JPH04288068A

JPH04288068A - 光学活性な含フッ素化合物

Info

Publication number: JPH04288068A
Application number: JP4601391A
Authority: JP
Inventors: Tomoya Kitatsume; 智哉北爪; Takashi Yamazaki; 孝山崎; Kenji Mizutani; 水谷　憲二
Original assignee: Kashima Oil Co Ltd
Current assignee: Kashima Oil Co Ltd
Priority date: 1991-02-19
Filing date: 1991-02-19
Publication date: 1992-10-13
Anticipated expiration: 2013-11-05
Also published as: JP2821038B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光学活性な含フッ素化
合物に関し、詳しくは、様々な化学薬品，工業薬品，強
誘電性液晶などの原料として有用な光学活性な含フッ素
化合物に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶の利用が増大するとともに新
しい構造を有する液晶の開発が求められている。これま
でに、本発明者らの研究グループは、これら液晶として
利用できる様々な光学活性な含フッ素化合物を開発する
ことに成功している（特開昭６４−８３０７４号公報，
特開平１−１６３１４３号公報，同１−２３３２４３号
公報，同１−２３３２４４号公報，同２−４９７４３号
公報，同２−１６７２５２号公報，同２−２３２２０８
号公報，同２−２３２２０９号公報等）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、さらに
研究を続け、γ−ラクトン環を有する新たなタイプの液
晶として有望な光学活性化合物を開発することを目的と
して研究を重ね、本発明を完成した。本発明の目的は、
５員環ラクトンに隣接する不斉炭素原子上に、それ自体
大きな電子吸引性を有するフルオロアルキル基を有する
新規化合物を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、一
般式（Ｉ）

【化２】〔式中、Ｒｆ　は炭素数１又は２のフルオロアルキル基
を示し、Ｒ１及びＲ２　はそれぞれ独立に水素，炭素数
１〜１５の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基，炭素数２〜
１５のアルケニル基又は炭素数７〜１０のアラルキル基
を示し、＊は不斉炭素を示す。〕で表される光学活性な
含フッ素化合物を提供するものである。

【０００５】一般式（Ｉ）において、上記のようにＲｆ
　は炭素数１又は２のフルオロアルキル基を示し、具体
的にはトリフルオロメチル基，ジフルオロメチル基，ク
ロロジフルオロメチル基，ペンタフルオロエチル基など
であり、好ましくはトリフルオロメチル基である。

【０００６】また、Ｒ１　及びＲ２　はそれぞれ独立に
水素原子，炭素数１〜１５の直鎖若しくは分岐鎖アルキ
ル基，炭素数２〜１５のアルケニル基又は炭素数７〜１
０のアラルキル基を示す。ここで、炭素数１〜１５の直
鎖若しくは分岐鎖アルキルとしては、例えばメチル基，
エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチ
ル基，ｓｅｃ　−ブチル基，ｔｅｒｔ−ブチル基，ｎ−
ペンチル基，イソペンチル基，１−メチルブチル基，ｎ
−ヘキシル基，ｎ−ヘプチル基，１−メチルヘプチル基
，ｎ−オクチル基，１−エチルヘプチル基，１−メチル
オクチル基，ｎ−ノニル基，１−エチルオクチル基，１
−メチルノニル基，ｎ−デシル基，ｎ−ウンデシル基，
ｎ−ドデシル基，ｎ−トリデシル基，ｎ−テトラデシル
基，ｎ−ペンタデシル基などが挙げられる。

【０００７】また、炭素数２〜１５のアルケニル基とし
ては、ビニル基，アリル基，１−プロペニル基，イソプ
ロペニル基，１−ブテニル基，２−ブテニル基，２−メ
チルアリル基，１−ペンテニル基，２−ペンテニル基，
１−ヘキセニル基，２−ヘキセニル基，１−ヘプテニル
基，２−ヘプテニル基，１−オクテニル基，２−オクテ
ニル基，１−ノネニル基，２−ノネニル基，１−デセニ
ル基，２−デセニル基，１−ウンデセニル基，２−ウン
デセニル基，１−ドデセニル基，２−ドデセニル基，１
−トリデセニル基，２−トリデセニル基，１−テトラデ
セニル基，２−テトラデセニル基，１−ペンタデセニル
基，２−ペンタデセニル基などが挙げられる。

