使用されるガスの純度が高い程使用可
能な回路の収率は高いということは出来る。
【０００４】これまで、アンモニアのような水素含有ガ
スから不純物を除去するためには、有機炭化水素樹脂収
着剤を使用するのが一般的実施法であった。最近では、
水素化ゲッタ金属或いは合金が使用されてきた。例えば
、本件出願人に係る特願平３−１９７２７２号を参照さ
れたい。
スから不純物を除去するためには、有機炭化水素樹脂収
着剤を使用するのが一般的実施法であった。最近では、
水素化ゲッタ金属或いは合金が使用されてきた。例えば
、本件出願人に係る特願平３−１９７２７２号を参照さ
れたい。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、それらの使用
は、ある種の欠点につながった。有機炭化水素樹脂収着
剤を使用する場合、作動温度の増大が炭化水素の放出と
その後の精製されたガスの再汚染を生じる危険があった
。収着剤の性質そのものが、それらが分解して所望され
ざるガス種を発生しやすいようなものであった。水素化
ゲッタ金属乃至合金を使用した場合、所望されないガス
の幾種かの収着ができなかった。更に、水素化ゲッタの
使用は、追加コスト及び起こりうる危険性の導入を意味
した。
は、ある種の欠点につながった。有機炭化水素樹脂収着
剤を使用する場合、作動温度の増大が炭化水素の放出と
その後の精製されたガスの再汚染を生じる危険があった
。収着剤の性質そのものが、それらが分解して所望され
ざるガス種を発生しやすいようなものであった。水素化
ゲッタ金属乃至合金を使用した場合、所望されないガス
の幾種かの収着ができなかった。更に、水素化ゲッタの
使用は、追加コスト及び起こりうる危険性の導入を意味
した。
【０００６】本発明の課題は、不純なアンモニアガスか
ら不純物ガスを除去するための改善された方法を開発す
ることである。
ら不純物ガスを除去するための改善された方法を開発す
ることである。
【０００７】本発明のまた別の課題は、Ｈ２ Ｏ及びＯ
２ を含有する不純なＮＨ３ からＨ２ Ｏ及びＯ２
を除去するための改善された方法を開発することである
。
２ を含有する不純なＮＨ３ からＨ２ Ｏ及びＯ２
を除去するための改善された方法を開発することである
。
【０００８】本発明のまた別の課題は、ＮＨ３ から不
純物の除去のために有機坦体或いは樹脂収着剤の使用を
必要としない改善された方法を開発することである。
純物の除去のために有機坦体或いは樹脂収着剤の使用を
必要としない改善された方法を開発することである。
【０００９】本発明の更にまた別の課題は、水素化ゲッ
タ金属乃至合金の使用を必要としない不純なＮＨ３ か
ら不純物ガスの除去のための改善された方法を開発する
ことである。
タ金属乃至合金の使用を必要としない不純なＮＨ３ か
ら不純物ガスの除去のための改善された方法を開発する
ことである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、不純なＮＨ３
から不純物ガスの除去のための方法を提供する。本発
明方法は、Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金を３００℃を超える温度
に１０分を超える期間加熱する段階を含み、該合金をそ
の後、ＮＨ３ の認めうる分解が起こらない温度まで冷
却し、この温度において、不純物含有ＮＨ３ を該Ｚｒ
−Ｖ−Ｆｅ合金と接触状態に持ちきたすことにより上記
課題を解決しうることが見出された。この知見に基づい
て、本発明は、（１）不純なＮＨ３ から不純物ガスの
除去のための方法であって、（Ａ）Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金
を３００℃を超える温度に１０分を超える時間加熱する
段階と、（Ｂ）該合金を１５０℃未満の、ＮＨ３ の認
めうる分解の起こる温度未満の温度まで冷却する段階と
、（Ｃ）不純物含有ＮＨ３を該Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金と接
触する段階とを包含する不純なＮＨ３ から不純物ガス
