JPH04274871A - 雰囲気炉 - Google Patents
雰囲気炉Info
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- JPH04274871A JPH04274871A JP3587591A JP3587591A JPH04274871A JP H04274871 A JPH04274871 A JP H04274871A JP 3587591 A JP3587591 A JP 3587591A JP 3587591 A JP3587591 A JP 3587591A JP H04274871 A JPH04274871 A JP H04274871A
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- JP
- Japan
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- chamber
- furnace
- furnace body
- heated
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- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 19
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 24
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
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Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はリフロー炉等として利用
される雰囲気炉に関するものである。
される雰囲気炉に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のリフロー炉においては、図２に示
すように、炉体３１内を予熱室３２，本加熱室３３，徐
冷室３４に区画するとともに、これらの各室を貫通して
被加熱物である回路基板を搬送するチェーンコンベア３
５を配設し、さらに各室毎にＮ２ガスを導入するように
構成するとともにチェーンコンベア３５の上下にヒータ
３６を配置し、回路基板を不活性雰囲気中でヒータ３６
にて上下方向から均一加熱するように構成されている。 又、炉体３１の入口３７と出口３８には、メカニカルシ
ャッタ３９やエアカーテンを設けて炉体３１内のＮ２ガ
ス雰囲気を保持するように構成されている。
すように、炉体３１内を予熱室３２，本加熱室３３，徐
冷室３４に区画するとともに、これらの各室を貫通して
被加熱物である回路基板を搬送するチェーンコンベア３
５を配設し、さらに各室毎にＮ２ガスを導入するように
構成するとともにチェーンコンベア３５の上下にヒータ
３６を配置し、回路基板を不活性雰囲気中でヒータ３６
にて上下方向から均一加熱するように構成されている。 又、炉体３１の入口３７と出口３８には、メカニカルシ
ャッタ３９やエアカーテンを設けて炉体３１内のＮ２ガ
ス雰囲気を保持するように構成されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記のように炉体３１
は全長にわたって横断面形状の等しいトンネル状に形成
されているため、炉体３１の高さは全長にわたって高い
ものになる。というのは、回路基板をヒータ３６にて均
一にする際にその加熱温度が高ければ高い程回路基板と
ヒータ３６の間の間隔を大きく取って温度ばらつきを吸
収する必要があり、またヒータ３６の設定温度が高いと
間隔を十分に取らないと回路基板の表面に損傷を生ずる
恐れがあるために、最も設定温度の高いヒータ３６の配
置された本加熱室３３は高くする必要があり、それに応
じて炉体３１の全長の高さが設定されるのである。その
ため、炉体３１の内部容積が大きくなり、それだけＮ２
ガスの消費量が多くなり、ランニングコストが高くなる
という問題があった。
は全長にわたって横断面形状の等しいトンネル状に形成
されているため、炉体３１の高さは全長にわたって高い
ものになる。というのは、回路基板をヒータ３６にて均
一にする際にその加熱温度が高ければ高い程回路基板と
ヒータ３６の間の間隔を大きく取って温度ばらつきを吸
収する必要があり、またヒータ３６の設定温度が高いと
間隔を十分に取らないと回路基板の表面に損傷を生ずる
恐れがあるために、最も設定温度の高いヒータ３６の配
置された本加熱室３３は高くする必要があり、それに応
じて炉体３１の全長の高さが設定されるのである。その
