JPH04253987A - 燐含有アクリル系化合物及びその製造方法 - Google Patents

燐含有アクリル系化合物及びその製造方法

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JPH04253987A
JPH04253987A JP14338891A JP14338891A JPH04253987A JP H04253987 A JPH04253987 A JP H04253987A JP 14338891 A JP14338891 A JP 14338891A JP 14338891 A JP14338891 A JP 14338891A JP H04253987 A JPH04253987 A JP H04253987A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、少くとも1個の燐原子及び少く
とも1個の他のヘテロ原子を含む新規なアクリラート及
びメタクリラート、それらの製造方法、前記アクリラー
ト及びメタクリラートからの新規なポリマー及びコポリ
マーの製造、並びに少くとも1個の燐原子及び少くとも
1個の硫黄原子を含み、前記アクリラート及びメタクリ
ラートの合成の有用な中間体である有機化合物にも関す
る。
【0002】学術文献及び技術文献には、ハロゲン、ヒ
ドロキシル、チオール、エポキシド等のような官能基を
有するアクリル系及びメタクリル系の化合物が多数既に
開示されている。これらのグループの化合物はそれぞれ
、アクリル系二重結合の重合のし易さのために、種々の
業界で各種の用途を既に見出している。しかしながら、
従来学術及び技術文献では、少くとも1個の燐原子と少
くとも1個の硫黄原子を同時に有しているアクリル系及
びメタクリル系の化合物の例は僅かしか提供されていな
い。そこで、アクリル系又はメタクリル系の化合物中に
この種の原子が存在することにより期待できる化学的挙
動における特徴に基き、本発明の対象とする目的は、こ
の化学の新分野を開拓すること及びこのような化合物の
合成条件を確定することである。
【0003】従って、本発明はまず、式:
【0004】
【化8】
【0005】[式中、R1 は水素原子及びメチル基か
ら選択され、Aは(CH2 )n 基(式中、nは2〜
12の整数)及び−(CH2 CH2 O)d −CH
2 −CH2 −基(式中、dは1〜20の整数)から
選択され、Xは硫黄原子及び酸素原子から選択され、Y
は硫黄原子及び酸素原子から選択されるが、Aが−(C
H2 CH2 O)d −CH2 −CH2 −基(式
中、dは1〜20の整数)である場合、Xは硫黄原子で
ありYは酸素原子であることを条件とし、Rは1〜20
個の炭素原子を有するアルキル基及び−(CH2 )p
 SR3 基(式中、pは3〜12の整数であって、R
3 は1〜20個の炭素原子を有するアルキル基である
)から選択される]の化合物、式:
【0006】
【化9】
【0007】[式中、R1 は水素原子及びメチル基か
ら選択され、Aは(CH2 )n 基(式中、nは2〜
12の整数)及び−(CH2 CH2 O)d −CH
2 −CH2 −基(式中、dは1〜20の整数)から
選択され、Xは硫黄原子及び酸素原子から選択される]
の化合物、及び式:
【0008】
【化10】
【0009】[式中、R1 は水素原子及びメチル基か
ら選択され、Aは(CH2 )n 基(式中、nは2〜
12の整数)から選択され、mは1〜3の整数であり、
Zは水素原子、R2 QH基(式中、R2 は2〜12
個の炭素原子を有するアルキル基でありQは酸素原子及
び硫黄原子から選択される)、並びに周期表のIA、I
IA、 IIIA、IB、IIB、VIB、 VIIB
及びVIII族の金属原子から選択されるが、mが1で
ある場合、Zは水素原子及びR2 OH基から選択され
、Zが金属である場合mはZの原子価であることを条件
とする]の化合物から選択される、アクリル系及びメタ
クリル系の化合物に関する。
【0010】本発明は、式(I)〜(III )のアク
リル系及びメタクリル系の化合物の製造方法にも関する
。これらの化合物全部について、その製造には5価の燐
の化合物と式:
【0011】
【化11】
【0012】(式中、R1 、A及びYは式(I)中と
