JPH042728A - カムシャフトの表面硬化処理方法 - Google Patents
カムシャフトの表面硬化処理方法Info
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- JPH042728A JPH042728A JP10474990A JP10474990A JPH042728A JP H042728 A JPH042728 A JP H042728A JP 10474990 A JP10474990 A JP 10474990A JP 10474990 A JP10474990 A JP 10474990A JP H042728 A JPH042728 A JP H042728A
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- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 3
- 238000009941 weaving Methods 0.000 description 3
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 229910001208 Crucible steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001563 bainite Inorganic materials 0.000 description 1
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 229910000734 martensite Inorganic materials 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、鋳鉄製カムシャフトのカム面を高密度エネル
ギーにより再溶融させて硬化処理する方法に関する。
ギーにより再溶融させて硬化処理する方法に関する。
従来の技術
内燃機関に用いられる鋳鉄製カムシャフトのカム面をT
IGアーク、電子ビーム、レーザ等の高密度エネルギー
により再溶融(リメルト処理)させるとともに、放冷に
よって表面硬化させるようにした再溶融表面硬化処理方
法が例えば特開昭62−151552号公報、特開昭5
9−47369号公報および特開昭60−230938
号公報等において知られている。
IGアーク、電子ビーム、レーザ等の高密度エネルギー
により再溶融(リメルト処理)させるとともに、放冷に
よって表面硬化させるようにした再溶融表面硬化処理方
法が例えば特開昭62−151552号公報、特開昭5
9−47369号公報および特開昭60−230938
号公報等において知られている。
この処理方法は、カムシャフトを回転させる一方、この
回転運動と同期してカム面と対向させたりメルトトーチ
例えばTIGトーチをカム幅内でウィービングさせるこ
とによってカム面に溶融エネルギーを与え、このような
処理を例えばカムシャフトの一端部のカムから他端部の
カムに向かって順次施すことにより、各カム面には高硬
度で耐摩耗性にすぐれたチル組織が形成されることにな
る。
回転運動と同期してカム面と対向させたりメルトトーチ
例えばTIGトーチをカム幅内でウィービングさせるこ
とによってカム面に溶融エネルギーを与え、このような
処理を例えばカムシャフトの一端部のカムから他端部の
カムに向かって順次施すことにより、各カム面には高硬
度で耐摩耗性にすぐれたチル組織が形成されることにな
る。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上記のような従来の処理方法によると、
リメルト処理を開始する直前のカムシャフトの温度、す
なわちリメルト処理を開始する直前のカムシャフトの軸
方向の温度分布特性がその都度変化し、リメルト処理を
開始する直前の処理対象カム近傍の温度が各カムごとに
異なることになる。その結果、TIGトーチの通電電流
を一定にしたとしても各カムごとに溶融深さがばらつき
、処理精度の向上に限界がある。
リメルト処理を開始する直前のカムシャフトの温度、す
なわちリメルト処理を開始する直前のカムシャフトの軸
方向の温度分布特性がその都度変化し、リメルト処理を
開始する直前の処理対象カム近傍の温度が各カムごとに
異なることになる。その結果、TIGトーチの通電電流
