JPH04259847A - 光学分析装置及びその校正方法 - Google Patents

光学分析装置及びその校正方法

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JPH04259847A
JPH04259847A JP3265045A JP26504591A JPH04259847A JP H04259847 A JPH04259847 A JP H04259847A JP 3265045 A JP3265045 A JP 3265045A JP 26504591 A JP26504591 A JP 26504591A JP H04259847 A JPH04259847 A JP H04259847A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はフォトメータ、即ち、流
出物内や産業処理工程中に存在する液体又は気体の如き
流体の物理的なパラメータを決定するために光エネルギ
を使用する光学分析装置に関する。
【0002】
【従来の技術】プロセス即ち工程や環境状態を所望の精
度で監視することができ、作動やメンテナンスに熟練技
術を要しない比較的安価な分析装置が有用であることは
知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】環境保全のため、周囲
環境中へ排出する前の廃水や流出ガスを監視する場合に
、安価な装置が特に要求される。
【0004】本発明の目的は、このような要求を満たし
、改良したフォトメータを提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段並びに作用効果】本発明に
よれば、製造費が比較的安く、熟練工でなくとも校正を
行うことができ測定の精度を保つことのできるフォトメ
ータ即ち光学分析装置が提供される。本発明によれば、
このような装置は、比較的簡単で、コンパクトで、組立
て容易で、整合の不要な道具により可動部分を伴わずに
構成できる手段により達成される。
【0006】本発明の基本的特徴によれば、流体の物理
的なパラメータを決定するために流体に当てた光エネル
ギのビームの効果に基づく読取りを行うことのできる光
学分析装置は、適当な光放射線の放射線源と;検出手段
と;流体のための流体領域を画定する手段と;放射線源
から流体領域を通って検出手段に至る光学経路を画定す
る手段と;流体における実質的な変化を生じさせずに、
流体により影響を受けた光エネルギの少なくとも2つの
読取り値を検出手段から得るための読取り及び制御回路
と;読取り値が校正読取り値を表すように、2つの読取
りのうちの一方の読取り期間中、既知の吸収性を有する
フィルタを光学経路内に配置する手段と;第1に、校正
読取り値から流体の効果を除去するために2つの振幅読
取り値を有効に比較し、第2に、フィルタの既知の吸収
性に基づく既知の値に対して校正読取りの残留値を有効
に比較し、第3に、上記第2の比較に基づき、流体領域
内で流体を不変の状態に保ったまま、導き出した値から
校正の調整を行うための校正値決定手段と;から成る。
【0007】本発明の好ましい実施例には、次のような
特徴がある。
【0008】光放射線源は2つの別個に付勢可能な放射
線エミッタから成り、前記放射線源からの前記光学経路
は各放射線エミッタからの光学経路をそれぞれ画定する
2つの分岐部を有し、これら2つの分岐部は流体を通る
実質的に共通の経路を通して伝送を行い、測定エミッタ
たる一方のエミッタは通常の測定読取りを行っている期
間中読取り及び制御回路により付勢され、校正エミッタ
たる他方のエミッタは校正読取りを行っている期間中読
取り及び制御回路により付勢され、既知の吸収性を有す
るフィルタは校正エミッタから流体領域に至る光学経路
内に配置されている。
【0009】光学分析装置は校正を行うための可動部分
を有さず、作動期間中にエミッタを選択的に付勢するこ
とにより、校正調整を行う際に装置により使用される通
常読取り及び校正読取りを実行するように、読取り及び
制御回路を構成、配置してある。
【0010】光学分析装置はインライン型式の分析装置
の形をしており、この装置においては、流体領域を画定
する手段はプロセス流体(処理流体)を流通させるプロ
セスストリーム(処理流れ)の少なくとも一部のための
導管を有し、プロセスストリームはパラメータを変更で
きる特徴的な最大流量を有し、読取り及び制御回路は、
プロセスストリームに関して、プロセスストリーム内の