【０００８】さらに、炭素数７〜１０のアラルキル基と
しては、ベンジル基，フェネチル基，フェニルプロピル
基，フェニルブチル基などが挙げられる。

【０００９】本発明による一般式（Ｉ）の化合物は、様
々な方法で製造することができるが、例えば以下の工程
により製造することができる。

【００１０】例えば、Ｒｆ　＝ＣＦ３　，Ｒ２　＝水素
の場合：フランをシリル化して一般式（ＩＩ）

【化３】〔式中、ＴＭＳはトリメチルシリル基を示す。〕で表さ
れる化合物を得、この化合物をさらにトリフルオロアセ
チル化して一般式（ＩＩＩ）

【化４】で表される化合物を得る。この反応はテトラヒドロフラ
ン，ジエチルエーテル等の溶媒を用い、有機リチウム化
合物、例えばｎ−ブチルリチウムとトリメチルシリルク
ロリドを用いてシリル化した後、上記のブチルリチウム
とトリフルオロ酢酸エチルを用いてトリフルオロアセチ
ル化することにより、−７８℃〜０℃の温度で行うこと
ができる。

【００１１】得られた一般式（ＩＩＩ）の化合物を常法
により還元して一般式（ＩＶ）

【化５】で表される化合物を得る。この反応は還元剤として例え
ば水素化ホウ素ナトリウム，水素化アルミニウムリチウ
ム，塩化第二錫等を用いて行うことができる。

【００１２】得られた一般式（ＩＶ）　の化合物を酸ク
ロリドと反応させてアシル化する。ここでアシル化剤と
して用いる酸クロリドは具体的には、塩化アセチル，塩
化プロピオニル，塩化イソブチロイル，塩化オクタノイ
ル，塩化ベンゾイル等である。

【００１３】得られた一般式（Ｖ）

【化６】〔式中、Ｒ’ＣＯはアシル基を示す。〕で表される化合
物を酵素を用いて不斉加水分解することにより一般式（
ＶＩ）　及び（ＶＩａ）

【化７】で表わされる光学活性なアルコール及びエステルを得る
。この反応に用いる酵素としては、いわゆる加水分解酵
素であれば各種のものを用いることができ、例えばリパ
ーゼＰＳ，リパーゼＭＹ，リパーゼＯＦ，セルラーゼ等
が挙げられる。上記の一般式（ＶＩａ）で表されるエス
テルは、化学的加水分解及び別の酵素による不斉加水分
解により、一般式（ＶＩ）　で表されるアルコールと鏡
像体の関係にある光学活性アルコールに変換することが
できる。

【００１４】次に、このようにして得られた一般式（Ｖ
Ｉ）　で表されるアルコールをシリル化して一般式（Ｖ
ＩＩ）

【化８】〔式中、ＴＢＤＭＳはｔ−ブチルジメチルシリル基を示
す。〕で表される化合物を得る。この反応はシリル化剤
としてｔ−ブチルジメチルシリルクロリドを用いて行う
ことができる。

【００１５】得られた一般式（ＶＩＩ）で表されるシリ
ル誘導体を酸化して一般式（ＶＩＩＩ）

【化９】で表される化合物を得る。この反応は、酸化剤として、
例えばモノパーオキシフタル酸マグネシウム塩，過酸化
水素を用いて酢酸，クロロホルム等の溶媒中で行うこと
ができる。また、この反応では、ジアステレオマー混合
物を得るが、これらの化合物はシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより容易に分離することができる。

【００１６】得られた一般式（ＶＩＩＩ）で表される化
合物をアルキル化して一般式（ＩＸ）

【化１０】で表される化合物を得る。この反応は、有機銅試薬、例
えばジ−ｎ−ブチル銅リチウム等を用い、−７８℃で行
うことができる。また、この反応では、ジアステレオマ
ー混合物は得られず、アンチ型化合物のみが生成する。

【００１７】次に、得られた一般式（ＩＸ）で表される
化合物の脱シリル化を行えば、目的とする一般式（Ｘ）

【化１１】で表される化合物を得る。この脱シリル化反応は、常法
により行うことができ、テトラヒドロフラン溶媒中、触
媒としてテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライド
を用いて０℃で行うことができる。

