JPH04257556A - ヒドロキシビシクロ[2,2,1]ヘプタン系スルホンアミド誘導体 - Google Patents

ヒドロキシビシクロ[2,2,1]ヘプタン系スルホンアミド誘導体

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JPH04257556A
JPH04257556A JP4133591A JP4133591A JPH04257556A JP H04257556 A JPH04257556 A JP H04257556A JP 4133591 A JP4133591 A JP 4133591A JP 4133591 A JP4133591 A JP 4133591A JP H04257556 A JPH04257556 A JP H04257556A
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water
etoac
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Masayuki Narisada
成定 昌幸
Fumihiko Watanabe
文彦 渡邉
Mitsuaki Otani
大谷 光昭
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Shionogi and Co Ltd
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Shionogi and Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【従来の技術】スルホニルアミノビシクロ環系カルボン
酸誘導体(以下、単にカルボン酸誘導体という)はトロ
ンボキサンA2(TXA2)に対して、強いレセプター
アンタゴニスト作用を有することが報告されている(特
開昭第63−139161号、USP4654357、
EP−A−312906およびDE3720760など
)。TXA2は血小板凝集作用および平滑筋収縮作用等
を有することが知られている。従って、上記カルボン酸
誘導体は、このようなTXA2の作用に関連する疾患の
治療および予防に有効と考えられる。そのような疾患と
して、心筋梗塞、脳梗塞、肺塞栓、血栓症、妊娠毒血症
、腎不全並びに気管支収縮作用に基づく喘息などが挙げ
られる。また、このカルボン酸誘導体は、クモ膜下出血
後の血管攣縮防止、循環系または消化器系動脈再灌流後
のTXA2によるショックの防止、失血、敗血症、外傷
、心機能障害、内毒素、急性膵臓炎もしくはやけどなど
によるショック防止または体外循環中における血小板減
少防止などにも有効であることが示唆されている。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】上記のごとく、様々な
疾患の予防および治療における臨床上の有効性が期待さ
れることから、さらに多くの新規かつ有用なカルボン酸
誘導体の開発が強く求められている。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために、2,3−位置換ビシクロ[2,2
,1]ヘプタン骨格の5位または6位に水酸基を導入す
ることにより、TXA2レセプターアンタゴニスト活性
を有する新規な化合物を合成することに成功した。この
化合物は水酸基を有するので、さらに種々の化学修飾を
行って生物学的あるいは物理化学的特性を改良すること
が可能である。従って、本発明化合物は、それ自身が有
効なTXA2アンタゴニストであるばかりでなく、さら
に多くの誘導体を製造するための中間体として、または
、プロドラッグの製造原料としても極めて有用である。
【0004】即ち、本発明は、式I:
【化2】 (式中、R1、R2は水素またはヒドロキシ(ただし、
少なくとも一方はヒドロキシである);R3は水素また
はエステル残基;R4は水素、低級アルキル、ハロゲン
を示す)で表される化合物またはその製薬上許容される
塩を提供するものである。以下に、本発明のカルボン酸
誘導体の製造方法の概略を述べる。1)中間体(6)の
製造(反応式1)
【化3】 式中、R4は上記定義に従い、R5はヒドロキシ保護基
、Phはフェニルを表す。
【0005】二重結合を持つ5−ノルボルネン−2,3
−ジカルボン酸無水物(1)をベンゾヒドリルR−(−
)−マンデレートで不斉開裂した後、脱保護しエチルア
セテートから再結晶してジアシッド(2)を得る。 これをメタノール中ソディウムメトキサイドで処理して
(+)−ハーフエステル(3)(特開平2−25665
0号記載)とした後、常法に従ってω−側鎖であるベン
ゼンスルホンアミドを構築し(5)を得る。エステルを
還元してアルコールとし、塩基性条件下で安定なヒドロ
キシ保護基で保護して中間体(6)を得る。
【0006】2)水酸化体の製造(反応式2)
【化4】 式中、R5は上記定義に従う。
【0007】工程a  (6)に9−BBN(9−ボラ
ビシクロ[3.3.1]ノナン)を反応させ、次いで希