を除去するための方法、（２）不純物を含有するＮＨ３
を不純ガス導入口及び精製ガス導出口を備えそしてＺ
ｒ−Ｖ−Ｆｅ合金を収蔵する室を通して流通せしめるこ
とにより不純なＮＨ３ から不純物ガスを除去するため
の方法であって、（Ａ）前記Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金を３０
０℃を超える温度に希ガス乃至不活性ガスの流れ中で１
０分を超える期間加熱して、該合金に不純物の収着を可
能とする状態とする段階と、（Ｂ）該合金を１００℃以
下の、ＮＨ３ の認めうる分解を生ぜしめない温度にま
で冷却する段階と、（Ｃ）不純物含有ＮＨ３ を該Ｚｒ
−Ｖ−Ｆｅ合金と接触する段階とを包含する不純なＮＨ
３ から不純物ガスを除去するための方法、及び（３）
Ｈ２ Ｏ及びＯ２ を含有するＮＨ３ を不純ガス導入
口及び精製ガス導出口を備えそしてＺｒ−Ｖ−Ｆｅ合金
を収蔵する室を通して流通せしめることにより不純なＮ
Ｈ３ からＨ２ Ｏ及びＯ２ を除去するための方法で
あって、（Ａ）前記Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金を３００℃を超
える温度に希ガス乃至不活性ガスの流れ中で１０分を超
える期間加熱して、該合金に不純物の収着を可能とする
状態とする段階と、（Ｂ）該合金を１００℃以下の、Ｎ
Ｈ３ の認めうる分解を生ぜしめない温度にまで冷却す
る段階と、（Ｃ）不純なＮＨ３ のＨ２ Ｏ及びＯ２
を該Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金と接触せしめて、Ｈ２ Ｏの水
素及び酸素をＯ２ と共に化学量論的に除去する段階と
を包含する不純なＮＨ３ から不純物ガスを除去するた
めの方法を提供する。
から不純物ガスの除去のための方法を提供する。本発
明方法は、Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金を３００℃を超える温度
に１０分を超える期間加熱する段階を含み、該合金をそ
の後、ＮＨ３ の認めうる分解が起こらない温度まで冷
却し、この温度において、不純物含有ＮＨ３ を該Ｚｒ
−Ｖ−Ｆｅ合金と接触状態に持ちきたすことにより上記
課題を解決しうることが見出された。この知見に基づい
て、本発明は、（１）不純なＮＨ３ から不純物ガスの
除去のための方法であって、（Ａ）Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金
を３００℃を超える温度に１０分を超える時間加熱する
段階と、（Ｂ）該合金を１５０℃未満の、ＮＨ３ の認
めうる分解の起こる温度未満の温度まで冷却する段階と
、（Ｃ）不純物含有ＮＨ３を該Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金と接
触する段階とを包含する不純なＮＨ３ から不純物ガス
を除去するための方法、（２）不純物を含有するＮＨ３
を不純ガス導入口及び精製ガス導出口を備えそしてＺ
ｒ−Ｖ−Ｆｅ合金を収蔵する室を通して流通せしめるこ
とにより不純なＮＨ３ から不純物ガスを除去するため
の方法であって、（Ａ）前記Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金を３０
０℃を超える温度に希ガス乃至不活性ガスの流れ中で１
０分を超える期間加熱して、該合金に不純物の収着を可
能とする状態とする段階と、（Ｂ）該合金を１００℃以
下の、ＮＨ３ の認めうる分解を生ぜしめない温度にま
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−Ｖ−Ｆｅ合金と接触する段階とを包含する不純なＮＨ
３ から不純物ガスを除去するための方法、及び（３）
Ｈ２ Ｏ及びＯ２ を含有するＮＨ３ を不純ガス導入
口及び精製ガス導出口を備えそしてＺｒ−Ｖ−Ｆｅ合金
を収蔵する室を通して流通せしめることにより不純なＮ
Ｈ３ からＨ２ Ｏ及びＯ２ を除去するための方法で
あって、（Ａ）前記Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金を３００℃を超