を一定にしたとしても各カムごとに溶融深さがばらつき
、処理精度の向上に限界がある。
そして、上記の現象はカムシャフト全体が予め予備加熱
処理されていたとしても同様に起こり得るほか、例えば
特開昭61−288010号公報のように処理部表面の
温度をフィードバックしながらリメルト処理を行ったと
しても上記の現象は解決されない。
処理されていたとしても同様に起こり得るほか、例えば
特開昭61−288010号公報のように処理部表面の
温度をフィードバックしながらリメルト処理を行ったと
しても上記の現象は解決されない。
ここで、上記のように処理開始直前の処理対象カム近傍
の温度がばらついて溶融深さが一定しないのは、たとえ
処理前のカムであっても、同一カムシャフト上の処理済
みカムの処理時における熱的影響を何らかのかたちで受
けており、しかもその処理対象となるカムの位置あるい
は処理順位に応じて処理対象カム近傍が保有している熱
が異なることが原因と考えられる。
の温度がばらついて溶融深さが一定しないのは、たとえ
処理前のカムであっても、同一カムシャフト上の処理済
みカムの処理時における熱的影響を何らかのかたちで受
けており、しかもその処理対象となるカムの位置あるい
は処理順位に応じて処理対象カム近傍が保有している熱
が異なることが原因と考えられる。
本発明は以上のような問題点に鑑みてなされたもので、
リメルト処理開始直前にその処理対象カム近傍が保有し
ている熱を温度として検出し、この検出温度に応じて処
理対象カムに与えるべき溶融エネルギーを制御して溶融
深さひいては処理硬化層の均一化を図った処理方法を提
供しようとするものである。
リメルト処理開始直前にその処理対象カム近傍が保有し
ている熱を温度として検出し、この検出温度に応じて処
理対象カムに与えるべき溶融エネルギーを制御して溶融
深さひいては処理硬化層の均一化を図った処理方法を提
供しようとするものである。
課題を解決するための手段
本発明は、前述したように多数のカムを有するカムシャ
フトの各カム面に順次溶融エネルギーを与えて再溶融さ
せることで該カム面を硬化処理する方法において、再溶
融硬化処理に先立って、カムシャフトのうち処理対象カ
ムの両側近傍の温度を検出し、この検出温度に基づいて
処理対象カムに与えるべき溶融エネルギーを制御するこ
とを特徴としている。
フトの各カム面に順次溶融エネルギーを与えて再溶融さ
せることで該カム面を硬化処理する方法において、再溶
融硬化処理に先立って、カムシャフトのうち処理対象カ
ムの両側近傍の温度を検出し、この検出温度に基づいて
処理対象カムに与えるべき溶融エネルギーを制御するこ
とを特徴としている。
溶融エネルギーを制御する具体的な方法としてハ、処理
対象カム近傍のカムあるいはジャーナル部の温度に応じ
、例えばりメルトトーチであるTIGトーチの通電電流
を増減させる。
対象カム近傍のカムあるいはジャーナル部の温度に応じ
、例えばりメルトトーチであるTIGトーチの通電電流
を増減させる。
作用
上記の方法によると、リメルト処理開始直前の処理対象
カム近傍の温度を検出して溶融エネルギーを増減させる
ことにより、処理対象カム近傍が保有している熱を考慮
した最適な条件下で処理を行える。
カム近傍の温度を検出して溶融エネルギーを増減させる
ことにより、処理対象カム近傍が保有している熱を考慮
した最適な条件下で処理を行える。
その結果、各カムの溶融深さすなわち処理硬化層のばら
つきが解消されて均一化されるようになる。
つきが解消されて均一化されるようになる。
実施例
第1図および第2図は本発明を応用した処理装置の構成
説明図である。
説明図である。
図において、Sは複数のカムCI、C2,C3・・・と
ジャーナル部Jl、J2.J3・・・とを有する鋳鉄製
のカムシャフトで、このカムシャフトSはその両端をロ
ケートピン1とセンタ2,3とで両持ち支持された上で
モータ4により回転駆動される。
ジャーナル部Jl、J2.J3・・・とを有する鋳鉄製
のカムシャフトで、このカムシャフトSはその両端をロ
ケートピン1とセンタ2,3とで両持ち支持された上で
モータ4により回転駆動される。
5はリメルトトーチとしてのTIGトーチ(以下、単に
トーチという)で、このトーチ5はモータ6とボールね
じ7のはたらきによりカムシャフトSの径方向(X方向
)に移動する機能と、モータ8とボールねじ9のはたら
きによりカムシャフトSの軸心方向(Y方向)に移動す
る機能とを備えている。そして、トーチ5は各トーチ位
