CN110095955A - 一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法,对准照明模块包括同轴对准照明组件以及驱动组件;所述同轴对准照明组件包括至少两个光源,以及与所述至少两个光源对应设置的光束转折镜头,以将所述至少两个光源发出的光线反射到待对准的工作区域;所述驱动组件,与所述光束转折镜头连接,用于在对准时驱动所述光束转折镜头移动到待对准的工作区域上方,以及在对准完成后将所述光束转折镜头从所述待对准的工作区域上方移开。本发明提供一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法,以解决对准照明模块遮挡曝光照明视场的问题。
Description
技术领域
本发明实施例涉及光学设备领域,尤其涉及一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法。
背景技术
将描绘在掩模板上的电路图案,通过光刻机成像在涂有光刻胶等感光材料的制造集成电路的硅片表面上,之后通过刻蚀工艺在制造集成电路的硅片上形成图案的光影刻蚀法,广泛地应用于各种领域。
用光刻机做曝光时,通常掩模板上配置有位置对准用的对准标记,需要通过对准标记将掩模板进行对准,然后才能对曝光对象进行曝光。
工件面曝光照明视场尺寸呈现出越来越大的趋势,导致对准时使用的对准照明模块容易遮挡曝光照明视场。
发明内容
本发明实施例提供一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法,以解决对准照明模块遮挡曝光照明视场的问题。
第一方面,本发明实施例提供一种对准照明模块,包括同轴对准照明组件以及驱动组件;
所述同轴对准照明组件包括至少两个光源,以及与所述至少两个光源对应设置的光束转折镜头,以将所述至少两个光源发出的光线反射到待对准的工作区域;
所述驱动组件,与所述光束转折镜头连接,用于在对准时驱动所述光束转折镜头移动到待对准的工作区域上方,以及在对准完成后将所述光束转折镜头从所述待对准的工作区域上方移开。
可选地,所述同轴对准照明组件包括第一光源和第二光源。
可选地,所述驱动组件包括固定底座和位于所述固定底座一侧的移动台;
所述驱动组件还包括镜头转接板,所述镜头转接板固定于所述移动台远离所述固定底座一侧表面,所述光束转折镜头固定在所述镜头转接板上。
可选地,所述同轴对准照明组件还包括第一照明光导、第一固定照明镜头、第二照明光导和第二固定照明镜头;所述第一照明光导以及所述第一固定照明镜头位于所述第一光源与所述光束转折镜头之间,所述第二照明光导以及所述第二固定照明镜头位于所述第二光源与所述光束转折镜头之间。
可选地,所述光束转折镜头包括三棱镜和/或反射镜;所述三棱镜的截面形状为等腰直角三角形,所述三棱镜的入射面与所述三棱镜的出射面垂直。
第二方面,本发明实施例提供一种对准装置,包括第一方面所述的对准照明模块;
所述对准装置还包括掩模台、投影物镜、工件台、成像模块和控制模块,所述掩模台位于所述对准照明模块与所述工件台之间,所述投影物镜位于所述掩模台与所述工件台之间;所述控制模块与驱动组件电连接,用于控制所述驱动组件移动光束转折镜头;所述掩模台用于承载待对准的掩模板,所述掩模板包括对准标记;
所述对准装置还包括工件台基准板,所述工件台基准板装载于所述工件台上,所述工件台基准板包括基准标记。
可选地,所述成像模块包括同轴对准成像镜头和同轴对准成像传感器,所述同轴对准成像镜头和同轴对准成像传感器装载于所述工件台上;
所述同轴对准成像镜头位于所述工件台基准板和所述同轴对准成像传感器之间。
可选地,所述对准照明模块包括同轴对准照明组件以及驱动组件;所述同轴对准照明组件包括第一光源和第二光源;
所述第一光源和所述第二光源位于所述掩模板的同一侧。
可选地,所述对准照明模块包括光束转折镜头,所述光束转折镜头包括一个三棱镜;所述三棱镜的截面形状为等腰直角三角形,所述三棱镜的入射面与所述三棱镜的出射面垂直,所述第一光源和所述第二光源的光轴垂直于所述三棱镜的入射面。
