JPH04288068A - 光学活性な含フッ素化合物 - Google Patents
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Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光学活性な含フッ素化
合物に関し、詳しくは、様々な化学薬品,工業薬品,強
誘電性液晶などの原料として有用な光学活性な含フッ素
化合物に関する。
合物に関し、詳しくは、様々な化学薬品,工業薬品,強
誘電性液晶などの原料として有用な光学活性な含フッ素
化合物に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、液晶の利用が増大するとともに新
しい構造を有する液晶の開発が求められている。これま
でに、本発明者らの研究グループは、これら液晶として
利用できる様々な光学活性な含フッ素化合物を開発する
ことに成功している(特開昭64−83074号公報,
特開平1−163143号公報,同1−233243号
公報,同1−233244号公報,同2−49743号
公報,同2−167252号公報,同2−232208
号公報,同2−232209号公報等)。
しい構造を有する液晶の開発が求められている。これま
でに、本発明者らの研究グループは、これら液晶として
利用できる様々な光学活性な含フッ素化合物を開発する
ことに成功している(特開昭64−83074号公報,
特開平1−163143号公報,同1−233243号
公報,同1−233244号公報,同2−49743号
公報,同2−167252号公報,同2−232208
号公報,同2−232209号公報等)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、さらに
研究を続け、γ−ラクトン環を有する新たなタイプの液
晶として有望な光学活性化合物を開発することを目的と
して研究を重ね、本発明を完成した。本発明の目的は、
5員環ラクトンに隣接する不斉炭素原子上に、それ自体
大きな電子吸引性を有するフルオロアルキル基を有する
新規化合物を提供することにある。
研究を続け、γ−ラクトン環を有する新たなタイプの液
晶として有望な光学活性化合物を開発することを目的と
して研究を重ね、本発明を完成した。本発明の目的は、
5員環ラクトンに隣接する不斉炭素原子上に、それ自体
大きな電子吸引性を有するフルオロアルキル基を有する
新規化合物を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、一
般式(I)
般式(I)
【化2】
〔式中、Rf は炭素数1又は2のフルオロアルキル基
を示し、R1及びR2 はそれぞれ独立に水素,炭素数
1〜15の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基,炭素数2〜
15のアルケニル基又は炭素数7〜10のアラルキル基
を示し、*は不斉炭素を示す。〕で表される光学活性な
含フッ素化合物を提供するものである。
を示し、R1及びR2 はそれぞれ独立に水素,炭素数
1〜15の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基,炭素数2〜
15のアルケニル基又は炭素数7〜10のアラルキル基
を示し、*は不斉炭素を示す。〕で表される光学活性な
含フッ素化合物を提供するものである。
【0005】一般式(I)において、上記のようにRf
は炭素数1又は2のフルオロアルキル基を示し、具体
的にはトリフルオロメチル基,ジフルオロメチル基,ク
ロロジフルオロメチル基,ペンタフルオロエチル基など
であり、好ましくはトリフルオロメチル基である。
は炭素数1又は2のフルオロアルキル基を示し、具体
的にはトリフルオロメチル基,ジフルオロメチル基,ク
ロロジフルオロメチル基,ペンタフルオロエチル基など
であり、好ましくはトリフルオロメチル基である。
【0006】また、R1 及びR2 はそれぞれ独立に
水素原子,炭素数1〜15の直鎖若しくは分岐鎖アルキ
ル基,炭素数2〜15のアルケニル基又は炭素数7〜1
0のアラルキル基を示す。ここで、炭素数1〜15の直
鎖若しくは分岐鎖アルキルとしては、例えばメチル基,
エチル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−ブチ
ル基,sec −ブチル基,tert−ブチル基,n−
ペンチル基,イソペンチル基,1−メチルブチル基,n
−ヘキシル基,n−ヘプチル基,1−メチルヘプチル基
,n−オクチル基,1−エチルヘプチル基,1−メチル
オクチル基,n−ノニル基,1−エチルオクチル基,1
−メチルノニル基,n−デシル基,n−ウンデシル基,
n−ドデシル基,n−トリデシル基,n−テトラデシル
基,n−ペンタデシル基などが挙げられる。
水素原子,炭素数1〜15の直鎖若しくは分岐鎖アルキ
ル基,炭素数2〜15のアルケニル基又は炭素数7〜1
0のアラルキル基を示す。ここで、炭素数1〜15の直
鎖若しくは分岐鎖アルキルとしては、例えばメチル基,
エチル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−ブチ
ル基,sec −ブチル基,tert−ブチル基,n−
ペンチル基,イソペンチル基,1−メチルブチル基,n
−ヘキシル基,n−ヘプチル基,1−メチルヘプチル基
,n−オクチル基,1−エチルヘプチル基,1−メチル
オクチル基,n−ノニル基,1−エチルオクチル基,1
−メチルノニル基,n−デシル基,n−ウンデシル基,
n−ドデシル基,n−トリデシル基,n−テトラデシル
基,n−ペンタデシル基などが挙げられる。
【0007】また、炭素数2〜15のアルケニル基とし
ては、ビニル基,アリル基,1−プロペニル基,イソプ
ロペニル基,1−ブテニル基,2−ブテニル基,2−メ
チルアリル基,1−ペンテニル基,2−ペンテニル基,
1−ヘキセニル基,2−ヘキセニル基,1−ヘプテニル
基,2−ヘプテニル基,1−オクテニル基,2−オクテ