置制御部10.11からの指令に基づいてその位置が制
御される。すなわち、トーチ5は処理対象となるカムC
I、C2,C3・・・のいずれかと対向する位置まで移
動した上で、カムシャフトSの回転に同期してそのカム
面とトーチ5の先端との間のギャップが常に一定になる
ようにX方向の位置が制御され、同時に、カムシャフト
Sの回転に同期して処理対象カムのカム幅内でウィービ
ングすることでカム面にリメルト処理を施すことになる
。
トーチという)で、このトーチ5はモータ6とボールね
じ7のはたらきによりカムシャフトSの径方向(X方向
)に移動する機能と、モータ8とボールねじ9のはたら
きによりカムシャフトSの軸心方向(Y方向)に移動す
る機能とを備えている。そして、トーチ5は各トーチ位
置制御部10.11からの指令に基づいてその位置が制
御される。すなわち、トーチ5は処理対象となるカムC
I、C2,C3・・・のいずれかと対向する位置まで移
動した上で、カムシャフトSの回転に同期してそのカム
面とトーチ5の先端との間のギャップが常に一定になる
ようにX方向の位置が制御され、同時に、カムシャフト
Sの回転に同期して処理対象カムのカム幅内でウィービ
ングすることでカム面にリメルト処理を施すことになる
。
12はカムシャフトSを挟んでトーチ5と対向するよう
に設けられたスライダで、このスライダ12にはカムシ
ャフトSのジャーナル部Jl、J2、J3・・・のピッ
チと等しい位置に接触式あるいは非接触式の一対の温度
センサ13,14が設けられている。そして、スライダ
12はモータ15とボールねじ16とのはたらきにより
カムシャフトSの軸心方向に移動可能であって、センサ
位置制御部16からの指令に基づいて、双方の温度セン
サ13.14のそれぞれがジャーナル部Jl。
に設けられたスライダで、このスライダ12にはカムシ
ャフトSのジャーナル部Jl、J2、J3・・・のピッ
チと等しい位置に接触式あるいは非接触式の一対の温度
センサ13,14が設けられている。そして、スライダ
12はモータ15とボールねじ16とのはたらきにより
カムシャフトSの軸心方向に移動可能であって、センサ
位置制御部16からの指令に基づいて、双方の温度セン
サ13.14のそれぞれがジャーナル部Jl。
J2.J3・・・のいずれかに対向するような位置に位
置決めされる。
置決めされる。
17はトーチ5への通電制御を司る電流・電圧制御部、
18は上記の電流・電圧制御部17のほかトーチ位置制
御部10.11およびセンサ位置制御部16を統括制御
している主制御装置である。
18は上記の電流・電圧制御部17のほかトーチ位置制
御部10.11およびセンサ位置制御部16を統括制御
している主制御装置である。
主制御装置18は演算制御部19および記憶部20を備
え、記憶部20にはカムシャフトSの各カムC1,C2
,C3・・・およびジャーナル部Jl。
え、記憶部20にはカムシャフトSの各カムC1,C2
,C3・・・およびジャーナル部Jl。
J2.J3・・・の位置情報のほか、カムシャフトSの
温度を含めた総合的な処理条件が最適となるような複数
パターンの通電電流値が予め設定されている。
温度を含めた総合的な処理条件が最適となるような複数
パターンの通電電流値が予め設定されている。
したがって、上記の処理装置においては、カムCI、C
2,C3・・・の順に対応する位置までトーチ5か移動
してリメルト処理が順次族されることになるのであるが
、その際、カムCI、C2の処理時にはそれらのカムC
1,C2の両側のジャーナル部Jl、J2に温度センサ
13,14が対応するように、またカムc3.c4の処
理時にはそれらのカムC3,C4の両側のジャーナル部
J2゜J3に温度センサ13,14が対応するようにそ
れぞれスライダ12が位置決めされる。
2,C3・・・の順に対応する位置までトーチ5か移動
してリメルト処理が順次族されることになるのであるが
、その際、カムCI、C2の処理時にはそれらのカムC
1,C2の両側のジャーナル部Jl、J2に温度センサ
13,14が対応するように、またカムc3.c4の処
理時にはそれらのカムC3,C4の両側のジャーナル部
J2゜J3に温度センサ13,14が対応するようにそ
れぞれスライダ12が位置決めされる。
そして、例えばカムC1のリメルト処理の際には、第3
図にも示すようにその処理開始に先立って温度センサ1
3,14を支持しているスライダ12が第2図の実線位
置まで移動し、温度センサ13.14が処理対象カムC