【００１８】また、Ｒｆ　＝ＣＦ３　，Ｒ１　＝水素の
場合：上記の一般式（ＶＩＩＩ）　で表わされる化合物
を常法により水素添加して、一般式（ＸＩ）

【化１２】で表される化合物を得る。水素添加は、溶媒として例え
ばエタノール，メタノール，ヘキサン，酢酸エチル，ベ
ンゼン，トルエン等を用い、パラジウム・チャーコール
を触媒として用いて水素雰囲気下に行うことができる。

【００１９】次に、得られた一般式（ＸＩ）　で表され
る化合物をアルキルハライド，アラルキルハライド又は
アルケニルハライド等と反応させることにより一般式（
ＸＩＩ）

【化１３】で表される化合物を得る。この反応は、テトラヒドロフ
ラン，エーテル等の溶媒中で、−７８℃でｎ−ブチルリ
チウムと有機塩基、例えばヘキサメチルジシラザン，ジ
イソプロピルアミンなどを用いて行うことができる。

【００２０】さらに、得られた一般式（ＸＩＩ）で表さ
れる化合物の脱シリル化を行えば、目的とする一般式（
ＸＩＩＩ）

【化１４】で表される化合物を得ることができる。この脱シリル化
反応は、テトラヒドロフラン溶媒中、触媒としてテトラ
−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライドを用いて０℃で
行うことができる。

【００２１】本発明の一般式（Ｉ）の化合物の代表的な
ものとしては、例えば（３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ）−３−ブ
チル−（２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−ヒド
ロキシエチル）−４−ブタノリド；（３Ｒ，４Ｒ，１’
Ｒ）−（２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−ヒド
ロキシエチル）−３−メチル−４−ブタノリド；（２Ｓ
，４Ｒ，１’Ｒ）−２−ベンジル−（２’，２’，２’
−トリフルオロ−１’−ヒドロキシエチル）−４−ブタ
ノリド；（２Ｓ，４Ｒ，１’Ｒ）−２−アリル−（２’
，２’，２’−トリフルオロ−１’−ヒドロキシエチル
）−４−ブタノリド；（２Ｓ，４Ｒ，１’Ｓ）−（２’
，２’，２’−トリフルオロ−１’−ヒドロキシエチル
）−２−メチル−４−ブタノリド；（２Ｓ，４Ｒ，１’
Ｒ）−（２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−ヒド
ロキシエチル）−２−メチル−４−ブタノリドなどが挙
げられる。

【００２２】

【実施例】次に、実施例に基づいて本発明をさらに具体
的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。

【００２３】また、以下の各例において、本発明の一般
式（Ｉ）で表される光学活性な含フッ素化合物のＲ，Ｓ
表示は、下記の式

【化１５】の位置番号に基づいて行った。

【００２４】実施例１（３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ）−３−ブチル−（２’，２’，
２’−トリフルオロ−１’−ヒドロキシエチル）−４−
ブタノリドの合成

【化１６】

【００２５】（ａ）窒素雰囲気下、フラン１３．６ｇ　
（２００ミリモル）をテトラヒドロフラン１５０ｍｌに
加え、１．５Ｍ　　ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液１
３３ｍｌ（２００ミリモル）を−２０℃で滴下し、１時
間反応させた。次に、トリメチルシリルクロリド２１．
７ｇ（２００ミリモル）を滴下し、−２０℃で１時間攪
拌した。１．５Ｍｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液１３
３ｍｌ（２００ミリモル）を加え、−２０℃で１時間反
応させた後、−７８℃でトリフルオロ酢酸エチル２８．
４ｇ（２００ミリモル）を滴下し、−７８℃で１時間、
室温でさらに１時間反応させた。この反応溶液に３Ｎ塩
酸を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。次
いで、飽和炭酸水素ナトリウム溶液，飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチル
を減圧留去し、フラン誘導体の粗生成物を得た。

【００２６】（ｂ）乾燥エタノール１００ｍｌに水素化
ホウ素ナトリウム２．３ｇ（６０ミリモル）を加え、上
記反応で得たフラン誘導体の粗生成物を０℃で３０分か
けて滴下した。室温で２時間反応させた後、エタノール
を減圧留去し、３Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸
エチルにより抽出した。次いで、飽和炭酸水素ナトリウ
ム，飽和食塩水で順次洗浄し、無水マグネシウムで乾燥
した。酢酸エチルを減圧留去した後、減圧蒸留を行い、
アルコール化合物４０．５ｇ（１７０ミリモル）を得た
。