可选地,所述对准照明模块包括同轴对准照明组件以及驱动组件;所述同轴对准照明组件包括第一光源和第二光源;所述第一光源和所述第二光源位于所述掩模板的相对两侧。
可选地,所述对准照明模块包括同轴对准照明组件以及驱动组件;所述同轴对准照明组件包括第一光源和第二光源;所述第一光源和所述第二光源位于所述掩模板的相邻两侧。
第三方面,本发明实施例提供一种光刻机,包括第二方面所述的对准装置,所述对准装置包括对准照明模块和工件台;所述光刻机还包括曝光照明装置,所述曝光照明装置位于所述对准照明模块远离所述工件台一侧。
第四方面,本发明实施例提供一种对准方法,对准装置包括对准照明模块、工件台、同轴对准成像传感器、工件台基准板和控制模块;所述工件台基准板包括基准标记,待对准的掩模板包括对准标记;所述对准照明模块包括同轴对准照明组件以及驱动组件;所述同轴对准照明组件包括至少两个光源,以及与所述至少两个光源对应设置的光束转折镜头;所述驱动组件与所述光束转折镜头连接;
所述对准方法包括:
在对准时驱动所述光束转折镜头移动到待对准的工作区域上方;
使用所述至少两个光源照射所述掩模板的所述对准标记;
在对准完成后将所述光束转折镜头从所述待对准的工作区域上方移开。
可选地,所述至少两个光源包括第一光源和第二光源,所述对准标记包括第一掩模对准标记和第二掩模对准标记;
使用所述至少两个光源照射所述掩模板的所述对准标记包括:
使用所述第一光源将所述第一掩模对准标记和所述基准标记成像于所述同轴对准成像传感器;
使用所述第二光源将所述第二掩模对准标记和所述基准标记成像于所述同轴对准成像传感器。
本发明提供的照明模块包括同轴对准照明组件,同轴对准照明组件包括至少两个光源,即可以使用两个光源作为对准时的光源或使用多于两个光源作为对准时的光源,具体可以根据产品需求来定。光源发出的光不是直接照射到待对准的工作区域的,而是通过光束转折镜头之后才反射到待对准的工作区域,这样设置的优点在于,通过光束转折镜头对光源发出光线的转折,例如可以将水平光线转折为垂直光线,可以扩大光源与待对准的掩模板垂直投影之间的距离,从而为光源以及与光源配合使用的其他部件留出足够的空间,使对准照明模块不遮挡曝光照明视场。对准照明模块还包括与光束转折镜头连接的驱动组件,驱动组件可以移动光束转折镜头。在对准时驱动组件将光束转折镜头移动到待对准的工作区域上方,从而可以将光源发出的光照射到工作区域中;在对准完成后,驱动组件可以将光束转折镜头移出待对准的工作区域,使光束转折镜头不遮挡曝光照明视场。
附图说明
图1为本发明实施例一提供的一种对准照明模块的俯视图;
图2为图1所示对准照明模块的的转折镜头从待对准工作区域上方移开后的俯视图;
图3为本发明实施例一提供的一种驱动组件的正视图;
图4为本发明实施例一提供的一种对准装置的正视图;
图5为图4所示对准装置部分结构的俯视图;
图6为图4所示对准装置中对准照明模块的侧视图;
图7为本发明实施例二提供的一种对准装置部分结构的俯视图;
图8为图7所示对准装置中对准照明模块的侧视图;
图9为本发明实施例三提供的一种对准装置部分结构的俯视图;
图10为图9所示对准装置中对准照明模块的侧视图;
图11为本发明实施例一提供的一种光刻机的结构示意图;
图12为本发明实施例一提供的一种对准方法的流程示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
图1为本发明实施例一提供的一种对准照明模块的俯视图,图2为图1所示对准照明模块从待对准工作区域上方移开后的俯视图,结合图1和图2所示,对准照明模块包括同轴对准照明组件以及驱动组件50。同轴对准照明组件包括至少两个光源10(图1和图2示例性地设置两个光源11、12),以及与至少两个光源10对应设置的光束转折镜头40,以将至少两个光源10发出的光线反射到待对准的工作区域S。驱动组件50与光束转折镜头40连接,用于在对准时驱动光束转折镜头40移动到待对准的工作区域S上方(参考图1),以及在对准完成后将光束转折镜头40从待对准的工作区域S上方移开(参考图2)。待对准的工作区域S例如可以包括待对准的掩模板。