苛性ソーダ中過酸化水素処理を施すと、2種の水酸化体
が82:18の混合物として得られる。これをカラムク
ロマトグラフィー、次いで再結晶に付すと結晶性の主生
成物と非結晶性の副生成物に分離する。それらの構造を
1H−NMRを用いたデカップリング法で確認すると、
それぞれ5−exo−OH体(7)と6−exo−OH
体(8)が約82:18の割合で生じていた。 工程b  (6)をエポキシ化してエポキシド(10)
を得、LiAlH4で還元することにより、6−exo
−OH体(8)が大部分(約98%)である混合物を得
る。
【0008】3)本発明化合物の製造(反応式3)
【化
5】 式中、R1、R2、R3、R4、R5およびphは上記
定義に従い、R1’、R2’は水素または保護されたヒ
ドロキシ(ただし、一方は保護されたヒドロキシである
)を表す。上記2)で得た水酸化中間体(7)(8)の
水酸基を保護し、次いでα−側鎖を脱保護し、酸化して
アルデヒド体(11a)および(11b)に変換する。 これらを常法に従い、本発明のカルボン酸誘導体(I)
に導く。
【0009】本明細書中、エステル残基とは、フェニル
が置換されていてもよいフェナシルや、置換されていて
もよい炭化水素基、例えば、低級アルキル、低級アルコ
キシアルキル、ハロゲン化アルキルなどの置換基を有し
ていてもよいアルキル、または芳香環に置換基を有して
いてもよいアラルキルなどを挙げることができる。
【0010】低級アルキルとは炭素原子数1〜8個の直
鎖または分枝鎖状飽和炭化水素基であって、メチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イ
ソペンチル、ネオペンチル、1,2−ジメチルブチル、
ヘキシル、ヘプチル、オクチルなどを挙げることができ
る。低級アルコキシとは炭素原子数1〜8個のアルコキ
シであって、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ
ロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキシルオキシ、ヘ
プチルオキシ、オクチルオキシ等を挙げることができる
【0011】低級アルコキシアルキルとは上記定義のア
ルコキシ基の水素原子が上記定義のアルキル基で置換さ
れて形成される基であって、メトキシメチル、エトキシ
メチルなどを挙げることができる。ハロゲン化アルキル
とは、1〜4個のハロゲン原子で置換された上記定義に
おけるアルキル基であって、2,2,2−トリクロロエ
チル、2−ヨードエチルなどを挙げることができる。ハ
ロゲンとは、沸素、臭素、塩素、沃素などを指す。
【0012】芳香環に置換基を有していてもよいアラル
キルとして、ベンジル、p−メトキシベンジル、p−ニ
トロベンジルなどを挙げることができる。フェニルが置
換されていてもよいフェナシルとしてフェナシル、p−
ブロモフェナシル、p−ニトロフェナシルなどを挙げる
ことができる。
【0013】製薬上許容し得る塩としては、当業者既知
の方法で製造される有機または無機塩基の塩であって、
例えば、本発明化合物の許容し得る塩としては、リチウ
ム、ナトリウムもしくはカリウムなどのアルカリ金属;
カルシウムもしくはマグネシウムなどのアルカリ土類金
属;トリエチルアミン、2−アミノブタン、tert−
ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、n−ブチ
ルメチルアミン、n−ブチルジメチルアミン、トリ−n
−ブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、N−イソプ
ロピルシクロヘキシルアミン、フルフリルアミン、ベン
ジルアミン、メチルベンジルアミン、ジベンジルアミン
、N,N−ジメチルベンジルアミン、2−クロロベンジ
ルアミン、4−メトキシベンジルアミン、1−ナフチル
メチルアミン、ジフェニルベンジルアミン、トリフェニ
ルアミン、1−ナフチルアミン、1−アミノアントラセ
ン、2−アミノアントラセン、デヒドロアピエチルアミ
ン、N−メチルモルホリンもしくはピリジンなどの有機
塩基;または、リジン、アルギニンもしくはヒスチジン
などのアミノ酸;などとの塩を挙げることができ、とり
わけナトリウム、カルシウムまたはリジンなどとの塩が
好ましい。
【0014】本発明化合物は経口剤、注射剤、吸入剤や
坐剤などに製剤化し得る。経口投与による場合、本発明
目的化合物は、通常の製剤、例えば、錠剤、散剤、カプ
セル剤もしくは顆粒剤等の固形製剤あるいは水性もしく
は油性懸濁剤、シロップ剤またはエリキシル剤などの液
剤のいずれの剤型としても用いることができる。非経口
投与による場合、本発明目的化合物は、水性または油性
懸濁注射剤として用いることができる。その調製に際し
ては、慣用の賦形剤、結合財、滑沢剤、水性溶剤、油性
溶液剤、乳化剤、懸濁化剤等いずれも用いることができ
、また他の添加剤、例えば、保存剤、安定剤等を含むも
のであってもよい。本発明化合物の投与量は、目標とす