【００２７】（ｃ）塩化メチレン２００ｍｌに上記（ｂ
）の反応で得たアルコール化合物２３．８ｇ（１００ミ
リモル）とピリジン８．９ｍｌ（１１０ミリモル）を加
え、０℃で塩化アセチル８．６ｇ（１１０ミリモル）を
滴下し、室温で１２時間反応させた。次いで、３Ｎ塩酸
を加えて反応を停止させ、塩化メチレンで抽出した。そ
の後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液，蒸留水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを
減圧留去した後、減圧蒸留を行い、エステル化合物２７
．５ｇ（９８ミリモル）を得た。

【００２８】（ｄ）蒸留水１０００ｍｌに上記反応によ
り得られたエステル化合物２８．０ｇ　（１００ミリモ
ル）を加えて、ミニジャーファーメンター中、４０℃で
攪拌した。リパーゼＰＳ　　２０ｇ　を加え、２０時間
反応させた。３Ｎ塩酸を加え、０℃に冷却して反応を停
止し、セライトによりろ過した。ろ液を酢酸エチルによ
り抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、酢酸エチルを減圧留去した。次いで、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製して光学
活性アルコール化合物１１．７ｇ　（４９ミリモル）と
光学活性エステル化合物１３．２ｇ（４７ミリモル）を
得た。なお、得られたアルコール化合物の光学純度は９
７．５％ｅ．ｅ．であった。

【００２９】（ｅ）上記反応で得られた光学活性アルコ
ール化合物１１．７ｇ（４９ミリモル）を塩化メチレン
１００ｍｌに溶かし、イミダゾール４．０ｇ（５９ミリ
モル）とｔ−ブチルジメチルシリルクロリド８．９ｇ（
５９ミリモル）を０℃で加えて１５分攪拌し、室温で１
６時間反応させた。蒸留水を加えて反応を停止させ、塩
化メチレンにより抽出した。次いで、蒸留水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを減圧
留去した後、カラムクロマトグラフィーにより分離精製
してシリルエーテル化合物１６．６ｇ（４７ミリモル）
を得た。

【００３０】（ｆ）窒素雰囲気下、酢酸１２０ｍｌに上
記反応で得られたシリルエーテル化合物１４．１ｇ（４
０ミリモル）及びモノパーオキシフタル酸マグネシウム
２３．２ｇ（６０ミリモル）を加え、８０℃で１２時間
反応させた。酢酸を減圧留去した後、飽和炭酸水素ナト
リウム溶液を加え、酢酸エチルにより抽出した。次いで
、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。酢酸エチルを減圧留去した後、カラムクロマトグラ
フィーにより分離精製し、（４Ｒ，１’Ｒ）ブテノリド
化合物　４．７ｇ（１６ミリモル）及び（４Ｓ，１’Ｒ
）ブテノリド化合物　３．０ｇ（１０ミリモル）を得た
。なお、４．２ｇ（１２ミリモル）の原料も回収された
。

【００３１】（ｇ）窒素雰囲気下、テトラヒドロフラン
１０ｍｌに沃化第一銅　１．９ｇ（１０ミリモル）を加
え、−７８℃で１．６Ｍ　　ｎ−ブチルリチウムヘキサ
ン溶液１２．５ｍｌ（２０ミリモル）をゆっくりと滴下
し、−７８℃で３０分，室温で５分，さらに−７８℃で
３０分反応させた。トリフルオロボラン・エーテル錯体
　２．８ｇ（２０ミリモル）を加え、−７８℃で３０分
攪拌した。次に、上記反応により得られた（４Ｒ，１’
Ｒ）ブテノリド化合物１．５ｇ（５ミリモル）のテトラ
ヒドロフラン（２ｍｌ）　溶液を滴下し、−７８℃で２
時間反応させた。希アンモニア水を加えて反応を停止し
、酢酸エチルで抽出した。チオ硫酸ナトリウム溶液，飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製す
ることによりアルキル化化合物１．５ｇ（４．３ミリモ
ル）を得た。