本发明实施例提供的照明模块包括同轴对准照明组件,同轴对准照明组件包括至少两个光源,即可以使用两个光源作为对准时的光源或使用多于两个光源作为对准时的光源,具体可以根据产品需求来定。光源发出的光不是直接照射到待对准的工作区域的,而是通过光束转折镜头之后才反射到待对准的工作区域,这样设置的优点在于,通过光束转折镜头对光源发出光线的转折,例如可以将水平光线转折为垂直光线,可以扩大光源与待对准的掩模板垂直投影之间的距离,从而为光源以及与光源配合使用的其他部件留出足够的空间,使对准照明模块不遮挡曝光照明视场。对准照明模块还包括与光束转折镜头连接的驱动组件,驱动组件可以移动光束转折镜头。在对准时驱动组件将光束转折镜头移动到待对准的工作区域上方,从而可以将光源发出的光反射到工作区域中;在对准完成后,驱动组件可以将光束转折镜头移出待对准的工作区域,使光束转折镜头不遮挡曝光照明视场。
可选地,参考图1和图2,同轴对准照明组件包括第一光源11和第二光源12。第一光源11和第二光源12可以使用与光刻机投影物镜工作相同的紫外光源,紫外光源的发光波长较短,波长越短的光越不容易发生衍射,有利于实现对准。本发明实施例中的同轴对准照明组件包括第一光源11和第二光源12,是一种典型的设置,但本发明并不以此为限。
图3为本发明实施例一提供的一种驱动组件的正视图,结合图1、图2和图3所示,驱动组件50包括固定底座51和位于固定底座51一侧的移动台52。驱动组件50还包括镜头转接板53,镜头转接板53固定于移动台52远离固定底座51一侧表面,光束转折镜头40固定在镜头转接板53上。示例性地,移动台52可以在固定底座51上直线运动,则光束转折镜头40和镜头转接板53也随着移动台52做直线远动。驱动组件50可以包括电机驱动的滚珠丝杠直线运动装置,也可以包括气压驱动的气缸滑动装置。需要说明的是,在其他实施方式中,移动台52也可以在固定底座51上曲线运动,只要在对准时能够驱动光束转折镜头40移动到待对准的工作区域S上方,在对准完成后将光束转折镜头40从待对准的工作区域S上方移开即可。
可选地,参考图1和图2,同轴对准照明组件还可以包括第一照明光导21、第一固定照明镜头31、第二照明光导22和第二固定照明镜头32。第一照明光导21以及第一固定照明镜头31位于第一光源11与光束转折镜头40之间,第一照明光导21的一端连接第一光源11,第一照明光导21的另一端连接第一固定照明镜头31,第一光源11发出的光经过第一照明光导21和第一固定照明镜头31后照射到光束转折镜头40上。第二照明光导22以及第二固定照明镜头32位于第二光源12与光束转折镜头40之间,第二照明光导22的一端连接第二光源12,第二照明光导22的另一端连接第二固定照明镜头32,第二光源12发出的光经过第二照明光导22和第二固定照明镜头32后照射到光束转折镜头40上。本发明实施例中,通过第一固定照明镜头31和第二固定照明镜头32,提高了第一光源11和第二光源12的出射光的准直性和照明均匀性,从而提高了对准精度。
可选地,参考图1和图2,光束转折镜头40包括三棱镜和/或反射镜,三棱镜的截面形状为等腰直角三角形,三棱镜的入射面与三棱镜的出射面垂直。光束转折镜头40中可以包括一个或多个可以使光线发生转折的部件,当光束转折镜头40中包括多个可以使光线发生转折的部件时,多个可以使光线发生转折的部件可以全部采用三棱镜,或者全部采用反射镜,或者一部分采用三棱镜而另一部分采用反射镜。
图4为本发明实施例一提供的一种对准装置的正视图,参考图1和图4所示,对准装置包括上述任一实施例中的对准照明模块100。对准装置还包括掩模台61、工件台71、成像模块80和控制模块(图4中未示出),掩模台61位于对准照明模块100与工件台71之间,在掩模台61和工件台71之间还设置有投影物镜90。控制模块与驱动组件50电连接,用于控制驱动组件50移动光束转折镜头40,控制模块还可以控制第一光源11、第二光源12、掩模台61、工件台71和成像模块80的工作方式,例如控制第一光源11何时发光,或者控制工件台71的移动量大小。