JPH0428489A - Laser beam machine - Google Patents

Laser beam machine

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JPH0428489A
JPH0428489A JP2132204A JP13220490A JPH0428489A JP H0428489 A JPH0428489 A JP H0428489A JP 2132204 A JP2132204 A JP 2132204A JP 13220490 A JP13220490 A JP 13220490A JP H0428489 A JPH0428489 A JP H0428489A
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laser beam
infrared laser
light source
infrared
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猿田 正弘
Tetsuji Kosaka
匂坂 哲次
Kazunari Maeda
和成 前田
Takumi Yashiki
屋敷 匠
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Abstract

PURPOSE:To increase holding rigidity of a laser beam head by fixing an optical axis of an infrared laser beam source in the XY direction, making a table movable in the XY direction with respect to an infrared laser beam and observing a machining condition of a workpiece on the table. CONSTITUTION:The workpiece is irradiated with the infrared laser beam and defects thereof are inspected and eliminated. The infrared laser beam whose optical axis is fixed in the XY direction is generated from the infrared laser beam source (laser beam head) 9. The XY table (stage) 3 is made movable in the XY direction with respect to the infrared laser beam and the workpiece is supported hereby. The machining condition of the workpiece on the XY table 3 is observed by an infrared optical system of a CCD camera 7, a defect inspection instrument 8, etc. Consequently, the defects of the workpiece such as a liquid-crystal display panel can be inspected.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は欠陥検査装置に関し、たとえば液晶表示パネ
ルの欠陥を検査するような欠陥検査装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a defect inspection device, for example, a defect inspection device for inspecting defects in a liquid crystal display panel.

[従来の技術] 最近では各種電子機器に液晶表示パネルが多く用いられ
つつある。しかも、液晶表示パネルに表示される情報量
が多くなってきており、表示密度の高い液晶表示パネル
が要求されている。表示密度を高めるためには、液晶表
示器と端子との間の配線パターンを細くシ、シかも隣接
するパターンとの間隔を狭くする必要がある。
[Prior Art] Recently, liquid crystal display panels have been increasingly used in various electronic devices. Moreover, the amount of information displayed on liquid crystal display panels is increasing, and liquid crystal display panels with high display density are required. In order to increase the display density, it is necessary to make the wiring pattern between the liquid crystal display and the terminal thinner, and also to narrow the distance between adjacent patterns.

ところが、パターンの密度を高めると、パターンのエツ
チング工程で、エツチングが不十分なために隣接するパ
ターン同士が電気的に接続されてしまうことがある。こ
のような不良を検出し、良品にするために液晶リペア装
置が使用されている。
However, when the pattern density is increased, adjacent patterns may be electrically connected to each other due to insufficient etching in the pattern etching process. A liquid crystal repair device is used to detect such defects and restore the product to a non-defective product.

従来の液晶リペア装置は、検査すべき液晶表示パネルを
ステージ上に配置しておき、その上をX。
In conventional LCD repair equipment, the LCD panel to be inspected is placed on a stage, and an X is placed over it.

Y、z方向に移動可能なヘッドを設け、このヘッドにC
CDカメラとレーザ光源を配置したものである。そして
、CCDカメラによって配線パターンを撮像し、モニタ
ーテレビで監視しながら、隣接するパターン同士が接続
されている部分を見つけ出し、その部分にレーザ光源か
ら発光されたレーザ光を照射し、パターン間の不要部分
を焼切る。
A head movable in the Y and Z directions is provided, and a C
It is equipped with a CD camera and a laser light source. Then, we image the wiring pattern with a CCD camera, monitor it on a monitor TV, find the parts where adjacent patterns are connected, and irradiate that part with laser light emitted from a laser light source, eliminating unnecessary gaps between the patterns. Burn off the parts.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上述の液晶リペア装置は、CCDカメラ
とレーザ光源を配置したヘッドをx、 y。
[Problems to be Solved by the Invention] However, the above-mentioned liquid crystal repair device has a head in which a CCD camera and a laser light source are arranged in x and y directions.

Z方向に移動できるようにしているため、保持剛性が弱
いという欠点がある。
Since it is designed to be movable in the Z direction, it has the disadvantage of weak holding rigidity.

それゆえに、この発明の主たる目的は、ヘッドの保持剛
性を高め、液晶表示パネルのような被加工物の欠陥を検
査し得るレーザ加工装置を提供することである。
Therefore, a main object of the present invention is to provide a laser processing apparatus that increases the holding rigidity of the head and is capable of inspecting a workpiece such as a liquid crystal display panel for defects.