える温度に希ガス乃至不活性ガスの流れ中で１０分を超
える期間加熱して、該合金に不純物の収着を可能とする
状態とする段階と、（Ｂ）該合金を１００℃以下の、Ｎ
Ｈ３ の認めうる分解を生ぜしめない温度にまで冷却す
る段階と、（Ｃ）不純なＮＨ３ のＨ２ Ｏ及びＯ２
を該Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金と接触せしめて、Ｈ２ Ｏの水
素及び酸素をＯ２ と共に化学量論的に除去する段階と
を包含する不純なＮＨ３ から不純物ガスを除去するた
めの方法を提供する。
【００１１】
【作用】４５〜７５重量％Ｚｒ、２０〜５０重量％Ｖ及
び５〜３５重量％Ｆｅの組成のＺｒ−Ｖ−Ｆｅゲッタ合
金によりアンモニア中の不純物、特にＨ２Ｏ及びＯ２
を収着する。賦活温度は、大気曝露中形成された酸化物
及び窒化物が存在しないように粒子の表面を清浄にする
に充分高くするべきである。このためには、合金を真空
中で或いは希ガス乃至不活性ガス流れ中で３００℃以上
の温度に１０分以上の時間加熱する。ＮＨ３ の分解を
防止するに充分低く、しかもＺｒ−Ｖ−Ｆｅ合金を不純
物ガスに向けて活性たらしめるに充分高い１５０℃未満
の温度でＮＨ３を合金と接触状態に通すことにより不純
物を除去する。
び５〜３５重量％Ｆｅの組成のＺｒ−Ｖ−Ｆｅゲッタ合
金によりアンモニア中の不純物、特にＨ２Ｏ及びＯ２
を収着する。賦活温度は、大気曝露中形成された酸化物
及び窒化物が存在しないように粒子の表面を清浄にする
に充分高くするべきである。このためには、合金を真空
中で或いは希ガス乃至不活性ガス流れ中で３００℃以上
の温度に１０分以上の時間加熱する。ＮＨ３ の分解を
防止するに充分低く、しかもＺｒ−Ｖ−Ｆｅ合金を不純
物ガスに向けて活性たらしめるに充分高い１５０℃未満
の温度でＮＨ３を合金と接触状態に通すことにより不純
物を除去する。
【００１２】
【実施例】図面を参照すると、不純なＮＨ３ から不純
物ガスの除去のために本発明方法を実施するのに有用な
精製装置１０が例示される。精製装置１０は、不純なＮ
Ｈ３が流入する不純ガス導入口１２を備えている。導入
口１２は、ゲッタ合金１６を収蔵するＮＨ３ 精製室１
４と連通している。室１４は、精製ガス導出口１８と連
通している。
物ガスの除去のために本発明方法を実施するのに有用な
精製装置１０が例示される。精製装置１０は、不純なＮ
Ｈ３が流入する不純ガス導入口１２を備えている。導入
口１２は、ゲッタ合金１６を収蔵するＮＨ３ 精製室１
４と連通している。室１４は、精製ガス導出口１８と連
通している。
【００１３】ゲッタ合金１６は、好ましくは５００μｍ
未満の、より好ましくは１２５μｍ未満の粒寸の粉末の
形態にある。ゲッタ合金は１６は好ましくは、室１４内
部への組込みのために適当な、結合剤を使用しての或い
は使用しないペレットの形態にある。
未満の、より好ましくは１２５μｍ未満の粒寸の粉末の
形態にある。ゲッタ合金は１６は好ましくは、室１４内
部への組込みのために適当な、結合剤を使用しての或い
は使用しないペレットの形態にある。
【００１４】合金の組成はＺｒ−Ｖ−Ｆｅである。本発
明に従うこの３元合金の代表的組成は、（イ）４５〜７
５重量％、好ましくは４７〜７０重量％Ｚｒ、 （ロ）２０〜５０重量％、好ましくは２４〜４５重量％
Ｖ及び （ハ）５〜３５重量％、好ましくは５〜１０重量％Ｆｅ
である。
明に従うこの３元合金の代表的組成は、（イ）４５〜７
５重量％、好ましくは４７〜７０重量％Ｚｒ、 （ロ）２０〜５０重量％、好ましくは２４〜４５重量％
Ｖ及び （ハ）５〜３５重量％、好ましくは５〜１０重量％Ｆｅ
である。
【００１５】３元組成図で表わして、重量％で表わして
のＺｒ、Ｖ及びＦｅの組成は、次の点を頂点とする三角
形の内部にある： （ａ）７５％Ｚｒ−２０％Ｖ−５％Ｆｅ（ｂ）４５％Ｚ
ｒ−２０％Ｖ−３５％Ｆｅ（ｃ）４５％Ｚｒ−５０％Ｖ
−５％Ｆｅ好ましくは、次の角隅点を有する多角形の内
部にある：（ｄ）７０％Ｚｒ−２５％Ｖ−５％Ｆｅ（ｅ
）７０％Ｚｒ−２４％Ｖ−６％Ｆｅ（ｆ）６６％Ｚｒ−
２４％Ｖ−１０％Ｆｅ（ｇ）４７％Ｚｒ−４３％Ｖ−１