【００３２】（ｈ）上記反応で得られたアルキル化化合
物　１．５ｇ（４．３ミリモル）をテトラヒドロフラン
６ｍｌとメタノール３ｍｌの混合溶媒に加え、テトラ−
ｎ−ブチルアンモニウムフルオライド　０．１３ｇ（０
．５ミリモル）を０℃で加えて、１０時間反応させた。蒸留水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した
。次に、蒸留水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。酢酸エチルを減圧留去した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製して目的とする（３Ｒ，４Ｒ
，１’Ｒ）−３−ブチル−（２’，２’，２’−トリフ
ルオロ−１’−ヒドロキシエチル）−４−ブタノリド　
１．０ｇ（４．１ミリモル）を得た。

【００３３】得られた化合物の物理的性質を以下に示す
。分子式：Ｃ１０Ｈ１５Ｆ３Ｏ３　　１Ｈ−ＮＭＲ；σ（ｐｐｍ）０．８７（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ　，３Ｈ）；１．１５〜
１．６５（ｍ，６Ｈ）；１．６０〜２．００（ｂｓ，１
Ｈ）；２．１８（ｄｄ，Ｊ＝２．９，１７．４Ｈｚ　，
１Ｈ）；２．６５〜２．８５（ｍ，１Ｈ）；２．８７（
ｄｄ，Ｊ＝９．５，１７．５Ｈｚ，１Ｈ）；４．３６（
ｄｑ，Ｊ＝２．２，７．６Ｈｚ　，１Ｈ）；４．４５（
ｄｄ，Ｊ＝２．２，２．４Ｈｚ　，１Ｈ）１９Ｆ−ＮＭ
Ｒ（基準　　ＣＦ３ＣＯＯＨ）；σ（ｐｐｍ　）２．１
０　　（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ　）ＩＲ（ｃｍ−１）３３００，２９７５，２９５０，２８７５，１７６０質
量分析　　ｍ／ｅ　（Ｍ＋　＋１）計算値　　　　２４１．１０５１実測値　　　　２４１．１０３９〔α〕２５Ｄ　＝＋４．０°（ｃ＝０．８５，メタノー
ル）

【００３４】実施例２（３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ）−（２’，２’，２’−トリフ
ルオロ−１’−ヒドロキシエチル）−３−メチル−４−
ブタノリドの合成

【化１７】（ａ）窒素雰囲気下に、テトラヒドロフラン１０ｍｌに
沃化第一銅　１．９ｇ（１０ミリモル）を加え、−７８
℃で　１．０Ｍ　　メチルリチウムエーテル溶液２０ｍ
ｌ（２０ミリモル）をゆっくりと滴下し、−７８℃で３
０分，室温で５分，さらに−７８℃で３０分反応させた
。トリフルオロボラン・エーテル錯体　２．８ｇ（２０
ミリモル）を加え、−７８℃で３０分攪拌した。次に、
実施例１（ｆ）で得られた（４Ｒ，１’Ｒ）ブテノリド
化合物１．５ｇ（５ミリモル）のテトラヒドロフラン（
２ｍｌ）　溶液を滴下し、−７８℃で２時間反応させた
。希アンモニア水を加えて反応を停止し、酢酸エチルで
抽出した。チオ硫酸ナトリウム溶液，飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチル
を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで
分離精製することによりアルキル化化合物　１．５ｇ（
４．９ミリモル）を得た。

【００３５】（ｂ）上記反応により得られたアルキル化
化合物　１．５ｇ（４．９ミリモル）を用いて、実施例
１（ｈ）と同様の操作を行い、目的とする（３Ｒ，４Ｒ
，１’Ｒ）−（２’，２’，２’−トリフルオロ−１’
−ヒドロキシエチル）−３−メチル−４−ブタノリド　
１．０ｇ（４．７ミリモル）を得た。