流体のパラメータに実質的な変化を生じさせるような時
間経過にとって不十分な程度に短い時間間隔で、2つの
読取りを行うように構成されている。
【0011】光学分析装置は、液体プロセスストリーム
により満たされ、滴定後にプロセスストリームによって
のみ洗い流されるように構成した滴定室の形をしている
とよい。
【0012】光学分析装置は、プロセスストリーム液体
の循環可能な既知の少量のサンプルを受入れ、滴定後に
適当な液体により洗い流されるように構成した滴定室の
形をしていてもよい。
【0013】光学分析装置は測色計の形をしているとよ
い。
【0014】光学分析装置は測色計の形をしているとよ
く、流体領域内の光学経路部分は反射鏡を有するプロー
ブにより画定され、それによって、流体領域へ入ったエ
ネルギを流体領域を通して検出手段へ戻すように反射さ
せる。
【0015】光学分析装置は吸収性の分光光度計の形を
しているとよく、検出手段は異なる波長をそれぞれ感知
できる少なくとも2つの検出計から成り、一方の波長は
流体領域内の特定な成分の特徴的な吸収に対応し、この
場合の検出信号は成分の濃度に応じて変化し、他方の波
長は特定な成分が比較的低い吸収性を有する場合の基準
波長となる。
【0016】光学分析装置はサンプルから発散した放射
エネルギを受取るように位置した検出手段を有し、フィ
ルタは発散した放射エネルギをろ過するように位置する
のが好ましく、検出計はローリ発散即ち蛍光を受入れる
ように配置し機能するのが好ましい。
【0017】光学分析装置は、サンプルをバイパスする
光学基準を有する濁り度計の形をしているとよい。
【0018】また、光学分析装置の好ましい実施例には
、次のような特徴がある。
【0019】放射線源から流体領域への光学経路は光学
繊維を有する。
【0020】校正調整を行う手段は装置を校正するよう
に構成されており、調整機構は、装置の感度を調整する
手段と、装置のゼロ基準を調整する手段とを有するのが
好ましい。
【0021】光学分析装置は、流体領域が空の状態で、
適所に設けた既知の吸収性のフィルタにより行われた検
出手段の読取り値を記憶するための手段の形をした既知
の値を提供する手段を有する。
【0022】本発明の別の基本的な特徴によれば、流体
の物理的なパラメータを決定するために流体に当てた光
エネルギのビームの効果に基づく読取りを行うことので
きる光学分析装置を校正する方法は、流体における実質
的な変化を生じさせずに、流体領域内の流体により影響
を受けた光エネルギの少なくとも2つの読取り値を検出
手段から得る工程と;読取り値のうちの一方が校正読取
り値を表すように、既知の吸収性を有するフィルタを光
学経路内に配置する工程と;校正読取り値から流体の効
果を除去するために2つの読取り値を有効に比較する第
1工程と;フィルタの前記既知の吸収性に基づく既知の
値に対して校正読取りの残留値を有効に比較する第2工
程と;第2工程による比較に基づき、流体領域内で流体
を不変の状態に保ったまま、導き出した値から校正の調
整を行う工程と;から成る。
【0023】本発明のこの方法の好ましい実施例には、
次の特徴がある。
【0024】光放射線源は2つの別個に付勢可能なエミ
ッタから成り、通常の測定を行っている期間中に読取り
及び制御回路により一方のエミッタ(測定エミッタ)を
付勢し、既知の吸収性を有するフィルタを他方のエミッ
タ(校正エミッタ)から流体への光学経路内に配置した
状態で校正読取りを行っている期間中に読取り及び制御
回路により他方のエミッタを付勢する。
【0025】装置の可動部分を伴うことなく、作動期間
中にエミッタを選択的に付勢することにより、校正調整
を行う。
【0026】流体は、プロセスストリーム内の流体のパ
ラメータに実質的な変化を生じさせるような時間経過に
とって不十分な程度に短い時間間隔で、読取り及び制御
回路により2つの読取りを行うように、プロセスストリ
ーム内を流れる。
【0027】校正方法は、液体プロセスストリームで滴
定室を満たし、滴定後にプロセスストリームによっての
み滴定室を洗い流す工程を有する。
【0028】校正方法は、液体プロセスストリームで滴
定室を満たし、滴定後に適当な液体により滴定室を洗い
流す工程を有してもよい。
【0029】校正は、測色計、吸収性の分光光度計、濁
り度計、または、蛍光即ちローリ発散を検出できる装置
に対して実行するとよい。
【0030】校正調整を行う工程は、装置を校正し、装
置のゼロ基準を調整するのが好ましい。
【0031】校正方法は、流体領域が空の状態で、適所