ニル基,1−ノネニル基,2−ノネニル基,1−デセニ
ル基,2−デセニル基,1−ウンデセニル基,2−ウン
デセニル基,1−ドデセニル基,2−ドデセニル基,1
−トリデセニル基,2−トリデセニル基,1−テトラデ
セニル基,2−テトラデセニル基,1−ペンタデセニル
基,2−ペンタデセニル基などが挙げられる。
ては、ビニル基,アリル基,1−プロペニル基,イソプ
ロペニル基,1−ブテニル基,2−ブテニル基,2−メ
チルアリル基,1−ペンテニル基,2−ペンテニル基,
1−ヘキセニル基,2−ヘキセニル基,1−ヘプテニル
基,2−ヘプテニル基,1−オクテニル基,2−オクテ
ニル基,1−ノネニル基,2−ノネニル基,1−デセニ
ル基,2−デセニル基,1−ウンデセニル基,2−ウン
デセニル基,1−ドデセニル基,2−ドデセニル基,1
−トリデセニル基,2−トリデセニル基,1−テトラデ
セニル基,2−テトラデセニル基,1−ペンタデセニル
基,2−ペンタデセニル基などが挙げられる。
【0008】さらに、炭素数7〜10のアラルキル基と
しては、ベンジル基,フェネチル基,フェニルプロピル
基,フェニルブチル基などが挙げられる。
しては、ベンジル基,フェネチル基,フェニルプロピル
基,フェニルブチル基などが挙げられる。
【0009】本発明による一般式(I)の化合物は、様
々な方法で製造することができるが、例えば以下の工程
により製造することができる。
々な方法で製造することができるが、例えば以下の工程
により製造することができる。
【0010】例えば、Rf =CF3 ,R2 =水素
の場合:フランをシリル化して一般式(II)
の場合:フランをシリル化して一般式(II)
【化3】
〔式中、TMSはトリメチルシリル基を示す。〕で表さ
れる化合物を得、この化合物をさらにトリフルオロアセ
チル化して一般式(III)
れる化合物を得、この化合物をさらにトリフルオロアセ
チル化して一般式(III)
【化4】
で表される化合物を得る。この反応はテトラヒドロフラ
ン,ジエチルエーテル等の溶媒を用い、有機リチウム化
合物、例えばn−ブチルリチウムとトリメチルシリルク
ロリドを用いてシリル化した後、上記のブチルリチウム
とトリフルオロ酢酸エチルを用いてトリフルオロアセチ
ル化することにより、−78℃〜0℃の温度で行うこと
ができる。
ン,ジエチルエーテル等の溶媒を用い、有機リチウム化
合物、例えばn−ブチルリチウムとトリメチルシリルク
ロリドを用いてシリル化した後、上記のブチルリチウム
とトリフルオロ酢酸エチルを用いてトリフルオロアセチ
ル化することにより、−78℃〜0℃の温度で行うこと
ができる。
【0011】得られた一般式(III)の化合物を常法
により還元して一般式(IV)
により還元して一般式(IV)
【化5】
で表される化合物を得る。この反応は還元剤として例え
ば水素化ホウ素ナトリウム,水素化アルミニウムリチウ
ム,塩化第二錫等を用いて行うことができる。
ば水素化ホウ素ナトリウム,水素化アルミニウムリチウ
ム,塩化第二錫等を用いて行うことができる。
【0012】得られた一般式(IV) の化合物を酸ク
ロリドと反応させてアシル化する。ここでアシル化剤と
して用いる酸クロリドは具体的には、塩化アセチル,塩
化プロピオニル,塩化イソブチロイル,塩化オクタノイ
ル,塩化ベンゾイル等である。
ロリドと反応させてアシル化する。ここでアシル化剤と
して用いる酸クロリドは具体的には、塩化アセチル,塩
化プロピオニル,塩化イソブチロイル,塩化オクタノイ
ル,塩化ベンゾイル等である。
【0013】得られた一般式(V)
【化6】
〔式中、R’COはアシル基を示す。〕で表される化合
物を酵素を用いて不斉加水分解することにより一般式(
VI) 及び(VIa)
物を酵素を用いて不斉加水分解することにより一般式(
VI) 及び(VIa)
【化7】
で表わされる光学活性なアルコール及びエステルを得る
。この反応に用いる酵素としては、いわゆる加水分解酵
素であれば各種のものを用いることができ、例えばリパ
ーゼPS,リパーゼMY,リパーゼOF,セルラーゼ等
が挙げられる。上記の一般式(VIa)で表されるエス
テルは、化学的加水分解及び別の酵素による不斉加水分
解により、一般式(VI) で表されるアルコールと鏡
像体の関係にある光学活性アルコールに変換することが
できる。
。この反応に用いる酵素としては、いわゆる加水分解酵
素であれば各種のものを用いることができ、例えばリパ
ーゼPS,リパーゼMY,リパーゼOF,セルラーゼ等
が挙げられる。上記の一般式(VIa)で表されるエス
テルは、化学的加水分解及び別の酵素による不斉加水分
解により、一般式(VI) で表されるアルコールと鏡
像体の関係にある光学活性アルコールに変換することが
できる。
【0014】次に、このようにして得られた一般式(V
I) で表されるアルコールをシリル化して一般式(V
II)
I) で表されるアルコールをシリル化して一般式(V
II)
【化8】
〔式中、TBDMSはt−ブチルジメチルシリル基を示
す。〕で表される化合物を得る。この反応はシリル化剤
としてt−ブチルジメチルシリルクロリドを用いて行う
ことができる。
す。〕で表される化合物を得る。この反応はシリル化剤
としてt−ブチルジメチルシリルクロリドを用いて行う
ことができる。
【0015】得られた一般式(VII)で表されるシリ
ル誘導体を酸化して一般式(VIII)
ル誘導体を酸化して一般式(VIII)
【化9】
で表される化合物を得る。この反応は、酸化剤として、
例えばモノパーオキシフタル酸マグネシウム塩,過酸化
水素を用いて酢酸,クロロホルム等の溶媒中で行うこと
ができる。また、この反応では、ジアステレオマー混合
物を得るが、これらの化合物はシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより容易に分離することができる。
例えばモノパーオキシフタル酸マグネシウム塩,過酸化
水素を用いて酢酸,クロロホルム等の溶媒中で行うこと
ができる。また、この反応では、ジアステレオマー混合
