JP2648883B2 - Laser processing equipment - Google Patents

Laser processing equipment

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JP2648883B2
JP2648883B2 JP2132205A JP13220590A JP2648883B2 JP 2648883 B2 JP2648883 B2 JP 2648883B2 JP 2132205 A JP2132205 A JP 2132205A JP 13220590 A JP13220590 A JP 13220590A JP 2648883 B2 JP2648883 B2 JP 2648883B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明はレーザ加工装置に関し、たとえば液晶表示
パネルの欠陥を検査するようなレーザ加工装置に関す
る。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus, for example, a laser processing apparatus for inspecting a defect of a liquid crystal display panel.

[従来の技術] 最近では各種電子機器に液晶表示パネルが多く用いら
れつつある。しかも、液晶表示パネルに表示される情報
量が多くなってきており、表示密度の高い液晶表示パネ
ルが要求されている。表示密度を高めるためには、液晶
表示器と端子との間の配線パターンを細くし、しかも隣
接するパターンとの間隔を狭くする必要がある。
[Related Art] Recently, liquid crystal display panels have been frequently used in various electronic devices. Moreover, the amount of information displayed on the liquid crystal display panel is increasing, and a liquid crystal display panel with a high display density is required. In order to increase the display density, it is necessary to make the wiring pattern between the liquid crystal display and the terminal thinner, and to make the interval between adjacent patterns narrower.

ところが、パターンの密度を高めると、パターンのエ
ッチング工程で、エッチングが不十分なために隣接する
パターン同士が電気的に接続されてしまうことがある。
このような不良を検出し、良品にするために液晶リペア
装置が使用されている。従来の液晶リペア装置は、検査
すべき液晶表示パネルをステージ上に配置しておき、そ
の上をX,Y,Z方向に移動可能なヘッドを設け、このヘッ
ドにCCDカメラとレーザ光源を配置したものである。そ
して、CCDカメラによって配線パターンを撮像し、モニ
ターテレビで監視しながら、隣接するパターン同士が接
続されている部分を見つけ出し、その部分にレーザ光源
から発光されたレーザ光を照射し、パターン間の不要部
分を焼切る。
However, when the pattern density is increased, adjacent patterns may be electrically connected to each other due to insufficient etching in the pattern etching process.
A liquid crystal repair device is used to detect such a defect and make it a good product. In the conventional liquid crystal repair device, a liquid crystal display panel to be inspected was arranged on a stage, a head movable in X, Y, Z directions was provided thereon, and a CCD camera and a laser light source were arranged on this head. Things. Then, while capturing the wiring pattern with a CCD camera and monitoring it with a monitor TV, a portion where adjacent patterns are connected to each other is found, and the portion is irradiated with laser light emitted from a laser light source. Burn off the pieces.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上述の液晶リペア装置は、CCDカメラ
とレーザ光源を配置したヘッドをX,Y,Z方向に移動でき
るようにしているため、保持剛性が弱いという欠点があ
る。
[Problems to be Solved by the Invention] However, the liquid crystal repair device described above has a disadvantage that the holding rigidity is weak because the head in which the CCD camera and the laser light source are arranged can be moved in the X, Y, and Z directions. is there.

それゆえに、この発明の主たる目的は、レーザ光源の
光軸を固定して保持剛性を高くしかつ安定なレーザ加工
装置を提供することである。
Therefore, a main object of the present invention is to provide a stable laser processing apparatus in which the optical axis of a laser light source is fixed to increase the holding rigidity and is stable.