０％Ｆｅ（ｈ）４７％Ｚｒ−４５％Ｖ−８％Ｆｅ（ｉ）
５０％Ｚｒ−４５％Ｖ−５％Ｆｅ
のＺｒ、Ｖ及びＦｅの組成は、次の点を頂点とする三角
形の内部にある： （ａ）７５％Ｚｒ−２０％Ｖ−５％Ｆｅ（ｂ）４５％Ｚ
ｒ−２０％Ｖ−３５％Ｆｅ（ｃ）４５％Ｚｒ−５０％Ｖ
−５％Ｆｅ好ましくは、次の角隅点を有する多角形の内
部にある：（ｄ）７０％Ｚｒ−２５％Ｖ−５％Ｆｅ（ｅ
）７０％Ｚｒ−２４％Ｖ−６％Ｆｅ（ｆ）６６％Ｚｒ−
２４％Ｖ−１０％Ｆｅ（ｇ）４７％Ｚｒ−４３％Ｖ−１
０％Ｆｅ（ｈ）４７％Ｚｒ−４５％Ｖ−８％Ｆｅ（ｉ）
５０％Ｚｒ−４５％Ｖ−５％Ｆｅ
【００１６】本発明に
おいて有用な合金自体は、米国特許第４，３１２，６６
９号に記載されている。
おいて有用な合金自体は、米国特許第４，３１２，６６
９号に記載されている。
【００１７】少量の他の主金属もまた、この合金の精製
特性を実質上変更することなく使用されうることを認識
するべきである。例えば、鉄はニッケルにより部分的に
置換されうるし、またバナジウムもニオブと部分的に置
換されうる。ジルコニウムの一部をチタンと基本３元合
金の主収着能力を実質上変更することなく置換すること
も有益な場合がある。１種以上の置換元素が同時に置換
されうる。
特性を実質上変更することなく使用されうることを認識
するべきである。例えば、鉄はニッケルにより部分的に
置換されうるし、またバナジウムもニオブと部分的に置
換されうる。ジルコニウムの一部をチタンと基本３元合
金の主収着能力を実質上変更することなく置換すること
も有益な場合がある。１種以上の置換元素が同時に置換
されうる。
【００１８】Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金の賦活温度は、大気曝
露中形成された酸化物及び窒化物が存在しないように粒
子の表面を清浄にするに充分高くするべきである。これ
は、真空中で或いは希ガス乃至不活性ガス流れ中で３０
０℃以上の温度に１０分以上の時間、例えば４００℃で
４時間加熱することにより達成することができる。
露中形成された酸化物及び窒化物が存在しないように粒
子の表面を清浄にするに充分高くするべきである。これ
は、真空中で或いは希ガス乃至不活性ガス流れ中で３０
０℃以上の温度に１０分以上の時間、例えば４００℃で
４時間加熱することにより達成することができる。
【００１９】合金は、ＮＨ３ から不純物を収着するに
際して、その分解乃至解離を生ぜしめてはならず、従っ
てＮＨ３ の認めうる程の分解が起こる温度より低い温
度に保持されるべきである。この温度は１５０℃未満、
好ましくは１００℃以下とすべきである。１００℃の温
度が、ＮＨ３ の分解を防止するに充分低く、しかもＺ
ｒ−Ｖ−Ｆｅ合金を不純物ガスに向けて活性たらしめる
に充分高い。
際して、その分解乃至解離を生ぜしめてはならず、従っ
てＮＨ３ の認めうる程の分解が起こる温度より低い温
度に保持されるべきである。この温度は１５０℃未満、
好ましくは１００℃以下とすべきである。１００℃の温
度が、ＮＨ３ の分解を防止するに充分低く、しかもＺ
ｒ−Ｖ−Ｆｅ合金を不純物ガスに向けて活性たらしめる
に充分高い。
【００２０】（例１）精製装置１０の室１４にＺｒ−Ｖ
−Ｆｅ合金粉末を圧縮して成る４ｍｍ直径×３ｍｍ高さ
の寸法のペレット１５０ｇを充填した。公称合金粉末組
成は７０重量％Ｚｒ−２４．６重量％Ｖ−５．４重量％
Ｆｅであった。
−Ｆｅ合金粉末を圧縮して成る４ｍｍ直径×３ｍｍ高さ
の寸法のペレット１５０ｇを充填した。公称合金粉末組
成は７０重量％Ｚｒ−２４．６重量％Ｖ−５．４重量％
Ｆｅであった。
【００２１】ゲッタ合金を賦活化のためにアルゴン中で
４００℃に４時間加熱した。温度を１００℃に下げそし
て１４ｐｐｍ酸素及び１１ｐｐｍ水蒸気を含有するアル
ゴンを２００ｃｍ３ ／分の流量で流通せしめた。
４００℃に４時間加熱した。温度を１００℃に下げそし
て１４ｐｐｍ酸素及び１１ｐｐｍ水蒸気を含有するアル
ゴンを２００ｃｍ３ ／分の流量で流通せしめた。
【００２２】精製装置の室からの流出流れにおける酸素
水準を２ｐｐｂのＯ２ 検出感度を有するＯＳＫＭＫＩ
ＩＩ／Ｙ酸素計を使用して測定した。流出流れの湿度水