物を得るが、これらの化合物はシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより容易に分離することができる。
【0016】得られた一般式(VIII)で表される化
合物をアルキル化して一般式(IX)
合物をアルキル化して一般式(IX)
【化10】
で表される化合物を得る。この反応は、有機銅試薬、例
えばジ−n−ブチル銅リチウム等を用い、−78℃で行
うことができる。また、この反応では、ジアステレオマ
ー混合物は得られず、アンチ型化合物のみが生成する。
えばジ−n−ブチル銅リチウム等を用い、−78℃で行
うことができる。また、この反応では、ジアステレオマ
ー混合物は得られず、アンチ型化合物のみが生成する。
【0017】次に、得られた一般式(IX)で表される
化合物の脱シリル化を行えば、目的とする一般式(X)
化合物の脱シリル化を行えば、目的とする一般式(X)
【化11】
で表される化合物を得る。この脱シリル化反応は、常法
により行うことができ、テトラヒドロフラン溶媒中、触
媒としてテトラ−n−ブチルアンモニウムフルオライド
を用いて0℃で行うことができる。
により行うことができ、テトラヒドロフラン溶媒中、触
媒としてテトラ−n−ブチルアンモニウムフルオライド
を用いて0℃で行うことができる。
【0018】また、Rf =CF3 ,R1 =水素の
場合:上記の一般式(VIII) で表わされる化合物
を常法により水素添加して、一般式(XI)
場合:上記の一般式(VIII) で表わされる化合物
を常法により水素添加して、一般式(XI)
【化12】
で表される化合物を得る。水素添加は、溶媒として例え
ばエタノール,メタノール,ヘキサン,酢酸エチル,ベ
ンゼン,トルエン等を用い、パラジウム・チャーコール
を触媒として用いて水素雰囲気下に行うことができる。
ばエタノール,メタノール,ヘキサン,酢酸エチル,ベ
ンゼン,トルエン等を用い、パラジウム・チャーコール
を触媒として用いて水素雰囲気下に行うことができる。
【0019】次に、得られた一般式(XI) で表され
る化合物をアルキルハライド,アラルキルハライド又は
アルケニルハライド等と反応させることにより一般式(
XII)
る化合物をアルキルハライド,アラルキルハライド又は
アルケニルハライド等と反応させることにより一般式(
XII)
【化13】
で表される化合物を得る。この反応は、テトラヒドロフ
ラン,エーテル等の溶媒中で、−78℃でn−ブチルリ
チウムと有機塩基、例えばヘキサメチルジシラザン,ジ
イソプロピルアミンなどを用いて行うことができる。
ラン,エーテル等の溶媒中で、−78℃でn−ブチルリ
チウムと有機塩基、例えばヘキサメチルジシラザン,ジ
イソプロピルアミンなどを用いて行うことができる。
【0020】さらに、得られた一般式(XII)で表さ
れる化合物の脱シリル化を行えば、目的とする一般式(
XIII)
れる化合物の脱シリル化を行えば、目的とする一般式(
XIII)
【化14】
で表される化合物を得ることができる。この脱シリル化
反応は、テトラヒドロフラン溶媒中、触媒としてテトラ
−n−ブチルアンモニウムフルオライドを用いて0℃で
行うことができる。
反応は、テトラヒドロフラン溶媒中、触媒としてテトラ
−n−ブチルアンモニウムフルオライドを用いて0℃で
行うことができる。
【0021】本発明の一般式(I)の化合物の代表的な
ものとしては、例えば(3R,4R,1’R)−3−ブ
チル−(2’,2’,2’−トリフルオロ−1’−ヒド
ロキシエチル)−4−ブタノリド;(3R,4R,1’
R)−(2’,2’,2’−トリフルオロ−1’−ヒド
ロキシエチル)−3−メチル−4−ブタノリド;(2S
,4R,1’R)−2−ベンジル−(2’,2’,2’
−トリフルオロ−1’−ヒドロキシエチル)−4−ブタ
ノリド;(2S,4R,1’R)−2−アリル−(2’
,2’,2’−トリフルオロ−1’−ヒドロキシエチル
)−4−ブタノリド;(2S,4R,1’S)−(2’
,2’,2’−トリフルオロ−1’−ヒドロキシエチル
)−2−メチル−4−ブタノリド;(2S,4R,1’
R)−(2’,2’,2’−トリフルオロ−1’−ヒド
ロキシエチル)−2−メチル−4−ブタノリドなどが挙
げられる。
ものとしては、例えば(3R,4R,1’R)−3−ブ
チル−(2’,2’,2’−トリフルオロ−1’−ヒド
ロキシエチル)−4−ブタノリド;(3R,4R,1’
R)−(2’,2’,2’−トリフルオロ−1’−ヒド
ロキシエチル)−3−メチル−4−ブタノリド;(2S
,4R,1’R)−2−ベンジル−(2’,2’,2’
−トリフルオロ−1’−ヒドロキシエチル)−4−ブタ
ノリド;(2S,4R,1’R)−2−アリル−(2’
,2’,2’−トリフルオロ−1’−ヒドロキシエチル
)−4−ブタノリド;(2S,4R,1’S)−(2’
,2’,2’−トリフルオロ−1’−ヒドロキシエチル
)−2−メチル−4−ブタノリド;(2S,4R,1’
R)−(2’,2’,2’−トリフルオロ−1’−ヒド
ロキシエチル)−2−メチル−4−ブタノリドなどが挙
げられる。
【0022】
【実施例】次に、実施例に基づいて本発明をさらに具体
的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
【0023】また、以下の各例において、本発明の一般
式(I)で表される光学活性な含フッ素化合物のR,S
表示は、下記の式
式(I)で表される光学活性な含フッ素化合物のR,S
表示は、下記の式
【化15】
の位置番号に基づいて行った。
【0024】実施例1
(3R,4R,1’R)−3−ブチル−(2’,2’,
2’−トリフルオロ−1’−ヒドロキシエチル)−4−
ブタノリドの合成
2’−トリフルオロ−1’−ヒドロキシエチル)−4−
ブタノリドの合成
【化16】
【0025】(a)窒素雰囲気下、フラン13.6g
(200ミリモル)をテトラヒドロフラン150mlに
加え、1.5M n−ブチルリチウムヘキサン溶液1
33ml(200ミリモル)を−20℃で滴下し、1時
間反応させた。次に、トリメチルシリルクロリド21.