同じ意味を有する)のアクリル系又はメタクリル系の化
合物との反応が共通であるけれども、それらの合成は、
式(I)、式(II)又は式(III )のいずれの化
合物を製造するかに応じて、また後者の(III )に
ついてはZの種類に応じて特徴を有する。そこで、本発
明の化合物のグループのそれぞれについて、本発明の製
造方法を以下説明する。
【0013】式(I)のアクリル系及びメタクリル系の
化合物は、前記定義の式(IV)のアクリル系又はメタ
クリル系の化合物を、式:
【0014】
【化12】
【0015】(式中、R及びXは式(I)中と同じ意味
を有し、Tはハロゲン原子を表わす)の燐含有化合物と
反応させることにより製造される。反応は、生じるハロ
ゲン化水素HTと結合可能な塩基性溶媒の存在下に行う
のが好ましい。このような溶媒の例として挙げ得るのは
、特にトリエチルアミン、ピリジン及びジメチルアニリ
ンを含む第3級アミンである。反応は好ましくは約0℃
〜80℃の温度で行い、溶媒が存在する場合、この温度
は前記溶媒の還流温度を越えてはならない。反応時間は
当然のことながら式(IV)及び(V)の化合物の種類
並びに選択される反応温度に応じて変るが、通常約1〜
20時間の間である。このようにして本発明の方法を行
う場合、式(IV)のアクリル系又はメタクリル系の化
合物1mol に対して、燐含有化合物を約0.7〜1
.3mol の割合で使用するのが一般的である。
【0016】大気圧が一般には充分であるけれども、本
発明の方法を減圧下、たとえば約0.05〜1 bar
の範囲で同様に行うことができる。
【0017】最後に、本発明の反応は、少くとも1つの
重合防止剤を有効量存在させて行うことができる。適当
な重合防止剤の例として挙げ得るものは、特にフェノチ
アジン、ヒドロキノンメチルエーテル、N,N−ジエチ
ルヒドロキシルアミン、ニトロベンゼン、ジ−tert
−ブチルカテコール、ヒドロキノン、p−アニリノフェ
ノール、亜燐酸ジ(2−エチルヘキシル)オクチルフェ
ニル、2,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
トルエン、メチレンブルー及びそれらの任意の割合の混
合物である。一般に、重合防止剤の有効量とはアクリル
系又はメタクリル系の化合物の0.05重量%〜0.5
重量%を含むことである。
【0018】反応の終りに、ハロゲン化水素と塩基性溶
媒の間に生じた塩を、必要な場合には、たとえば濾過に
より除去することが可能である。式(I)のアクリル系
又はメタクリル系の化合物の単離と精製は、有機合成の
よく知られた手法、特に過剰の式(IV)のヒドロキシ
ル化された(メタ)アクリラートを除くための水洗、少
量の生成物に対してはシリカゲル上のカラムクロマトグ
ラフィー又は大量の場合には蒸留により行うことができ
る。
【0019】式(V)の燐含有化合物の中には既に当業
者によく知られている物もある。それらは特にRがアル
キル基、たとえばエチル基又はイソプロピル基の化合物
である。このことはRが−(CH2 )p SR3 基
(式中、p及びR3 は式(I)中と同じ意味を有する
)を有する化合物についてはあてはまらない。後者の化
合物は、式(I)のアクリル系及びメタクリル系の化合
物の合成用中間体として特に用いるために本発明で初め
て製造された。
【0020】式:
【0021】
【化13】
【0022】(式中、T及びXは式(IV)中と同じ意
味を有する)の燐含有化合物は、式R3 S(CH2 
)p OHのアルコールと式PT3 Xのオキシハロゲ
ン化燐又は硫ハロゲン化燐との反応により製造される。 反応は、1つの溶媒又は少くともその1つが好ましくは
生じるハロゲン化水素と結合可能な塩基性溶媒である溶
媒混合物の存在下に行うのが好ましい。塩基性溶媒の例
は前記したとおりである。それらと混和し得る溶媒の例
として挙げることができるのは、ベンゼン、トルエン、
キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、ジエチルエ
ーテル等である。反応温度は、一般に約10℃と還流温
度の間であるが、Xが硫黄原子である場合は約50℃を
越えない温度で行うことが好ましい。反応時間は、アル
