JPH0426213A - セラミックフィルタの製造方法 - Google Patents

セラミックフィルタの製造方法

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JPH0426213A
JPH0426213A JP13165990A JP13165990A JPH0426213A JP H0426213 A JPH0426213 A JP H0426213A JP 13165990 A JP13165990 A JP 13165990A JP 13165990 A JP13165990 A JP 13165990A JP H0426213 A JPH0426213 A JP H0426213A
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electrode film
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昭夫 佐々木
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宮内 栄作
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、通信機器等に用いられる小型のセラミ・クフ
ィルタ及びその製造方法Z、:関する5(発明の概要) 本発明:;、圧電セラミ!り基板分用いたセラミックフ
ィルタ及びその製造方法であって、フ・ルタ電瘉膜ハタ
一二を形成した圧電セラミノ2板と保護板とを接着一体
化してなる積層構造体の両端部に前記フ/ルタtFfi
幌ハターンに接続する端部;ff!膜を形成した構造と
する二とにより、小型化を図95また製品寸法精度と製
品強度とを向上させたものである。また、製法上は、棒
状部が一体に形成された穴あき圧電セラミック基板の前
記棒状部の複数箇所に所定のフィルタを極膜パターンを
形成し、前記穴あき圧電セラミンク基板と同様形状の穴
あき保護基板分前2穴あき圧電セラミック基板に接着一
体止して積層基板を構成し、該積層基板における積層棒
状部の両端部に薄膜技術により端部電極膜を形成した後
に個々のセラミックフィルタに切断分離することにより
、工程の短縮、ひいては生産性の改善を図り得る。
(従来の技術) 従来のセラミ・lクフィルタ1)構造の一例を第10図
及び第11図に示す。これちの図において、ヲOは所定
のフィルタ電極膜パターンを形成した圧電セラミック板
、51A、51Bはカバーてあり、該カバーは少なくと
も前記圧電セラミック板50の動作時に振動する部分で
ある振動領域の両面に対応した対向面に空洞部ヲ3A、
53Bを設けるように絶縁樹脂で形成される。52.i
、52Bは前記カバー51を設けた圧電セラミック板5
0の両面を覆う樹脂製封止コートを示す。前記カバー5
1A、51Bは、圧電セラミック板50両面の振動領域
及び特定の電極位置を除いた部分面のそれぞれに絶縁樹
脂を印刷塗布し硬化させた第1層と、該第1層の上面に
振動領域に対同する空洞部53.A、53Bを形成する
ように絶縁樹脂を印刷塗布し硬[ヒさせた第2層との2
層構造となっている。前記樹脂封止コー)52A、52
Bも絶縁樹脂を印刷塗布し硬化させることによって設け
られる。
次に、圧電セラミック板50、カバー51A51B、封
止コー)−52A、52Bからなる本体部の強度補強の
なめ、アース電極54を有するガラスエポキシ板56を
前記本体部の下面に接着剤57で固着し積層構造木58
とする。そして、第11図に示すように端部電極材とし
ての金属キャIプ59A、Ti9Bを積層構造木5Sの
両側端に装着する。この金属キャンプ59A、59Bは
 弾性により積層構造木58の両側端をはさむように装
着され、圧電セラミック板50に形成されたフィルタ電
臣膜パターン上面の電&55A、55Bにそれぞれはん
な付けにより固着され、電気的に接続されて端部電極を