掩模台61用于承载待对准的掩模板62,掩模板62包括对准标记(图4中示例性地,掩模板62包括两个对准标记,分别为第一掩模对准标记621和第二掩模对准标记622),对准装置还包括工件台基准板72,工件台基准板72装载于工件台71上,工件台基准板72包括基准标记721。在对准时光束转折镜头40移动到待对准的掩模板62上方,光源10发出的光线经过光束转折镜头40的转折后照射到待对准的掩模板62的对准标记上,光线还同时照射到工件台基准板72的基准标记721上,根据对准标记和基准标记721可以实现对准。在对准完成后将光束转折镜头40从待对准的掩模板62上方移开,从而不会影响曝光过程。
可选地,参考图4,成像模块80包括同轴对准成像镜头81和同轴对准成像传感器82,同轴对准成像镜头81和同轴对准成像传感器82装载于工件台71上,同轴对准成像镜头81位于工件台基准板72和同轴对准成像传感器82之间。基准标记721位于同轴对准成像传感器82的视场内,基准标记721通过同轴对准成像镜头81后可以清晰地成像于同轴对准成像传感器82中。
由于待对准的掩模板中通常使用两个对准标记(包括第一掩模对准标记和第二掩模对准标记),同时还设置有两个光源(第一光源和第二光源),使用第一光源照射第一掩模对准标记,使用第二光源照射第二掩模对准标记,以下各实施例中均以两个对准标记和两个光源为例对本发明进行解释说明,但并不以此为限。
图5为图4所示对准装置部分结构的俯视图,图6为图4所示对准装置中对准照明模块的侧视图,结合图4、图5和图6所示,对准照明模块100包括同轴对准照明组件以及驱动组件50,同轴对准照明组件包括第一光源11和第二光源12,第一光源11和第二光源12位于掩模板62的同一侧。同时,第一照明光导21、第一固定照明镜头31和第一光源11位于掩模板62的同一侧,第二照明光导22、第二固定照明镜头32和第二光源12位于掩模板62的同一侧。
可选地,参考图4、图5和图6,对准照明模块100包括光束转折镜头40,光束转折镜头40包括一个三棱镜41,三棱镜41的截面形状为等腰直角三角形,三棱镜41的入射面与三棱镜41的出射面垂直,第一光源11和第二光源12的光轴垂直于三棱镜41的入射面。从第一光源11出射的光线经过三棱镜41的反射后发生了90°的转折,将沿水平方向传播的光线变为了沿垂直方向传播,然后照射到掩模板62的第一掩模对准标记621上;从第二光源12出射的光线经过三棱镜41的反射后发生了90°的转折,将沿水平方向传播的光线变为了沿垂直方向传播,然后照射到掩模板62的第二掩模对准标记622上。本发明实施例中,光束转折镜头40包括一个三棱镜41,第一光源11和第二光源12发出的光线在同一个三棱镜41的不同位置处发生反射。在其他实施方式中,也可以将三棱镜替换为反射镜。
图7为本发明实施例二提供的一种对准装置部分结构的俯视图,图8为图7所示对准装置中对准照明模块的侧视图,结合图7和图8所示,对准照明模块包括同轴对准照明组件以及驱动组件,同轴对准照明组件包括第一光源11和第二光源12,第一光源11和第二光源12位于掩模板62的相对两侧。同时,第一照明光导21、第一固定照明镜头31和第一光源11位于掩模板62的同一侧,第二照明光导22、第二固定照明镜头32和第二光源12位于掩模板62的同一侧。示例性地,光束转折镜头40可以包括两个三棱镜,分别为左三棱镜41和右三棱镜42。从第一光源11出射的光线经过左三棱镜41的反射后发生了90°的转折,将沿水平方向传播的光线变为了沿垂直方向传播,然后照射到掩模板62的第一掩模对准标记621上;同理可知,从第二光源12出射的光线经过右三棱镜42的反射后发生了90°的转折,将沿水平方向传播的光线变为了沿垂直方向传播,然后照射到掩模板62的第二掩模对准标记622上。在其他实施方式中,也可以将部分或全部三棱镜替换为反射镜。需要说明的是,第一光源11和第二光源12位于掩模板62的相对两侧时,为了避免光束转折镜头40从待对准工作区域上方移开后的停泊位置与第一光源11或第二光源12存在机械空间布局冲突,可以使光束转折镜头40以曲线运动的方式避开机械空间布局冲突。