コール及びオキシハロゲン化燐又は硫ハロゲン化燐の種
類に応じて変化し得るが、一般に約30分〜4時間の間
である。概して、アルコールの量は燐含有化合物1mo
l に対し約2molである。反応の終りに、ハロゲン
化水素と塩基性溶媒の間に生じた塩を、必要な場合には
、たとえば濾過により除去することが可能である。反応
により一般には有機相中で、式:
【0023】
【化14】
【0024】(式中、T、X、p及びR3 は式(I)
及び(V)中と同じ意味を有し、qは0〜2の整数であ
る)の化合物の混合物を生じ、その混合物中、主生成物
はq=1のものである。これらの化合物をカラムクロマ
トグラフィーにより分離することができる。必要な場合
には、式(I)のアクリル系及びメタクリル系の化合物
の製造に、この混合物を直接使用することができる。
【0025】式(II)のアクリル系及びメタクリル系
の化合物は、Yが酸素である式(IV)のアクリル系及
びメタクリル系の化合物を、式PXT3 (式中、Xは
式(II)中と同じ意味を有し、Tはハロゲン原子を表
わす)の化合物と反応させて製造する。このような化合
物の例として、オキシ塩化燐POCl3 と硫塩化燐P
SCl3 を挙げることができる。反応は、1つの溶媒
、又は少くともその1つが好ましくは生じるハロゲン化
水素HTと結合可能な塩基性溶媒である溶媒混合物の存
在下に行うのが好ましい。塩基性溶媒の例は前記のとお
りである。 それらと混和し得る溶媒の例として挙げ得るのは、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホ
ルム及びジエチルエーテルである。反応は約50℃と溶
媒の還流温度の間の温度で行うのが好ましい。反応時間
は、式(IV)の化合物の種類に応じて変化し得るが、
一般に約1〜4時間である。反応を行うために、式(I
V)の化合物1mol に対し、約0.25〜1.35
mol の量の化合物PXT3 を一般に使用する。
【0026】最後に、本発明の反応は、少くとも1つの
重合防止剤の有効量の存在下に行うことができる。適当
な重合防止剤の例として挙げ得るものは、特にフェノチ
アジン、ヒドロキノンメチルエーテル、N,N−ジエチ
ルヒドロキシルアミン、ニトロベンゼン、ジ−tert
−ブチルカテコール、ヒドロキノン、p−アニリノフェ
ノール、亜燐酸ジ(2−エチルヘキシル)オクチルフェ
ニル、2,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
トルエン、メチレンブルー及びそれらの任意割合の混合
物である。一般に、重合防止剤の有効量とは、アクリル
系又はメタクリル系の化合物の0.05重量%〜0.5
重量%を含むことである。
【0027】反応終了時に、式(II)のアクリル系又
はメタクリル系の化合物を単離し、さらにシリカゲル上
での濾過あるいはカラムクロマトグラフィーにより生成
する。
【0028】mが1でZが水素原子である式(III 
)のアクリル系及びメタクリル系の化合物は、式(IV
)のアクリル系又はメタクリル系の化合物を五硫化燐P
2 S5 と反応させて製造する。反応は、ベンゼン、
トルエン、キシレン、クロロホルムのような溶媒の存在
下に行うのが好ましい。反応は、約40℃と溶媒の還流
温度の間の温度で行うのが好ましい。反応時間は、式(
IV)の化合物の種類に応じて変化し得るが、一般に約
15分〜5時間の間である。反応を行うために、式(I
V)の化合物1mol に対し約0.2〜0.3mol
 の量の五硫化燐を一般に使用する。反応の終りに、式
(III )のアクリル系又はメタクリル系の化合物を
単離するには、それをアルカリ性溶液(たとえば水酸化
ナトリウム)を用いて処理し、有機溶媒で洗浄し稀薄な
鉱酸(HCl、H2 SO4 )を用いて中和して再生
する。
【0029】mが1でZがR2 QH基である式(II
I )のアクリル系及びメタクリル系の化合物は、先ず
、mが1でZが水素原子であって、たとえば前記のよう
にして得られる式(III )のアクリル系及びメタク
リル系の化合物を、一般式:
【0030】
【化15】
【0031】(式中、R4 は水素原子及び1〜10個
の炭素原子を有する線状又は分枝状のアルキル基から選
択される)のアルキレンオキシド又はスルフィド(Qが