に設けた既知の吸収性のフィルタにより行われた検出手
段の読取り値を記憶する工程を有する。
【0032】校正調整を行う方法は現在のフィルタの吸
収値をアップデートする工程を有するとよい。
【0033】校正調整を行う工程は周期的に繰り返され
、このような繰り返し期間中、現在のフィルタの吸収値
が連続的にアップデートせしめられる。
【0034】現在の吸収値に対する過去の吸収値の傾向
は現在の吸収値をアップデートする際に考慮する。
【0035】本発明の別の基本的な特徴は、Cs(n)
を計算したn番目のサンプル濃度とし、Cstdを選択
したフィルタの既知の吸収性に対応する濃度値とし、A
s(n)をn番目のサンプルの測定した吸収値とし、A
zを先に測定し記憶したゼロ吸収値とし、AFを先に測
定し記憶したフィルタの吸収値とした場合に、次の式(
1)に実質上従って濃度Cを測定するような装置及び方
法にある。
【0036】       Cs(n)=Cstd×(As(n)−A
z)/AF    ……(1)
【0037】
【実施例】図1を参照すると、連続的な流れを監視する
ための二重ランプ型の分光光度計は、サンプルランプ即
ち測定エミッタ2と、校正ランプ即ち校正エミッタ4と
を有し、これらのエミッタは制御ライン26を介して中
央処理装置(CPU)22又は他の型式の校正値決定及
び制御回路に接続している。サンプルランプ及び校正ラ
ンプは光学繊維の分岐部14a、14bの前面にそれぞ
れ位置し、これらの分岐部は互いに接続して、2つの分
岐部からのエネルギのための共通の経路を提供する無秩
序配列の第1光学繊維束14を形成する。校正フィルタ
10がランプ4と光学繊維分岐部14bとの間に位置す
る。校正フィルタ10は測定すべき波長に対して既知の
吸収性を有する。
【0038】光学繊維束はサンプル18を閉じ込めるサ
ンプルセル12又は他の領域に通じている。サンプルセ
ルに隣接して第1光学繊維束14とは反対側に、第2光
学繊維束16が位置し、この光学繊維束はセル12を通
って伝送されたエネルギのための共通の経路を提供する
。この第2光学繊維束は測定フィルタ7及び基準フィル
タ9への光学経路を提供する分岐部16a、16bに分
岐している。
【0039】測定検出計6及び基準検出計8が測定フィ
ルタ及び基準フィルタの背後にそれぞれ位置する。これ
ら検出計の出力はデータ取得モジュール22に接続し、
このモジュールはCPU22に接続している。ディスプ
レイ24もCPU22に接続している。
【0040】ランプ即ちエミッタは検出即ち監視すべき
基剤により吸収される(または、他の実施例では、基剤
により影響を受ける)ような波長での「光」放射線を発
する。ここで、本明細書において、「光」放射線とは、
スペクトルの可視赤外及び紫外帯域内での放射線を意味
するものとする。
【0041】作動においては、サンプル流体の連続的な
流れは、プロセスストリーム(処理流れ)の少なくとも
一部のための導管として作用するサンプルセルを流通せ
しめられる。代わりに、時間毎に交換できる流体の静止
サンプルでセルを満たしてもよい。前者の場合は、例え
ば、廃水やセルを定常的に流通する流体を扱うような産
業上のプロセスをインライン式に監視するために装置を
使用でき、後者の場合は、例えば、プロセスラインから
流体を反復的に引き出し、これを滴定測定又は測色測定
のためのサンプルを提供するため及び洗浄(洗い流し)
媒体を提供するために使用するような場合に、オンライ
ン監視を行うために装置を使用できる。本発明にとって
有用な装置は米国特許第4,911,891号及び同第
4,910,151号各明細書に開示されており、本明
細書においてはこれらを参照する。
【0042】このような装置により実行される作動には
2つの形式がある。すなわち、「測定」作動と「校正」
作動である。測定作動における第1工程はCPU22に
よりサンプルランプ2を発光させることである。サンプ
ルランプは多色光を発し、この光は分岐部14aを通り
、第1光学繊維束14を通ってセル12へ至る。セル内
では、光はサンプルと反応し、光のある特徴的な波長が
サンプルの組成材料により吸収される。
【0043】未吸収光はセルを通る共通経路に沿って進
み、第2光学繊維束16を通り、2つのビームとなって
この光学繊維束から出現する。一方のビームは測定フィ
ルタ7を通過し、分光光度計内で監視されている材料に
対する特定のスペクトルラインを除いて、すべての波長
が減衰される。このスペクトルラインは典型的には、測
定すべき化合物の特徴的な吸収に対応する。他方のビー