準を＜２０ｐｐｂの検出感度を有するＡＱＵＡＭＡＴＩ
Ｃ＋を使用して測定した。
水準を２ｐｐｂのＯ２ 検出感度を有するＯＳＫＭＫＩ
ＩＩ／Ｙ酸素計を使用して測定した。流出流れの湿度水
準を＜２０ｐｐｂの検出感度を有するＡＱＵＡＭＡＴＩ
Ｃ＋を使用して測定した。
【００２３】アルゴンを流通せしめそして流出流れに不
純物は全く検出されなかった。破過が観測されるまで流
れを継続した。破過は流出流れにおいて不純物濃度が検
出され始める点である。
純物は全く検出されなかった。破過が観測されるまで流
れを継続した。破過は流出流れにおいて不純物濃度が検
出され始める点である。
【００２４】両方の気体に対して同時に破過が観測され
たとき、気体流れを停止した。破過点において、収着さ
れた不純物量は酸素に対しては６リットル／リットルそ
して水蒸気に対しては５リットル／リットルであった（
註：単位は不純物のリットル／合金のリットル単位での
容積である。）。これは、精製装置がＨ２ Ｏ及びＯ２
を除去する能力を有することを示す。
たとき、気体流れを停止した。破過点において、収着さ
れた不純物量は酸素に対しては６リットル／リットルそ
して水蒸気に対しては５リットル／リットルであった（
註：単位は不純物のリットル／合金のリットル単位での
容積である。）。これは、精製装置がＨ２ Ｏ及びＯ２
を除去する能力を有することを示す。
【００２５】（例２）例１におけるのと全く同一の態様
で新しい精製装置を作製しそして再度アルゴン中４００
℃で４時間賦活化した。温度を室温まで冷却せしめた。 ＮＨ３ を流通せしめそして温度を１００℃まで増大せ
しめた。これは、ＮＨ３ と合金との間での発熱反応に
よる温度の急激な増大を防止するためであった。ＮＨ３
の不純物含有量は次の通りであった： Ｏ２ ：１ｐｐｍ、 Ｈ２ Ｏ：３ｐｐｍ、 炭化水素：＜１ｐｐｍ
で新しい精製装置を作製しそして再度アルゴン中４００
℃で４時間賦活化した。温度を室温まで冷却せしめた。 ＮＨ３ を流通せしめそして温度を１００℃まで増大せ
しめた。これは、ＮＨ３ と合金との間での発熱反応に
よる温度の急激な増大を防止するためであった。ＮＨ３
の不純物含有量は次の通りであった： Ｏ２ ：１ｐｐｍ、 Ｈ２ Ｏ：３ｐｐｍ、 炭化水素：＜１ｐｐｍ
【００２６】ＮＨ３ を室を通して１００ｃｍ３ ／分
の流量で１００℃の温度で１５日間流通せしめた。
の流量で１００℃の温度で１５日間流通せしめた。
【００２７】その後、精製効率を精製装置を通して３０
ｐｐｍのＯ２ と３０ｐｐｍのＨ２ Ｏを含有するアル
ゴンを通しそして流出流れ濃度水準を測定することによ
り試験した。アルゴン流量は１リットル／分であった。 Ｈ２ Ｏ及びＯ２ の水準は、測定装置の検出感度（即
ち、Ｏ２ に対しては２ｐｐｂ未満そして水蒸気に対し
ては２０ｐｐｂ未満）未満であった。これは、水からの
Ｈ２ 及びＯ２ がＯ２ と共に化学量論的に除去され
ていることを示す。
ｐｐｍのＯ２ と３０ｐｐｍのＨ２ Ｏを含有するアル
ゴンを通しそして流出流れ濃度水準を測定することによ
り試験した。アルゴン流量は１リットル／分であった。 Ｈ２ Ｏ及びＯ２ の水準は、測定装置の検出感度（即
ち、Ｏ２ に対しては２ｐｐｂ未満そして水蒸気に対し
ては２０ｐｐｂ未満）未満であった。これは、水からの
Ｈ２ 及びＯ２ がＯ２ と共に化学量論的に除去され
ていることを示す。
【００２８】１５０分後、これら値は同一のままであっ
た。
た。
【００２９】（例３）ＮＨ３ が分解しないことを確認
するために、５００ｐｐｍのＮＨ３ を含有するＨｅを
０．５リットル／分の流量で精製装置を通して流した。 精製装置を１００℃の温度に保持した。
するために、５００ｐｐｍのＮＨ３ を含有するＨｅを
０．５リットル／分の流量で精製装置を通して流した。 精製装置を１００℃の温度に保持した。
【００３０】ＶＩＣＩ ＶＡＬＣＯガスクロマログラフ
装置を室の気体入口及び出口両方に取付けた。ＮＨ３
ピークの分析は認めうる程の差異を示さず、しかも分解
精製物の発生の可能性を示す程に充分のピークは形成さ
れていなかった。
装置を室の気体入口及び出口両方に取付けた。ＮＨ３
ピークの分析は認めうる程の差異を示さず、しかも分解