曲线运动的方式例如可以采用“S”形曲线运动。图9为本发明实施例三提供的一种对准装置部分结构的俯视图,图10为图9所示对准装置中对准照明模块的侧视图,结合图9和图10所示,对准照明模块包括同轴对准照明组件以及驱动组件,同轴对准照明组件包括第一光源11和第二光源12,第一光源11和第二光源12位于掩模板62的相邻两侧。同时,第一照明光导21、第一固定照明镜头31和第一光源11位于掩模板62的同一侧,第二照明光导22、第二固定照明镜头32和第二光源12位于掩模板62的同一侧。示例性地,光束转折镜头40可以包括两个三棱镜,分别为左三棱镜41和右三棱镜42。从第二光源12出射的光线经过右三棱镜42的反射后发生了90°的转折,将沿水平方向传播的光线变为了沿垂直方向传播,然后照射到掩模板62的第二掩模对准标记622上;同理可知,从第一光源11出射的光线经过左三棱镜41的反射后发生了90°的转折,将沿水平方向传播的光线变为了沿垂直方向传播,然后照射到掩模板62的第一掩模对准标记621上。在其他实施方式中,也可以将部分或全部三棱镜替换为反射镜。
需要说明的是,将第一光源11和第二光源12设置于掩模板62的同一侧,相对于将第一光源11和第二光源12设置于掩模板62的相对两侧或者相邻两侧来说,可以节约第一光源11和第二光源12的整体空间占用,有利于将对准装置的各部件紧凑设置,从而使对准装置小型化;另外,由于不同光线转折部件(三棱镜41或反射镜)的入射面、出射面不会完全平行,导致第一光源11发出的光线和第二光源12发出的光线不会经过完全相同的转折角度,第一光源11发出的光线的转折角度和第二光源12发出的光线的转折角度存在一个微小的偏差,因此当第一光源11发出的光线照射到第一掩模对准标记621为最优时,第二光源12发出的光线照射到第二掩模对准标记622不最优;当第二光源12发出的光线照射到第二掩模对准标记622为最优时,第一光源11发出的光线照射到第一掩模对准标记621不最优。而将第一光源11和第二光源12设置于掩模板62的同一侧时,可以只使用一个光线转折部件使第一光源11发出的光线和第二光源12发出的光线具有相同的转折角度,当第一光源11发出的光线照射到第一掩模对准标记621为最优时,第二光源12发出的光线照射到第二掩模对准标记622也为最优。
本发明实施例还提供一种光刻机,包括上述任一个实施例中的对准装置。图11为本发明实施例一提供的一种光刻机的结构示意图,如图11所示,对准装置包括对准照明模块100和工件台71。光刻机还包括曝光照明装置200,曝光照明装置200位于对准照明模块100远离工件台71一侧。曝光照明装置200用于对工件台71上的工件曝光从而实现光刻过程。
本发明实施例提供一种对准方法,参考图1-图10,对准装置包括对准照明模块100、工件台71、同轴对准成像传感器82、工件台基准板72和控制模块。工件台基准板72包括基准标记721,待对准的掩模板62包括对准标记,对准照明模块100包括同轴对准照明组件以及驱动组件,同轴对准照明组件包括至少两个光源10,以及与至少两个光源10对应设置的光束转折镜头40,驱动组件50与光束转折镜头40连接。图12为本发明实施例一提供的一种对准方法的流程示意图,参考图12,对准方法包括如下步骤:
S110、在对准时驱动光束转折镜头40移动到待对准的工作区域S上方。
待对准的工作区域S例如可以为待对准的掩模板62,可以根据掩模板62上的对准标记实现对准。
S120、使用至少两个光源10照射掩模板62的对准标记。
一般来说,可以设置光源的数量与对准标记的数量相同。
S130、在对准完成后将光束转折镜头40从待对准的工作区域S上方移开。
进一步地,至少两个光源10包括第一光源11和第二光源12,对准标记包括第一掩模对准标记621和第二掩模对准标记622。使用至少两个光源10照射掩模板62的对准标记可以包括:
使用第一光源11将第一掩模对准标记621和基准标记721成像于同轴对准成像传感器82;
使用第二光源12将第二掩模对准标记622和基准标记721成像于同轴对准成像传感器82。