7g(200ミリモル)を滴下し、−20℃で1時間攪
拌した。1.5Mn−ブチルリチウムヘキサン溶液13
3ml(200ミリモル)を加え、−20℃で1時間反
応させた後、−78℃でトリフルオロ酢酸エチル28.
4g(200ミリモル)を滴下し、−78℃で1時間、
室温でさらに1時間反応させた。この反応溶液に3N塩
酸を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。次
いで、飽和炭酸水素ナトリウム溶液,飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチル
を減圧留去し、フラン誘導体の粗生成物を得た。
(200ミリモル)をテトラヒドロフラン150mlに
加え、1.5M n−ブチルリチウムヘキサン溶液1
33ml(200ミリモル)を−20℃で滴下し、1時
間反応させた。次に、トリメチルシリルクロリド21.
7g(200ミリモル)を滴下し、−20℃で1時間攪
拌した。1.5Mn−ブチルリチウムヘキサン溶液13
3ml(200ミリモル)を加え、−20℃で1時間反
応させた後、−78℃でトリフルオロ酢酸エチル28.
4g(200ミリモル)を滴下し、−78℃で1時間、
室温でさらに1時間反応させた。この反応溶液に3N塩
酸を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。次
いで、飽和炭酸水素ナトリウム溶液,飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチル
を減圧留去し、フラン誘導体の粗生成物を得た。
【0026】(b)乾燥エタノール100mlに水素化
ホウ素ナトリウム2.3g(60ミリモル)を加え、上
記反応で得たフラン誘導体の粗生成物を0℃で30分か
けて滴下した。室温で2時間反応させた後、エタノール
を減圧留去し、3N塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸
エチルにより抽出した。次いで、飽和炭酸水素ナトリウ
ム,飽和食塩水で順次洗浄し、無水マグネシウムで乾燥
した。酢酸エチルを減圧留去した後、減圧蒸留を行い、
アルコール化合物40.5g(170ミリモル)を得た
。
ホウ素ナトリウム2.3g(60ミリモル)を加え、上
記反応で得たフラン誘導体の粗生成物を0℃で30分か
けて滴下した。室温で2時間反応させた後、エタノール
を減圧留去し、3N塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸
エチルにより抽出した。次いで、飽和炭酸水素ナトリウ
ム,飽和食塩水で順次洗浄し、無水マグネシウムで乾燥
した。酢酸エチルを減圧留去した後、減圧蒸留を行い、
アルコール化合物40.5g(170ミリモル)を得た
。
【0027】(c)塩化メチレン200mlに上記(b
)の反応で得たアルコール化合物23.8g(100ミ
リモル)とピリジン8.9ml(110ミリモル)を加
え、0℃で塩化アセチル8.6g(110ミリモル)を
滴下し、室温で12時間反応させた。次いで、3N塩酸
を加えて反応を停止させ、塩化メチレンで抽出した。そ
の後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液,蒸留水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを
減圧留去した後、減圧蒸留を行い、エステル化合物27
.5g(98ミリモル)を得た。
)の反応で得たアルコール化合物23.8g(100ミ
リモル)とピリジン8.9ml(110ミリモル)を加
え、0℃で塩化アセチル8.6g(110ミリモル)を
滴下し、室温で12時間反応させた。次いで、3N塩酸
を加えて反応を停止させ、塩化メチレンで抽出した。そ
の後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液,蒸留水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを
減圧留去した後、減圧蒸留を行い、エステル化合物27
.5g(98ミリモル)を得た。
【0028】(d)蒸留水1000mlに上記反応によ
り得られたエステル化合物28.0g (100ミリモ
ル)を加えて、ミニジャーファーメンター中、40℃で
攪拌した。リパーゼPS 20g を加え、20時間
反応させた。3N塩酸を加え、0℃に冷却して反応を停
止し、セライトによりろ過した。ろ液を酢酸エチルによ
り抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、酢酸エチルを減圧留去した。次いで、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製して光学
活性アルコール化合物11.7g (49ミリモル)と
光学活性エステル化合物13.2g(47ミリモル)を
得た。なお、得られたアルコール化合物の光学純度は9
7.5%e.e.であった。
り得られたエステル化合物28.0g (100ミリモ
ル)を加えて、ミニジャーファーメンター中、40℃で
攪拌した。リパーゼPS 20g を加え、20時間
反応させた。3N塩酸を加え、0℃に冷却して反応を停
止し、セライトによりろ過した。ろ液を酢酸エチルによ
り抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、酢酸エチルを減圧留去した。次いで、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製して光学
活性アルコール化合物11.7g (49ミリモル)と
光学活性エステル化合物13.2g(47ミリモル)を
得た。なお、得られたアルコール化合物の光学純度は9