る治療効果、投与方法、年齢、体重などによってかわる
ので、一概には規定できないが、通常、成人1日投与量
は体重1kgあたり、経口的には、約0.01mg〜約
50mg、好ましくは約0.05〜約10mgを、また
非経口的には、約0.001〜約5mg、好ましくは約
0.005mg〜約1mgであり、これを1〜5回に分
割して投与すれば良い。以下に実施例および試験例を示
し、本発明を更に具体的に説明するが、これらによって
本発明が限定されるものではない。実施例および試験例
中の本発明化合物はすべて、式に示された絶対配位を有
する光学活性体である。これは、本発明化合物による薬
理効果を、より明確に証明する為に、特に光学活性体を
用いたのであり、その鏡像異性体を排除するものではな
い。
【実施例】本実施例で用いる主な略号は以下の意味を有
する。 THF・・・テトラヒドロフラン nBuli・・・n−ブチルリチウム TFA・・・トリフルオロ酢酸 EtOAc・・・酢酸エチル NaOMe・・・ナトリウムメチラートEt3N・・・
トリエチルアミン ClCOOEt・・・クロロぎ酸エチルNaN3・・・
ナトリウムアジド 9−BBN・・・9−ボラビシクロ[3.3.1]ノナ
ン CH2Cl2・・・塩化メチレン p−TsOH・・・p−トルエンスルホン酸DMF・・
・ジメチルホルムアミド nBu4NF・・・テトラn−ブチルアンモニウムフル
オライド
【0015】製造例1  中間体(6)[R5=テトラ
ヒドロピラニル;R6=フェニル]の製造
【化6】 1)(1)→(2) [R−(−)−ジフェニルメチルマンデレート28.4
7g(89.42mmol)の乾燥THF200ml溶
液に、−78℃下、窒素気流中にて1.6N−nBuL
i(55.9ml)を8分間で加え、さらに5分間撹拌
する。次いでシス−5−ノルボルネン−エンド−2,3
−ジカルボン酸無水物14.68g(89.42mmo
l)の乾燥THF80ml溶液を15分間で加える。同
温で1.5時間撹拌後、反応液を水、2N−HClおよ
び酢酸エチルの混合物に注ぎ、分液する。溶媒部を飽和
NaClで洗浄し、MgSO4で乾燥した後、減圧濃縮
して油状残渣を得る。上記で得た残渣をCH2Cl2(
60ml)、アニソール(18ml)、TFA(50m
l)の混合物に溶解させ、氷冷下で1時間撹拌する。反
応液を減圧濃縮後、トルエンを加えて再度減圧濃縮する
。残渣にEtOAcを加えて5%−NaHCO3にて抽
出する。水部をEtOAc存在下、2N−HClにて酸
性にする。溶媒部を飽和NaClで洗浄し、MgSO4
で乾燥した後、減圧濃縮する。酢酸エチルより再結晶し
てmp169〜171℃の二酸体(化合物2)13.3
7gを得る。収率47%。
【0016】2)(2)→(3) 二酸体15gの乾燥THF(100ml)中溶液にMe
OH(50ml)、2N−NaOMe(71ml)を加
え2時間加熱還流する。反応液を水、酢酸エチル、およ
び2N−HClに加えて分液する。溶媒部を飽和NaC
lで洗浄し、MgSO4で乾燥した後、減圧濃縮する。 残渣をCH2Cl2に溶解させ、2N−HCl(2ml
)を含む水100mlで3回洗浄する。さらに飽和Na
Clで洗浄し、MgSO4で乾燥した後、減圧濃縮する
。SiO2カラムクロマトグラフィーを行い、トルエン
−EtOAc(2:1)にて溶出する部分を集め、n−
ヘキサンより再結晶するとmp72〜73℃のハーフエ
ステル(化合物3)7.96gを得る。93.2%。
【0017】 3)(3)→(4)[R7=ベンジルオキシカルボニル
] ハーフエステル7.7g(42.73mmol)のアセ
トン120ml溶液に、窒素気流中、氷冷下にEt3N
(7.74ml)(1.3×42.73mmol)、次
いでClCOOEt(4.08ml)(42.73mm
ol)を加え、同温30分間撹拌する。次いでNaN3
(8.33g)(3×42.73mmol)のH2O(
46ml)溶液を加え、さらに1時間撹拌する。反応液
を水、酢酸エチル、2N−HCl中にあけ分液する。溶
媒部を5%−NaHCO3で洗浄し、MgSO4で乾燥
した後、減圧濃縮すると油状の酸アジドを得る。
【0018】上記酸アジドの乾燥ベンゼン90ml溶液
を80℃にて1時間加熱する。窒素の発生が終了した後
、ベンジルアルコール8.7ml(2×42.73mm
ol)、Et3N(7.7ml)(1.3×42.73
mmol)を加え同温で1時間加熱する。反応液を2N
−HCl、5%NaHCO3、水で洗浄した後MgSO
4で乾燥し、減圧濃縮する。SiO2カラムクロマトグ
ラフィーを行い、トルエン−酢酸エチル(10:1)に
て溶出する部分を集めn−ヘキサンより再結晶するとm
p81〜82℃の目的物(化合物4)9gを得る。収率
70.7%。
【0019】 4)(4)→(5)[(5):R6=フェニル]原料8
.0g(26.54mmol)のアニソール25ml、
TFA100ml溶液を45℃にて6時間加熱する。減
圧濃縮後、残渣をn−ヘキサンでリンスする。残渣のC
H2Cl2(50ml)溶液に、Et3N(14.8m
l)(4×26.54mmol)、ベンゼンスルホニル