可以根据第一掩模对准标记621和基准标记721的相对位置,以及根据第二掩模对准标记622和基准标记721的相对位置,经过计算得到掩模板62对准时所需的移动量,进而可以在控制模块的控制下,通过移动掩模台61或移动工件台71实现对准。掩模板62对准时所需的移动量的获取过程可以为:控制模块可以利用机器视觉算法对同轴对准成像传感器82采集到的含有第一掩模对准标记621成像的数字图像进行处理,可以匹配计算出第一掩模对准标记621在设定坐标系下的像素坐标;然后进一步利用预先标定好的像素坐标系到掩模台61(或工件台71)坐标系的坐标转换关系,可以计算出第一掩模对准标记621在掩模台61(或工件台71)坐标系下的坐标。同理,可以得到第二掩模对准标记622在掩模台61(或工件台71)坐标系下的坐标。进而可以得到掩模板62对准时所需的移动量。
可选地,可以将光束转折镜头40沿某一方向做直线运动,直线运动相较于曲线运动来说,更容易实现。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (14)
1.一种对准照明模块,其特征在于,包括同轴对准照明组件以及驱动组件;
所述同轴对准照明组件包括至少两个光源,以及与所述至少两个光源对应设置的光束转折镜头,以将所述至少两个光源发出的光线反射到待对准的工作区域;
所述驱动组件与所述光束转折镜头连接,用于在对准时驱动所述光束转折镜头移动到待对准的工作区域上方,以及在对准完成后将所述光束转折镜头从所述待对准的工作区域上方移开。
2.根据权利要求1所述的对准照明模块,其特征在于,所述同轴对准照明组件包括第一光源和第二光源。
3.根据权利要求1所述的对准照明模块,其特征在于,所述驱动组件包括固定底座和位于所述固定底座一侧的移动台;
所述驱动组件还包括镜头转接板,所述镜头转接板固定于所述移动台远离所述固定底座一侧表面,所述光束转折镜头固定在所述镜头转接板上。
4.根据权利要求2所述的对准照明模块,其特征在于,所述同轴对准照明组件还包括第一照明光导、第一固定照明镜头、第二照明光导和第二固定照明镜头;所述第一照明光导以及所述第一固定照明镜头位于所述第一光源与所述光束转折镜头之间,所述第二照明光导以及所述第二固定照明镜头位于所述第二光源与所述光束转折镜头之间。
5.根据权利要求1所述的对准照明模块,其特征在于,所述光束转折镜头包括三棱镜和/或反射镜;所述三棱镜的截面形状为等腰直角三角形,所述三棱镜的入射面与所述三棱镜的出射面垂直。
6.一种对准装置,其特征在于,包括如权利要求1-5任一项所述的对准照明模块;
所述对准装置还包括掩模台、投影物镜、工件台、成像模块和控制模块,所述掩模台位于所述对准照明模块与所述工件台之间,所述投影物镜位于所述掩模台与所述工件台之间;所述控制模块与驱动组件电连接,用于控制所述驱动组件移动光束转折镜头;所述掩模台用于承载待对准的掩模板,所述掩模板包括对准标记;
所述对准装置还包括工件台基准板,所述工件台基准板装载于所述工件台上,所述工件台基准板包括基准标记。
7.根据权利要求6所述的对准装置,其特征在于,所述成像模块包括同轴对准成像镜头和同轴对准成像传感器,所述同轴对准成像镜头和同轴对准成像传感器装载于所述工件台上;
所述同轴对准成像镜头位于所述工件台基准板和所述同轴对准成像传感器之间。
8.根据权利要求6所述的对准装置,其特征在于,所述对准照明模块包括同轴对准照明组件以及驱动组件;所述同轴对准照明组件包括第一光源和第二光源;
所述第一光源和所述第二光源位于所述掩模板的同一侧。
9.根据权利要求8所述的对准装置,其特征在于,所述对准照明模块包括光束转折镜头,所述光束转折镜头包括一个三棱镜;所述三棱镜的截面形状为等腰直角三角形,所述三棱镜的入射面与所述三棱镜的出射面垂直,所述第一光源和所述第二光源的光轴垂直于所述三棱镜的入射面。
10.根据权利要求6所述的对准装置,其特征在于,所述对准照明模块包括同轴对准照明组件以及驱动组件;所述同轴对准照明组件包括第一光源和第二光源;所述第一光源和所述第二光源位于所述掩模板的相对两侧。