[課題を解決するための手段] この発明は被加工物の欠陥位置を検出する機能を有す
るレーザ加工装置であって、被加工物をXY平面に移動可
能なXYテーブルと、XYテーブルのY座標位置を出力する
Y座標出力手段と、光軸がXY方向に対して固定され、XY
テーブル上の被加工物の欠陥を除去するためのレーザ光
を照射するレーザ光源と、XY座標のX軸に配置固定さ
れ、XYテーブル上の被加工物の欠陥を検査し、被加工物
上の欠陥のX座標を検出するリニアイメージセンサと、
リニアイメージセンサでX座標上の欠陥の有無を検出す
る毎に、XYテーブルをY方向に移動させる駆動手段と、
リニアイメージセンサの検出した欠陥のX座標とその検
出時のY座標出力手段から出力されたY座標を基にし、
被加工物上の欠陥位置を特定するための特定手段とを備
えて構成される。
Means for Solving the Problems The present invention relates to a laser processing apparatus having a function of detecting a defect position of a workpiece, an XY table capable of moving the workpiece to an XY plane, and a Y coordinate of the XY table. Y coordinate output means for outputting the position, the optical axis is fixed in the XY direction,
A laser light source that irradiates laser light for removing defects on the work piece on the table, and fixed on the X axis of the XY coordinates, inspects the work piece for defects on the XY table, A linear image sensor for detecting the X coordinate of the defect,
A drive means for moving the XY table in the Y direction each time the presence or absence of a defect on the X coordinate is detected by the linear image sensor;
Based on the X coordinate of the defect detected by the linear image sensor and the Y coordinate output from the Y coordinate output means at the time of the detection,
Specifying means for specifying a defect position on the workpiece.

[作用] この発明に係るレーザ加工装置は、被加工物を載置す
るためのXYテーブルをXY平面に移動可能にし、被加工物
の欠陥を除去するためのレーザ光を照射するレーザ光源
の光軸をXY方向に対して固定したので、レーザ光源の保
持剛性を高くかつ安定化することができ、さらにリニア
イメージセンサによって被加工物の欠陥を検査して欠陥
のX座標を迅速に検出し、検出された欠陥のX座標とそ
の検出時のXYテーブルのY座標に応じて判別手段によっ
て欠陥位置を判別するので、被加工物上の欠陥位置を容
易に判別できる。
[Operation] A laser processing apparatus according to the present invention enables a XY table on which a workpiece is placed to be movable in an XY plane, and irradiates a laser beam for irradiating a laser beam for removing a defect of the workpiece. Since the axis is fixed in the XY direction, the holding rigidity of the laser light source can be increased and stabilized.Furthermore, the defect of the workpiece is inspected by the linear image sensor, and the X coordinate of the defect is quickly detected. Since the defect position is determined by the determining means according to the X coordinate of the detected defect and the Y coordinate of the XY table at the time of the detection, the defect position on the workpiece can be easily determined.

[実施例] 第1図はこの発明の一実施例の外観斜視図であり、第
2図は同じく正面図である。
Embodiment FIG. 1 is an external perspective view of an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a front view of the embodiment.