クロリド4ml(1.2×26.54mmol)を氷冷
下に加え、同温30分間撹拌する。反応液を2N−HC
l、5%−NaHCO3、水洗浄後MgSO4乾燥、減
圧濃縮する。SiO2カラムクロマトグラフィーを行い
、nヘキサン−EtOAc(2:1)にて溶出する部分
を集めCH2Cl2/n−ヘキサンより再結晶するとm
p128〜129℃の目的物(化合物5)6.75gを
得る。収率82.7%。
【0020】5)(5)→(6)[(6):R5=テト
ラヒドロピラニル;R6=フェニル] LiAlH4(3.88g)(4.8×21.29mm
ol)のエーテル120ml懸濁液中に窒素気流中、氷
冷下、エステル(5)6.54g(21.29mmol
)の乾燥THF30mlおよび乾燥エーテル90ml中
溶液を40分間で加える。さらに30分間撹拌後EtO
Ac、2N−HClを加えてLiAlH4を分解させる
。酢酸エチル抽出後5%NaHCO3、次いで、水で洗
浄し、MgSO4で乾燥した後、減圧濃縮する。SiO
2カラムクロマトグラフィーを行い、n−ヘキサン−E
tOAc(1:1)にて溶出する部分を集め、アルコー
ル5.0gを得る。収率84%。
【0021】このアルコール5.0gのCH2Cl2(
50ml)溶液に、氷冷下ジヒドロピラン3.3ml、
p−TsOH・H2O(100mg)を加える。室温1
時間20分後5%−NaHCO3、水洗浄、MgSO4
乾燥、減圧濃縮する。SiO2カラムクロマトグラフィ
ーを行い、n−ヘキサン−EtOAc(4:1)にて溶
出する部分を集めて目的物(化合物6)5.7gを得る
。収率88%。
【0022】製造例2  中間体7または8の製造
【化
7】 1)(6)→(7)[R5=テトラヒドロピラニル;R
6=フェニル] オレフィン化合物(6)4.6g(12.7mmole
)のTHF23ml溶液に0.5N−9BBN(THF
中)50.6ml(25.3mmole)を加え室温8
0分間撹拌する。次いで氷冷下に6N−NaOH  6
.3ml(38mmole)、30%H2O25ml(
44.3mmole)を加え、60℃で1時間加熱する
。反応液を水にあけEtOAc抽出する。溶媒部を2N
  HCl、5%NaHCO3、水で洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧濃縮するとガム状残渣4.83
gを得た。HPLC(ヌクレオシル100、nヘキサン
−THF=4:1、7ml/分、225nm)で5−O
H/6−OH=82:18であった。SiO2カラムク
ロマトグラフィーを行い、n−ヘキサン−EtOAc(
2:1)〜EtOAcにて溶出する部分を集める。CH
2Cl2−エーテルより再結晶するとmp155〜16
0℃の第一晶3.0gを得る。さらに母液よりmp15
5〜160℃の第二晶0.39gを得る(化合物7)。 収率70.2%。 NMRδppm(CDCl3);1.17〜1.90(
m,11H),1.94〜2.10(m,1H),2.
35〜2.49(m,1H),2.83〜3.19(m
,2H),3.29〜3.62(m,2.5H),3.
79〜3.95(m,0.5H),4.27〜4.48
(m,2H),4.83〜4.92(m,0.5H),
5.37〜5.46(m,0.5H),7.47〜7.
67(m,3H),7.85〜7.97(m,2H)
【0023】2)(6)→(8)[R5=テトラヒドロ
ピラニル;R6=フェニル] オレフィン化合物(6)3.75g(10.3mmol
e)のCH2Cl2(80ml)溶液に、80%m−ク
ロロ過安息香酸3.33g(15.5mmole)を撹
拌、氷冷下に加える。室温で2.5時間撹拌後、氷冷し
て析出する結晶をろ去する。溶媒部を希ハイポ液で洗浄
する。次いで5%−NaHCO3、水で洗浄後、硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、減圧濃縮する。SiO2カラ
ムクロマトグラフィーを行い、n−ヘキサン−EtOA
c(1:1)にて溶出する部分を集めるとエポキシド(
化合物9)3.55gを得る。収率86%。
【0024】次いで、エポキシド(9)3.5g(9.
2mmole)のエーテル20ml溶液を、LiAlH
4  1.4g(36.8mmole)のエーテル40
ml、THF20ml懸濁液中に撹拌下に加える。室温
0.5時間後、氷冷下にEtOAc、2N−HCl、水
でLiAlH4を分解させる。EtOAc抽出後、溶媒
部を5%−NaHCO3、水で洗浄後、MgSO4で乾
燥し、減圧濃縮する。SiO2カラムクロマトグラフィ
ーを行い、n−ヘキサン−EtOAc(1:1)〜Et
OAcにて溶出する部分を集めると目的物(化合物8)
3.0gを得る。85.5%HPLC(ヌクレオシル1
00、n−ヘキサン−THF4:1、5ml/分、22
5nm)で6−OH/5−OH=98/2であった。 NMRδppm(CDCl3);1.02〜2.46(
m,14H),2.82〜2.95(m,0.5H),
3.00〜3.20(m,1.5H),3.34〜3.