形成している。同時にガラスエポキシ基板56のアース
電極54とフィルタ電極膜ハターン下面の電極5’5C
もはんた付けによr〕接続さ1Lる。
(発明か解決しようとする課題) と二ろて 訂述の従来のセラミ17フイルタは、空洞部
を設けるためのカバーラIA、51.8と封止コート5
2A、52B:絶す上で、絶縁樹脂と印91塗布し硬f
ヒさせて積層する暦数か多いため、製造工程か5くなる
。また、端部電極材に金属キャ/フ゛零9A、59Bを
用し)でいるため、金属キヤ・7“り)形成と装着の手
間がかがりコスト高になり製造の計理1ヒに適さないも
のであった。また、セラミックフィルタか小型になるの
に1+い、金属キャ/ブの製造及び装着工程なとにおい
てさ、)に取り扱いが面倒になり、生産性や製品寸法精
度の占で改善しなければならなL)った3 本発明は、上記の点に鑑み、小型化及び製品寸法精度及
び製品強度の向上が可能で、製法上は製造工程の簡略化
及び合理化や量産性の改善が可能なセラミ17フイルタ
及びその製造方法を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段) 上記目的を達成するために2本発明の七うミlクフィル
タは一所定のフィ/L 、9電極膜パターンを形成した
圧電セラミ/り板と、少な【とも前記圧電セラミック板
の振動領域に対応する対向面に空洞部を形成した保護板
とを接着一体止してなる積層構造木の両端部に前記フィ
ルタ電動膜パターンに接続する端部電極膜を形成した構
成としている9また1本発明のセラミ・ノタフフルタの
製造方法は、棒状部か一体に形成された穴y)き圧電セ
ラミック基板J)前記棒状部、7)複数箇所に所定J)
フ・ルタ電瘉膜バタ〜シを形成する工程と 棒状部か一
体に形成されかつ少なくとも前記圧電セラミ・り基板の
振動領域に対応した対向面に空洞部を形成1−だ穴あき
保護基板を前記穴あき圧電セラミ・72基板に接着一体
止して積層基板を構成する工程と、前記圧電セラミック
基板の棒状部と前記保護基板の棒状部とが積層された積
層棒状部の両端部に薄膜技術により端部を極膜を形成す
る工程と、前記積層基板を1つのフィルタ電極膜パター
ンを有する如く複I2個に切断号ダする工程とをvaえ
ている(fl用) 本発明のセラミックフィルタにおいては、圧電セラミ・
!り板に保護板を重ねて一体化した積層構造木の両端部
に端部電極膜を形成する構造であり、金属キャリアを端
部電極材として使用する場合のように面倒な装着生業か
不要となり、小型化に適した構造となる。また、金属キ
ヤ・プを省略したことて材料資力削減、コスト低減らで
きる。また、膜厚を正確に管理する二とにより製品寸法
のほらつきを少なく1=、乃1つ闇護板を圧電上ラミツ
タ板の両面を挟む如く重ねて一体1ヒすることにより抗
折強度の向上を図る二とができる。
また、本発明のセラミノ2フイルタの製造方法において
は、棒状部を一体に形成した穴あき圧電セラミック基板
を使用し、製造時においては1枚力板と−で処理する二
とにより(基板処理工法)、積層工程や端部電極形成工
程等の各工程において、多数個のセラミックフィルタの
同時処理がパレット等を使用することなく可能になり、
工程のライン化(工程間搬送の統一化)や1産が容易に
なり、製造原価の紙載及び製造所要時間の短縮3図るこ
とかてきる。
端部電極材に金属キャ・プを使用せず、穴あき圧電セラ
ミック基板と同様形状の穴あき保護基板とを重ねた積層
基板の積層棒状部に、スバ!タイオシブレーティング、
P −CV D等の薄膜技術による金属薄膜の端部電極
膜を被着形成するので、端部電極膜の厚みの管理を高精
度で行う二とが容易で、端部電極形成工程の簡略化と同
時成膜による量産化か可能になり、材料費、三製造工程
の削減とと乙に、製品寸法精度と搭載率の向上を図るこ
とかでき、さらに小型化や薄形化にも十分対応てきる。
また、圧電セラミック基板の両面を空洞部を有するアル