第1図および第2図を参照して、筐体1のベース2上
には、X,Y方向に移動可能なXYステージ3が配置され
る。このXYステージ3上には、被加工物としての液晶パ
ネルが載置される。XYステージ3上に載置された被加工
物を検査するために、XY方向への移動が禁止され、Z方
向(上下方向)にのみ移動可能なZ軸テーブル4が設け
られる。このZ軸テーブル4には電動リボルバ5と顕微
鏡照明用光源6とCCDカメラ7と欠陥検査装置8とレー
ザヘッド9とが設けられる。電動リボルバ5は倍率の異
なるレンズを切換えるものであり、顕微鏡照明用光源6
は被加工物を照明する。CCDカメラ7は電動リボルバ5
のレンズを介して被加工物の表面を撮像する。欠陥検査
装置8は被加工物の表面の欠陥を検査するものであり、
リニアイメージセンサによって構成される。レーザヘッ
ド9はレーザ光を被加工物の表面に照射して欠陥を除去
するための加工を行なうものである。なお、XYステージ
3の下部には、第2図に示すように、被加工物を透過照
明するための光源10が設けられている。第3図はこの発
明の一実施例の概略ブロック図である。次に、第3図を
参照して、この発明の一実施例の電気的構成について説
明する。CPU21は内蔵のメモリに記憶されているプログ
ラムに従って全体の制御を行なう。すなわち、CPU21はX
Yステージ3をX方向に移動させるための指令信号を、I
/O22を介してXパルスコントローラ23に与える。Xパル
スコントローラ23は指令信号に応じてXパルスを発生さ
せる。このXパルスはXモータドライバ24に与えられ
る。Xモータドライバ24は与えられたパルスの数だけX
モータ25を回転させる。Xモータ25はXYテーブル3をX
方向に移動させる。Xモータ25の回転数はXエンコーダ
26によって検出される。Xエンコーダ26はXモータ25の
回転に応じたパルス信号を発生してXカウンタ27に与え
る。Xカウンタ27はそのパルス信号を計数し、その計数
出力はXカウンタ回路28,I/O22を介してCPU21に与え
る。
With reference to FIG. 1 and FIG. 2, an XY stage 3 that can move in the X and Y directions is arranged on a base 2 of a housing 1. A liquid crystal panel as a workpiece is placed on the XY stage 3. In order to inspect a work placed on the XY stage 3, a Z-axis table 4 is provided which is prohibited from moving in the XY direction and is movable only in the Z direction (up and down directions). The Z-axis table 4 is provided with an electric revolver 5, a microscope illumination light source 6, a CCD camera 7, a defect inspection device 8, and a laser head 9. The motorized revolver 5 switches between lenses having different magnifications, and a light source 6 for illuminating a microscope.
Illuminates the workpiece. CCD camera 7 is an electric revolver 5
The surface of the workpiece is imaged via the lens. The defect inspection device 8 is to inspect the surface of the workpiece for defects.
It is composed of a linear image sensor. The laser head 9 irradiates the surface of the workpiece with laser light to perform processing for removing defects. As shown in FIG. 2, a light source 10 for transmitting and illuminating the workpiece is provided below the XY stage 3. FIG. 3 is a schematic block diagram of one embodiment of the present invention. Next, an electrical configuration of an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The CPU 21 performs overall control according to a program stored in a built-in memory. That is, CPU 21 is X
A command signal for moving the Y stage 3 in the X direction is given by I
It is given to the X pulse controller 23 via / O22. The X pulse controller 23 generates an X pulse according to the command signal. This X pulse is given to the X motor driver 24. The X motor driver 24 outputs X pulses for the given number of pulses.
The motor 25 is rotated. X motor 25 moves XY table 3
Move in the direction. The rotation speed of X motor 25 is X encoder
Detected by 26. The X encoder 26 generates a pulse signal corresponding to the rotation of the X motor 25 and supplies it to the X counter 27. The X counter 27 counts the pulse signal, and the count output is supplied to the CPU 21 via the X counter circuit 28 and the I / O 22.

同様にして、CPU21はXYステージ3をY方向に移動さ
せるための指令信号を、I/O29を介してYパルスコント
ローラ30に与える。Yパルスコントローラ30は指令信号
に応じてYパルスを発生し、Yモータドライバ31に与え
る。Yモータドライバ31はYパルスの数だけYモータ32
を回転させる。Yモータ32はXYステージ3をY方向に移
動させるために設けられている。このYモータ32の回転
数はYエンコーダ33によって検出され、その回転数に応
じたパルス信号がYカウンタ34に与えられる。Yカウン
タ34はパルス信号を計数し、その計数出力を、Yカウン
タ回路35およびI/O29を介してCPU21に与える。CPU21は
Xカウンタ回路28およびYカウンタ回路35の計数出力に
よって、XYステージ3のX方向およびY方向の位置を判
別する。
Similarly, the CPU 21 gives a command signal for moving the XY stage 3 in the Y direction to the Y pulse controller 30 via the I / O 29. The Y pulse controller 30 generates a Y pulse in response to the command signal and supplies the Y pulse to the Y motor driver 31. Y motor driver 31 has Y motors 32 for the number of Y pulses.
To rotate. The Y motor 32 is provided to move the XY stage 3 in the Y direction. The rotation speed of the Y motor 32 is detected by a Y encoder 33, and a pulse signal corresponding to the rotation speed is supplied to a Y counter. The Y counter 34 counts the pulse signals, and supplies the count output to the CPU 21 via the Y counter circuit 35 and the I / O 29. The CPU 21 determines the positions of the XY stage 3 in the X and Y directions based on the count outputs of the X counter circuit 28 and the Y counter circuit 35.

