JPH04289700A - シンクロトロン放射光発生装置 - Google Patents

シンクロトロン放射光発生装置

Info

Publication number
JPH04289700A
JPH04289700A JP5510791A JP5510791A JPH04289700A JP H04289700 A JPH04289700 A JP H04289700A JP 5510791 A JP5510791 A JP 5510791A JP 5510791 A JP5510791 A JP 5510791A JP H04289700 A JPH04289700 A JP H04289700A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
particles
synchrotron radiation
tune
vacuum duct
frequency
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP5510791A
Other languages
English (en)
Inventor
Ichiro Honjo
本荘 一郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP5510791A priority Critical patent/JPH04289700A/ja
Publication of JPH04289700A publication Critical patent/JPH04289700A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Particle Accelerators (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、粒子を、電子蓄積リン
グの真空ダクト内を周回させて、シンクロトロン放射光
を得るシンクロトロン放射光発生装置に関する。
【0002】近年、、半導体装置の高集積化、高密度化
に伴い、半導体基板に微細パターンを形成するにあたり
、シンクロトロン放射光(SOR)を用いてX線露光を
行っている。このシンクロトロン放射光は、電子蓄積リ
ング内を電子又は陽電子の粒子が光速に近い速度で振動
しながら周回し、該粒子の運動方向の変化時に放射され
るものであり、高安定化のシンクロトロンの放射光が得
られる安価な発生装置が望まれている。そのため、電子
蓄積リング内を周回する粒子の振動数の変動を防止する
必要がある。
【0003】
【従来の技術】図3に、従来のシンクロトロン放射光発
生装置の概略図を示す。図3において、シンクロトロン
放射光発生装置1は、入射器2と連通する超高真空の電
子蓄積リングの真空ダクト3の所定位置に複数の偏向電
磁石4が設けられており、所定の偏向電磁石4部分によ
りシンクロトロン放射光を放射するビームライン5が連
通している。ある偏向電磁石4間には3個の四極電磁石
6が複数組で設けられ、該四極電磁石6が設けられてい
ない偏向電磁石4間の一箇所に電子又は陽電子の粒子を
高周波の電界により加速する高周波加速空洞7が設けら
れている。
【0004】ここで、図4に従来の図3における電磁石
を説明するための図を示す。図4(A)は偏向電磁石を
示したもので、図4(B)は四極電磁石を示したもので
ある。図4(A)における偏向電磁石4は、偏平状に形
成された真空ダクト3の上下より内部に磁界を印加させ
る逆「コ」の字状のものである。この偏向電磁石4は入
射器2より入射した粒子を真空ダクト3内を周回させる
ために軌道を曲げる働きをなす。また、図4(B)にお
ける四極電磁石6は、筒状のヨークの内空に対向して4
つの磁極P1 〜P4 が90度間隔に形成されたもの
である。この四極電磁石6は粒子が真空ダクト3内を安
定に周回し続けるために該粒子ビームを収束、発散させ
る働きをなす。
【0005】このようなシンクロトロン放射光装置1は
、例えばX線露光技術に使用する場合、入射器2より入
射した粒子が電子蓄積リングの真空ダクト3の中を、各
電磁石4,6からの電磁力を受けながらある平衡軌道の
周りを振動して周回しながらシンクロトロン放射光を放
射する。これを、ビームライン5を通ってステッパ露光
装置に導くものである。
【0006】ところで、粒子の平衡軌道は、各電磁石4
,6の配置や、理想的な磁場強度からのずれなどによっ
て決定される。また、粒子の振動は、一般にベータトロ
ン振動と呼ばれているもので、リング状の真空ダクト3
を一周する間に振動する振動数がチューンと呼ばれる。 すなわち、チューンは四極電磁石の強さで決定され、収
束力を強めれば振動数が増加し、発散力を強めれば振動
数が減少する。この場合、四極電磁石6の収束力や発散
力が強すぎると、粒子は発散して安定に周回できなくな
る。
【0007】ここで、図5に従来における粒子周回の安
定領域の傾向を説明するためのグラフを示す。図5は安
定領域の例としてUVSOR(国立分子科学研究所シン
クロトロン放射光施設)の場合を示したものである。図
5のグラフにおいて、横軸に収束用の四極電磁石(QF
)6の強さを示し、縦軸に発散用の四極電磁石(QD)
6の強さを示している。ここで、Kは四極電磁石の強さ
を表わす量である。すなわち、図5中、安定領域の各交
点で粒子のチューンが決定される。例えば、図5の振動
を粒子の水平方向とすると、粒子の垂直方向の振動も同
様に決定され、すなわちチューンは水平、垂直に二値が