ムは基準フィルタ9を通過し、測定する波長にほぼ近似
するがその化合物の特徴的な吸収ラインに対応しない基
準波長を除いて、すべての波長が減衰される。特定のス
ペクトルラインでの波長と基準波長との関係を図2に示
す。このようにして2つの波長を使用することにより、
2つの検出計を使用した差測定を行うことによって、ラ
ンプの照射レベルの効果を除去することができる。
【0044】これらの測定及び基準検出計6、8は測定
及び基準フィルタを通過した光をそれぞれ検出する。各
検出計は、入射する光量に関連する振幅を有する電気信
号を発生し、これらの電気信号はデータ取得モジュール
20への信号を提供する。測定波長に対するサンプル1
8の応答性は次式(2)により決定できる。
【0045】       A=log10(Vr/Vm)     
               ……  (2)ここに
、Aはサンプルの吸収性、Vmは測定検出計6の電圧、
Vrは基準検出計8の電圧である。データ取得モジュー
ル20は検出計からの電圧信号をデジタル化し、処理の
ためにCPUへのデジタル値を提供する。
【0046】通常の「測定」作動においては、装置はオ
ペレータが望むユニット内のサンプルの特定の基剤に対
する読取り値を提供する。典型的には、サンプルに対す
る読取り値は例えばパーセント即ちppmとしての濃度
Csとして表される。本実施例においては、時間nにお
けるサンプルの濃度Cs(n)は次式(3)により決定
される。
【0047】       Cs(n)=Cstd×(As(n)−A
z)/AF    ……(3)ここに、Cs(n)は計
算したn番目のサンプル濃度、Cstdは選択したフィ
ルタの既知の吸収性に対応する濃度値、As(n)はn
番目のサンプルの測定した吸収値、Azは先に測定し記
憶したゼロ吸収値、AFは先に測定し記憶したフィルタ
の吸収値であり、これらの値については後述する。上述
の式(3)はサンプルの濃度をCs+d(フィルタの吸
収性により表される濃度)対測定した校正フィルタ吸収
値AFの対応する比に標準化し、先の校正読取り値によ
り決定された装置の任意の検出したドリフトに関してア
ップデートを利用する。
【0048】通常の測定作動において装置により実行さ
れるルーチンを図4の最初の2つのブロックで示す。
【0049】第2の作動、即ち「校正」作動は適所にあ
るサンプル18にて遂行され、すべての測定に対して又
は選定した時間間隔で遂行するとよい。この工程におい
ては、CPUはサンプルランプを消灯した状態で校正ラ
ンプ4を発光させる。校正ランプは多色光を発し、この
光は校正フィルタ10を通る。校正フィルタは測定波長
での光を、精確に既知の程度だけ、例えば測定範囲の3
0%だけ、吸収する。このフィルタは基準波長でのエネ
ルギを吸収してもよい。ただし、その吸収量は測定波長
の吸収量より大幅に少なくすべきである。
【0050】校正フィルタ10からの未吸収光は第1光
学繊維束14を通り、サンプルセル12に至り、監視中
のサンプルの組成成分により光の一部が吸収される。光
の未吸収部分は次いで第2光学繊維束16を通り、その
スペクトル部分が検出され、測定作動について述べたと
同じ方法で、対応する値がCPUに提供される。
【0051】CPUはデジタル化した測定値を対応する
基準値で割り、各測定に対する吸収値を発生させるため
に結果(商)を対数化する。「校正」読取り値は図3ー
5に関連して説明するような引き続きの校正計算に使用
する。基本的には、同じ流体サンプルから得られた先の
測定読取り値及び校正読取り値は、校正読取り値から流
体サンプルの効果を除去するために有効に比較される。 次いで、残留値を既知の(即ち、先に決定した)校正フ
ィルタの実際の吸収性(値)と比較する。この結果から
又は一連の測定から、校正調整が決定され、または、装
置の初期状態からのドリフトの程度に関するレポート(
報告)を発生させる。
【0052】図3ー5に示す値は次のように定義する。
【0053】AF=計算に使用するフィルタの吸収値;
Afo=フィルタのための初期吸収値;AF(n)=n
番目のサンプルでのフィルタの計算した吸収値; AFmin=フィルタ吸収値のための最小限界;AFm
ax=フィルタ吸収値のための最大限界;Acm(n)
=校正エミッタでのn番目のサンプルの吸収値; AM=測定した吸収値; Amax=測定した吸収値のための最大限界;As(n
)=n番目のサンプルでの吸収値;Az=計算に使用す
るゼロ吸収値; Azo=ゼロ濃度のための初期吸収値;Az(n)=n