7.5%e.e.であった。
【0029】(e)上記反応で得られた光学活性アルコ
ール化合物11.7g(49ミリモル)を塩化メチレン
100mlに溶かし、イミダゾール4.0g(59ミリ
モル)とt−ブチルジメチルシリルクロリド8.9g(
59ミリモル)を0℃で加えて15分攪拌し、室温で1
6時間反応させた。蒸留水を加えて反応を停止させ、塩
化メチレンにより抽出した。次いで、蒸留水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを減圧
留去した後、カラムクロマトグラフィーにより分離精製
してシリルエーテル化合物16.6g(47ミリモル)
を得た。
ール化合物11.7g(49ミリモル)を塩化メチレン
100mlに溶かし、イミダゾール4.0g(59ミリ
モル)とt−ブチルジメチルシリルクロリド8.9g(
59ミリモル)を0℃で加えて15分攪拌し、室温で1
6時間反応させた。蒸留水を加えて反応を停止させ、塩
化メチレンにより抽出した。次いで、蒸留水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを減圧
留去した後、カラムクロマトグラフィーにより分離精製
してシリルエーテル化合物16.6g(47ミリモル)
を得た。
【0030】(f)窒素雰囲気下、酢酸120mlに上
記反応で得られたシリルエーテル化合物14.1g(4
0ミリモル)及びモノパーオキシフタル酸マグネシウム
23.2g(60ミリモル)を加え、80℃で12時間
反応させた。酢酸を減圧留去した後、飽和炭酸水素ナト
リウム溶液を加え、酢酸エチルにより抽出した。次いで
、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。酢酸エチルを減圧留去した後、カラムクロマトグラ
フィーにより分離精製し、(4R,1’R)ブテノリド
化合物 4.7g(16ミリモル)及び(4S,1’R
)ブテノリド化合物 3.0g(10ミリモル)を得た
。なお、4.2g(12ミリモル)の原料も回収された
。
記反応で得られたシリルエーテル化合物14.1g(4
0ミリモル)及びモノパーオキシフタル酸マグネシウム
23.2g(60ミリモル)を加え、80℃で12時間
反応させた。酢酸を減圧留去した後、飽和炭酸水素ナト
リウム溶液を加え、酢酸エチルにより抽出した。次いで
、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。酢酸エチルを減圧留去した後、カラムクロマトグラ
フィーにより分離精製し、(4R,1’R)ブテノリド
化合物 4.7g(16ミリモル)及び(4S,1’R
)ブテノリド化合物 3.0g(10ミリモル)を得た
。なお、4.2g(12ミリモル)の原料も回収された
。
【0031】(g)窒素雰囲気下、テトラヒドロフラン
10mlに沃化第一銅 1.9g(10ミリモル)を加
え、−78℃で1.6M n−ブチルリチウムヘキサ
ン溶液12.5ml(20ミリモル)をゆっくりと滴下
し、−78℃で30分,室温で5分,さらに−78℃で
30分反応させた。トリフルオロボラン・エーテル錯体
2.8g(20ミリモル)を加え、−78℃で30分
攪拌した。次に、上記反応により得られた(4R,1’
R)ブテノリド化合物1.5g(5ミリモル)のテトラ
ヒドロフラン(2ml) 溶液を滴下し、−78℃で2
時間反応させた。希アンモニア水を加えて反応を停止し
、酢酸エチルで抽出した。 チオ硫酸ナトリウム溶液,飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製す
ることによりアルキル化化合物1.5g(4.3ミリモ
ル)を得た。
10mlに沃化第一銅 1.9g(10ミリモル)を加
え、−78℃で1.6M n−ブチルリチウムヘキサ
ン溶液12.5ml(20ミリモル)をゆっくりと滴下
し、−78℃で30分,室温で5分,さらに−78℃で
30分反応させた。トリフルオロボラン・エーテル錯体
2.8g(20ミリモル)を加え、−78℃で30分
攪拌した。次に、上記反応により得られた(4R,1’
R)ブテノリド化合物1.5g(5ミリモル)のテトラ
ヒドロフラン(2ml) 溶液を滴下し、−78℃で2
時間反応させた。希アンモニア水を加えて反応を停止し
、酢酸エチルで抽出した。 チオ硫酸ナトリウム溶液,飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製す
ることによりアルキル化化合物1.5g(4.3ミリモ
ル)を得た。
【0032】(h)上記反応で得られたアルキル化化合
物 1.5g(4.3ミリモル)をテトラヒドロフラン
6mlとメタノール3mlの混合溶媒に加え、テトラ−
n−ブチルアンモニウムフルオライド 0.13g(0
.5ミリモル)を0℃で加えて、10時間反応させた。 蒸留水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した
。次に、蒸留水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。酢酸エチルを減圧留去した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製して目的とする(3R,4R
,1’R)−3−ブチル−(2’,2’,2’−トリフ
ルオロ−1’−ヒドロキシエチル)−4−ブタノリド
1.0g(4.1ミリモル)を得た。
物 1.5g(4.3ミリモル)をテトラヒドロフラン
6mlとメタノール3mlの混合溶媒に加え、テトラ−
n−ブチルアンモニウムフルオライド 0.13g(0
.5ミリモル)を0℃で加えて、10時間反応させた。 蒸留水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した