存在するものである。一方、四極電磁石6は、水平方向
に収束力を有するものは垂直方向に発散力として作用し
、逆に水平方向に発散力を有するものは垂直方向に収束
力として作用するという関係があり、水平方向のチュー
ンを増やせば垂直方向のチューンが減少する。
【0008】そこで、図6に、従来のチューン測定を説
明するための概念図を示す。図6におけるチューン測定
は一般にRFKO(Radio Frequncy K
nock−Out) システムと呼ばれる装置を用いる
もので、例えば電子蓄積リングの真空ダクト3内を周回
する電子e− (又は陽電子e+ )に可変周波数振動
発生器10より増幅器11を介して振動磁場発生器(R
FKO)10aにより水平又は垂直方向の磁場を印加し
して振動させ、その周波数を変化させることで粒子の共
鳴状態を観ることによりチューン測定を行うものである
。すなわち、粒子の振動数は共鳴周波数に対応するもの
で、シンクロトロン放射光を光モニタ(検出器)12に
より検出し、信号処理器13を介してスペクトラム・ア
ナライザ14にかけて、粒子の振幅の変化をシンクロト
ロン放射光強度として観測するものである。または、真
空ダクト3より位置モニタ電極(又はピックアップ用電
極)15で粒子の振幅をピックアップし、スペクトラム
・アナライザ14により粒子が振動することで誘起され
る電圧の変化を周波数分解して処理を行うものである。
【0009】一方、図7に、従来のシントントロン放射
光の動作点と共鳴線の傾向を説明するためのグラフを示
す。図7は、UVSORについてのグラフであるが一般
の蓄積リングについても同様の傾向を示すものである。 一般に、チューンをνX ,νY とすると、λX ・
νX +λY ・νY =K  …(1)の条件を満た
す時は、粒子は安定して周回することができない。ここ
でλ,Kと共に整数である。例えば、(λX ,λY 
)が、(0,1)又は(1,0)の時は整数共鳴と呼ば
れ、(0,2)又は(2,0)の時は半数共鳴と呼ばれ
る。すなわち、図7中、実線は整数共鳴線線,破線は半
整数共鳴線を表わし、粒子はこの線上のチューンで安定
に周回できない。。従って、四極電磁石6の磁場分布中
の均一度や設置誤差によってこれらの共鳴強さが決定さ
れるが、例えば図7中A(νX =2.25,νY =
1.25)のように共鳴線を避けてチューン設定をする
ものである。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかし、四極電磁石6
を駆動する電源がドリストしたり、また温度による該四
極電磁石6の位置が変動するとチューンが時間と共に変
化する。これによりチューンが図7における共鳴線にか
かると粒子が短命化し、又は軌道が発散して失われる。 また、チューンが上記共鳴線にかからない場合でも、前
述の平衡軌道がチューンの大きさに依存していることか
ら、偏向電磁石4中をでの粒子軌道が変化し、ひいては
ステッパ露光装置に導かれるシンクロトロン放射光の光
源としての位置が変化してビームライン5内のスリット
(図示せず)等で遮られ、該ステップ露光装置に放射光
が届かないという事態が生じる。
【0011】そのため、上記電源の変動を防止すること
は非常に高価となると共に、設置場所の温度調節を行っ
ているが、何らかの原因でずれたチューンに、シンクロ
トロン放射光が利用されない時に例えば入射直後熟練者
による補正を要するという問題がある。
【0012】そこで、本発明は上記課題に鑑みなされた
もので、安価であり,自動的にチューンを補正して電源
や温度の調節を不要とするシンクロトロン放射光発生装
置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記課題は、電子蓄積リ
ングの真空ダクト内を振動しながら周回する粒子を、該
真空ダクトの所定位置に設けられた四極電磁石により収
束、発散させて安定周回させ、偏向電磁石により該粒子
を偏向して放射光を得るシンクロトロン放射光発生装置
において、前記真空ダクト内を周回する粒子の振動数を
所定時間ごとに測定する測定手段と、該測定手段により
測定された振動数と予め設定した設定値とを比較してず
れ量を算出する演算手段と、該演算手段によるずれ量に
応じて、前記四極電磁石の励磁電流を増減して該粒子を
該設定値の振動数で周回させるべく補正する補正手段と
を有する構成とすることにより解決される。
【0014】
【作用】上述のように、周回粒子の振動数を所定時間ご
とに測定し、これを設定値と比較してずれ量を算出する
。そして、このずれ量に応じて四極電磁石の励磁電流を
増減して該設定値のチューンで粒子を周回させるべき補
正を行っている。
【0015】これにより、粒子は自動的に常に一定値の
チューンで真空ダクト内を周回することから、四極電磁
石を駆動する電源や設置場所の温度の調整を不要とする
ことが可能となり、製作コストの低減を図ることが可能
となる。
【0016】
【実施例】図1に、本発明の一実施例の構成図を示す。 なお、図3及び図6と同一の構成部分には同一の符号を
付す。図1において、シンクロトロン放射光発生装置1
A は、真空ダクト3内を周回する電子又は陽電子の粒
子に、トリガによって可変周波数振動発生器10より増
幅器11を介して振動磁場発生器10aより水平又は垂
直の磁場を印加して振動させる。この粒子の振動は位置
モニタ電極15により検出され信号処理器16を介して
スペクトラム・アナライザ14に入力され、スペクトラ
ム・アナライザ14はトリガ部20からのトリガにより