69(m,2.5H),3.75〜3.93(m,1.
5H),4.33〜4.46(m,1H),4.83(
d,J=5.0Hz,0.5H),5.25(d,J=
4.8Hz,0.5H),7.25〜7.66(m,3
H),7.84〜7.95(m,2H)
【0025】製
造例3  中間体13の製造
【化8】 1)(7)→(10a)[R1’=OSiPh2Bu−
t;R2’=H;R6=フェニル] 原料化合物(7)1.35g(3.54mmol)のD
MF17ml溶液にジメチルアミノピリジン865mg
(2×3.54mmol)、t−ブチルクロロジフェニ
ルシラン1.4ml(1.5×3.54mmol)を加
え、50℃で一夜加熱撹拌する。反応液を水にあけEt
OAc抽出後、溶媒部を5%−NaHCO3、水洗浄後
MgSO4乾燥、減圧濃縮する。 SiO2カラムクロマトグラフィーを行い、n−ヘキサ
ン−EtOAc(9:1〜8:2)にて溶出する部分を
集めると6−OHが保護された化合物2.15gを得る
。収率98%。
【0026】得られた化合物(2.1g)をTHF5m
l、AcOH15ml、H2O5ml混合液と共に50
℃で一夜加熱する。反応液を水にあけCH2Cl2抽出
後、溶媒部を5%−NaHCO3、水洗浄後MgSO4
乾燥、減圧濃縮する。SiO2カラムクロマトグラフィ
ーを行い、n−ヘキサン−EtOAc(2:1)にて溶
出する部分を集めると目的化合物10a 1.18gを
得る。収率65%。 エーテル−石油エーテル再結晶するとmp.131〜1
33℃のプリズム晶になる。     [α]D:−6.9±0.5(24℃,c=1
.011,CHCl3)  元素分析    計算値(
%);C:67.25,H:6.96,N:2.61 
             実測値(%);C:67.
22,H:6.98,N:2.75
【0027】2)(
8)→(10b)[R1’=H;R2’=OSiPh2
Bu−t;R6=フェニル]原料(化合物8)3.5g
(9.2mmol)のDMF35ml溶液にジメチルア
ミノピリジン2.25g(2×9.2mmol)、t−
ブチルクロロジフェニルシラン3.6ml(1.5×9
.2mmol)を加え、50℃で一夜加熱撹拌する。 反応液を水にあけEtOAc抽出後、溶媒部を5%−N
aHCO3、水洗浄後MgSO4乾燥、減圧濃縮する。 SiO2カラムクロマトグラフィーを行い、n−ヘキサ
ン−EtOAc(4:1)にて溶出する部分を集めると
5−OHが保護された化合物5.29gを得る。収率9
3%。
【0028】このTHP−エーテル5.29gをTHF
10ml、AcOH30ml、H2O10ml混合液と
共に50℃で一夜加熱する。反応液を水にあけCH2C
l2抽出後、溶媒部を5%−NaHCO3、水洗浄後M
gSO4乾燥、減圧濃縮する。SiO2カラムクロマト
グラフィーを行い、n−ヘキサン−EtOAc(2:1
)にて溶出する部分を集めると目的物(10b)3.8
5gを得る。収率84.2%。
【0029】3)(10a→11a)[R1’=OSi
Ph2Bu−t;R2’=H;R6=フェニル]アルコ
ール(化合物10a)600mg(1.12mmole
)のCH2Cl2(45ml)溶液にクロロクロムピリ
ジン724mg(3×1.12mmol)、モレキュラ
ー・シーブズ4A(粉末)1gを加え、室温で1時間撹
拌する。反応液をSiO2カラムクロマトグラフィーを
行い目的物(化合物11a)564mgを得る。収率9
4%。
【0030】4)(10b→11b)[R1’=H;R
2’=OSiPh2Bu−t;R6=フェニル]原料4
.97g(9.27mmole)のCH2Cl2(36
0ml)溶液にクロロクロムピリジン6g(3×9.2
7mmol)、モレキュラー・シーブズ4A(粉末)1
3gを加え、室温で1時間撹拌する。反応液をSiO2
カラムクロマトグラフィーを行い目的物(化合物11b
)4.9gを得る。収率99%。
【0031】5)(11a→12a)[R1’=OSi
Ph2Bu−t;R2’=H;R6=フェニル]メトキ
シメチルトリフェニルホスホニルクロリド19.27g
(3×18.74mmol)の乾燥THF190ml懸
濁液中に、氷冷下、t−BuOK(6g)(2.9×1
8.74mmol)を加える。同温で1時間撹拌後、−
20℃にて原料アルデヒド10g(18.74mmol
)の乾燥THF60ml溶液を加える。氷冷下で20分
間撹拌後、水、トルエン中にあける。溶媒部を水で洗浄
後、MgSO4で乾燥し、減圧濃縮すると粗目的物が得
られる。
【0032】上記化合物を90%HCOOH(20ml
)、THF2mlと共に室温で1.5時間撹拌する。反
応液を5%−NaHCO3、CH2Cl2中にあける。 溶媒部を水で洗浄後、MgSO4乾燥、減圧濃縮する。 残渣をSiO2カラムクロマトグラフィーを行い、n−
ヘキサン−EtOAc(2:1)より溶出する部分を集
める。エーテル−n−ヘキサンより再結晶するとmp1
37〜139℃の目的物8.43gを得る。化合物(1
1a)からの収率82%。
【0033】6)(11b)→(12b)[R1’=H
;R2’=OSiPh2Bu−t;R6=フェニル]メ
トキシメチルトリフェニルホスホニルクロリド9.53
g(3×9.27mmol)の乾燥THF90ml懸濁
液中に、氷冷下、t−BuOK  3g(2.9×9.