[課題を解決するための手段] この発明は赤外レーザ光を照射して被加工物の欠陥を検
査して欠陥を除去するためのレーザ加工装置であって、
光軸がXY力方向対して固定され、赤外レーザ光を発光
する赤外レーザ光源と、赤外レーザ光源に対してXY力
方向移動可能であって、被加工物を支持するXY子テー
ブル、XY子テーブル上被加工物の加工状態を観察する
だめの赤外光学系を備えて構成される。
[Means for Solving the Problems] The present invention is a laser processing device for inspecting and removing defects in a workpiece by irradiating infrared laser light,
an infrared laser light source whose optical axis is fixed in the XY force direction and emits an infrared laser beam; an XY child table that is movable in the XY force directions with respect to the infrared laser light source and supports a workpiece; It is equipped with an infrared optical system for observing the machining state of the workpiece on the XY child table.

[作用] この発明に係るレーザ加工装置は、赤外レーザ光源をX
Y力方向対して固定し、被加工物を支持するXY子テー
ブルXY力方向移動可能にしたので、赤外レーザ光源は
Z方向に対してのみ移動するだけであるため、保持剛性
を高めることができる。[実施例] 第1図はこの発明の一実施例の外観斜視図であり、第2
図は同じく正面図である。
[Function] The laser processing device according to the present invention uses an infrared laser light source as
The XY child table that supports the workpiece is fixed in the Y force direction and movable in the XY force direction, so the infrared laser light source only moves in the Z direction, which increases the holding rigidity. can. [Example] Fig. 1 is an external perspective view of an embodiment of the present invention, and Fig. 1 is an external perspective view of an embodiment of the present invention.
The figure is also a front view.

第1図および第2図を参照して、筐体1のベース2上に
は、x、X方向に移動可能なXYステージ3が配置され
る。このXYステージ3上には、被加工物としての液晶
パネルが載置される。XYステージ3上に載置された被
加工物を検査するために、XY力方向の移動が禁止され
、Z方向(上下方向)にのみ移動可能なZ軸テーブル4
が設けられる。このZ軸テーブル4には電動リボルバ5
と顕微鏡照明用光源6とCCDカメラ7と欠陥検査袋!
f8とレーザヘッド9とが設けられる。電動リボルバ5
は倍率の異なるレンズを切換えるものであり、顕微鏡照
明用光源6は被加工物を照明する。CCDカメラ7は電
動リボルバ5のレンズを介して被加工物の表面を撮像す
る。欠陥検査装置8は被加工物の表面の欠陥を検査する
ものであり、リニアイメージセンサによ7て構成される
。レーザヘッド9はレーザ光を被加工物の表面に照射し
て加工を行なうものである。なお、XYステージ3の下
部には、第2図に示すように、被加工物を透過照明す、
るための光源10が設けられている。
Referring to FIGS. 1 and 2, an XY stage 3 movable in the x and X directions is arranged on the base 2 of the casing 1. A liquid crystal panel as a workpiece is placed on this XY stage 3. In order to inspect the workpiece placed on the XY stage 3, a Z-axis table 4 is prohibited from moving in the XY force directions and can only move in the Z direction (vertical direction).
is provided. This Z-axis table 4 has an electric revolver 5.
, microscope illumination light source 6, CCD camera 7, and defect inspection bag!
f8 and a laser head 9 are provided. electric revolver 5
is for switching lenses with different magnifications, and the microscope illumination light source 6 illuminates the workpiece. The CCD camera 7 images the surface of the workpiece through the lens of the electric revolver 5. The defect inspection device 8 inspects defects on the surface of the workpiece, and is configured with a linear image sensor 7. The laser head 9 performs processing by irradiating the surface of the workpiece with laser light. Note that, as shown in FIG.
A light source 10 is provided for illumination.

第3図はこの発明の一実施例の概略ブロック図である。FIG. 3 is a schematic block diagram of one embodiment of the present invention.

次に、第3図を参照して、この発明の一実施例の電気的
構成について説明する。CPU21は内蔵のメモリに記
憶されているプログラムに従って全体の制御を行なう。
Next, referring to FIG. 3, the electrical configuration of an embodiment of the present invention will be described. The CPU 21 performs overall control according to a program stored in a built-in memory.