電圧変化で周波数分解を行い、チューン計算部21によ
り振動数を測定する。この可変周波数振動発生器10,
増幅器11,振動磁場発生器10a,位置モニタ電極1
5,信号処理器16,スペクトラム・アナライザ14,
トリガ部20及びチューン計算部21により測定手段を
構成する。
【0017】チューン計算部21の出力が加算器22に
入力され、メモリ部23からのチューン設定値と比較し
てずれ量を算出する。この加算器22及びメモリ部23
により演算手段を構成する。
【0018】加算器22からのずれ量は、制御部24に
入力され、マップデータ部25のデータに基づいて電源
部26を駆動する。電源部26は水平用の収束用四極電
磁石(QF)4a及び垂直用の発散用四極電磁石(QD
)4bを駆動する。この制御部24,マップデータ部2
5及び電源部26により補正手段を構成する。
【0019】なお、電子蓄積リングの他の構成は図3と
同様である。
【0020】このような、シンクロトロン放射光発生装
置1A は測定手段において、まず、真空ダクト3内を
周回する粒子を、トリガによって可変周波数振動発生器
10で駆動する振動磁場発生器10aにより振動させ、
該振動を位置モニタ電極15により検出してスペクトラ
ム・アナライザ14に取り込む。トリガ部20は、所定
時間ごとにスペクトラム・アナライザ14にトリガをか
け、トリガに応じてスペクトラム・アナライザ14が粒
子の振動で誘起される電圧の変化を周波数分解(νX 
,νY )してチューン計算部21に送る。そして、チ
ューン計算部21において該粒子の振動数ν1 を算出
する。 すなわち、所定時間間隔で粒子の振動数を自動的に測定
するものである。
【0021】チューン計算部21により算出された振動
数ν1 は、加算器22により、予めメモリ部23に設
定されたチューン設定値(νXO,νYO)からの振動
数ν2 と比較され、その差をずれ量Δνとして制御部
24に入力する。
【0022】制御部24は、加算器22からのずれ量Δ
νに基づいて、マップデータ部25に予めメモリされて
いるチューン補正のための電流値を決定する。ここで、
図2に本発明のチューン補正を行うマップデータ値のグ
ラフを示す。図2のグラフは、UVSORでのチューン
と四極電磁石4a,4bとの強さの関係を示したもので
、予め四極電磁石4a,4bの励磁電流の増減とチュー
ンのシフト量との対応を測定しておき、マップデータ部
25にマップを作成しておいたものである。すなわち、
横軸の水平方向の振動数νX と縦軸の垂直方向の振動
数νY との関係で、水平用四極電磁石(QF)4aの
強さKと垂直用四極電磁石(QD)4bの強さKとのパ
ラメータであり、これに従って制御部24がずれ量Δν
との補間処理を行い、励磁電流量の増減値をΔIを決定
する。そして、制御部24は増減値ΔIにより電源部2
6を制御する。電源部26を制御する。電源部26は増
減値ΔIにより水平用四極電磁石(QF)4aを駆動す
ると共に、垂直用四極電磁石(QD)4bを駆動するも
のである。
【0023】これにより、真空ダクト3内を周回する粒
子は自動的に常に一定の振動数により周回する。従って
、高精度の電磁石電源や厳しい温度調節機構が不要とな
り、製作コストを安価にすることができる。また粒子の
長寿命化やシンクロトロン放射光の光源位置の保持が可
能となり、高いスループットを達成し、安定なX線露光
を行うことができるものである。
【0024】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、周回粒子
の振動数を所定時間ごとに測定して設定値との比較によ
りずれ量を算出し、このずれ量に応じて四極電磁石の励
磁電流を増減して補正することにより、安価であり、自
動的にチューンを補正して電源や温度の調節を不要とす
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の構成図である。
【図2】本発明のチューン補正を行うマップデータ値を
示したグラフである。
【図3】従来のシンクロトロン放射光発生装置の概略図
である。
【図4】従来の図3における電磁石を説明するための図
である。
【図5】従来における粒子周回の安定領域の傾向を説明
するためのグラフである。
【図6】従来のチューン測定を説明するための概念図で
ある。
【図7】従来のシンクロトロン放射光の動作点と共鳴線
の傾向を説明するためのグラフである。
【符号の説明】
1,1A   シンクロトロン放射光発生装置3  真
空ダクト 4  偏向電磁石 6  四極電磁石 10  可変周波数振動発生器 14  スペクトラム・アナライザ 23  メモリ部 24  制御部 25  マップデータ部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  電子蓄積リングの真空ダクト(3)内
    を振動しながら周回する粒子を、該真空ダクト(3)の
    所定位置に設けられた四極電磁石(6)により収束、発
    散させて安定周回させ、偏向電磁石(4)により該粒子
    を偏向して放射光を得るシンクロトロン放射光発生装置
    において、前記真空ダクト(3)内を周回する粒子の振
    動数を所定時間ごとに測定する測定手段(10,10a
    ,11,14,15,16,20,21)と、該測定手
    段(10等)により測定された振動数と予め設定した設
    定値とを比較してずれ量を算出する演算手段(22,2
    3)と、該演算手段(22,23)によるずれ量に応じ