ため、炉体３１の内部容積が大きくなり、それだけＮ２
ガスの消費量が多くなり、ランニングコストが高くなる
という問題があった。
【０００４】又、炉体３１の入口３７と出口３８からＮ
２ガスが流出するのを防止するためにメカニカルシャッ
タ３９を設けた場合には、その開閉機構が複雑でコスト
高になるとともに、回路基板の搬送間隔が狭いときには
効果を発揮しないという問題があり、それに代えてエア
カーテンを設けた場合にはＮ２ガスの消費量が多くなり
、ランニングコストの増加を来すという問題があった。
２ガスが流出するのを防止するためにメカニカルシャッ
タ３９を設けた場合には、その開閉機構が複雑でコスト
高になるとともに、回路基板の搬送間隔が狭いときには
効果を発揮しないという問題があり、それに代えてエア
カーテンを設けた場合にはＮ２ガスの消費量が多くなり
、ランニングコストの増加を来すという問題があった。
【０００５】本発明は上記従来の問題点に鑑み、炉内容
積を必要最小限とし、また雰囲気ガスの流出を簡単な構
成で効果的に抑制し、雰囲気ガスの消費量を少なくし、
ランニングコストの低下を図った雰囲気炉を提供するこ
とを目的とする。
積を必要最小限とし、また雰囲気ガスの流出を簡単な構
成で効果的に抑制し、雰囲気ガスの消費量を少なくし、
ランニングコストの低下を図った雰囲気炉を提供するこ
とを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、一定搬送経路
に沿って被加熱物を搬送する搬送手段を内部に備えると
ともに搬送経路に沿って内部が複数の室に分割され、か
つ各室をヒータにて互いに温度の異なる温度に加熱する
ようにした雰囲気炉において、各室の高さを雰囲気温度
によって異ならせたことを特徴とする。
に沿って被加熱物を搬送する搬送手段を内部に備えると
ともに搬送経路に沿って内部が複数の室に分割され、か
つ各室をヒータにて互いに温度の異なる温度に加熱する
ようにした雰囲気炉において、各室の高さを雰囲気温度
によって異ならせたことを特徴とする。
【０００７】好ましくは、炉体の入口と出口に、被加熱
物を搬入出させるのに必要とする断面積を有する適当な
長さの筒状の搬入部と搬出部を設ける。
物を搬入出させるのに必要とする断面積を有する適当な
長さの筒状の搬入部と搬出部を設ける。
【０００８】
【作用】本発明の雰囲気炉によれば、各室の高さを雰囲
気温度によって異ならせ、雰囲気温度の低い室はその高
さを低く設定することによって炉体全体の炉内容量を小
さくすることができ、雰囲気ガスの消費量を低減するこ
とができる。
気温度によって異ならせ、雰囲気温度の低い室はその高
さを低く設定することによって炉体全体の炉内容量を小
さくすることができ、雰囲気ガスの消費量を低減するこ
とができる。
【０００９】又、被加熱物を炉体から搬入出する炉体の
入口と出口に、被加熱物の搬入出に必要な断面積を有す
る適当な長さの筒状の搬入部と搬出部を設けることによ
り、簡単な構成にて炉体内の雰囲気ガスの流出を効果的
に抑制することができ、雰囲気ガスの消費量を少なくで
きる。特に、被加熱物の搬送間隔が狭いときには効果的
である。
入口と出口に、被加熱物の搬入出に必要な断面積を有す
る適当な長さの筒状の搬入部と搬出部を設けることによ
り、簡単な構成にて炉体内の雰囲気ガスの流出を効果的
に抑制することができ、雰囲気ガスの消費量を少なくで
きる。特に、被加熱物の搬送間隔が狭いときには効果的
である。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の雰囲気炉の一実施例であるリ
フロー炉について、図１を参照しながら説明する。
フロー炉について、図１を参照しながら説明する。
【００１１】図１において、リフロー炉１は幅が一定で
断面高さが部分毎に異なったトンネル状の炉体２にて構
成されている。炉体２内は、予熱室３，本加熱室４，冷
却室５の３室に区分されており、これらの各室の上下方
向の中央部を貫通して被加熱物である回路基板を支持し
て搬送するコンベア６が配設されている。又、予熱室３
，本加熱室４及び徐冷室５には、それぞれＮ２ガス供給
手段７が設けられるとともに、予熱室３と本加熱室４に
はそれぞれ温度制御を行えるようにコンベア６の上下に
ヒータ８が配設されており、コンベア６上の回路基板を
Ｎ２ガス雰囲気中で上下方向から均一に加熱するように
構成されている。
断面高さが部分毎に異なったトンネル状の炉体２にて構
成されている。炉体２内は、予熱室３，本加熱室４，冷
却室５の３室に区分されており、これらの各室の上下方
向の中央部を貫通して被加熱物である回路基板を支持し
て搬送するコンベア６が配設されている。又、予熱室３