すなわち、CPU21はXYステージ3をX方向に移動
させるための指令信号を、l1022を介してXパルス
コントローラ23に与える。Xパルスコントローラ23
は指令信号に応じてXパルスを発生させる。このXパル
スはXモータドライバ24に与えられる。
That is, the CPU 21 gives a command signal for moving the XY stage 3 in the X direction to the X pulse controller 23 via l1022. X pulse controller 23
generates an X pulse in response to a command signal. This X pulse is given to the X motor driver 24.

Xモータドライバ24は与えられたパルスの数だけXモ
ータ25を回転させる。Xモータ25はXY子テーブル
をX方向に移動させる。Xモータ25の回転数はXエン
コーダ26によって検出される。Xエンコーダ26はX
モータ25の回転に応じたパルス信号を発生してXカウ
ンタ27に与える。Xカウンタ27はそのパルス信号を
計数し、その計数出力はXカウンタ回路28.l102
2を介してCPU21に与える。
The X motor driver 24 rotates the X motor 25 by the number of pulses given. The X motor 25 moves the XY child table in the X direction. The rotation speed of the X motor 25 is detected by the X encoder 26. The X encoder 26 is
A pulse signal corresponding to the rotation of the motor 25 is generated and applied to the X counter 27. The X counter 27 counts the pulse signals, and the count output is sent to the X counter circuit 28. l102
2 to the CPU 21.

同様にして、CPU21はxyステージ3をY方向に移
動させるための指令信号を、I 1029を介してYパ
ルスコントローラ30に与える。Yパルスコントローラ
30は指令信号に応じてYパルスを発生し、Yモータド
ライバ31に与える。
Similarly, the CPU 21 provides a command signal for moving the xy stage 3 in the Y direction to the Y pulse controller 30 via I 1029. The Y pulse controller 30 generates a Y pulse according to the command signal and supplies it to the Y motor driver 31.

Yモータドライバ31はYパルスの数だけYモータ32
を回転させる。Yモータ32はXYステージ3をY方向
に移動させるために設けられている。
The Y motor driver 31 drives the Y motor 32 by the number of Y pulses.
Rotate. A Y motor 32 is provided to move the XY stage 3 in the Y direction.

このYモータ32の回転数はYエンコーダ33によって
検出され、その回転数に応じたパルス信号がYカウンタ
34に与え“られる。Yカウンタ34はパルス信号を計
数し、その計数出力を、Yカウンタ回路35およびl1
029を介してCPU21に与える。CPU21はXカ
ウンタ回路28およびYカウンタ回路35の計数出力に
よって、XYステージ3のX方向およびY方向の位置を
判別する。
The number of rotations of the Y motor 32 is detected by the Y encoder 33, and a pulse signal corresponding to the number of rotations is given to the Y counter 34.The Y counter 34 counts the pulse signals and sends the counted output to the Y counter circuit. 35 and l1
029 to the CPU 21. The CPU 21 determines the position of the XY stage 3 in the X direction and the Y direction based on the count outputs of the X counter circuit 28 and the Y counter circuit 35.

欠陥検査装置8としてのリニアイメージセンサ8は被加
工物の欠陥画素情報として出力して画像処理回路36に
与える。画像処理回路36は欠陥検査装置8の出力を画
像処理し、l1037を介して欠陥画素情報をCPU2
1に与える。CPU21は欠陥画素情報とYカウンタ回
路35の計数出力を演算し、欠陥位置情報を算出して記
憶装置38に記憶させる。なお、この欠陥位置情報はモ
ニタ40にも表示される。
The linear image sensor 8 serving as the defect inspection device 8 outputs defective pixel information of the workpiece and provides it to the image processing circuit 36 . The image processing circuit 36 performs image processing on the output of the defect inspection device 8, and sends defective pixel information to the CPU 2 via l1037.
Give to 1. The CPU 21 calculates the defective pixel information and the count output of the Y counter circuit 35, calculates defective position information, and stores it in the storage device 38. Note that this defect position information is also displayed on the monitor 40.

第4図はこの発明の一実施例の具体的な動作を説明する
ためのフロー図であり、第5図はこの発明の一実施例に
よって欠陥を検査する方法を説明するための図である。
FIG. 4 is a flowchart for explaining the specific operation of an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a diagram for explaining a method for inspecting defects according to an embodiment of the present invention.

次に、第1図ないし第5図を参照して、この発明の一実
施例の具体的な動作について説明する。
Next, with reference to FIGS. 1 to 5, a specific operation of an embodiment of the present invention will be described.