27mmol)を加える。同温で1時間撹拌後、−20
℃にて原料アルデヒド4.9g(9.27mmol)の
撹拌後THF30ml溶液を加える。氷冷下で20分間
撹拌後、水、トルエン中にあける。溶媒部を水で洗浄後
MgSO4乾燥、減圧濃縮すると粗目的物4.7gが得
られる。収率83%。
【0034】上記化合物を90%HCOOH(10ml
)、THF4mlと共に室温で1.5時間撹拌する。反
応液を5%−NaHCO3、CH2Cl2中にあける。 溶媒部を水で洗浄後、MgSO4乾燥、減圧濃縮する。 残渣をSiO2カラムクロマトグラフィーを行い、n−
ヘキサン−EtOAc(4:1)より溶出する部分を集
めると目的物4.22gを得る。収率83%。
【0035】7)(12a)→(13a)[R1’=O
SiPh2Bu−t;R2’=H;R3=メチル;R6
=フェニル] 4−カルボキシブチル−トリフェニルホスホニウムブロ
ミド1.43g(3×1.08mmol)の乾燥THF
60ml懸濁液中に、氷冷下、窒素気流中、撹拌下にt
−BuOK(654mg)(5.4×1.08mmol
)を加える。室温で1時間撹拌後、−15℃に冷却する
。原料590mg(1.08mmol)の乾燥THF5
ml溶液を加える。30分間で0℃まで冷却した後、水
、2N−HCl、EtOAc中にあける。溶媒部を水で
洗浄後、MgSO4で乾燥し、減圧濃縮する。残渣をS
iO2カラムクロマトグラフィーに付しn−ヘキサン−
EtOAc(1:1)〜EtOAcで溶出する部分を集
め、CH2N2でメチル化する。再度SiO2カラムク
ロマトグラフィーに付しn−ヘキサン−EtOAc(9
:1〜2:1)で溶出する部分を集めるとガム状の目的
物(13a)647mgを得る。収率93%。
【0036】IRνmax cm−1(film);3
275,1725,1740 NMRδppm(CDCl3);0.74〜0.88(
m,1H),1.04(s,9H),1.22〜1.3
7(m,1H),1.48〜1.98(m,10H),
2.19〜2.32(m,1H),2.25(t,J=
6Hz,2H),2.75(q,J=4Hz,1H),
3.66(s,3H),4.10(d,J=5Hz,1
H),4.15〜4.25(m,1H),4.97〜5
.28(m,2H),7.33〜7.80(m,15H
【0037】8)(12b→13b)[R1’=H;R
2’=OSiPh2Bu−t;R3=メチル;R6=フ
ェニル]4−カルボキシブチル−トリフェニルホスホニ
ウムブロミド2.11g(3×1.59mmol)の乾
燥THF80ml懸濁液に、氷冷下、窒素気流中、撹拌
下にt−BuOK960mg(5.4×1.59mmo
l)を加える。室温で1時間撹拌後、−15℃に冷却す
る。原料590mg(1.08mmol)の乾燥THF
5ml溶液を加える。30分間で0℃まで冷却した後、
水、2N−HCl、EtOAc中にあける。溶媒部を水
で洗浄後、MgSO4で乾燥し、減圧濃縮する。残渣を
SiO2カラムクロマトグラフィーに付しn−ヘキサン
−EtOAc(1:1)〜EtOAcで溶出する部分を
集めて、CH2N2でメチル化する。再度SiO2カラ
ムクロマトグラフィーに付しn−ヘキサン−EtOAc
(9:1〜2:1)で溶出する部分を集めるとガム状の
目的物876mgを得る。収率85%。
【0038】IRνmax cm−1(CHCl3):
3390,1727,1160,1110,1070N
MRδppm(CDCl3):0.39〜0.54(m
,1H),1.02(s,9H),1.20〜2.37
(m,14H),2.28〜2.38(m,1H),3
.55〜3.64(m,1H),3.67(s,3H)
,4.63(d,J=6Hz,1H),4.81〜5.