，本加熱室４及び徐冷室５には、それぞれＮ２ガス供給
手段７が設けられるとともに、予熱室３と本加熱室４に
はそれぞれ温度制御を行えるようにコンベア６の上下に
ヒータ８が配設されており、コンベア６上の回路基板を
Ｎ２ガス雰囲気中で上下方向から均一に加熱するように
構成されている。
【００１２】又、炉体２の両端は閉じられるとともにコ
ンベア６が貫通するように入口１１と出口１２が開口さ
れ、更にこれら入口１１と出口１２から外方に適当な長
さの搬入部１３と搬出部１４が突出されている。これに
搬入部１３及び搬出部１４は、コンベア６とその上の回
路基板の貫通を許す最小必要限の断面積を有するととも
に所定の適当な長さに設定された筒体にて構成され、Ｎ
２ガスが外部に流出するのをできるだけ抑制するように
しており、その長さは高さ寸法の２倍以上とするのが好
ましく、さらに３〜５倍程度にすると設置スペースを大
きくすることなく大きなガス流出規制効果を発揮する。
ンベア６が貫通するように入口１１と出口１２が開口さ
れ、更にこれら入口１１と出口１２から外方に適当な長
さの搬入部１３と搬出部１４が突出されている。これに
搬入部１３及び搬出部１４は、コンベア６とその上の回
路基板の貫通を許す最小必要限の断面積を有するととも
に所定の適当な長さに設定された筒体にて構成され、Ｎ
２ガスが外部に流出するのをできるだけ抑制するように
しており、その長さは高さ寸法の２倍以上とするのが好
ましく、さらに３〜５倍程度にすると設置スペースを大
きくすることなく大きなガス流出規制効果を発揮する。
【００１３】雰囲気温度の高い本加熱室４はその高さを
高く設定してヒータ８とコンベア６上の回路基板との間
に十分な間隔を確保し、予熱室３の高さは中間的な高さ
に設定し、冷却室５の高さは低く設定している。数値で
具体的に示すと、本加熱室４の高さを１として、予熱室
３は０．７〜０．５に、冷却室５は０．５〜０．２に、
搬入部１３及び搬出部は０．５〜０．１にそれぞれ設定
されている。
高く設定してヒータ８とコンベア６上の回路基板との間
に十分な間隔を確保し、予熱室３の高さは中間的な高さ
に設定し、冷却室５の高さは低く設定している。数値で
具体的に示すと、本加熱室４の高さを１として、予熱室
３は０．７〜０．５に、冷却室５は０．５〜０．２に、
搬入部１３及び搬出部は０．５〜０．１にそれぞれ設定
されている。
【００１４】以上の構成のリフロー炉１によると、予熱
室３，本加熱室４，冷却室５はそれぞれＮ２ガス供給手
段７から供給されたＮ２ガスにて不活性雰囲気に保持さ
れており、コンベア６にて搬入部１３を通って入口１１
から搬入された回路基板は予熱室３，本加熱室４を搬送
される間にヒータ８にてそれぞれ所定の温度に均一に加
熱される。その回路基板の加熱に際して、ヒータ８によ
る加熱温度に応じてヒータ８と回路基板間に所定の間隔
が確保されているので、回路基板は均一に加熱されると
ともに表面に損傷を来すこともない。かくして、回路基
板は炉体２内を通過する間に、予熱室３で１２０℃〜１
５０℃に予熱され、本加熱室４で１８０℃〜２１０℃に
加熱されてクリーム半田が溶融されて半田付けされる。 その後、冷却室５で徐冷された後出口１２を通り排出部
１４から排出される。
室３，本加熱室４，冷却室５はそれぞれＮ２ガス供給手
段７から供給されたＮ２ガスにて不活性雰囲気に保持さ
れており、コンベア６にて搬入部１３を通って入口１１
から搬入された回路基板は予熱室３，本加熱室４を搬送
される間にヒータ８にてそれぞれ所定の温度に均一に加
熱される。その回路基板の加熱に際して、ヒータ８によ
る加熱温度に応じてヒータ８と回路基板間に所定の間隔
が確保されているので、回路基板は均一に加熱されると
ともに表面に損傷を来すこともない。かくして、回路基
板は炉体２内を通過する間に、予熱室３で１２０℃〜１
５０℃に予熱され、本加熱室４で１８０℃〜２１０℃に
加熱されてクリーム半田が溶融されて半田付けされる。 その後、冷却室５で徐冷された後出口１２を通り排出部
１４から排出される。
【００１５】また、本加熱室４に対して予熱室３や冷却
室５の高さは低くしているために炉体２の内容積が小さ
くなり、それだけＮ２ガスの消費量が少なくて済み、ラ
ンニングコストの低下を図ることができる。又、炉体２
におけるＮ２ガスの流出開口は入口１１と出口１２であ
るが、これらの入口１１と出口１２にコンベア６とその
上の回路基板の貫通を許す最小必要限の断面積を有する
とともに所定の適当な長さに設定された搬入部１３，搬
出部１４が設けられているので、これらの開口からＮ２
ガスが外部に流出するのをできるだけ抑制することがで
き、簡単な構造でかつ少ないＮ２ガス消費量にて炉体２
内の雰囲気を保持することができる。