第4図におけるステップ(図示ではSPと略称する)S
PIにおいて、CPU21はXYステージ3をX方向、
Y方向に移動させるための指令信号を出力し、被加工物
を測定開始位置に移動させる。
Step S in FIG. 4 (abbreviated as SP in the illustration)
In the PI, the CPU 21 moves the XY stage 3 in the X direction,
A command signal for movement in the Y direction is output, and the workpiece is moved to the measurement start position.

このとき、欠陥検査装置8は被加工物の表面の画像を読
取る。この画像信号は画像処理回路36によって画像処
理され、l1037を介してCPU21に与えられる。
At this time, the defect inspection device 8 reads an image of the surface of the workpiece. This image signal is subjected to image processing by the image processing circuit 36 and is provided to the CPU 21 via l1037.

CPU21はステップSP2において第5図(a)に示
すように、被加工物11上のX方向1ライン分の画像デ
ータを読込む。
In step SP2, the CPU 21 reads image data for one line in the X direction on the workpiece 11, as shown in FIG. 5(a).

CPU21はステップSP3において、読込んだ画像デ
ータに基づいて、1ライン中に欠陥箇所があるか否かを
判別する。もし、欠陥がなければCPU21はステップ
SP6において、被加工物を1ライン分移動させるため
の指令信号を出力する。CPU21はもし1ライン中に
欠陥箇所のあることを判別すると、ステップSP4にお
いて、リニアイメージセンサにおけるセンサ上での欠陥
箇所の画素位置を記憶する。すなわち、第5図(b)に
示すように、欠陥検査装置8が被加工物11上の欠陥1
2を検出すると、その位置に対応した箇所の画素81が
変化する。CPU21はその画素81の位置がら欠陥位
置のX座標を認識する。
In step SP3, the CPU 21 determines whether or not there is a defect in one line based on the read image data. If there is no defect, the CPU 21 outputs a command signal to move the workpiece by one line in step SP6. If the CPU 21 determines that there is a defect in one line, in step SP4 it stores the pixel position of the defect on the linear image sensor. That is, as shown in FIG. 5(b), the defect inspection device 8 detects the defect 1 on the workpiece 11.
When 2 is detected, the pixel 81 at the location corresponding to that position changes. The CPU 21 recognizes the X coordinate of the defect position from the position of the pixel 81.

さらに、CPU21はステップSP5において、現在の
XYステージ3の位置をYカウンタ回路35の計数出力
に基づいて判別し、これを記憶する。
Further, in step SP5, the CPU 21 determines the current position of the XY stage 3 based on the count output of the Y counter circuit 35, and stores this.

そして、CPU21はステップSP6において被加工物
を1ライン分Y方向に移動させるために、指令信号を出
力する。ステップSP7において、CPU21は測定終
了位置までXYステージ3を移動させたか否かを判別し
、終了位置まで移動していなければ再びステップSP2
に戻り、ステップSP2〜SP7の動作を繰返す。この
動作を繰返し、測定終了位置まで移動したことを判別す
ると、ステップSP8において記憶したX方向における
センサ上での欠陥箇所の画素位置とY方向におけるXY
ステージ3の位置を基にして、欠陥位置座標を演算し、
これを記憶装置38に記憶させるとともに、モニタ40
に表示させる。この表示を見ながら、レーザヘッド9に
より被加工物にレーザ光を照射すれば、たとえば液晶表
示デイスプレィの不要なパターンを除去することができ
る。
Then, in step SP6, the CPU 21 outputs a command signal to move the workpiece in the Y direction by one line. In step SP7, the CPU 21 determines whether or not the XY stage 3 has been moved to the measurement end position, and if the XY stage 3 has not been moved to the end position, it returns to step SP2.
Return to step SP2 and repeat the operations of steps SP2 to SP7. After repeating this operation and determining that it has moved to the measurement end position, the pixel position of the defective location on the sensor in the X direction and the XY direction in the Y direction stored in step SP8 are
Based on the position of stage 3, calculate the defect position coordinates,
This is stored in the storage device 38, and the monitor 40
to be displayed. By irradiating the workpiece with laser light using the laser head 9 while viewing this display, unnecessary patterns on the liquid crystal display, for example, can be removed.

上述のごとく、この実施例によれば、CCDカメラ8.
レーザヘッド9などを設けたZ軸テーブル4をZ方向に
のみ移動させ、被加工物を載置したXYテーブル3をX
方向およびY方向に移動させて被加工物の欠陥を検査す
るようにしたので、2軸テーブル4の保持剛性を高める
ことができる。
As mentioned above, according to this embodiment, the CCD camera 8.
The Z-axis table 4 equipped with the laser head 9 etc. is moved only in the Z direction, and the XY table 3 on which the workpiece is placed is moved in the X direction.
Since the workpiece is inspected for defects by moving it in the direction and the Y direction, the holding rigidity of the two-axis table 4 can be increased.