欠陥検査装置8としてのリニアイメージセンサ8は被
加工物の欠陥画素情報として出力して画像処理回路36に
与える。画像処理回路36は欠陥検査装置8の出力を画像
処理し、I/O37を介して欠陥画素情報をCPU21に与える。
CPU21は欠陥画素情報とYカウンタ回路35の計数出力を
演算し、欠陥位置情報を算出して記憶装置38に記憶させ
る。なお、この欠陥位置情報はモニタ40にも表示され
る。
The linear image sensor 8 as the defect inspection device 8 outputs as defect pixel information of the workpiece and supplies it to the image processing circuit 36. The image processing circuit 36 performs image processing on the output of the defect inspection device 8, and supplies defective pixel information to the CPU 21 via the I / O 37.
The CPU 21 calculates the defective pixel information and the count output of the Y counter circuit 35, calculates the defect position information, and stores it in the storage device 38. The defect position information is also displayed on the monitor 40.

第4図はこの発明の一実施例の具体的な動作を説明す
るためのフロー図であり、第5図はこの発明の一実施例
によって欠陥を検査する方法を説明するための図であ
る。
FIG. 4 is a flowchart for explaining a specific operation of one embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a diagram for explaining a method of inspecting a defect according to one embodiment of the present invention.

次に、第1図ないし第5図を参照して、この発明の一
実施例の具体的な動作について説明する。第4図におけ
るステップ(図示ではSPと略称する。)SP1において、C
PU21はXYステージ3をX方向,Y方向に移動させるための
指令信号を出力し、被加工物を測定開始位置に移動させ
る。このとき、欠陥検査装置8は被加工物の表面の画像
を読取る。この画像信号は画像処理回路36によって画像
処理され、I/O37を介してCPU21に与えられる。CPU21は
ステップSP2において第5図(a)に示すように、被加
工物11上のX方向1ライン分の画像データを読込む。
Next, a specific operation of one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In step SP1 in FIG. 4 (abbreviated as SP in the drawing), C
The PU 21 outputs a command signal for moving the XY stage 3 in the X direction and the Y direction, and moves the workpiece to the measurement start position. At this time, the defect inspection device 8 reads an image on the surface of the workpiece. This image signal is subjected to image processing by the image processing circuit 36, and is provided to the CPU 21 via the I / O 37. In step SP2, the CPU 21 reads image data for one line in the X direction on the workpiece 11 as shown in FIG.

CPU21はステップSP3において、読込んだ画像データに
基づいて、1ライン中に欠陥箇所があるか否かを判別す
る。もし、欠陥がなければCPU21はステップSP6におい
て、被加工物を1ライン分移動させるための指令信号を
出力する。CPU21はもし1ライン中に欠陥箇所のあるこ
とを判別すると、ステップSP4において、リニアイメー
ジセンサにおけるセンサ上での欠陥箇所の画素位置を記
憶する。すなわち、第5図(b)に示すように、欠陥検
査装置8が被加工物11上の欠陥12を検出すると、その位
置に対応した箇所の画素81が変化する。CPU21はその画
素81の位置から欠陥位置のX座標を認識する。
In step SP3, the CPU 21 determines whether or not there is a defective portion in one line based on the read image data. If there is no defect, in step SP6, the CPU 21 outputs a command signal for moving the workpiece by one line. If the CPU 21 determines that there is a defective portion in one line, in step SP4, it stores the pixel position of the defective portion on the linear image sensor. That is, as shown in FIG. 5 (b), when the defect inspection device 8 detects the defect 12 on the workpiece 11, the pixel 81 at the position corresponding to that position changes. The CPU 21 recognizes the X coordinate of the defect position from the position of the pixel 81.