41(m,2H),7.28〜7.68(m,13H)
,7.75〜7.88(m,2H)
【0039】実施例1  (13a→14a)[R1=
OH;R2=H;R6=フェニル] 上記残渣をTHF5ml、THF3ml中1M  nB
u4NF(3eq)と共に、60℃にて1夜加熱撹拌す
る。反応液に飽和NH4Clを加えてEtOAc抽出を
行う。溶媒部を水で洗浄後、MgSO4乾燥、減圧濃縮
する。残渣をSiO2カラムクロマトグラフィーに付し
n−ヘキサン−EtOAc(9:1〜1:1)で溶出す
る部分を集めるとガム状の化合物(14a)のメチルエ
ステル360mgを得る。収率88%。
【0040】IRνmax  cm−1(film);
3500,3272,1733,1443,1320,
1160,NMRδppm(CDCl3);0.84〜
0.99(m,1H),1.24〜1.48(m,2H
),1.50〜2.00(m,10H),2.27(t
,J=7.2Hz,2H),2.30(brs,1H)
,2.88(q,J=4Hz,1H),3.70(s,
3H),4.25(d.d.,J=7.0,2.0Hz
,1H),4.96(d,J=4Hz,1H),5.0
3〜5.30(m,2H),7.48〜7.68(m,
3H),7.85〜7.98(m,2H)
【0041】
このメチルエステル350mgのMeOH(3ml)溶
液に1N−KOH(2.6ml)を加え、40℃にて1
時間20分撹拌する。反応液を水にあけエチルエーテル
で洗浄する。水層をEtOAc存在下に、2N−HCl
で酸性にする。溶媒部を水洗浄後、MgSO4乾燥、減
圧濃縮すると281mgの遊離カルボン酸(14a)を
得る。収率83%。
【0042】実施例2  化合物(14a)のナトリウ
ム塩 カルボン酸281mgのMeOH(4ml)溶液に、0
.177N−NaOMe(3.63ml)(0.9eq
)を加える。5分後減圧濃縮し、残渣を水5mlで凍結
乾燥すると無色粉末281mgを得る。収率95%。
【0043】EA;C20H26NO5SNa:1.7
H2O      計算値;C:53.84,H:6.
64,N:3.14,S:7.19      実測値
;C:53.58,H:6.51,N:3.22,S:
7.72IRνmax cm−1(KBr);3400
br,1620br,1555 NMRδppm(CD3OD);0.88〜1.05(
m,1H),1.25〜1.96(m,11H),2.
09(t,J=7.8Hz,2H),2.26(brs
,1H),2.83(t,J=4Hz,1H),4.1
8〜4.28(m,1H),4.94〜5.25(m,
2H),7.49〜7.70(m,3H),7.83〜
7.94(m,2H)
【0044】実施例3  (13
b)→(14b)[R1=H;R2=OH;R6=フェ
ニル] 上記残渣をTHF5ml、THF4ml中1M−nBu
4NF(3eq)と共に、60℃にて1夜加熱撹拌する
。反応液に飽和NH4Clを加えてEtOAc抽出を行
う。溶媒部を水で洗浄後、MgSO4で乾燥し、減圧濃
縮する。残渣をSiO2カラムクロマトグラフィーに付
しn−ヘキサン−EtOAc(9:1〜1:1)で溶出
する部分を集めるとガム状の化合物(14b)のメチル
エステル455mgを得る。収率82%。
【0045】   EA:計算値;C:61.89,H:7.17,N
:3.44,S:7.87        実測値;C
:61.45,H:7.15,N:3.56,S:7.
66IRνmax cm−1(CHCl3);3605
,3385,3280,1729,1601,1448
,1438,1159,1094,1062 NMRδppm(CDCl3);0.74〜0.84(
m,1H),1.08〜2.13(m,12H),2.
20〜2.34(m,1H),2.28(t,J=7.
2Hz,2H),2.85〜2.95(m,1H),3
.70(s,3H),3.65〜3.75(m,1H)
,5.02(d,J=5Hz,1H),5.10〜5.
36(m,2H),7.42〜7.66(m,3H),
7.80〜7.93(m,2H)
【0046】このメチルエステル350mgのMeOH
(3ml)溶液に1N−KOH(1.7ml)(2eq
)を加え、室温で4時間撹拌する。反応液を水にあけエ
チルエーテルで洗浄する。水層をEtOAc存在下に、
2N−HClで酸性にする。溶媒部を水で洗浄後、Mg
SO4で乾燥し、減圧濃縮して323mgの遊離カルボ
ン酸(14b)を得る。このものはHPLCにて精製(
Develosil  ODS−15/30、アセトニ
トリル−メタノール−水=200−200−450、8
0ml/分、225nm)し、メタノール−エーテルよ
り再結晶するとmp.127〜128℃の結晶となる。 )
【0047】   EA:計算値;C:61.02,H:6.92,N
:3.56,S:8.15        実測値;C
:60.92,H:6.97,N:3.42,S:7.
