JPH04271106A - コンデンサおよびコンデンサネットワークおよび抵抗コンデンサネットワーク - Google Patents

コンデンサおよびコンデンサネットワークおよび抵抗コンデンサネットワーク

Info

Publication number
JPH04271106A
JPH04271106A JP2418219A JP41821990A JPH04271106A JP H04271106 A JPH04271106 A JP H04271106A JP 2418219 A JP2418219 A JP 2418219A JP 41821990 A JP41821990 A JP 41821990A JP H04271106 A JPH04271106 A JP H04271106A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
capacitor
film
resistor
niobium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2418219A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Inohana
猪鼻 武司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tama Electric Co Ltd
Original Assignee
Tama Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tama Electric Co Ltd filed Critical Tama Electric Co Ltd
Priority to JP2418219A priority Critical patent/JPH04271106A/ja
Publication of JPH04271106A publication Critical patent/JPH04271106A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)本発明は電子機器に利用されるコ
ンデンサ、コンデンサネットワークあるいは抵抗−コン
デンサネットワークに関するものである。 (従来の技術)電気的絶縁性基板上に第一電極を形成し
、その上に誘電体五酸化タンタル膜を成形し、そしてそ
の上に第二電極を形成した従来の薄膜コンデンサ及び薄
膜コンデンサネットワークにおいて、前記第二電極はニ
ッケル−クロム−の下層電極とパラジウムの中間層電極
と金の上層電極との三層構造であった(「電気デバイス
部品の故障解折と材料評価」第2節、P68からP71
まで、(株)サイエンスフォーラム出版。)(発明が解
説しようとする課題)この構造で半田付けが出来るよう
に熱処理し第二電極部を拡散させるが、この熱処理をし
た際に、第二電極である下層電極と誘電体五酸化タンタ
ルが反応し、熱処理前後でコンデンサの静電容量、誘電
正接が増加したりして必要な静電容量、誘電正接が得ら
れなかった。また、リーク電流も熱処理により増加し、
十分な耐電圧特性が得られなかったりする問題が発生し
ていた。 (課題を解決するための手段)本発明はこの問題を解決
するために、誘電体膜を形成した後、第二電極としてニ
オブ−シリコン系合金の下層電極とニッケルの中間層電
極と金の上層電極を形成して、三層構造にする。これよ
り熱処理前後での静電容量、誘電正接及びリーク電流の
増加が抑えられ、必要な静電容量、誘電正接が得られ、
また十分な耐電圧特性を有するコンデンサ、コンデンサ
ネットワーク、抵抗−コンデンサ・ネットワークを提供
するものである。 (実施例1)本発明の実施例を図面に基づいて説明する
。第1図は、この発明の一実施例を示す断面図であって
、第2図はその等価回路図である。第1図において電気
的絶縁基板1上に、パラジウム等の電気伝導性に優れた
第一電極2を真空蒸着法により着膜した後エッチングを
行い第一電極のパターンを形成する。その上に、真空蒸
着法により誘電体五酸化タンタル膜3を着膜し、この後
、この上に下層電極4としてニオブ−シリコン系合金を
真空蒸着法で着膜し、さらに続けて中間層電極6のニッ
ケル、上層電極7の金を順次着膜するそして金、ニッケ
ル、ニオブ−シリコン系合金を順次エッチングし第二電
極のパターンを形成する。これにより、第二電極として
ニオブ−シリコン系合金が下層電極4、ニッケルが中間
層電極6、金が上層電極7の三層構造となる。その後熱
処理し、目的の電極箇所に半田付けをする。この構造の
電極による効果を第1表に示す。
【表1】 第1表より明らかなように、本発明により、第二電極と
してニオブ−シリコン系合金の下層電極4と、ニッケル
の中間層電極6と、金の上層電極7との三層構造にする
ことで熱処理によるコンデンサの静電容量、誘電正接の
増加及びリーク電流の増加は非常に小さくなり、必要な
コンデンサの静電容量、誘電正接、耐電圧が得られる。 (実施例2)実施例1と同様の構造で、下層電極のニオ
ブ−シリコン系合金を抵抗体として用い抵抗−コンデン
サを製作した。第3図は本発明の抵抗−コンデンサの平
面図で第4図はその断面図であって第5図はその等価回
路である。実施例1と同様に絶縁基体上に第一電極、誘
電体五酸化タンタル、第二電極を順次着膜した後金、ニ
ッケルを順次エッチングして、第二電極5のパターン形
成後さらにニオブ−シリコン系合金をエッチングし第二
電極と抵抗体4を含むパターンを形成することによって
、抵抗−コンデンサを製作した。ニオブ−シリコン系合
金は良質の薄膜抵抗材料であるので本発明のように用い
れば、抵抗体としても働く。さらに抵抗−コンデンサを
製造するにあたって抵抗膜として特別に着膜する必要も
なく、製造工程が簡略でコストの安価な抵抗−コンデン
サを提供することができる。 (実施例3)実施例1,2と同様の方法を用いて、第6
図(a),(b)に示すようなコンデンサ・ネットワー
ク及び抵抗−コンデンサネットワークを製作した。 (発明の効果)上記いずれの実施によっても明らかなと
おり、本発明によれば、第二電極として、ニオブ−シリ
コン系合金の下層電極と、ニッケルの中間層電極と金の
上層電極との三層構造にすることが熱処理によるコンデ
ンサの静電容量、誘電正接、の増加及びリーク電流の増
加はほとんどなくなる。また安価で製造が容易な抵抗−
コンデンサネットワークが製作できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のコンデンサの実施例を示す断面図、第
2図は等価回路図、第3図、第4図は本発明のコンデン
サ−抵抗を示す図。第5図は等価回路図、第6図(a)
は本発明のコンデンサネットワークの実施例を示す図、
第6図(b)は発明のコンデンサ−抵抗ネットワークの
実施例を示す図。図中、1は絶縁基体、2は第1電極、
3は誘電体五酸化タンタル、4は下層電極、5慨は第2
電極、6は中間層電極、7は上層電極。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)電気的絶縁性基体上に第一電極を形成され、該電
    極上に誘電体五酸化タンタル膜が形成され、この上に第
    二電極を形成したコンデンサであって、前記第二電極が
    ニオブ−シリコン系合金の下層電極と、ニッケルの中間
    層電極と、金の上層電極との少なくとも三層構造となっ
    ていることを特徴とするコンデンサ。
  2. (2)特許請求の範囲第1項記載のコンデンサを用いた
    ことを特徴とするコンデンサネットワーク。
  3. (3)電気的絶縁性基板上に第一電極を形成し、該電極
    上に誘電体五酸化タンタル膜を形成し、この上に第二電
    極を形成したコンデンサと該コンデンサと同一の電気的
    絶縁基板上に形成された抵抗からなる抵抗コンデンサネ
    ットワークであって、該コンデンサが特許請求の範囲第
    1項記載のコンデンサであり、該抵抗が前記コンデンサ
    の下層電極のニオブ−シリコン系合金の一部を用いて製
    作された抵抗であることを特徴とする抵抗−コンデンサ
    ネットワーク。
JP2418219A 1990-12-26 1990-12-26 コンデンサおよびコンデンサネットワークおよび抵抗コンデンサネットワーク Pending JPH04271106A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2418219A JPH04271106A (ja) 1990-12-26 1990-12-26 コンデンサおよびコンデンサネットワークおよび抵抗コンデンサネットワーク