。次に、蒸留水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。酢酸エチルを減圧留去した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製して目的とする(3R,4R
,1’R)−3−ブチル−(2’,2’,2’−トリフ
ルオロ−1’−ヒドロキシエチル)−4−ブタノリド
1.0g(4.1ミリモル)を得た。
【0033】得られた化合物の物理的性質を以下に示す
。 分子式:C10H15F3O3 1H−NMR;σ(ppm) 0.87(t,J=6.7Hz ,3H);1.15〜
1.65(m,6H);1.60〜2.00(bs,1
H);2.18(dd,J=2.9,17.4Hz ,
1H);2.65〜2.85(m,1H);2.87(
dd,J=9.5,17.5Hz,1H);4.36(
dq,J=2.2,7.6Hz ,1H);4.45(
dd,J=2.2,2.4Hz ,1H)19F−NM
R(基準 CF3COOH);σ(ppm )2.1
0 (d,J=8.2Hz )IR(cm−1) 3300,2975,2950,2875,1760質
量分析 m/e (M+ +1) 計算値 241.1051 実測値 241.1039 〔α〕25D =+4.0°(c=0.85,メタノー
ル)
。 分子式:C10H15F3O3 1H−NMR;σ(ppm) 0.87(t,J=6.7Hz ,3H);1.15〜
1.65(m,6H);1.60〜2.00(bs,1
H);2.18(dd,J=2.9,17.4Hz ,
1H);2.65〜2.85(m,1H);2.87(
dd,J=9.5,17.5Hz,1H);4.36(
dq,J=2.2,7.6Hz ,1H);4.45(
dd,J=2.2,2.4Hz ,1H)19F−NM
R(基準 CF3COOH);σ(ppm )2.1
0 (d,J=8.2Hz )IR(cm−1) 3300,2975,2950,2875,1760質
量分析 m/e (M+ +1) 計算値 241.1051 実測値 241.1039 〔α〕25D =+4.0°(c=0.85,メタノー
ル)
【0034】実施例2
(3R,4R,1’R)−(2’,2’,2’−トリフ
ルオロ−1’−ヒドロキシエチル)−3−メチル−4−
ブタノリドの合成
ルオロ−1’−ヒドロキシエチル)−3−メチル−4−
ブタノリドの合成
【化17】
(a)窒素雰囲気下に、テトラヒドロフラン10mlに
沃化第一銅 1.9g(10ミリモル)を加え、−78
℃で 1.0M メチルリチウムエーテル溶液20m
l(20ミリモル)をゆっくりと滴下し、−78℃で3
0分,室温で5分,さらに−78℃で30分反応させた
。トリフルオロボラン・エーテル錯体 2.8g(20
ミリモル)を加え、−78℃で30分攪拌した。次に、
実施例1(f)で得られた(4R,1’R)ブテノリド
化合物1.5g(5ミリモル)のテトラヒドロフラン(
2ml) 溶液を滴下し、−78℃で2時間反応させた
。希アンモニア水を加えて反応を停止し、酢酸エチルで
抽出した。チオ硫酸ナトリウム溶液,飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチル
を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで
分離精製することによりアルキル化化合物 1.5g(
4.9ミリモル)を得た。
沃化第一銅 1.9g(10ミリモル)を加え、−78
℃で 1.0M メチルリチウムエーテル溶液20m
l(20ミリモル)をゆっくりと滴下し、−78℃で3
0分,室温で5分,さらに−78℃で30分反応させた
。トリフルオロボラン・エーテル錯体 2.8g(20
ミリモル)を加え、−78℃で30分攪拌した。次に、
実施例1(f)で得られた(4R,1’R)ブテノリド
化合物1.5g(5ミリモル)のテトラヒドロフラン(
2ml) 溶液を滴下し、−78℃で2時間反応させた
。希アンモニア水を加えて反応を停止し、酢酸エチルで
抽出した。チオ硫酸ナトリウム溶液,飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチル
を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで
分離精製することによりアルキル化化合物 1.5g(
4.9ミリモル)を得た。
【0035】(b)上記反応により得られたアルキル化
化合物 1.5g(4.9ミリモル)を用いて、実施例
1(h)と同様の操作を行い、目的とする(3R,4R
,1’R)−(2’,2’,2’−トリフルオロ−1’
−ヒドロキシエチル)−3−メチル−4−ブタノリド
1.0g(4.7ミリモル)を得た。
化合物 1.5g(4.9ミリモル)を用いて、実施例
1(h)と同様の操作を行い、目的とする(3R,4R
,1’R)−(2’,2’,2’−トリフルオロ−1’
−ヒドロキシエチル)−3−メチル−4−ブタノリド
1.0g(4.7ミリモル)を得た。
【0036】得られた化合物の物理的性質を以下に示す
。 分子式:C7H9F3O3 1H−NMR;σ(ppm) 1.30(d,J=6.7Hz ,3H);2.05〜
2.24(m,1H);2.80〜3.00(m,2H
);4.28〜4.40(m,2H);4.40〜4.
50(bs,1H)19F−NMR(基準 CF3C
OOH);σ(ppm )2.30(m) IR(cm−1) 3300,3000,2950,2925,2900,
1745 〔α〕24D =−9.3°(c=1.28,メタノー
ル)
。 分子式:C7H9F3O3 1H−NMR;σ(ppm) 1.30(d,J=6.7Hz ,3H);2.05〜
2.24(m,1H);2.80〜3.00(m,2H
);4.28〜4.40(m,2H);4.40〜4.