88  IRνmax cm−1(CHCl3);36
05,3385,3265,1709,1602,14
48,1322,1157,1092,1062
【0048】実施例4  化合物(14b)のナトリウ
ム塩 カルボン酸268mgのMeOH5ml溶液に、0.1
N−NaOH(6.13ml)(0.9eq)を加える
。5分後、減圧濃縮し、残渣を水5mlの存在下で凍結
乾燥すると無色粉末243mgを得る。収率86%。
【0049】EA;C20H26NO5SNa:0.7
H2O        計算値;C:56.11,H:
6.45,N:3.27,S:7.49       
         Na:5.37        実
測値;C:56.29,H:6.44,N:3.56,
S:7.43                Na:
5.31IRνmax cm−1(KBr);3400
br,1645,1560,1447,1405,11
57,NMRδppm(CD3OD);0.80〜0.
96(m,1H),1.00〜1.15(m,1H),
1.24〜1.38(m,1H),1.45〜2.20
(m,12H),2.80〜2.90(m,1H),3
.63(d,J=6Hz,1H),5.02〜5.32
(m,2H),7.45〜7.68(m,3H),7.
77〜7.92(m,2H)
【0050】
【発明の効果】本発明化合物は、トロンボキサンA2レ
セプターに対する強力なアンタゴニストとして作用し、
トロンボキサンA2に関連、または起因する血小板凝集
または欠陥収縮などを著しく阻害する。従って、本発明
化合物は有用な抗血栓剤・抗血管収縮剤になり得る化合
物である。その代表的な化合物について、インビトロで
の血小板凝集抑制作用を下記の試験例に記載の方法で検
討した。
【0051】試験例1   アンタゴニスト活性(ラット血小板凝集抑制作用)
[試験材料および試験方法]雄性ラット(JCL−SD
系、7週令)の腹部動脈よりACD(85mMクエン酸
ナトリウム、70mMクエン酸、110mMグルコース
)1.5mlおよびプロスタグランジンE1(20μg
)の入ったプラスチック製注射器を用いて血液10ml
を採取した。血液は、プラスチック製試験管に入れ軽く
転倒混和した後、160g、10分間遠心分離し、上清
の多血小板血漿[PRP(platelet rich
 plasma)]を採取した。得られたPRPにアピ
ラーゼ(25μg/ml)を加えた後、40%ウシ血清
アルブミン上に重層し、1200×gで25分間遠心分
離した。血小板ペレットを少量の緩衝液(137mM 
NaCl、2.7mM KCl、1.0mM MgCl
2、3.8mM NaH2PO4、3.8mM Hep
es、5.6mM グルコース、0.035%ウシ血清
アルブミン、pH7.35)に浮遊させ、セファロース
2B(Sepharose 2B)のカラム(10ml
)に重層し、緩衝液にて溶出し、洗浄血小板を得た。
【0052】血小板凝集反応は、アグリゴメーター(N
KK HEMA TRANCER 1 MODEL P
AT−6A・6M、二光バイオサイエンス)を用いて測
定した。すなわち、血小板数が、5×108/μlにな
るように調整した洗浄血小板245μlを測定用キュベ
ットに入れて、凝集計にセットし、37℃で撹拌(10
0rpm)、0.1M CaCl2(3.8μl)を加
え、1分後に試験化合物液(ジメチルスルホキシド溶液
)0.5μlを加え、2分後に凝集惹起物質としてコラ
ーゲン[Collagen reagent Horm
R、ホルモン−ケミエ、ミュンヘン(HORMAN−C
HEMIE Munchen GMBH)]を1μl(
終濃度4μg/ml)加えて凝集により生じた透光度の
変化を経時的に記録した。
【0053】50%血小板凝集阻害濃度は、凝集率より
算出する。(血小板の凝集率は、洗浄血小板および緩衝
液の透光度をそれぞれ0%および100%とし、凝集惹
起物質添加3分後の透光度として測定した。)
【005
4】試験結果を表1に示す。
【表1】 1)ナトリウム塩として、試験化合物を用いた。対照化
合物は式:
【化9】 で示される。上記の試験結果は、本発明化合物に血小板
凝集抑制作用を有することを示すものである。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  式I: 【化1】 (式中、R1、R2は水素またはヒドロキシ(ただし、
    少なくとも一方はヒドロキシである);R3は水素また
    はエステル残基;R4は水素、低級アルキルまたはハロ
    ゲンを示す)で表される化合物またはその製薬上許容さ
    れる塩。
  2. 【請求項2】  exo−OH体である請求項1記載の
    化合物。
  3. 【請求項3】  (+)−体である請求項1記載の化合
    物。
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