番目のサンプルでのゼロ濃度に対する計算した吸収値; Azmin=ゼロ吸収値のための最小限界;Azmax
=ゼロ吸収値のための最大限界;Cs(n)=計算した
n番目のサンプルの濃度;Cstd=選択したフィルタ
に対応する濃度値(オペレータ入力値)。
【0054】装置を最初に始動したとき、CPUは図3
に示すような初期化ルーチンを実行する。この初期化ル
ーチンは、装置の初期ゼロ値を得るために、空のセル1
2即ち「ゼロ」サンプル(例えば液体内の色彩として「
ゼロ」濃度の特定成分を含むサンプル;蒸留水を「ゼロ
」サンプルとして使用する)で満たしたセルに対して、
ブロック30にて実行する。従って、ブロック32で測
定ランプをONすることにより、初期の測定作動を遂行
し、ブロック34でゼロサンプルのための吸収値(Az
o)を計算し記憶し、ブロック36で測定ランプをOF
Fする。
【0055】同様に、フィルタのための初期の校正作動
はブロック36にて校正ランプをONすることにより実
行され、吸収性の測定値AMを得るために回路で更なる
測定作動を遂行する。次いで、測定した吸収値AMから
ゼロサンプルのための吸収値Azoを差し引くことによ
り、測定した校正フィルタの初期吸収値Afoを得、こ
の値Azoは記憶しておく。
【0056】ここで、校正ランプをOFFし、測定エミ
ッタをONして更なる測定を行い(ブロック40)、ゼ
ロサンプルの値Afo、Azoを更なる計算に使用すべ
きフィルタ値AF及び吸収値Azとしてそれぞれ記憶し
、これらの値を使用して目盛り読取り装置のゼロ値を設
定する。ここで、校正フィルタの既知の吸収値即ち存在
する対象物の化合物の濃度レベルを使用して装置の読取
りを標準化する。これにより、初期化ルーチンが完了す
る(ブロック44)。
【0057】初期化ルーチンが完了すると、装置を使用
して、吸収性の測定を遂行し、これらの値をディスプレ
イ24上に表示するか、または、オペレータ又は他の装
置にこれらの値を提示する。これらの値は濃度値として
オペレータに提示される。オペレータが設定できるある
期間の経過後、装置は自己校正を遂行する。
【0058】図4、5のフローチャートに示す自己校正
ルーチンは、装置の感度を調整するために使用する感度
修正ルーチンと、装置のゼロ値を調整するゼロ修正ルー
チンとから成る。図6に示すように、感度の変化は装置
のゲインΔy/Δxの変化に対応し、ゼロ値の変化は装
置のゼロインターセプトbの変化に対応する。
【0059】感度修正ルーチン(図4)はブロック50
にて開始し、n番目のサンプルの吸収値As(n)を読
取る。CPUは図4のブロック52内に示す式を用いて
対応するサンプルの濃度値を計算し、これを表示する。
【0060】次いで、自己校正ルーチンは、計算に使用
する現在のフィルタ値AFと現在のサンプルのための測
定した吸収値As(n)とを加算した値が装置の測定範
囲内にあるか否かを決定することにより、校正値が範囲
内にあるか否かを決定する(ブロック54)。否(NO
)の場合、自動校正のための作動範囲を越えていると考
えられる。この場合、校正は行われず、CPUはこの状
態をフラッグでオペレータに知らせる。
【0061】CPUが校正できる場合は、CPUは測定
ランプをOFFし校正ランプをONし(ブロック56)
、サンプル及びフィルタのための吸収値を記憶する(ブ
ロック58)。この値から、CPUはフィルタのための
計算吸収値AF(n)を計算する(ブロッ60)。 この吸収値が現在使われている値AFと同じである場合
(ブロック62)、装置は適正に校正されたことになり
、校正ルーチンは完了する(ブロック76)。
【0062】校正フィルタの測定した吸収値が値AFと
異なる場合は、校正フィルタ自体の実際の吸収性が既知
の一定量であるから、装置がドリフトしてしまったこと
が分かる。装置のこのドリフトを訂正するため、CPU
は、フィルタ吸収値の過去の傾向を考慮して、新たな現
在のフィルタ吸収値AFを発生させる(ブロック64)
。装置の故障例えば機素の欠陥により生じるような一方
向又は他方向への顕著な傾向が存在しなければ、この新
たな値は最も最近の一組の値の平均値により決定される
【0063】次いで、CPUは新たなフィルタ吸収値が
許容可能な範囲内にあるか否かを確かめる(ブロック6
0)。この値が範囲外である場合、装置は誤差表示を行
い(ブロック74)、ルーチンを終了する(ブロック7
6)。新たな調整したフィルタ吸収値AFが適正な範囲
内にある場合は、後で使用するためにこの値を記憶する
【0064】次いで、CPUは校正がシフトしてしまっ