室５の高さは低くしているために炉体２の内容積が小さ
くなり、それだけＮ２ガスの消費量が少なくて済み、ラ
ンニングコストの低下を図ることができる。又、炉体２
におけるＮ２ガスの流出開口は入口１１と出口１２であ
るが、これらの入口１１と出口１２にコンベア６とその
上の回路基板の貫通を許す最小必要限の断面積を有する
とともに所定の適当な長さに設定された搬入部１３，搬
出部１４が設けられているので、これらの開口からＮ２
ガスが外部に流出するのをできるだけ抑制することがで
き、簡単な構造でかつ少ないＮ２ガス消費量にて炉体２
内の雰囲気を保持することができる。
【００１６】
【発明の効果】本発明の雰囲気炉によれば、各室の高さ
を雰囲気温度によって異ならせ、雰囲気温度の低い室は
その高さを低く設定することによって炉体全体の炉内容
量を小さくすることができ、雰囲気ガスの消費量を低減
することができる。
を雰囲気温度によって異ならせ、雰囲気温度の低い室は
その高さを低く設定することによって炉体全体の炉内容
量を小さくすることができ、雰囲気ガスの消費量を低減
することができる。
【００１７】又、被加熱物を炉体から搬入出する炉体の
入口と出口に、被加熱物の搬入出に必要な断面積を有す
る適当な長さの筒状の搬入部と搬出部を設けることによ
り、簡単な構成にて炉体内の雰囲気ガスの流出を効果的
に抑制することができ、雰囲気ガスの消費量を少なくで
きる。
入口と出口に、被加熱物の搬入出に必要な断面積を有す
る適当な長さの筒状の搬入部と搬出部を設けることによ
り、簡単な構成にて炉体内の雰囲気ガスの流出を効果的
に抑制することができ、雰囲気ガスの消費量を少なくで
きる。
【図１】本発明の一実施例のリフロー炉の概略構成を示
す縦断面図
す縦断面図
【図２】従来例のリフロー炉の概略構成を示す縦断面図
１ リフロー炉
２ 炉体
３ 予熱室
４ 本加熱室
５ 冷却室
６ コンベア
７ Ｎ２ガス供給手段
８ ヒータ
１３ 搬入部
１４ 搬出部
Claims (2)
- 【請求項１】一定搬送経路に沿って被加熱物を搬送する
搬送手段を内部に備えるとともに搬送経路に沿って内部
が複数の室に分割され、かつ各室をヒータにて互いに温
度の異なる温度に加熱するようにした雰囲気炉において
、各室の高さを雰囲気温度によって異ならせたことを特
徴とする雰囲気炉。 - 【請求項２】炉体の入口と出口に、被加熱物を搬入出さ
せるのに必要とする断面積を有する適当な長さの筒状の
搬入部と搬出部を設けたことを特徴とする請求項１記載
の雰囲気炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3587591A JPH04274871A (ja) | 1991-03-01 | 1991-03-01 | 雰囲気炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3587591A JPH04274871A (ja) | 1991-03-01 | 1991-03-01 | 雰囲気炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04274871A true JPH04274871A (ja) | 1992-09-30 |
Family
ID=12454173
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3587591A Pending JPH04274871A (ja) | 1991-03-01 | 1991-03-01 | 雰囲気炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04274871A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5443382A (en) * | 1992-08-27 | 1995-08-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Atmospheric oven |
-
1991
- 1991-03-01 JP JP3587591A patent/JPH04274871A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5443382A (en) * | 1992-08-27 | 1995-08-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Atmospheric oven |
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