Oであるか又はQがSであるかによる)と反応させて製
造する。不可欠ではないけれども、反応は前記のような
溶媒又は溶媒混合物の存在下に行うことができる。反応
は約−10℃〜+40℃の温度で、かつアクリル系又は
メタクリル系の出発化合物(III )1mol に対
し一般に約1〜1.5mol の量のアルキレンオキシ
ド又はスルフィドを使用して行うのが好ましい。反応に
より2つの異性体の混合物が形成されることがもっとも
多く、異性体のヒドロキシル又はチオール官能基の位置
は、オキシラン又はチイラン環の開環が生起する部位に
応じて変る。反応の終りに異性体の混合物を直接分離す
る。ただし、溶媒を使用している場合は、それを蒸発し
て除く。
【0032】mがZの原子価であり、Zが周期表のIA
、IIA、 IIIA、IB、IIB、VIB、 VI
IB及びVIII族の金属原子である、式(III )
のアクリル系及びメタクリル系の化合物は、mが1でZ
が水素原子であって、たとえば前記のようにして得られ
る式(III )のアクリル系又はメタクリル系の化合
物を、金属Zの無機塩と水性アルカリ性媒質中で反応さ
せて製造する。金属Zの例として挙げ得るのは、アルカ
リ金属、たとえばナトリウム、カリウム及びリチウム、
アルカリ土類金属たとえば、マグネシウム及びカルシウ
ム、並びにアルミニウム、亜鉛、カドミウム、ニッケル
、コバルト、鉄及び銅である。反応のために選択される
アルカリ性媒質は水酸化ナトリウム、炭酸カリウム又は
一般的にどのような無機強塩基でもあってもよい。金属
Zの無機塩として挙げ得る例は、ハロゲン化物、酸化物
及び硫酸塩である。反応は、約20℃〜60℃の温度で
、かつ金属Zの原子価に応じて金属Zの無機塩1mol
 につき、一般に約1〜3mol の量のアクリル系及
びメタクリル系の化合物を使用して行うのが好ましい。 反応の時間は、一般に約15〜150分であるが、反応
の終りに当って、式(III )アクリル系又はメタク
リル系の金属化合物を、ジクロロメタン、クロロホルム
等のような有機溶媒を用いて水溶液から抽出する。
【0033】最後に、本発明は、前記の新規なアクリル
系及びメタクリル系の化合物の、新規なポリマー及びコ
ポリマーの合成への応用にも関する。更に詳細には、本
発明は、式(I)、式(II)又は式(III )のア
クリル系又はメタクリル系の少くとも1つの化合物から
誘導されるユニットを少くとも1個含むポリマー及びコ
ポリマーに関する。このような(コ)ポリマーは、式(
I)、式(II)又は式(III)の前記のアクリル系
又はメタクリル系の化合物と共に少くとも1つの共重合
性コモノマーから誘導されるユニットを更に少くとも1
個含み得る。それは、たとえば以下のような化合物であ
る:−その線状又は分枝状のアルキル基が、置換されて
ないか、又は少くとも1個の塩素又は弗素のようなハロ
ゲン原子、及び/又は少くとも1個のヒドロキシル基に
より置換され、1〜20個の炭素原子を有するものであ
る、アクリルアルキル酸又はメタクリル酸アルキル、−
メタクリル酸ベンジルのようなアクリルアリール酸又は
メタクリル酸アリール、 −ビニル芳香族炭化水素、たとえばスチレン、ビニルト
ルエン、α−メチルスチレン、4−メチルスチレン、3
−メチルスチレン、4−メトキシスチレン、2−ヒドロ
キシメチルスチレン、4−エチルスチレン、4−エトキ
シスチレン、3,4−ジメチルスチレン、2−クロロス
チレン、3−クロロスチレン、4−クロロ−3−メチル
スチレン、3−tert−ブチルスチレン、2,4−ジ
クロロスチレン、2,6−ジクロロスチレン及び1−ビ
ニルナフタレン、 −不飽和ニトリル、たとえばアクリロニトリル又はメタ
クリロニトリル。
【0034】−N−置換マレイミド、たとえばN−エチ
ルマレイミド、N−イソプロピルマレイミド、N−n−
ブチルマレイミド、N−イソブチルマレイミド、N−t
ert−ブチルマレイミド、N−n−オクチルマレイミ
ド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−ベンジルマレ
イド及びN−フェニルマレイミド、 −不飽和ジカルボン酸の無水物、たとえば無水マレイン
酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸又はテトラヒド