    て、前記四極電磁石(6)の励磁電流を増減して該粒子
    を該設定値の振動数で周回させるべく補正する補正手段
    (24〜26)と、を有することを特徴とするシンクロ
    トロン放射光発生装置。
JP5510791A 1991-03-19 1991-03-19 シンクロトロン放射光発生装置 Withdrawn JPH04289700A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5510791A JPH04289700A (ja) 1991-03-19 1991-03-19 シンクロトロン放射光発生装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5510791A JPH04289700A (ja) 1991-03-19 1991-03-19 シンクロトロン放射光発生装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04289700A true JPH04289700A (ja) 1992-10-14

Family

ID=12989531

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5510791A Withdrawn JPH04289700A (ja) 1991-03-19 1991-03-19 シンクロトロン放射光発生装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04289700A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007157626A (ja) * 2005-12-08 2007-06-21 High Energy Accelerator Research Organization 高周波制御装置
JP2011146400A (ja) * 2011-03-22 2011-07-28 High Energy Accelerator Research Organization 高周波制御装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007157626A (ja) * 2005-12-08 2007-06-21 High Energy Accelerator Research Organization 高周波制御装置
JP2011146400A (ja) * 2011-03-22 2011-07-28 High Energy Accelerator Research Organization 高周波制御装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7982416B2 (en) Circular accelerator
JP4518596B2 (ja) 高周波加速方法及び装置
JP2012234653A (ja) 円形加速器、および円形加速器の運転方法
US20180350559A1 (en) Ion implanter and ion implantation method
US10361066B2 (en) Ion implantation apparatus
US9984851B2 (en) Ion implanter, magnetic field measurement device, and ion implantation method
JP2010251106A (ja) 粒子線治療システム
WO1987005461A1 (en) Method of stabilizing electron beam in an electron accumulating ring and a ring system for accumulating electrons
JP2018187308A (ja) 粒子線治療システム
JPH04289700A (ja) シンクロトロン放射光発生装置
JP2003051435A (ja) 電子線描画装置および電子顕微鏡
JP2008112693A (ja) 環状型加速装置及びその運転方法
JP3100003B2 (ja) 放射光発生装置
JP4131642B2 (ja) Fel波長変更方法および装置
JP2020069302A (ja) 粒子線治療装置の運転条件の決定方法、および粒子線治療装置
JP2892562B2 (ja) 円形加速器とその運転方法
JPH10256110A (ja) 成形偏向器のオフセット調整方法及びこれを適用した荷電ビーム描画装置
JP2000340399A (ja) 電子ビームの軌道補正装置及び軌道補正方法
JPH04196707A (ja) 圧電素子の周波数調整装置および周波数調整方法
JP2003022957A (ja) 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法
JPH08288098A (ja) 粒子加速器
JP2021040901A (ja) 粒子線治療装置および粒子線治療装置の補正方法
JP2010050019A (ja) 円形加速器
JPH09275000A (ja) 電子蓄積リングにおけるシンクロトロン振動抑制装置
JPS63307700A (ja) ビ−ム閉軌道補正装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19980514