JPH04286311A - 半導体露光装置 - Google Patents

半導体露光装置

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Publication number
JPH04286311A
JPH04286311A JP3074204A JP7420491A JPH04286311A JP H04286311 A JPH04286311 A JP H04286311A JP 3074204 A JP3074204 A JP 3074204A JP 7420491 A JP7420491 A JP 7420491A JP H04286311 A JPH04286311 A JP H04286311A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cpu
cpus
wafer
exposure apparatus
stage
Prior art date
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Pending
Application number
JP3074204A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Kawai
賢一 河合
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP3074204A priority Critical patent/JPH04286311A/ja
Publication of JPH04286311A publication Critical patent/JPH04286311A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体露光装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体露光装置は、複数のCPU
を内蔵し各CPU間を1対1通信により接続し、相互通
信により装置を動作させていた。
【0003】従来の半導体露光装置における複数のCP
U間の接続方式の例を図3(a)(b)(c)に示す。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
図3(a)の方式では、1つのCPUから他の1つのC
PUに通信を行う場合に別のCPUを経由しなければな
らない場合が生ずる。
【0005】また、1つのCPUから複数のCPUに対
し高速で通信を行わなければならない場合、図3(b)
に示すように、当該1つのCPUから全ての通信したい
CPUに対し個別に通信線を配設しなければならない。
【0006】さらに、複数のCPUの各々から複数のC
PUに対し高速通信の要求がある場合には、図3(c)
に示すように、通信線の数がCPUの数の2乗に比例し
て増加し配線が複雑になる。
【0007】本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされ
たものであって、複数のCPUを有する半導体露光装置
において、各CPU間の連結配線を簡素化しかつCPU
の増減に容易に対処可能とすることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
、本発明では、装置を動作させるために複数のCPUを
用いている半導体露光装置において、各CPU間で動作
等を確認、伝達するために2線式多対多の通信手段を設
けている。
【0009】
【実施例】図1は、本発明に係る半導体露光装置の一実
施例の構成を示す斜視図である。図示したように、この
装置は、露光用の光源である照明装置1と、この照明装
置1から射出された露光光を遮断するためのシャッタ2
と、回路パターンが形成されたレチクル3を搭載するレ
チクルステージ4と、レチクルを搬送するためのレチク
ルハンド5と、露光焼付け用の投影レンズ等からなる投
影光学系6と、回路パターンを焼付けるべきウエハ7を
搭載し露光時のピントを調節するためにウエハ面に垂直
に移動可能なZステージ8と、このZステージ8を搭載
しZ方向に直角なXYの2方向に移動可能なXYステー
ジ9と、このXYステージ9の位置を計測するレーザ干
渉計10と、ウエハをXYステージ9上に供給するウエ
ハ供給ハンド11と、ウエハをXYステージ上から回収
するウエハ回収ハンド12とを具備している。本装置は
さらに、CPU等の制御ユニットと記憶装置14を格納
したコントロールボックス13および装置制御のための
コマンド等を入力するコンソール(CPU)15を備え
ている。
【0010】この露光装置は、複数のCPU、即ち前記
コンソール15と、照明装置1およびシャッタ2を制御
する照明制御CPU16と、レチクルステージ4および
レチクルハンド5を制御するレチクルステージ制御CP
U17と、Zステージ8およびXYステージ9を制御す
るウエハステージ制御CPU18と、ウエハ供給ハンド
11およびウエハ回収ハンド12を制御するウエハハン
ドリングCPU19の合計5つのCPUを有している。 20は接続ケーブルであり、その両端は電気的に終端と
されている。
【0011】上記5つの各CPU15〜19に2線式多
対多通信インターフェイスを搭載し、上記接続ケーブル
20により、5つのCPUを相互に接続する。
【0012】図2は、図1のCPU相互間の通信接続を
示すブロック図である。上記各CPU15〜19はそれ
ぞれ内部に、2線式多対多通信インターフェイス21を
備え、該インターフェイス21を介して接続ケーブル2
0に接続される。各CPUは前記ケーブル20に対して
、データの送信、受信を行う。全てのCPUが単一の媒
体にアクセスすることができる。
【0013】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る半導
体露光装置によれば、各CPU間の結線が減少して配線
構成が簡素化するとともに各CPUの配置の自由度が増
加する。また、CPUの設置台数の増減や配置変更等に
対し容易に対処可能となる。従って、増設や設計変更に
対処できるばかりでなく、動作テスト等を必要最小限の
台数で行うことができる。
【0014】なお、上記実施例はCPUが5つの場合の
構成を示したが、CPUの数は5つに限定されない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る半導体露光装置の構成を示す斜視
図である。
【図2】図1の露光装置のCPU間接続を示すブロック
図である。
【図3】(a)(b)(c)は各々従来技術に係るCP
U間配線方式の説明図である。
【符号の説明】
15  コンソール(CPU) 16  照明制御CPU 17  レチクルステージ制御CPU 18  ウエハステージ制御CPU 19  ウエハハンドリングCPU 20  接続ケーブル 21  多対多通信インターフェイス

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  複数のCPUを有する半導体露光装置
    において、各CPUに2線式多対多通信インターフェイ
    スを内蔵し、該インターフェイスを介して各CPU同士
    を接続したことを特徴とする半導体露光装置。
  2. 【請求項2】  前記CPUは、入力用コンソールCP
    U、照明制御CPU、レチクルステージ制御CPU、ウ
    エハステージ制御CPU、およびウエハハンドリングC
    PUの内複数のCPUを含む請求項1の半導体露光装置
JP3074204A 1991-03-15 1991-03-15 半導体露光装置 Pending JPH04286311A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3074204A JPH04286311A (ja) 1991-03-15 1991-03-15 半導体露光装置

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JP3074204A JPH04286311A (ja) 1991-03-15 1991-03-15 半導体露光装置

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Publication Number Publication Date
JPH04286311A true JPH04286311A (ja) 1992-10-12

Family

ID=13540424

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3074204A Pending JPH04286311A (ja) 1991-03-15 1991-03-15 半導体露光装置

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JP (1) JPH04286311A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6185474B1 (en) 1997-03-04 2001-02-06 Canon Kabushiki Kaisha Exposure unit, exposure system and device manufacturing method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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