さらに、CPU21はステップSP5において、現在のXYステ
ージ3の位置をYカウンタ回路35の計数出力に基づいて
判別し、これを記憶する。そして、CPU21はステップSP6
において被加工物を1ライン分Y方向に移動させるため
に、指令信号を出力する。ステップSP7において、CPU21
は測定終了位置までXYステージ3を移動させたか否かを
判別し、終了位置まで移動していなければ再びステップ
SP2に戻り、ステップSP2〜SP7の動作を繰返す。この動
作を繰返し、測定終了位置まで移動したことを判別する
と、ステップSP8において記憶したX方向におけるセン
サ上での欠陥箇所の画素位置とY方向におけるXYステー
ジ3の位置を基にして、欠陥位置座標を演算し、これを
記憶装置38に記憶させるとともに、モニタ40に表示させ
る。この表示を見ながら、レーザヘッド9により被加工
物にレーザ光を照射すれば、たとえば液晶表示ディスプ
レイの不要な欠陥パターンを除去することができる。
Further, in step SP5, the CPU 21 determines the current position of the XY stage 3 based on the count output of the Y counter circuit 35, and stores this. Then, the CPU 21 proceeds to step SP6
Outputs a command signal to move the workpiece by one line in the Y direction. In step SP7, the CPU 21
Determines whether or not the XY stage 3 has been moved to the measurement end position.
Returning to SP2, the operation of steps SP2 to SP7 is repeated. This operation is repeated, and when it is determined that the pixel has moved to the measurement end position, the defect position coordinates are determined based on the pixel position of the defect point on the sensor in the X direction and the position of the XY stage 3 in the Y direction stored in step SP8. Is calculated, stored in the storage device 38, and displayed on the monitor 40. By irradiating a laser beam to the workpiece by the laser head 9 while watching this display, it is possible to remove unnecessary defect patterns of the liquid crystal display, for example.

上述のごとく、この実施例によれば、CCDカメラ8,レ
ーザヘッド9などを設けたZ軸テーブル4をZ方向にの
み移動させ、被加工物を載置したXYテーブル3をX方向
およびY方向に移動させて被加工物の欠陥を検査するよ
うにしたので、Z軸テーブル4の保持剛性を高めること
ができる。しかも、XYステージ3を移動させながら、リ
ニアイメージセンサからなる欠陥検査装置により被加工
物上を走査して欠陥位置の画素を検出することにより、
CPU21によってディジタル的に被加工物上の欠陥位置を
検出して記憶することができる。
As described above, according to this embodiment, the Z-axis table 4 provided with the CCD camera 8, the laser head 9, and the like is moved only in the Z direction, and the XY table 3 on which the workpiece is placed is moved in the X and Y directions. , The workpiece is inspected for defects, so that the rigidity of holding the Z-axis table 4 can be increased. Moreover, by moving the XY stage 3 and scanning the workpiece with a defect inspection device including a linear image sensor to detect the pixel at the defect position,
The CPU 21 can digitally detect and store a defect position on the workpiece.