精製物の発生の可能性を示す程に充分のピークは形成さ
れていなかった。
【００３１】窒素は入口及び出口（０．２ｐｐｍ）いず
れでも検出し得なかった。５ｐｐｍ水準でのＨ２ が出
口で検出されたが、純ＮＨ３ での初期条件で収着した
Ｈ２ の脱着によるものと考えられる。
れでも検出し得なかった。５ｐｐｍ水準でのＨ２ が出
口で検出されたが、純ＮＨ３ での初期条件で収着した
Ｈ２ の脱着によるものと考えられる。
【００３２】
【発明の効果】半導体業界において、化学的蒸着（ＣＶ
Ｄ）及びエピタキシーのようなプロセスにおいて広く使
用されているアンモニア（ＮＨ３ ）ガスの高純度化の
ために、有害物質の放出とその後の精製されたガスの再
汚染を生じる危険がなく、しかもＮＨ３ の分解を生じ
ることなく、水素化されていないゲッタ合金を使用して
不純物を除去することに成功した。これにより、半導体
製品の収率を改善する。
Ｄ）及びエピタキシーのようなプロセスにおいて広く使
用されているアンモニア（ＮＨ３ ）ガスの高純度化の
ために、有害物質の放出とその後の精製されたガスの再
汚染を生じる危険がなく、しかもＮＨ３ の分解を生じ
ることなく、水素化されていないゲッタ合金を使用して
不純物を除去することに成功した。これにより、半導体
製品の収率を改善する。
【図１】本発明方法において有用な装置の一部破除した
正面図である。
正面図である。
１０ 精製装置
１２ 不純ガス導入口
１６ ゲッタ合金
１４ 精製室
１８ 精製ガス導出口１８
Claims (3)
- 【請求項１】 不純なＮＨ３ （アンモニア）から不
純物ガスの除去のための方法であって、（Ａ）Ｚｒ−Ｖ
−Ｆｅ合金を３００℃を超える温度に１０分を超える時
間加熱する段階と、（Ｂ）該合金を１５０℃未満の、Ｎ
Ｈ３の認めうる分解の起こる温度未満の温度まで冷却す
る段階と、（Ｃ）不純物含有ＮＨ３ を該Ｚｒ−Ｖ−Ｆ
ｅ合金と接触する段階とを包含する不純なＮＨ３ から
不純物ガスを除去するための方法。 - 【請求項２】 不純物を含有するＮＨ３ を不純ガス
導入口及び精製ガス導出口を備えそしてＺｒ−Ｖ−Ｆｅ
合金を収蔵する室を通して流通せしめることにより不純
なＮＨ３ から不純物ガスを除去するための方法であっ
て、（Ａ）前記Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金を３００℃を超える
温度に希ガス乃至不活性ガスの流れ中で１０分を超える
期間加熱して、該合金に不純物の収着を可能とする状態
とする段階と、（Ｂ）該合金を１００℃以下の、ＮＨ３
の認めうる分解を生ぜしめない温度にまで冷却する段
階と、（Ｃ）不純物含有ＮＨ３ を該Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合
金と接触する段階とを包含する不純なＮＨ３から不純物
ガスを除去するための方法。 - 【請求項３】 Ｈ２ Ｏ及びＯ２ を含有するＮＨ３
を不純ガス導入口及び精製ガス導出口を備えそしてＺ
ｒ−Ｖ−Ｆｅ合金を収蔵する室を通して流通せしめるこ
とにより不純なＮＨ３ からＨ２Ｏ及びＯ２ を除去す
るための方法であって、（Ａ）前記Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金
を３００℃を超える温度に希ガス乃至不活性ガスの流れ
中で１０分を超える期間加熱して、該合金に不純物の収
着を可能とする状態とする段階と、（Ｂ）該合金を１０
０℃以下の、ＮＨ３ の認めうる分解を生ぜしめない温
度にまで冷却する段階と、（Ｃ）不純なＮＨ３ のＨ２
Ｏ及びＯ２ を該Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金と接触せしめて
、Ｈ２ Ｏの水素及び酸素をＯ２ と共に化学量論的に
除去する段階とを包含する不純なＮＨ３ から不純物ガ
スを除去するための方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT02195890A IT1244006B (it) | 1990-11-02 | 1990-11-02 | Procedimento di purificazione dell'ammoniaca. |