ロ無水フタル酸、 −アクリル酸又はメタクリル酸、 −ポリオールのアクリル酸エステル又はメタクリル酸エ
ステル、たとえばエチレングリコール、プロピレングリ
コール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオ
ール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シク
ロヘキサンジメタノール、2,2,4−トリメチル−1
,3−ペンタンジオール、2−エチル−2−メチル−1
,3−プロパンジオール、2,2−ジエチル−1,3−
プロパンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレ
ングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレ
ングリコール、テトラエチレングリコール、テトラプロ
ピレングリコール、トリメチルロールエタン、トリメチ
ロールプロパン、グリセリン、ペンタエリトリトールの
ジアクリル酸エステル及びジメタクリル酸エステル、ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセ
リン、ペンタエリトリトールのトリアクリル酸エステル
及びトリメタクリル酸エステル、ペンタエリトリトール
のテトラアクリル酸エステル及びテトラメタクリル酸エ
ステル、ジペンタエリトリトールのジ(メタ)アクリル
酸エステル〜ヘキサ(メタ)アクリル酸エステル、モノ
−若しくはポリエトキシル化又はモノ−若しくはポリプ
ロポキシル化ポリオールのポリ(メタ)アクリル酸エス
テル、たとえばトリエトキシル化トリメチロールプロパ
ン及びトリプロポキシル化トリメチロールプロパンのト
リアクリル酸エステル及びトリメタクリル酸エステル;
トリプロポキシル化グリセリンのトリアクリル酸エステ
ル及びトリメタクリル酸エステル;テトラエトキシル化
ペンタエリトリトールのトリアクリル酸エステル、トリ
メタクリル酸エステル、テトラアクリル酸エステル及び
テトラメタクリル酸エステル、 −(メタ)アクリル酸エポキシエチルビシクロ[2,2
,1]ヘプト−5(6)−イル、アクリル酸エポキシジ
シクロペンチルオキシエチル、並びに式:
【0035】
【化16】
【0036】(式中、R1 は水素原子及びメチル基か
ら選択され、nは1〜16の整数である)の(メタ)ア
クリル酸エステル;式:
【0037】
【化17】
【0038】(式中、R1 は水素原子及びメチル基か
ら選択され、R2 は1〜12個の炭素原子を有するア
ルキル基及び6〜12個の炭素原子を有するアリール基
から選択される)の(メタ)アクリル酸エステル、及び
式:
【0039】
【化18】
【0040】と
【0041】
【化19】
【0042】(式中、R1 は水素原子及びメチル基か
ら選択される)の(メタ)アクリル酸から選択される、
エポキシ化アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステ
ル、 −アクリルアミド又はメタクリルアミド、アクリル酸若
しくはメタクリル酸ジアルキルアミノアルキル及びその
第4級塩、 −アクリル酸及びメタクリル酸2−(2−ノルボルニル
オキシ)エチル並びにアクリル酸及びメタクリル酸2−
(ジメタノデカヒドロ−2−ナフチルオキシ)エチル、
並びに −式:
【0043】
【化20】
【0044】のオキサゾリドン及び式:
【0045】
【化21】
【0046】[式中、R1 は水素原子及びメチル基か
ら選択され、nは1〜12の整数であり、mは1〜3の
整数であって、R2 は5〜12個の炭素原子を有する
線状、分枝状若しくは環状のアルキル又は芳香族炭化水
素基である。
【0047】(メタ)アクリル官能基を有する化合物を
、少くとも1個のイソシアナート官能基を有する化合物
と30℃〜90℃で反応させることによりオキサゾリド
ンを得ることができる。]のオキサゾリドンから選択さ
れるアクリル系及びメタクリル系のオキサゾリドン。
【0048】この型のポリマー及びコポリマーは、式(
I)、式(II)又は式(III )の少くとも1つの
アクリル系又はメタクリル系の化合物を、所望により、
前記で定義したような少くとも1つの共重合性コモノマ