50(bs,1H)19F−NMR(基準 CF3C
OOH);σ(ppm )2.30(m) IR(cm−1) 3300,3000,2950,2925,2900,
1745 〔α〕24D =−9.3°(c=1.28,メタノー
ル)
【0037】実施例3
(2S,4R,1’R)−2−ベンジル−(2’,2’
,2’−トリフルオロ−1’−ヒドロキシエチル)−4
−ブタノリドの合成
,2’−トリフルオロ−1’−ヒドロキシエチル)−4
−ブタノリドの合成
【化18】
【0038】(a) 実施例1(f)で得られた(4
R,1’R)−ブテノリド化合物 3.0g(10ミリ
モル)をエタノール30mlに加え、10%パラジウム
・チャーコール0.3gを触媒として水素添加を12時
間行った。触媒を濾過し、エタノールを減圧留去した後
、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製
してブタノリド化合物 2.7g(9ミリモル)を得た
。
R,1’R)−ブテノリド化合物 3.0g(10ミリ
モル)をエタノール30mlに加え、10%パラジウム
・チャーコール0.3gを触媒として水素添加を12時
間行った。触媒を濾過し、エタノールを減圧留去した後
、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製
してブタノリド化合物 2.7g(9ミリモル)を得た
。
【0039】(b)窒素雰囲気下にテトラヒドロフラン
10mlにヘキサメチルジシラザン 1.9g(12ミ
リモル)を加え、1.6M n−ブチルリチウムヘキ
サン溶液 6.9 ml(11ミリモル)を−78℃で
滴下し、30分攪拌した。次に、上記反応により得られ
たブタノリド化合物 3.0g(10ミリモル)のテト
ラヒドロフラン(10ml)溶液を滴下し、−78℃で
1時間反応させた後、ベンジルブロマイド 2.1g(
12ミリモル)を滴下し、2時間反応させた。3N塩酸
を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。飽和
炭酸水素ナトリウム溶液,飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去
した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精
製してベンジル化合物 2.8g(8ミリモル)を得た
。なお、この反応におけるアンチ体とシン体の生成比は
96:4であった。
10mlにヘキサメチルジシラザン 1.9g(12ミ
リモル)を加え、1.6M n−ブチルリチウムヘキ
サン溶液 6.9 ml(11ミリモル)を−78℃で
滴下し、30分攪拌した。次に、上記反応により得られ
たブタノリド化合物 3.0g(10ミリモル)のテト
ラヒドロフラン(10ml)溶液を滴下し、−78℃で
1時間反応させた後、ベンジルブロマイド 2.1g(
12ミリモル)を滴下し、2時間反応させた。3N塩酸
を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。飽和
炭酸水素ナトリウム溶液,飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去
した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精
製してベンジル化合物 2.8g(8ミリモル)を得た
。なお、この反応におけるアンチ体とシン体の生成比は
96:4であった。
【0040】(c)上記反応より得られたベンジル化合
物 2.8g(8ミリモル)を用い、実施例1(h)と
同様の操作を行い、目的とする(2S,4R,1’R)
−2−ベンジル−(2’,2’,2’−トリフルオロ−
1’−ヒドロキシエチル)−4−ブタノリド 1.5g
(8ミリモル)を得た。
物 2.8g(8ミリモル)を用い、実施例1(h)と
同様の操作を行い、目的とする(2S,4R,1’R)
−2−ベンジル−(2’,2’,2’−トリフルオロ−
1’−ヒドロキシエチル)−4−ブタノリド 1.5g
(8ミリモル)を得た。
【0041】得られた化合物の物理的性質を以下に示す
。 分子式:C13H13F3O3 1H−NMR;σ(ppm) 2.04(dt,J=13.5,8.4Hz ,1H)
;2.56(dddq,J=3.7,9.5,13.6
,0.8Hz ,1H);2.80(dd,J=9.8
,14.9Hz ,1H);3.10〜3.30(m,
2H);4.20〜4.50(bs,1H);4.36
(dq,J=2.0,7.0Hz ,1H);4.57
(ddd,J=2.0,3.7,8.7Hz ,1H)
;7.10〜7.40(m,5H) 19F−NMR(基準 CF3COOH);σ(pp
m )2.00 (d,J=7.2Hz )IR(c
m−1) 3300,3000,2950,2925,2900,
1745 〔α〕24D =−9.3°(c=1.28,メタノー
ル)
。 分子式:C13H13F3O3 1H−NMR;σ(ppm) 2.04(dt,J=13.5,8.4Hz ,1H)
;2.56(dddq,J=3.7,9.5,13.6
,0.8Hz ,1H);2.80(dd,J=9.8
,14.9Hz ,1H);3.10〜3.30(m,
2H);4.20〜4.50(bs,1H);4.36
(dq,J=2.0,7.0Hz ,1H);4.57
(ddd,J=2.0,3.7,8.7Hz ,1H)
;7.10〜7.40(m,5H) 19F−NMR(基準 CF3COOH);σ(pp
m )2.00 (d,J=7.2Hz )IR(c
m−1) 3300,3000,2950,2925,2900,
1745 〔α〕24D =−9.3°(c=1.28,メタノー
ル)
【0042】実施例4
(2S,4R,1’S)−(2’,2’,2’−トリフ
ルオロ−1’−ヒドロキシエチル)−2−メチル−4−
ブタノリドの合成
ルオロ−1’−ヒドロキシエチル)−2−メチル−4−
ブタノリドの合成
【化19】
【0043】(a)実施例1(d)で得られた光学活性
エステル化合物13.2g(47ミリモル)をメタノー
ル30mlと水10mlの混合溶媒に溶かし、炭酸カリ
ウム13.8g(100ミリモル)を加え、16時間反
応させた。メタノールを減圧留去し、3N塩酸を加えて
反応を停止し、エーテルにより抽出した。次いで、飽和
炭酸水素ナトリウム溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。エーテルを減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製す
ることにより光学活性アルコール化合物10.7g(4
5ミリモル)を得た。なお、得られたアルコール化合物
の光学純度は94.3%e.e.であった。
エステル化合物13.2g(47ミリモル)をメタノー
ル30mlと水10mlの混合溶媒に溶かし、炭酸カリ
ウム13.8g(100ミリモル)を加え、16時間反
応させた。メタノールを減圧留去し、3N塩酸を加えて
反応を停止し、エーテルにより抽出した。次いで、飽和
炭酸水素ナトリウム溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。エーテルを減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製す
ることにより光学活性アルコール化合物10.7g(4
5ミリモル)を得た。なお、得られたアルコール化合物