たことをオペレータに知らせる感度値ΔSをオペレータ
に報告(レポート)する。この値は図4のブロック70
内に示した式から得られる。新たに決定した値AFと先
の値AFとを比較することにより、装置の感度の性能ヒ
ストリー(歴史)が決定され、報告される。校正作動の
実行はゼロ修正ルーチンへ進む(ブロック72)。
【0065】図5のフローチャートに示すゼロ修正ルー
チンは更なる測定に使用するゼロ値を発生させる。この
ルーチンは、現在のサンプルに対するフィルタ及びサン
プルの測定吸収値Acm(n)から現在のフィルタ吸収
値AFと現在の測定したサンプル吸収値As(n)とを
差し引くことによりゼロ値を計算することから開始する
(ブロック80)。この値がゼロ吸収値の許容範囲内に
あるときは、現在のゼロ値がアップデートされ(ブロッ
ク84)、ゼロシフトがオペレータにレポートされ(ブ
ロック86)、校正ルーチンを終了する(ブロック90
)。上記値が許容範囲外にある場合は、誤差状態がフラ
ッグ表示される(ブロック88)。
【0066】校正ルーチンが完了すると、装置は、再度
の校正が行われるまでは、更なる測定を行える状態とな
る。従って、上述の方法は変数値AFを連続的にアップ
デートするだけで装置を反復的に再校正できる。
【0067】インライン式の作動に関する上述の説明に
固有の1つの仮定は、流体の流れが測定作動期間中及び
引き続きの校正作動期間中実質上一定な吸収性を有さね
ばならない(即ち、その特徴的な最大変化率が小さい)
ということ、または、校正が不正確に実行されるかもし
れないということである。これを図7に示すが、図7か
ら、検出計が未吸収光を測定するとき、測定点T0、T
1間で、溶液の濃度が安定状態を維持しなければならな
いことが分かる。実際には、このような測定を行う時間
間隔は、監視すべき大半の処理(流体)における濃度が
顕著に変化せずインライン式の有効な読取りを行えるに
十分なほど短いことが判明している。
【0068】オンライン式の分析に対しては、即ち、サ
ンプルがサンプルセル内に捕捉、保持されている場合に
は、測定作動及び校正作動期間中同じサンプルがセル内
に位置しているので、上記のような問題は生じない。
【0069】ある場合には、図8に示すように、サンプ
ルの構成成分により対象物の波長近傍のベースライン吸
収が量Xだけずれてしまうことがある。これにより、基
準値は測定に関係のない構成成分の濃度に依存すること
となり、測定精度が低下してしまう。このような状況に
おいては、2以上の検出計を使用し、図9に示すように
、それらの検出値の平均値を使用して有効な基準値を決
定するとよい。
【0070】上述のような装置を使用することにより、
図1の装置の校正を自動的にチェックでき、サンプルを
評価することなく又は任意のテストサンプルを使用する
ことなく、連続する作動期間中に校正を自動的に修正で
きる。装置はまた、可動部分を含まず、従って、装置を
小型化でき、装置の信頼性が高まり、そのメンテナンス
が不要となる。それ故、この装置は、極めて高度な技術
による正規の支持を要せずに信頼性ある作動が重要とな
るような廃水監視の如きでこぼこした野外での応用に対
して特に適している。
【0071】更に、この光学装置及びこれに関連する方
法は、適当なエミッタ、フィルタ及び検出計を備えた場
合は、スペクトルの可視赤外及び紫外帯域での測定に対
しても同様に有用である。
【0072】ある例においては、2つのランプの代わり
に、単一の光源とシャッタ機構又はこれと同等の機構と
を用い、サンプル経路及びフィルタ経路を介して同一の
光源でサンプルを照射する方が有用である。この場合、
一層信頼性に乏しく一層高価な可動部分を付加すること
になるが、ある条件においては許容できる。例えば、ア
ーク光源を使用した場合、またはエミッタから発した放
射エネルギがその最大値で最適であるような他の実施例
を使用した場合、単一のエミッタ、及び、校正フィルタ
の存在する光学経路と校正フィルタの存在しない光学経
路とを切り換える適当な手段を使用することができる。
【0073】本発明の校正方法を使用して吸収性その他
の物理的なパラメータを測定するための種々の他の装置
を製造できる。
【0074】例えば、図10は滴定メータ又は測色計を
使用するに適したプローブ型の構成を示す。この装置は
分光光度計とほぼ同じ方法で作動するが、異なる点は、
光がプローブ102内のサンプル流体100を通過し、
反射面104で光を反射させて合成の吸収性を測定する
前にプローブを通るように光を戻すことである。上述の