ーと、少くとも1つの遊離基開始剤、たとえば過酸化物
、ヒドロペルオキシド又はジアゾ化合物の存在下に(共
)重合することにより得られる。(共)重合は一般に約
50℃〜120℃の温度で、かつモノマーの1つを溶媒
に使用して行われる。この重合は少くとも1つの界面活
性剤の存在下に約50℃〜100℃の温度で、水中エマ
ルジョンで同様に行うことができる。
【0049】
【実施例】以下の実施例により本発明をさらに説明する
が、限定する目的ではない。
【0050】実施例1〜4 0.1mol のPXCl3 (X=O,S)を30m
lのベンゼンで希釈し、凝縮器、温度計、滴下漏斗及び
磁気撹拌を備えた3口フラスコに入れた。
【0051】10mlのベンゼンで希釈した式(CH3
 )3C−S−(CH2 )p −OHの硫黄含有アル
コール0.2mol を0.2mol のピリジンと共
に5℃で滴下して添加した。
【0052】添加の終ったとき、混合物を室温にし、次
いで1時間加熱した(X=Oの場合還流で、X=Sの場
合50℃で)。
【0053】ピリジニウム塩を濾過により除去し、濾液
を氷水で洗浄した。
【0054】有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、次い
で濃縮した。
【0055】得られた式:
【0056】
【化22】
【0057】の主生成物について、JEOL PMX 
60 SI分光計を使用し、プロトン核磁気共鳴(NM
R)により特性を調べた。
【0058】得られたスペクトルはすべて1.3ppm
 (s,18H)に化学シフトを示す。更に、それらは
、生成物ごとに変化する化学シフト(ppm表示)を示
し、その特徴を下記表Iに示す。この表にはpの値及び
Xの意味に対応させて、一方に反応の収率Y(硫黄含有
アルコールに対し百分率で表現した)と他方にNMRス
ペクトルのデータをまとめる。
【0059】
【表1】
【0060】更に、実施例2の生成物について、プロト
ンデカップリングを用いる31−燐核磁気共鳴により、
燐酸を標準として特性を調べた。BRUCKER 80
 MHz分光計で得られたスペクトルは4.6ppm 
に化学シフトを示す。
【0061】実施例5〜13 10mmolの(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル
と10mmolのピリジンを、凝縮器、温度計、滴下漏
斗及び磁気撹拌を備えた反応器に導入した。10mmo
lの塩化物(RO)2 P(X)Clを15℃で滴下し
て添加した。 混合物を周囲温度とし、18時間撹拌を続けた。その後
10mlの無水エーテルを反応混合物に添加し、次いで
ピリジニウム塩を除去した。ロータリーエバポレーター
上でエーテルを除去することにより無色の液体を得た。
【0062】次いで過剰の(メタ)アクリル酸ヒドロキ
シアルキルを除去するため、単離した生成物を水洗及び
/又はシリカ上のカラムクロマトグラフィーにより精製
した。(メタ)アクリル酸(チオ)ホスホリルアルキル
の収率は、塩化ホスホリルを基準として表わして、どの
場合にも95%以上である。
【0063】この合成に使用したメタクリル酸ヒドロキ
シアルキルは、それぞれの次の意味を示す式(IV)を
有する。
【0064】 A=−(CH2 )2 −(実施例5〜11)A=−(
CH2 )3 −(実施例12及び13)。
【0065】この合成に使用した塩化ホスホリルは式(
V)を有し、R及びXの意味は下記の表IIに列挙され
ている。得られる(メタ)アクリル酸(チオ)ホスホリ
ルアルキルの特性をJEOL PMX 60 SI分光
計を使用してプロトン核磁気共鳴により調べた。得られ
たスペクトルはすべて6.1ppm (m,1H)、5
.6ppm (m,1H)、2.0ppm (m,3H
)に化学シフトを示し、Rが硫黄含有基(実施例9〜1
3)である場合には2.6ppm (m,4H)に示し
た。さらに、それらは生成物ごとに変る化学シフト(p
pmで表わす)を示し、その特性値は表IIに列挙して
ある。
【0066】
【表2】
【0067】実施例14及び15 0.1mol のオキシ塩化燐POCl3 を30ml
のベンゼンで希釈し、凝縮器、温度計、滴下漏斗及び磁
気撹拌を備えた反応器に窒素雰囲気下に導入した。0.