11.根据权利要求6所述的对准装置,其特征在于,所述对准照明模块包括同轴对准照明组件以及驱动组件;所述同轴对准照明组件包括第一光源和第二光源;所述第一光源和所述第二光源位于所述掩模板的相邻两侧。
12.一种光刻机,其特征在于,包括权利要求6-11任一项所述的对准装置,所述对准装置包括对准照明模块和工件台;所述光刻机还包括曝光照明装置,所述曝光照明装置位于所述对准照明模块远离所述工件台一侧。
13.一种对准方法,其特征在于,对准装置包括对准照明模块、工件台、同轴对准成像传感器、工件台基准板和控制模块;所述工件台基准板包括基准标记,待对准的掩模板包括对准标记;所述对准照明模块包括同轴对准照明组件以及驱动组件;所述同轴对准照明组件包括至少两个光源,以及与所述至少两个光源对应设置的光束转折镜头;所述驱动组件与所述光束转折镜头连接;
所述对准方法包括:
在对准时驱动所述光束转折镜头移动到待对准的工作区域上方;
使用所述至少两个光源照射所述掩模板的所述对准标记;
在对准完成后将所述光束转折镜头从所述待对准的工作区域上方移开。
14.根据权利要求13所述的对准方法,其特征在于,所述至少两个光源包括第一光源和第二光源,所述对准标记包括第一掩模对准标记和第二掩模对准标记;
使用所述至少两个光源照射所述掩模板的所述对准标记包括:
使用所述第一光源将所述第一掩模对准标记和所述基准标记成像于所述同轴对准成像传感器;
使用所述第二光源将所述第二掩模对准标记和所述基准标记成像于所述同轴对准成像传感器。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810097054.2A CN110095955A (zh) | 2018-01-31 | 2018-01-31 | 一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法 |
TW108103896A TW201935143A (zh) | 2018-01-31 | 2019-01-31 | 對準照明模組、對準裝置、光刻機及對準方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810097054.2A CN110095955A (zh) | 2018-01-31 | 2018-01-31 | 一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110095955A true CN110095955A (zh) | 2019-08-06 |
Family
ID=67442907
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810097054.2A Pending CN110095955A (zh) | 2018-01-31 | 2018-01-31 | 一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN110095955A (zh) |
TW (1) | TW201935143A (zh) |
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- 2018-01-31 CN CN201810097054.2A patent/CN110095955A/zh active Pending
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2019
- 2019-01-31 TW TW108103896A patent/TW201935143A/zh unknown
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---|---|
TW201935143A (zh) | 2019-09-01 |
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