米国特許明細書に開示されたサンプリング技術を使用す
ると特に有利であるが、他のサンプリング技術を使用し
てもよい。
【0075】発散した放射線を検出することにより濃度
を測定する装置を図11に示す。この装置は紫外アーク
光源110の如きエミッタを備え、このエミッタはサン
プルセル118内へ光を発してサンプル116を刺激し
、ある程度の発散を生じさせる。刺激用放射線の入射経
路の真向いの位置とこれに直角な位置とに配置した検出
計は、伝送された放射線と発散した放射線とをそれぞれ
測定する。検出した発散放射線の振幅と伝送放射線の振
幅との比率は測定中の物質の濃度に比例する。この装置
においては、検出計の光学経路に対して出し入れされる
既知の吸収性を有する校正フィルタ112は測定作動及
び校正作動を交互に遂行する能力を提供する。この装置
は図1の二重ランプ式の分光光度計と実質上同じ方法で
校正される。従って、この実施例の基本構成はローリ発
散の如き発散効果及び蛍光測定に応用できる。
【0076】図12を参照すると、濁り度計を使用する
実施例に係る装置は、2つの光学経路122、124に
沿って光放射線を提供する光源120を有する。サンプ
ル経路はサンプルセル126及びサンプルフィルタ12
8を通る放射線部分をサンプル検出計130へ送る。基
準経路は基準フィルタ132を通る放射線部分を基準検
出計134へ送る。校正フィルタ駆動機構138は既知
の吸収性を有する中立濃度校正フィルタ136をサンプ
ルセルと直列の光学経路に対して出し入れさせる。
【0077】サンプル検出計が受取った放射エネルギと
基準検出計が受取った放射エネルギとの比率はサンプル
を通る伝送率に関連する。伝送率の値が大きいほど、流
体の濁り度の値は小さく、また、伝送率の値が小さいほ
ど、濁り度の値は大きい。既知の吸収性を有する中立濃
度校正フィルタは測定作動及び校正作動を遂行する能力
を提供する。それ故、この装置は二重ランプ式の分光光
度計と同じ方法で校正される。
【0078】以上説明した諸実施例において、記憶した
測定値は装置の性能を調整するために有効に使用される
。他の実施例においては、校正した値は作動用の値をア
ップデートすることなくメモリーに記憶され、装置の性
能は、例えば、装置の初期化状態を表す記憶値と一緒に
測定読取り及び校正読取りについての装置の生のデータ
を使用するコンピュータにより、容易に変更でき、それ
を使用できる。
【0079】本発明の要旨を逸脱することなく種々の変
形、修正が可能であることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【図1】可動部分を有さない二重ランプ式の分光光度計
の概略構成図である。
【図2】測定すべき対象物のスペクトル帯域内の波長に
対する吸収性を示すグラフである。
【図3】図1の実施例についての初期化ルーチンを示す
フローチャートである。
【図4】図1の実施例についての感度修正ルーチンを示
すフローチャートである。
【図5】図1の実施例についてのゼロ修正ルーチンを示
すフローチャートである。
【図6】本発明の装置の理想的な応答を示すグラフであ
る。
【図7】単一の校正作動について、サンプルランプ及び
校正ランプに印加される電圧と、サンプルの濃度とを時
間経過について示すグラフである。
【図8】ベースライン吸収値が傾斜しているような測定
条件における波長に対する吸収値を示すグラフである。
【図9】ベースライン吸収値が傾斜しているような測定
条件における波長に対する吸収値を示し、2つの基準波
長をも示すグラフである。
【図10】測色計を用いる実施例の概略構成図である。
【図11】サンプル内での発散効果を検出することによ
り濃度を測定する本発明の実施例を示す概略構成図であ
る。
【図12】濁り度計を用いる実施例の概略構成図である
【符号の説明】
2  サンプルエミッタ 4  校正エミッタ 6  測定検出計 7  測定フィルタ 8  基準検出計 9  基準フィルタ 10  校正フィルタ 12、116、126  サンプルセル14、16  
光学繊維束 22  CPU 24  ディスプレイ 102  プローブ 110、120  光源 130、134  検出計

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  流体の物理的なパラメータを決定する
    ために流体に当てた光エネルギのビームの効果に基づく
    読取りを行うことのできる光学分析装置において、一定