【００３６】得られた化合物の物理的性質を以下に示す
。分子式：Ｃ７Ｈ９Ｆ３Ｏ３　　１Ｈ−ＮＭＲ；σ（ｐｐｍ）１．３０（ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ　，３Ｈ）；２．０５〜
２．２４（ｍ，１Ｈ）；２．８０〜３．００（ｍ，２Ｈ
）；４．２８〜４．４０（ｍ，２Ｈ）；４．４０〜４．
５０（ｂｓ，１Ｈ）１９Ｆ−ＮＭＲ（基準　　ＣＦ３Ｃ
ＯＯＨ）；σ（ｐｐｍ　）２．３０（ｍ）ＩＲ（ｃｍ−１）３３００，３０００，２９５０，２９２５，２９００，
１７４５〔α〕２４Ｄ　＝−９．３°（ｃ＝１．２８，メタノー
ル）

【００３７】実施例３（２Ｓ，４Ｒ，１’Ｒ）−２−ベンジル−（２’，２’
，２’−トリフルオロ−１’−ヒドロキシエチル）−４
−ブタノリドの合成

【化１８】

【００３８】（ａ）　　実施例１（ｆ）で得られた（４
Ｒ，１’Ｒ）−ブテノリド化合物　３．０ｇ（１０ミリ
モル）をエタノール３０ｍｌに加え、１０％パラジウム
・チャーコール０．３ｇを触媒として水素添加を１２時
間行った。触媒を濾過し、エタノールを減圧留去した後
、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製
してブタノリド化合物　２．７ｇ（９ミリモル）を得た
。

【００３９】（ｂ）窒素雰囲気下にテトラヒドロフラン
１０ｍｌにヘキサメチルジシラザン　１．９ｇ（１２ミ
リモル）を加え、１．６Ｍ　　ｎ−ブチルリチウムヘキ
サン溶液　６．９　ｍｌ（１１ミリモル）を−７８℃で
滴下し、３０分攪拌した。次に、上記反応により得られ
たブタノリド化合物　３．０ｇ（１０ミリモル）のテト
ラヒドロフラン（１０ｍｌ）溶液を滴下し、−７８℃で
１時間反応させた後、ベンジルブロマイド　２．１ｇ（
１２ミリモル）を滴下し、２時間反応させた。３Ｎ塩酸
を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。飽和
炭酸水素ナトリウム溶液，飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去
した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精
製してベンジル化合物　２．８ｇ（８ミリモル）を得た
。なお、この反応におけるアンチ体とシン体の生成比は
９６：４であった。

【００４０】（ｃ）上記反応より得られたベンジル化合
物　２．８ｇ（８ミリモル）を用い、実施例１（ｈ）と
同様の操作を行い、目的とする（２Ｓ，４Ｒ，１’Ｒ）
−２−ベンジル−（２’，２’，２’−トリフルオロ−
１’−ヒドロキシエチル）−４−ブタノリド　１．５ｇ
（８ミリモル）を得た。

【００４１】得られた化合物の物理的性質を以下に示す
。分子式：Ｃ１３Ｈ１３Ｆ３Ｏ３　　１Ｈ−ＮＭＲ；σ（ｐｐｍ）２．０４（ｄｔ，Ｊ＝１３．５，８．４Ｈｚ　，１Ｈ）
；２．５６（ｄｄｄｑ，Ｊ＝３．７，９．５，１３．６
，０．８Ｈｚ　，１Ｈ）；２．８０（ｄｄ，Ｊ＝９．８
，１４．９Ｈｚ　，１Ｈ）；３．１０〜３．３０（ｍ，
２Ｈ）；４．２０〜４．５０（ｂｓ，１Ｈ）；４．３６
（ｄｑ，Ｊ＝２．０，７．０Ｈｚ　，１Ｈ）；４．５７
（ｄｄｄ，Ｊ＝２．０，３．７，８．７Ｈｚ　，１Ｈ）
；７．１０〜７．４０（ｍ，５Ｈ）１９Ｆ−ＮＭＲ（基準　　ＣＦ３ＣＯＯＨ）；σ（ｐｐ
ｍ　）２．００　　（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ　）ＩＲ（ｃ
ｍ−１）３３００，３０００，２９５０，２９２５，２９００，
１７４５〔α〕２４Ｄ　＝−９．３°（ｃ＝１．２８，メタノー
ル）