の光学純度は94.3%e.e.であった。
【0044】(b)上記反応で得られた光学活性アルコ
ール化合物10.7gを用い、実施例1(e)及び(f
)と同様の反応を行うことにより(4S,1’S)−ブ
テノリド化合物 5.1g(17ミリモル)及び(4R
,1’S)−ブテノリド化合物 3.2g(11ミリモ
ル)を得た。なお、4.6g(13ミリモル)の原料も
回収された。
ール化合物10.7gを用い、実施例1(e)及び(f
)と同様の反応を行うことにより(4S,1’S)−ブ
テノリド化合物 5.1g(17ミリモル)及び(4R
,1’S)−ブテノリド化合物 3.2g(11ミリモ
ル)を得た。なお、4.6g(13ミリモル)の原料も
回収された。
【0045】(c)得られた(4R,1’S)−ブテノ
リド化合物 3.2g(11ミリモル)を用いて実施例
3(a)と同様の操作を行い、(4R,1’S)−ブタ
ノリド化合物 3.0g(10ミリモル)を得た。次に
、得られたブタノリド化合物 3.0g(10ミリモル
)と沃化メチル 1.7g(12ミリモル)を実施例3
(b)と同様の操作で反応させ、メチル化合物2.5g
(8ミリモル)を得た。なお、この反応におけるアンチ
体とシン体の比は96:4であった。
リド化合物 3.2g(11ミリモル)を用いて実施例
3(a)と同様の操作を行い、(4R,1’S)−ブタ
ノリド化合物 3.0g(10ミリモル)を得た。次に
、得られたブタノリド化合物 3.0g(10ミリモル
)と沃化メチル 1.7g(12ミリモル)を実施例3
(b)と同様の操作で反応させ、メチル化合物2.5g
(8ミリモル)を得た。なお、この反応におけるアンチ
体とシン体の比は96:4であった。
【0046】(d)上記反応により得られたメチル化化
合物 2.5g(8ミリモル)を用い、実施例1(h)
と同様の操作を行い、目的とする(2S,4R,1’S
)−(2’,2’,2’−トリフルオロ−1’−ヒドロ
キシエチル)−2−メチル−4−ブタノリド 1.5g
(8ミリモル)を得た。
合物 2.5g(8ミリモル)を用い、実施例1(h)
と同様の操作を行い、目的とする(2S,4R,1’S
)−(2’,2’,2’−トリフルオロ−1’−ヒドロ
キシエチル)−2−メチル−4−ブタノリド 1.5g
(8ミリモル)を得た。
【0047】得られた化合物の物理的性質を以下に示す
。 分子式:C7H9F3O3 1H−NMR;σ(ppm) 1.27(d,J=7.3Hz ,3H);2.06(
ddd,J=8.6,8.6,13.0Hz ,1H)
;2.49(ddd,J=3.8,9.5,13.0H
z ,1H);2.89(ddq,J=8.6,9.5
,7.3Hz ,1H);3.85〜4.50(m,1
H);4.75(ddd,J=2.3,3.9,8.7
Hz ,1H);5.99(d,J=7.1Hz ,1
H)19F−NMR(基準 CF3COOH);σ(
ppm )2.40 (d,J=6.7Hz )IR
(cm−1) 3300,3000,2950,2925,2900,
1740 〔α〕25D =+44.3°(c=0.47,メタノ
ール)
。 分子式:C7H9F3O3 1H−NMR;σ(ppm) 1.27(d,J=7.3Hz ,3H);2.06(
ddd,J=8.6,8.6,13.0Hz ,1H)
;2.49(ddd,J=3.8,9.5,13.0H
z ,1H);2.89(ddq,J=8.6,9.5
,7.3Hz ,1H);3.85〜4.50(m,1
H);4.75(ddd,J=2.3,3.9,8.7
Hz ,1H);5.99(d,J=7.1Hz ,1
H)19F−NMR(基準 CF3COOH);σ(
ppm )2.40 (d,J=6.7Hz )IR
(cm−1) 3300,3000,2950,2925,2900,
1740 〔α〕25D =+44.3°(c=0.47,メタノ
ール)
【0048】
【発明の効果】本発明によれば、5員環ラクトンに隣接
炭素原子上に電子吸引性の大きいフルオロアルキル基を
有する新規化合物が得られる。これらの化合物は、酵素
阻害剤,生物活性物質,抗癌剤及び強誘電性液晶等の原
料として広範な利用が期待される。
炭素原子上に電子吸引性の大きいフルオロアルキル基を
有する新規化合物が得られる。これらの化合物は、酵素
阻害剤,生物活性物質,抗癌剤及び強誘電性液晶等の原
料として広範な利用が期待される。
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 〔式中、Rf は炭素数1又は2のフルオロアルキル基
を示し、R1及びR2 はそれぞれ独立に水素,炭素数
1〜15の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基,炭素数2〜
15のアルケニル基又は炭素数7〜10のアラルキル基
を示し、*は不斉炭素を示す。〕で表される光学活性な
含フッ素化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4601391A JP2821038B2 (ja) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | 光学活性な含フッ素化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4601391A JP2821038B2 (ja) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | 光学活性な含フッ素化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04288068A true JPH04288068A (ja) | 1992-10-13 |
JP2821038B2 JP2821038B2 (ja) | 1998-11-05 |
Family
ID=12735176
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4601391A Expired - Fee Related JP2821038B2 (ja) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | 光学活性な含フッ素化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2821038B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6096908A (en) * | 1992-01-31 | 2000-08-01 | Kashima Oil Company | Optically active fluorinated compounds |
-
1991
- 1991-02-19 JP JP4601391A patent/JP2821038B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6096908A (en) * | 1992-01-31 | 2000-08-01 | Kashima Oil Company | Optically active fluorinated compounds |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2821038B2 (ja) | 1998-11-05 |
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