    の波長を有する適当な光放射線の放射線源と;検出手段
    と;流体のための流体領域を画定する手段と;前記放射
    線源から前記流体領域を通って前記検出手段に至る光学
    経路を画定する手段と;光学分析装置の振幅測定範囲内
    で、流体における実質的な変化を生じさせずに、前記光
    放射線に対する流体の影響による光エネルギの少なくと
    も2つの振幅の読取り値を前記検出手段から得るための
    読取り及び制御回路と;読取り値が光学分析装置の振幅
    測定範囲内での振幅校正読取り値を表すように、前記2
    つの読取りのうちの一方の読取り期間中、当該振幅測定
    範囲の30%程度にあたる前記波長の実質的な部分を吸
    収する既知の吸収性を有するフィルタを前記光学経路内
    に配置する手段と;第1に、前記振幅校正読取り値から
    流体の効果を除去するために前記2つの振幅読取り値を
    有効に比較し、第2に、前記フィルタの前記既知の吸収
    性に基づく既知の値に対して前記校正読取りの残留値を
    有効に比較し、第3に、前記第2の比較に基づき、前記
    流体領域内で流体を不変の状態に保ったまま、導き出し
    た値から振幅校正の調整を行うための校正値決定手段と
    ;から成ることを特徴とする光学分析装置。
  2. 【請求項2】  流体の物理的なパラメータを決定する
    ために流体に当てた光エネルギのビームの効果に基づく
    読取りを行うことのできる光学分析装置において、適当
    な光放射線の放射線源と;検出手段と;流体のための流
    体領域を画定する手段と;前記放射線源から前記流体領
    域を通って前記検出手段に至る光学経路を画定する手段
    と;流体における実質的な変化を生じさせずに、流体に
    より影響を受けた光エネルギの少なくとも2つの読取り
    値を前記検出手段から得るための読取り及び制御回路と
    ;読取り値が校正読取り値を表すように、前記2つの読
    取りのうちの一方の読取り期間中、既知の吸収性を有す
    るフィルタを前記光学経路内に配置する手段と;第1に
    、前記校正読取り値から流体の効果を除去するために前
    記2つの読取り値を有効に比較し、第2に、前記フィル
    タの前記既知の吸収性に基づく既知の値に対して前記校
    正読取りの残留値を有効に比較し、第3に、前記第2の
    比較に基づき、前記流体領域内で流体を不変の状態に保
    ったまま、導き出した値から校正の調整を行うための校
    正値決定手段と;から成り、前記光放射線源が2つの別
    個に付勢可能な放射線エミッタから成り、前記放射線源
    からの前記光学経路が前記各放射線エミッタからの光学
    経路をそれぞれ画定する2つの分岐部を有し、これら2
    つの分岐部が流体を通る実質的に共通の経路を通して伝
    送を行い、測定エミッタたる一方の前記エミッタが通常
    の測定読取りを行っている期間中前記読取り及び制御回
    路により付勢され、校正エミッタたる他方の前記エミッ
    タが校正読取りを行っている期間中前記読取り及び制御
    回路により付勢され、既知の吸収性を有する前記フィル
    タが前記校正エミッタから前記流体領域に至る光学経路
    内に配置されている、ことを特徴とする光学分析装置。
  3. 【請求項3】  流体の物理的なパラメータを決定する
    ために流体に当てた光エネルギのビームの効果に基づく
    読取りを行うことのできる光学分析装置を校正する方法
    において、流体における実質的な変化を生じさせずに、
    流体領域内の流体により影響を受けた光エネルギの少な
    くとも2つの読取り値を検出手段から得る工程と;前記
    読取り値のうちの一方が校正読取り値を表すように、既
    知の吸収性を有するフィルタを光学経路内に配置する工
    程と;前記校正読取り値から流体の効果を除去するため
    に前記2つの読取り値を有効に比較する第1工程と;前
    記フィルタの前記既知の吸収性に基づく既知の値に対し
    て前記校正読取りの残留値を有効に比較する第2工程と
    ;前記第2工程による比較に基づき、前記流体領域内で
    流体を不変の状態に保ったまま、導き出した値から校正
    の調整を行う工程と;から成ることを特徴とする校正方
    法。
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