ミナ等の保護基板で挟み込み固着する積層構造とした場
合には2セラミ・/クフィルタの抗折強度の向上を図り
得るとともに空洞部を確実に確保できる。
(実施例) L’J、 1”、本発明に係るセラミックフィルタ及び
その製造方法の実施例f!:図面に従って説明する。
第101=七ラミ/タフイルタの製造工程を説明するT
程図である。まず、未焼成の圧電セラミノウ ニート基
板に第2I2Iに示す如く複数のスリ・ノド穴11を所
定間開て平行にパン千ンクもしくはトーサー加工で空は
、平行なスリー、 ト穴間に多数の棒状部12を形成す
る。それから、前記圧電セラミ・り・シー1へ基板を焼
結した陵、所要の分極処理を、IiI!−て分極済みの
穴あき圧電セラミック基板(ト)ZT’l ]を作成す
る6 前記hi済みの穴あき圧電セラミック基Ff、tに1;
 電極形成工程2において、各棒状部12両面、;′)
複数間断に所定J)7・ルタ電千膜バタ一二をそれぞれ
設ける。フィルタ電極膜パターンは2表裏の両面構成て
あり、第3図に示すように各棒状部12の表側には所定
の表側フィルタ電極膜パターン14を、裏側には表側に
対応した所定の裏側フィルタ電極膜パターン15をスパ
ッタ等の薄膜技術でそれぞれ被着形成する。表側フィル
タ電極バタ〕14におtする電極膜14 A及乙< 1
 、s Bは棒状部12の側面にLそれそjと連続して
形成する。なお、棒状部12の]箇所のフィルタ電極膜
パターンに対応また振動領域(71ルタ作用を行−一所
)は点線Pて囲まれた領域である。
一方、第4[2Iのように、少なくとし穴あき圧電セラ
ミ/り基板1の各フィルタ電極膜)1ターシ毎に設:す
られた振動領域(第3121点線「゛)にr′iに1−
た対向面に空洞部23.33を存する穴あきアルミナ保
護基板20,3f、lテ用意する。ミノ、・1、の穴あ
きフルミ↑(V護基板20 、 3 +−,) F、;
穴:flき圧電セラミ・り基板Iと同様、7)平面形状
で、))る。
表側の保護基板二〇は、未焼成J′l−2ルミナ シー
1一基板に、第4. !7]!、こポす如て、複数の空
洞部二3を所定間隔て並列に加Vf:成型等てそj、七
iし形成−1空洞部23の両側にスリtl−穴21を所
定間隔て平行にパン千ンク乙賢くはE−ザー加工であけ
、前記空洞部23分多数個有する棒状部22を有するよ
うに焼結したしのである。
同様に、裏側の保護基板30は、未焼riのアルミナ 
シート基板に、第4(2Iに示す如く、複数の空洞部3
3及び電極膜3:5を所定間隔て並列に加圧成型等でそ
れぞれ形成し、前記空洞部33及び電極膜35の両側に
スI月ソト穴31を所定間隔て平行にバ〉チングもし・
くけレーザー加工で空け、空洞部33及び電極膜35を
多数個有する棒状部32を有するように焼結したしので
ある。
なお、空洞部23.33は、セラミックフィルタ動作時
に、前記穴あき圧電セラミ・lり基板lの振動領域の振
動を円滑に作動させ、保護するために設けられる。
積層工程3においては、前記穴あき圧電セラミ・lり基
板1の両面に、空洞部−) 3 、33を有する穴あき
アルミナ保訝基板20..30を接着一体止し、穴あき
積層基板40を作成する。すなわち、第4図に示すよう
に、フィルタ電極膜パターン形成済みの穴あき圧電セラ
ミノ2基板1の表側に接着剤43を所定の接着部分に印
刷し、その上に圧電セラミック基板1の振動領域に対応
した空洞部23を有する表側保護基板20を圧着する。
そして、裏側ら同様に接着剤43を印刷し、振動領域に
対応する空洞部33と裏側電極膜パターン15に対応す
る電極膜35を有する裏側保護基板30を圧着し、第5
図の如くスリット穴41と積層棒状部42を有する積層
基板40を作成する。
それから、端部電極形成工程4において、第6図の如く
、端部電極膜の下層部分を構成する金属薄膜16A、1
6Bの成、膜をスバ・lりにより前記積層基板40の状
態で行ない、すなわち各積層棒状部42の両端部分略コ
字状に囲む如く金属薄膜16A、16Bを形成し、また