[発明の効果] 以上のようにこの発明によれば、被加工物を載置する
ためのXYテーブルをY方向に移動させ、X方向に沿って
1ラインずつ走査するリニアイメージセンサによって被
加工物上の欠陥のX座標を迅速に検出し、その検出時の
XYテーブルのY座標とリニアイメージセンサの検出した
被加工物上の欠陥のX座標とに応じて判別手段によって
その欠陥位置を判別するようにしたので、被加工物の欠
陥位置を容易にかつ迅速に判別できるばかりでなく、レ
ーザ光源の光軸をXY方向に対して固定したので、レーザ
光源の保持剛性を高くかつ安定化することができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, the XY table for mounting the workpiece is moved in the Y direction, and the workpiece is scanned by the linear image sensor that scans one line at a time in the X direction. The X coordinate of the above defect is quickly detected, and the
The defect position is determined by the determining means according to the Y coordinate of the XY table and the X coordinate of the defect on the workpiece detected by the linear image sensor, so that the defect position of the workpiece can be easily and quickly determined. Not only that, the optical axis of the laser light source is fixed in the XY direction, so that the holding rigidity of the laser light source can be increased and stabilized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図はこの発明の一実施例の外観写真図である。第2
図は同じく正面図である。第3図はこの発明の一実施例
の概略ブロック図である。第4図はこの発明の一実施例
の具体的な動作を説明するためのフロー図である。第5
図はこの発明の一実施例による欠陥検査方法を説明する
ための図である。 図において、3はXYステージ、4はZ軸テーブル、5は
電動リボルバ、6は顕微鏡照明用光源、7はCCDカメ
ラ、8は欠陥検査装置、9はレーザヘッド、10は透過照
明用光源、21はCPU、22,29はI/O、23はXパルスコント
ローラ、24はXモータドライバ、25はXモータ、26はX
エンコーダ、27はXカウンタ、28はXカウンタ回路、30
はYパルスコントローラ、31はYモータドライバ、32は
Yモータ、33はYエンコーダ、34はYカウンタ、35はY
カウンタ回路、36は画像処理回路、38は記憶装置を示
す。
FIG. 1 is an external photograph of an embodiment of the present invention. Second
The figure is also a front view. FIG. 3 is a schematic block diagram of one embodiment of the present invention. FIG. 4 is a flowchart for explaining a specific operation of one embodiment of the present invention. Fifth
FIG. 1 is a diagram for explaining a defect inspection method according to one embodiment of the present invention. In the figure, 3 is an XY stage, 4 is a Z-axis table, 5 is an electric revolver, 6 is a light source for illuminating a microscope, 7 is a CCD camera, 8 is a defect inspection device, 9 is a laser head, 10 is a light source for transmitted illumination, 21 Is a CPU, 22 and 29 are I / O, 23 is an X pulse controller, 24 is an X motor driver, 25 is an X motor, and 26 is an X motor.
Encoder, 27 is X counter, 28 is X counter circuit, 30
Is a Y pulse controller, 31 is a Y motor driver, 32 is a Y motor, 33 is a Y encoder, 34 is a Y counter, 35 is Y
A counter circuit, 36 is an image processing circuit, and 38 is a storage device.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−269992(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-61-269992 (JP, A)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】被加工物の欠陥位置を検出する機能を有す
るレーザ加工装置であって、 前記被加工物をXY平面に移動可能なXYテーブル、 前記XYテーブルのY座標位置を出力するY座標出力手
段、 光軸がXY方向に対して固定され、前記XYテーブル上の被
加工物の欠陥を除去するためのレーザ光を照射するレー
ザ光源、 XY座標のX軸に配置固定され、前記XYテーブル上の被加
工物の欠陥を検査し、前記被加工物上の欠陥のX座標を
検出するリニアイメージセンサ、 前記リニアイメージセンサで前記X座標上の欠陥の有無
を検出する毎に、前記XYテーブルをY方向に移動させる
駆動手段、および 前記リニアイメージセンサの検出した欠陥のX座標とそ
の検出時の前記Y座標出力手段から出力されたY座標を
基にして、前記被加工物上の欠陥位置を特定するための
特定手段を備えた、レーザ加工装置。
1. A laser processing apparatus having a function of detecting a defect position of a workpiece, an XY table capable of moving the workpiece to an XY plane, and a Y coordinate for outputting a Y coordinate position of the XY table. An output unit, a laser light source for irradiating a laser beam for removing a defect of a workpiece on the XY table, an optical axis fixed in the XY direction, and a laser light source arranged and fixed on the X axis of XY coordinates, A linear image sensor that inspects the defect of the workpiece on the X-coordinate of the defect on the workpiece, and detects the presence or absence of the defect on the X-coordinate by the linear image sensor. Driving means for moving the defect in the Y direction, and a defect position on the workpiece based on the X coordinate of the defect detected by the linear image sensor and the Y coordinate output from the Y coordinate output means at the time of the detection. Identify Laser processing apparatus provided with a specific means for performing the operation.
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