JPH04284525A - アナログ式タッチパネル用基板 - Google Patents

アナログ式タッチパネル用基板

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Publication number
JPH04284525A
JPH04284525A JP3074786A JP7478691A JPH04284525A JP H04284525 A JPH04284525 A JP H04284525A JP 3074786 A JP3074786 A JP 3074786A JP 7478691 A JP7478691 A JP 7478691A JP H04284525 A JPH04284525 A JP H04284525A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transparent conductive
touch panel
conductive layer
substrate
type touch
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3074786A
Other languages
English (en)
Inventor
Reiji Hirata
平太 麗司
Zenichi Ueda
上田 善一
Yoshihiko Takeuchi
嘉彦 竹内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP3074786A priority Critical patent/JPH04284525A/ja
Publication of JPH04284525A publication Critical patent/JPH04284525A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、入力精度、ないし検出
位置の精度に優れるアナログ式タッチパネルを得ること
ができるタッチパネル用基板に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、対向配置したパネル基板の押圧下
に透明導電層を部分的に接触させて入力操作を行うよう
にした導電膜接触型のアナログ式タッチパネルを形成す
るための基板としては、図3に示した如く、絶縁性基材
1の上に設けた透明導電層22の一部をエッチング除去
して絶縁性基材の表面を露出させ、その露出部分にリー
ド電極23の外部接続用部分を形成したものが知られて
いた。しかしながら、前記のエッチング除去工程におけ
るエッチング後のアルカリ等による保護レジスト層の剥
離過程で透明導電層が劣化するためか、抵抗が増加して
入力精度、ないし検出位置の精度が低下する問題点があ
った。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、透明導電層
をエッチング除去する必要のない、従って透明導電層を
絶縁性基材の上にそのまま有するアナログ式タッチパネ
ル用基板の開発を課題とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、絶縁性基材の
上に設けた透明導電層の一部を絶縁層で被覆し、その絶
縁層の上にリード電極の外部接続用部分を形成すると共
に、透明導電層の上にリード電極を向い合う状態に形成
してなることを特徴とするアナログ式タッチパネル用基
板を提供するものである。
【0005】
【作用】従来においてはエッチング除去していた透明導
電層部分を存続させた形態の基板としても、その存続さ
せた部分が実質的に入力操作に支障を及ぼすことがなく
、かつ上記の構成により透明導電層のエッチング除去の
必要を回避できて、入力精度、ないし検出位置の精度に
優れるアナログ式タッチパネルを形成することができる
【0006】
【実施例】本発明のアナログ式タッチパネル用基板を図
1、図2に例示した。1が絶縁性基材、12が透明導電
層、13がリード電極、14が絶縁層、15がリード電
極の外部接続用部分である。
【0007】絶縁性基材としては適宜なものを用いてよ
い。一般には、例えばポリエステル、ポリエーテルサル
ホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミ
ドの如きプラスチックからなるフィルムやガラス板、あ
るいはそれらの積層体などが用いられる。プラスチック
フィルムをタッチ側の絶縁性基材として用いる場合には
、そのタッチ面にアクリル系やシリコーン系、エポキシ
系等の樹脂からなるハードコート層が必要に応じて付与
される。
【0008】絶縁性基材上への透明導電層の形成は、例
えばスパッタリング方式や蒸着方式などの適宜な方式で
行ってよい。透明導電層は通例、絶縁性基材における片
面の全面に設けられる。透明導電層の形成材としては、
例えばインジウム・スズ複合酸化物、インジウム酸化物
、スズ酸化物、金、パラジウムなどがあげられる。形成
する透明導電層は限定するものではないが、1〜200
0Ω/□のシート抵抗を示す程度が一般的である。
【0009】リード電極は、透明導電層の上に向い合う
状態で設けられる。一般には、絶縁性基材における対向
する辺に沿って、その辺縁より若干内側に設けられる。 リード電極の形成は、例えば銀ペーストやカーボンペー
スト等を用いた印刷方式やディスペンサー方式などによ
り行うことができる。
【0010】リード電極の外部接続用部分は、透明導電