前記電極膜35を貫通して裏側電極膜パターン15に接
続する如く金属薄膜16Cを形成する。
金属薄wA16A、16Bはそれぞれ第3図に図示した
前記表側フィルタ電極膜パターン14における電極11
114.4.14Bの端部に電気的に接続するもので、
金属薄11*16Cは前記裏側フィルタ電極膜パターン
の電極穴35部分と電気的に接続するものであり、それ
ぞれ2層構造であり、例えば下層がセラミックに付着性
の良いN iCr、 T iまたは(コ「のスへlり膜
、上層が低抵抗のCvスハ!ダ膜である。なお、薄膜形
成時、積層基板40両面及び積層棒状部42側面の不要
部力・を予ぬマフ、キンク処理しておく。
さらに、端部電極めっき工程5において、積層基板40
のままで各積層棒状部42の金属薄膜1()A 、  
16 B 、  16 C上にめっきを施し、第7図1
こ示すよう1こ、金属めっきM17.八、17B、17
Cを金属[11916A、16B、16C上に被着形成
j−で第7図の如く端部電極M18A、18B及び端子
電極膜1.8Cを構成する。こ二で、金属め−)きII
 7A、17B、17Ci:2層構造であり、金属薄膜
16八、16B、16C上に直接被着形成される下層が
耐はんだ性(はんだの拡散防止及びはんだ耐熱性)のN
iめっき膜、上層がはんだけ普性の良いPb−8nまた
はSnめっき膜て・ある。なお、めっきは電解く湿式)
めっきであっても無電解めっきであっても良い。
その後、切断工程6において、1個のフィルタ電臣膜パ
ターンを有するように第7図に一点鎖線Xて示した切断
代(第3図及び第6UZJにら同様に図示した)に沿っ
て前記積層棒状部42をダイシュクシ−等により切断又
はスリ7+−講による分割にて、第8図及び第9図の如
く内部に1個のフィルタ電極膜パターンを持ち、かつこ
れに接続する端部電極膜18A、18Bと端子電極膜1
8Cを有する1個のセラミ・lクフィルタが得られる。
個マのセラミックフィルタは、第8図の分解斜視図かI
2わかるように、表側フィルタ電極膜パターン14及び
裏側電極膜パターン1ヲを形成1−か圧電セラミック板
45と、少なくとも前記圧電セラミ・り板の振動領域に
対応する肘白面に空洞部23を形成したアルミナ製上側
保護板4bと、同様に空洞部33を形成したアルミナ製
下側保護板47とを接着剤43にて接着一体止してなる
積層構造体48の両端部に前記フィルタ電極膜パターン
に接続する端部電極膜18A、3.8Bを有し。
さらに裏側フィルタを極膜パターン15に接続する端子
電極膜18Cを有している。
個りのセラミックフィルタに切断した後、必要に応じて
洗浄及び乾燥を行なって製品とする。
なお、上記実施例で・は電極形成工程2において、表側
及び裏側フィルタ電%’lA’<ター;14.15をス
バンタ等の薄膜技術て′形成したか、導体ペーストの印
刷焼き付は等による厚膜技術で形成しても良い。
また、端部電極成膜工程4において、金属薄膜16A、
16B、16Cを2層のスパッタ膜て形成したが、最下
層をNiCrのスバ、7タ膜、中間層ヲCu N iの
スパッタ膜、上層をCuカスバッタ膜とした3層構造と
してしよい。また、C?uのスパ・ツタ膜1層のみの構
造としてもよい。
マタ、スパックの代、わり(こイオ、)゛し−ティン7
、p −(V D等で金属薄膜を形成してら良い。
〈発明の効果) 以上説明したように、本発明のセラミックフイルタは、
圧電セラミ・t7板に保護板を重ねて一体(ヒした積層
楕遺体の両端部に端部電極膜を形成する構造て、小型化
に適し、膜厚を正確に管理することにより製品寸法のば
らつきを少なくすることかてきる(搭載率の向J:)。
また、淀来使用しでいた端部電極材としての金属キで・
フ゛3省略したことて材f4費の削減、コス1へ低減ら
できる。さらに、空洞部を有する保護板と圧電セラミッ
ク板の両面を挟む如く重ねて一体(ヒする二とにより抗
折強度の向上を図る二とができ、圧電セラミック板の振