しかも、XYステージ3を移動させながら、リニアイメ
ージセンサからなる欠陥検査装置により被加工物上を走
査して欠陥位置の画素を検出することにより、CPU2
1によってディジタル的に被加工物上の欠陥位置を検出
して記憶することができる。
In addition, while moving the XY stage 3, the defect inspection device consisting of a linear image sensor scans the workpiece and detects pixels at defective positions.
1 allows the defect position on the workpiece to be digitally detected and stored.

[発明の効果] 以上のように、この発明によれば、被加工物を支持する
XY子テーブルXY力方向移動可能にし、赤外レーザ光
源をXY力方向対して固定するようにしたので、ヘッド
の保持剛性を高めることができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, the XY child table supporting the workpiece is made movable in the XY force directions, and the infrared laser light source is fixed in the XY force directions. It is possible to increase the holding rigidity of the

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例の外観写真図である。第2
図は同じく正面図である。第3図はこの発明の一実施例
の概略ブロック図である。第4図はこの発明の一実施例
の具体的な動作を説明するためのフロー図である。第5
図はこの発明の一実施例による欠陥検査方法を説明する
ための図である。 図において、3はXYステージ、4は2軸テーブル、5
は電動リボルバ、6は顕微鏡照明用光源、7はCCDカ
メラ、8は欠陥検査装置、9はレーザヘッド、10は透
過照明用光源、21はCPU。 22.29はIlo、23はXパルスコントローラ、2
4はXモータドライバ、25はXモータ、26はXエン
コーダ、27はXカウンタ、28はXカウンタ回路、3
0はYパルスコントローラ、31はYモータドライバ、
32はYモータ、33はYエンコーダ、34はYカウン
タ、35はYカウンタ回路、36は画像処理回路、38
は記憶装置を示す。 浩4國 平成2年10月30日
FIG. 1 is an external photographic diagram of an embodiment of the present invention. Second
The figure is also a front view. FIG. 3 is a schematic block diagram of one embodiment of the present invention. FIG. 4 is a flowchart for explaining the specific operation of one embodiment of the present invention. Fifth
The figure is a diagram for explaining a defect inspection method according to an embodiment of the present invention. In the figure, 3 is an XY stage, 4 is a two-axis table, and 5 is a
6 is an electric revolver, 6 is a light source for microscope illumination, 7 is a CCD camera, 8 is a defect inspection device, 9 is a laser head, 10 is a light source for transmitted illumination, and 21 is a CPU. 22.29 is Ilo, 23 is X pulse controller, 2
4 is an X motor driver, 25 is an X motor, 26 is an X encoder, 27 is an X counter, 28 is an X counter circuit, 3
0 is the Y pulse controller, 31 is the Y motor driver,
32 is a Y motor, 33 is a Y encoder, 34 is a Y counter, 35 is a Y counter circuit, 36 is an image processing circuit, 38
indicates a storage device. Ko4koku October 30, 1990

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)赤外レーザ光を照射して被加工物の欠陥を検査し
て欠陥を除去するレーザ加工装置であって、 光軸がXY方向に対して固定され、前記赤外レーザ光を
発光する赤外レーザ光源、 前記赤外レーザ光に対してXY方向に移動可能であって
、前記被加工物を支持するXYテーブル、および 前記XYテーブル上の被加工物の加工状態を観察するた
めの赤外光学系を備えた、レーザ加工装置。
(1) A laser processing device that inspects and removes defects in a workpiece by irradiating infrared laser light, the optical axis of which is fixed in the XY direction and emits the infrared laser light. An infrared laser light source, an XY table that is movable in XY directions with respect to the infrared laser beam and supports the workpiece, and an infrared laser light source for observing the processing state of the workpiece on the XY table. Laser processing equipment equipped with an external optical system.
(2)前記XYテーブルの下面側には、前記被加工物を
照明するための透過照明用光源が設けられる、請求項第
1項記載のレーザ加工装置。
(2) The laser processing apparatus according to claim 1, wherein a light source for transmitted illumination for illuminating the workpiece is provided on the lower surface side of the XY table.
JP2132204A 1990-05-21 1990-05-21 Laser processing equipment Expired - Lifetime JPH0832369B2 (en)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
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JPH0832369B2 JPH0832369B2 (en) 1996-03-29

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