層の一部を絶縁層で被覆してその上に設けられる。絶縁
層の形成は、例えばエポキシ系樹脂の如き絶縁性樹脂を
塗布する方式などにより行うことができる。絶縁層は、
リード電極の外部接続用部分を形成する前の適宜な段階
で設けてよい。
【0011】リード電極の外部接続用部分の形成は、前
記したリード電極の形成方式に準じて行うことができる
。その際、外部接続用部分の形成は、リード電極の形成
と別工程で行ってもよいし、同じ工程で行ってもよい。 絶縁層で被覆される透明導電層部分にもリード電極を設
ける場合には、前者の別工程で行われる。なお、リード
電極とその外部接続用部分とは通電状態に形成される。
【0012】アナログ式タッチパネルの形成は例えば、
絶縁樹脂の塗布方式や枠形態の絶縁フィルムを介在させ
る方式等によりリード電極絶縁用のスペーサを設ける工
程、透明導電層の上に接触予防用の粒子スペーサやドッ
トスペーサ等を形成する工程などの必要な工程を経て、
タッチ側となる基板と基盤側となる基板を、透明導電層
の付設側を内側にして対向配置し、周縁部を固定する方
法などにより行うことができる。用いる基板は、図1と
図2に例示の如く、対向配置する基板間においてリード
電極が直交、ないし交差関係となる組合せが一般的であ
る。
【0013】ちなみに、厚さ125μmのポリエチレン
テレフタレートフィルムの片面の全面にスパッタリング
方式でインジウム・スズ複合酸化物からなる透明導電層
を形成してなる絶縁性基材の対向する辺の近傍に、銀ペ
ーストを印刷して一対の向い合う状態のリード電極を形
成したのち、透明導電層の一部にエポキシ樹脂を塗布し
て絶縁層を形成し、その絶縁層とリード電極の上に銀ペ
ーストを印刷して、リード電極の外部接続用部分を形成
し、図1及び図2に示した2種のアナログ式タッチパネ
ル用基板を得た。
【0014】得られた2種のアナログ式タッチパネル用
基板において、その透明導電層に、リード電極等の付設
前に比べ、抵抗値の増加は認められなかった。
【0015】一方、前記で得た2種のアナログ式タッチ
パネル用基板を、そのリード電極部に絶縁スペーサを印
刷したのち透明導電層側を内側にして対向配置し、周縁
部を固定してアナログ式タッチパネルを形成した。得ら
れたアナログ式タッチパネルについて動作確認を行った
ところ、入力精度、ないし検出位置の精度に優れていた
【0016】
【発明の効果】本発明のアナログ式タッチパネル用基板
によれば、透明導電層がエッチング処理を受けていない
ので入力精度、ないし検出位置の精度に優れるアナログ
式タッチパネルを得ることができる。その結果、スイッ
チ等の入力単位の高密度配置が可能なアナログ式タッチ
パネルを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例の斜視図。
【図2】他の実施例の斜視図。
【図3】従来例の斜視図。
【符号の説明】
1 :絶縁性基板 12:透明導電層 13:リード電極 14:絶縁層 15:リード電極の外部接続用部分

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  絶縁性基材の上に設けた透明導電層の
    一部を絶縁層で被覆し、その絶縁層の上にリード電極の
    外部接続用部分を形成すると共に、透明導電層の上にリ
    ード電極を向い合う状態に形成してなることを特徴とす
    るアナログ式タッチパネル用基板。
JP3074786A 1991-03-13 1991-03-13 アナログ式タッチパネル用基板 Pending JPH04284525A (ja)

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JP3074786A JPH04284525A (ja) 1991-03-13 1991-03-13 アナログ式タッチパネル用基板

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JPH04284525A true JPH04284525A (ja) 1992-10-09

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ID=13557322

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JP3074786A Pending JPH04284525A (ja) 1991-03-13 1991-03-13 アナログ式タッチパネル用基板

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JP (1) JPH04284525A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003091367A (ja) * 2001-09-17 2003-03-28 Kawaguchiko Seimitsu Co Ltd タッチパネル
CN100363878C (zh) * 2003-08-26 2008-01-23 松下电器产业株式会社 触摸面板及使用其的电子设备

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003091367A (ja) * 2001-09-17 2003-03-28 Kawaguchiko Seimitsu Co Ltd タッチパネル
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