動部分に対応した空洞部を確実に確保てきる。
る。
また、製法上の利点として棒状部を一体に形成した穴あ
き圧電セラミック基板及乙−同様形状の穴あき保護基板
を使用する二とにより (基板処理工法)、製造時にお
いては1枚の板として処理が可能であり、多数個のセラ
ミソ2フイルタの同時処理がパレット等を使用する二と
な・く可能である。
従って、工程のライン化(工程間搬送の統一化)や量産
か容易になり、製造原価の低減及び製造所要時間の短縮
を図ることかて′きる。
また、端部電極材に金属キャップと使用せず、面倒な金
属キャップ゛の装着作業を省略でき、作業性も改善でき
る。さらに、圧電セラミック基板に保護基板を重ねた積
層基板の積層棒状部tこ、薄膜技術による端部電臣襖を
施し、その積層基板を切断し千ノフ゛化!−ているのて
、材料費と製造工程の削減とともに、製品寸法のほらつ
きを小さくてき、さらに11・型化や薄形化にも十分対
応できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例の製造工程を示す工程図、第2
図は分瘉済み圧電セラミノ2基板を示す斜視図、第3図
は電極形成工程を示す部h−斜視口、第4(21は積層
工程を示す部汁分解rJ視図、第5図は同工程における
積層基板を示す!ll視図、第6図は端部;優形成工程
を示す部分斜視図、第711は端部電極めっき工程を示
す部分斜視図、第SINは切断後1)セラミ・クフィル
タの構成を示す分解斜視図、第9図は切断工程後のセラ
ミックフィルタの完成品を示す斜視図、第10図は従来
のセラミックフイルタの一例の構成を示す分解斜視図、
第11図は同正面図て′ある。 1・分瘉済み圧電セラミ・Iり基板、2・・電極形成工
程、3・・積層工程、4・・・端部を極形成工程、5 
端部電極めっき工程、6 切断工程、1】21.31.
41  スリ!1・穴 12,22.32 棒状部、1
4 表側フ/ルタ電極較I\ターン15・裏側フィルタ
電極膜パターン、16八 16B、16C金属薄膜、1
7A、17B、1.+。 (金属めつきl  18A、18B  瑞部電fl!膜
。 18C・端子電極膜、20 表側保護基板 30・裏側
保護基板、23.33  空洞部、3ら 電極穴、40
 積層基板、42 積層棒状部、21B接着剤 45 
圧電セラミツタ板、4o、47作護板。 特許出願メ、 ティー子イーゲイ株式会社 代理)、 弁理士 村井 隆 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図 第8図 1F3シ 第9図 第10図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)所定のフィルタ電極膜パターンを形成した圧電セ
    ラミック板と、少なくとも前記圧電セラミック板の振動
    領域に対応する対向面に空洞部を形成した保護板とを接
    着一体化してなる積層構造体の両端部に前記フィルタ電
    極膜パターンに接続する端部電極膜を形成したことを特
    徴とするセラミックフィルタ。
  2. (2)棒状部が一体に形成された穴あき圧電セラミック
    基板の前記棒状部の複数箇所に所定のフィルタ電極膜パ
    ターンを形成し、棒状部が一体に形成されかつ少なくと
    も前記圧電セラミック基板の振動領域に対応する対向面
    に空洞部を形成した穴あき保護基板を前記穴あき圧電セ
    ラミック基板に接着一体化して積層基板を構成し、前記
    圧電セラミック基板の棒状部と前記保護基板の棒状部と
    が積層された積層棒状部の両端部に薄膜技術により端部
    電極膜を形成した後、前記積層基板を1つのフィルタ電
    極膜パターンを有する如く複数個に切断分離することを
    特徴とするセラミックフィルタの製造方法。
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