| IT21958A/90 | 1990-11-02 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04292413A true JPH04292413A (ja) | 1992-10-16 |
Family
ID=11189403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3313165A Withdrawn JPH04292413A (ja) | 1990-11-02 | 1991-11-01 | アンモニアの精製方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0484301B1 (ja) |
| JP (1) | JPH04292413A (ja) |
| KR (1) | KR100225449B1 (ja) |
| DE (1) | DE69104586T2 (ja) |
| IT (1) | IT1244006B (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0662339A3 (en) * | 1994-01-07 | 1996-11-13 | Osaka Oxygen Ind | Process for removing water from gases. |
| IT1277458B1 (it) * | 1995-08-07 | 1997-11-10 | Getters Spa | Processo per la rimozione di ossigeno da ammoniaca a temperatura ambiente |
| US6776970B1 (en) | 1995-08-07 | 2004-08-17 | Giorgio Vergani | Getter materials for deoxygenating ammonia/oxygen gas mixtures at low temperature |
| DE19963283B4 (de) * | 1998-12-30 | 2006-04-06 | Showa Denko K.K. | Verfahren zur Herstellung eines GaN-Verbindungshalbleiters |
| JP3818051B2 (ja) * | 1999-12-10 | 2006-09-06 | 昭和電工株式会社 | アンモニア中の水分濃度の測定方法、測定装置、水分が低減されたアンモニアの製造方法およびその用途 |
| KR100364598B1 (ko) * | 2000-08-17 | 2002-12-16 | 주식회사 세종소재 | 질소 정제용 게터 |
| US6576138B2 (en) | 2000-12-14 | 2003-06-10 | Praxair Technology, Inc. | Method for purifying semiconductor gases |
| US7446078B2 (en) | 2002-07-09 | 2008-11-04 | Air Products And Chemicals, Inc. | Adsorbent for water removal from ammonia |
| US6892473B1 (en) | 2003-12-08 | 2005-05-17 | Air Products And Chemicals, Inc. | Process for removing water from ammonia |
| US7160360B2 (en) | 2003-12-08 | 2007-01-09 | Air Products And Chemicals, Inc. | Purification of hydride gases |
| KR100839381B1 (ko) | 2006-11-01 | 2008-06-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 배터리 관리 시스템 및 그 구동방법 |