1の近傍の温度すなわちジャーナル部Jl、J2の表面
の温度TI。
図にも示すようにその処理開始に先立って温度センサ1
3,14を支持しているスライダ12が第2図の実線位
置まで移動し、温度センサ13.14が処理対象カムC
1の近傍の温度すなわちジャーナル部Jl、J2の表面
の温度TI。
T、を検出し、その検出温度T、、T、は増幅器21を
介して主制御装置18側に取り込まれる。
介して主制御装置18側に取り込まれる。
主制御装置18側では検出温度T、、T、にそれぞれ処
理対象カムシャフトSの種別に応じた定数aまたはbを
乗じた上で、それらの温度a −T 、とb−T、との
平均温度T。とじて To−(a T + 十b ’Tt) / 2を演算
して求める。さらに、主制御装置18では上記の平均温
度T。に見合った電流値を、予め設定されている複数パ
ターンの温度条件のなかから選択する。
理対象カムシャフトSの種別に応じた定数aまたはbを
乗じた上で、それらの温度a −T 、とb−T、との
平均温度T。とじて To−(a T + 十b ’Tt) / 2を演算
して求める。さらに、主制御装置18では上記の平均温
度T。に見合った電流値を、予め設定されている複数パ
ターンの温度条件のなかから選択する。
こののち、処理開始指令が与えられると、主制御装置1
8は電流・電圧制御部17に対して上記の選択された設
定電流値に応じた通電指令を与え、カムC1の回転に同
期してトーチ5がウィービング動作することでリメルト
処理が行われる。
8は電流・電圧制御部17に対して上記の選択された設
定電流値に応じた通電指令を与え、カムC1の回転に同
期してトーチ5がウィービング動作することでリメルト
処理が行われる。
カムC1のリメルト処理が終わると、スライダ12はな
おも従前の位置にとどまるのに対してトーチ5が次のカ
ムC2位置まで移動し、上記と同様の手順でリメルト処
理が行われる。また、カムC2のリメルト処理が終了し
た場合には、スライダ12は温度センサ13,14がジ
ャーナル部J2、J3に対応する位置まで移動するとと
もに、トーチ5が次のカムC3位置まで移動した上で同
様の手順でリメルト処理が行われる。
おも従前の位置にとどまるのに対してトーチ5が次のカ
ムC2位置まで移動し、上記と同様の手順でリメルト処
理が行われる。また、カムC2のリメルト処理が終了し
た場合には、スライダ12は温度センサ13,14がジ
ャーナル部J2、J3に対応する位置まで移動するとと
もに、トーチ5が次のカムC3位置まで移動した上で同
様の手順でリメルト処理が行われる。
ここで、リメルト処理に先立って温度を検出する部位は
必ずしもジャーナル部である必要はなく、処理対象カム
の両側のカムあるいは軸部の温度を検出するようにして
もよい。
必ずしもジャーナル部である必要はなく、処理対象カム
の両側のカムあるいは軸部の温度を検出するようにして
もよい。
なお、上記実施例では再溶融硬化処理されるカムシャフ
ト素材の材質については特に明示していないが、例えば
鋳鋼を用いそれを再溶融硬化処理した上その再溶融硬化
処理層(レーデブライト層)を仕上げグラインダで除去
し、その下部の二次硬化層であるマルテンサイト+下部
ベーナイト層をカム表面として露呈させることが考えら
れる。
ト素材の材質については特に明示していないが、例えば
鋳鋼を用いそれを再溶融硬化処理した上その再溶融硬化
処理層(レーデブライト層)を仕上げグラインダで除去
し、その下部の二次硬化層であるマルテンサイト+下部
ベーナイト層をカム表面として露呈させることが考えら
れる。
そして、このカムシャフトをローラーロッカタイプの弁
駆動系に用いれば、転勤疲労応力限が高いのでピッチン
グ等の不具合が防止できる。
駆動系に用いれば、転勤疲労応力限が高いのでピッチン
グ等の不具合が防止できる。
発明の効果
以上のように本発明によれば、カムの再溶融硬化処理に
先立ってその処理対象カムの両側近傍の温度を検出し、
この検出温度に応じて処理対象カムに与えるべき溶融エ
ネルギーを制御するようにしているため、処理開始直前
にその処理対象カム近傍が保有している熱を考慮した処
理条件のもとて処理を行えることから、各カムを通して
溶融法さすなわち処理硬化層のばらつきが解消されて均
−化されるようになり、処理品質の向上と安定化が図れ
る。
先立ってその処理対象カムの両側近傍の温度を検出し、
この検出温度に応じて処理対象カムに与えるべき溶融エ