【００４２】実施例４（２Ｓ，４Ｒ，１’Ｓ）−（２’，２’，２’−トリフ
ルオロ−１’−ヒドロキシエチル）−２−メチル−４−
ブタノリドの合成

【化１９】

【００４３】（ａ）実施例１（ｄ）で得られた光学活性
エステル化合物１３．２ｇ（４７ミリモル）をメタノー
ル３０ｍｌと水１０ｍｌの混合溶媒に溶かし、炭酸カリ
ウム１３．８ｇ（１００ミリモル）を加え、１６時間反
応させた。メタノールを減圧留去し、３Ｎ塩酸を加えて
反応を停止し、エーテルにより抽出した。次いで、飽和
炭酸水素ナトリウム溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。エーテルを減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製す
ることにより光学活性アルコール化合物１０．７ｇ（４
５ミリモル）を得た。なお、得られたアルコール化合物
の光学純度は９４．３％ｅ．ｅ．であった。

【００４４】（ｂ）上記反応で得られた光学活性アルコ
ール化合物１０．７ｇを用い、実施例１（ｅ）及び（ｆ
）と同様の反応を行うことにより（４Ｓ，１’Ｓ）−ブ
テノリド化合物　５．１ｇ（１７ミリモル）及び（４Ｒ
，１’Ｓ）−ブテノリド化合物　３．２ｇ（１１ミリモ
ル）を得た。なお、４．６ｇ（１３ミリモル）の原料も
回収された。

【００４５】（ｃ）得られた（４Ｒ，１’Ｓ）−ブテノ
リド化合物　３．２ｇ（１１ミリモル）を用いて実施例
３（ａ）と同様の操作を行い、（４Ｒ，１’Ｓ）−ブタ
ノリド化合物　３．０ｇ（１０ミリモル）を得た。次に
、得られたブタノリド化合物　３．０ｇ（１０ミリモル
）と沃化メチル　１．７ｇ（１２ミリモル）を実施例３
（ｂ）と同様の操作で反応させ、メチル化合物２．５ｇ
（８ミリモル）を得た。なお、この反応におけるアンチ
体とシン体の比は９６：４であった。

【００４６】（ｄ）上記反応により得られたメチル化化
合物　２．５ｇ（８ミリモル）を用い、実施例１（ｈ）
と同様の操作を行い、目的とする（２Ｓ，４Ｒ，１’Ｓ
）−（２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−ヒドロ
キシエチル）−２−メチル−４−ブタノリド　１．５ｇ
（８ミリモル）を得た。

【００４７】得られた化合物の物理的性質を以下に示す
。分子式：Ｃ７Ｈ９Ｆ３Ｏ３　　１Ｈ−ＮＭＲ；σ（ｐｐｍ）１．２７（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ　，３Ｈ）；２．０６（
ｄｄｄ，Ｊ＝８．６，８．６，１３．０Ｈｚ　，１Ｈ）
；２．４９（ｄｄｄ，Ｊ＝３．８，９．５，１３．０Ｈ
ｚ　，１Ｈ）；２．８９（ｄｄｑ，Ｊ＝８．６，９．５
，７．３Ｈｚ　，１Ｈ）；３．８５〜４．５０（ｍ，１
Ｈ）；４．７５（ｄｄｄ，Ｊ＝２．３，３．９，８．７
Ｈｚ　，１Ｈ）；５．９９（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ　，１
Ｈ）１９Ｆ−ＮＭＲ（基準　　ＣＦ３ＣＯＯＨ）；σ（
ｐｐｍ　）２．４０　　（ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ　）ＩＲ
（ｃｍ−１）３３００，３０００，２９５０，２９２５，２９００，
１７４０〔α〕２５Ｄ　＝＋４４．３°（ｃ＝０．４７，メタノ
ール）

【００４８】

【発明の効果】本発明によれば、５員環ラクトンに隣接
炭素原子上に電子吸引性の大きいフルオロアルキル基を
有する新規化合物が得られる。これらの化合物は、酵素
阻害剤，生物活性物質，抗癌剤及び強誘電性液晶等の原
料として広範な利用が期待される。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　一般式（Ｉ）【化１】〔式中、Ｒｆ　は炭素数１又は２のフルオロアルキル基
を示し、Ｒ１及びＲ２　はそれぞれ独立に水素，炭素数
１〜１５の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基，炭素数２〜
１５のアルケニル基又は炭素数７〜１０のアラルキル基
を示し、＊は不斉炭素を示す。〕で表される光学活性な
含フッ素化合物。