| KR100882913B1 (ko) | 2007-03-19 | 2009-02-10 | 삼성에스디아이 주식회사 | 배터리 팩 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3609871A (en) * | 1970-02-27 | 1971-10-05 | John M Ellison | Gas purification and getter regeneration apparatus and method |
| IT1110271B (it) * | 1979-02-05 | 1985-12-23 | Getters Spa | Lega ternaria getterante non evaporabile e metodo di suo impiego per l'assorbimento di acqua,vapore d'acqua,di altri gas |
| US4586561A (en) * | 1984-02-27 | 1986-05-06 | Exxon Research And Engineering Co. | Low temperature heat pipe employing a hydrogen getter |
| US4579723A (en) * | 1985-03-28 | 1986-04-01 | The Boc Group, Inc. | Methods for purifying inert gas streams |
| JPS623006A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-09 | 大陽酸素株式会社 | 窒素の超精製装置、並びに精製方法 |
| IT1227219B (it) * | 1988-09-26 | 1991-03-27 | Getters Spa | Apparecchiatura e metodo relativo per asportare impurezze gassose da gas inerti ed assicurare livelli estremamente bassi di idrogeno |
-
1990
- 1990-11-02 IT IT02195890A patent/IT1244006B/it active IP Right Grant
-
1991
- 1991-10-21 KR KR1019910018513A patent/KR100225449B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1991-10-31 EP EP91830475A patent/EP0484301B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-10-31 DE DE69104586T patent/DE69104586T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-11-01 JP JP3313165A patent/JPH04292413A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69104586T2 (de) | 1995-02-16 |
| IT1244006B (it) | 1994-06-28 |
| EP0484301A1 (en) | 1992-05-06 |
| IT9021958A1 (it) | 1992-05-02 |
| KR920009697A (ko) | 1992-06-25 |
| DE69104586D1 (de) | 1994-11-17 |
| EP0484301B1 (en) | 1994-10-12 |
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|---|---|---|---|
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