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2418219A JPH04271106A (ja) 1990-12-26 1990-12-26 コンデンサおよびコンデンサネットワークおよび抵抗コンデンサネットワーク

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04271106A true JPH04271106A (ja) 1992-09-28

Family

ID=18526125

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2418219A Pending JPH04271106A (ja) 1990-12-26 1990-12-26 コンデンサおよびコンデンサネットワークおよび抵抗コンデンサネットワーク

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04271106A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6420043B1 (en) 1996-11-07 2002-07-16 Cabot Corporation Niobium powders and niobium electrolytic capacitors
US6616728B2 (en) 1998-05-04 2003-09-09 Cabot Corporation Nitrided niobium powders and niobium electrolytic capacitors

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6420043B1 (en) 1996-11-07 2002-07-16 Cabot Corporation Niobium powders and niobium electrolytic capacitors
US6616728B2 (en) 1998-05-04 2003-09-09 Cabot Corporation Nitrided niobium powders and niobium electrolytic capacitors
US6896715B2 (en) 1998-05-04 2005-05-24 Cabot Corporation Nitrided niobium powders and niobium electrolytic capacitors

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4937489B2 (ja) 受動素子を有する半導体デバイスおよびそれを作製する方法
US3699011A (en) Method of producing thin film integrated circuits
JPS609112A (ja) 低コストの薄膜コンデンサの製造方法
US3876912A (en) Thin film resistor crossovers for integrated circuits
SE9701618D0 (sv) Kondensator i integrerad krets
JPH01321612A (ja) 重ね合わせたかカプセル化した金属導電路を提供する方法
US4301439A (en) Film type resistor and method of producing same
US5448445A (en) Three-terminal capacitor and assembly
US3484654A (en) High-speed printing of electronic components and articles produced thereby
US3359467A (en) Resistors for integrated circuits
US20040241401A1 (en) Capacitor having improved electrodes
JPH04271106A (ja) コンデンサおよびコンデンサネットワークおよび抵抗コンデンサネットワーク
JPH03252160A (ja) コンデンサ、コンデンサネットワーク及び抵抗―コンデンサネットワーク
JPH03252161A (ja) コンデンサおよびコンデンサネットワークおよび抵抗‐コンデンサネットワーク
CA2116995C (en) Three-terminal capacitor and assembly
JPH0247862A (ja) 半導体集積回路装置
US6627936B2 (en) Semiconductor device and method of producing the same
JPS59143358A (ja) 半導体薄膜抵抗素子
JPS62266861A (ja) 薄膜抵抗容量ネツトワ−ク
JPH03179779A (ja) 絶縁ゲート型半導体装置
JPH10214722A (ja) チップ部品
JPH02296306A (ja) インダクタ
JP2004031849A (ja) 超低抵抗抵抗器及びその製造方法
JPS5930520Y2 (ja) 積層貫通型磁器コンデンサ
JPH06204001A (ja) 積層形チップ固定抵抗器