ネルギーを制御するようにしているため、処理開始直前
にその処理対象カム近傍が保有している熱を考慮した処
理条件のもとて処理を行えることから、各カムを通して
溶融法さすなわち処理硬化層のばらつきが解消されて均
−化されるようになり、処理品質の向上と安定化が図れ
る。
第1図は本発明を応用した処理装置の構成説明図、第2
図は第1図の要部拡大図、第3図はリメルト処理の手順
を示すフローチャートである。 5・・・リメルトトーチとしてのTIGトーチ、12・
・・スライダ、13.14・・・温度センサ、16・・
・センサ位置制御部、17・・・電流・電圧制御部、1
8・・・主制御装置、S・・・カムシャフト、CI、C
2゜c3.c4・・・カム、Jl、J2.J3.J4.
J5・・・ジャーナル部。 第3図
図は第1図の要部拡大図、第3図はリメルト処理の手順
を示すフローチャートである。 5・・・リメルトトーチとしてのTIGトーチ、12・
・・スライダ、13.14・・・温度センサ、16・・
・センサ位置制御部、17・・・電流・電圧制御部、1
8・・・主制御装置、S・・・カムシャフト、CI、C
2゜c3.c4・・・カム、Jl、J2.J3.J4.
J5・・・ジャーナル部。 第3図
Claims (1)
- (1)多数のカムを有するカムシャフトの各カム面に順
次溶融エネルギーを与えて再溶融させることで該カム面
を硬化処理する方法において、再溶融硬化処理に先立っ
て、カムシャフトのうち処理対象カムの両側近傍の温度
を検出し、この検出温度に基づいて処理対象カムに与え
るべき溶融エネルギーを制御することを特徴とするカム
シャフトの表面硬化処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10474990A JPH042728A (ja) | 1990-04-20 | 1990-04-20 | カムシャフトの表面硬化処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10474990A JPH042728A (ja) | 1990-04-20 | 1990-04-20 | カムシャフトの表面硬化処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH042728A true JPH042728A (ja) | 1992-01-07 |
Family
ID=14389145
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10474990A Pending JPH042728A (ja) | 1990-04-20 | 1990-04-20 | カムシャフトの表面硬化処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH042728A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100842888B1 (ko) * | 2007-06-28 | 2008-07-02 | 주식회사 파카한일유압 | 다이오드 레이저를 이용한 스풀 열처리기 및 열처리방법 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6345446A (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-26 | Hitachi Ltd | 内燃機関用電子燃料制御装置 |
-
1990
- 1990-04-20 JP JP10474990A patent/JPH042728A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6345446A (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-26 | Hitachi Ltd | 内燃機関用電子燃料制御装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100842888B1 (ko) * | 2007-06-28 | 2008-07-02 | 주식회사 파카한일유압 | 다이오드 레이저를 이용한 스풀 열처리기 및 열처리방법 |
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