35mol のアクリル酸2−ヒドロキシエチル(実施
例14)又はメタクリル酸2−ヒドロキシエチル(実施
例15)、0.35mol のピリジン及び15mlの
ベンゼンを5℃で滴下して添加した。添加が終って、混
合物を60℃に2時間加熱した。ピリジニウム塩を濾過
により除去し、濾液を氷水を用いて洗浄した。有機相を
硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで濃縮した。45%(
オキシ塩化燐基準)の収率で黄色を帯びた油状液体を得
た。これは式(II)でnが2で、Xが酸素であって、
R1 が水素(実施例14)又はメチル基(実施例15
)の生成物に対応する。これらの生成物について実施例
4と同じ条件下に31−燐核磁気共鳴により特性を調べ
た。得られたスペクトルは燐酸を基準として−1.75
ppm に化学シフトを示す。
【0068】実施例16〜18 0.12mol のメタクリル酸ヒドロキシアルキル及
び100mlのベンゼンを、凝縮器、温度計、滴下漏斗
及び磁気撹拌を備えた反応器に、20℃の温度で窒素雰
囲気の下に導入した。混合物を加熱還流し、次いで0.
03mol の五硫化燐P2 S5 を添加した。添加
の終りに、80℃で加熱を続け、P2 S5 が完全に
消失するようにした(実施例17及び18の場合30分
、実施例16の場合2時間)。溶媒の蒸発により式:
【0069】
【化23】
【0070】の化合物を透明な淡黄色液体としてメタク
リル酸ヒドロキシアルキルを基準として100%の収率
で得た。
【0071】使用したメタクリル酸ヒドロキシアルキル
は次の通りである:メタクリル酸2−ヒドロキシエチル
(n=2)  実施例16、メタクリル酸3−ヒドロキ
シプロピル(n=3)  実施例17、メタクリル酸6
−ヒドロキシヘキシル(n=6)  実施例18。
【0072】得られた式(III−a)の化合物につい
てJEOL PMX 60 SI分光計を使用してプロ
トン核磁気共鳴により特性を調べた。得られたスペクト
ルはすべて6.1ppm (m,2H)、5.55pp
m(m,2H)、2.0ppm (m,6H)に化学シ
フトを示す。その上、それらは生成物ごとに変る化学シ
フト(ppmで表わす)を示し、その値を表III に
示す。
【0073】
【表3】
【0074】実施例19〜21 、実施例16〜18の1つで得た化合物0.2mol 
及び次に0.22mol の水酸化ナトリウム水溶液(
0.7N)を、磁気撹拌を備えた反応器に導入し、次い
で混合物を40℃に加熱した。0.11mol の硫酸
亜鉛を水溶液にして添加し、加熱を1時間続けた。混合
物をジクロロメタンを用いて抽出し、生成物を溶媒の蒸
発により単離した。これにより式:
【0075】
【化24】
【0076】の化合物を濃い黄色の油状体として、下記
表IVに示す収率で得た。
【0077】これらの化合物についてJEOL PMX
 60 SI分光計を使用してプロトン核磁気共鳴によ
り特性を調べた。
【0078】得られたスペクトルはすべて6.1ppm
 (m,4H)、5.6ppm (m,4H)、4.3
ppm (m,16H)及び2.0ppm (m,12
H)に化学シフトを示す。その上、それらは生成物ごと
に変る化学シフトを示すが、それをppmで表示して表
IVに列挙する。これらの生成物についても、実施例4
と同じ条件で31−燐核磁気共鳴により特性を調べた。 H3 PO4 を基準とする化学シフト(ppm表示)
を表IVに示す。
【0079】
【表4】
【0080】実施例22〜24 実施例18〜20の1つで得た化合物0.1mol 及
びプロピレンオキシド0.11mol を凝縮器、温度
計、滴下漏斗及び磁気撹拌を備えた反応器に0℃で導入
し、次いで混合物の温度を23℃とし、混合物を2時間
反応させた。これにより式:
【0081】
【化25】
【0082】及び
【0083】
【化26】
【0084】の化合物を100%の収率で得た。この混
合物についてJEOLPMX 60 SI分光計を使用
してプロトン核磁気共鳴により特性を調べた。
【0085】得られたスペクトルはすべて6.1ppm
 (m,2H)、5.6ppm (m,2H)、4.3
ppm (m,9H)2.7ppm (s)、2.8〜
3.3ppm (m,2H)、2.0ppm (m,6
H)及び1.3ppm (d,3H)に化学シフトを示
す。その上、それらは生成物ごとに変る化学シフト(p
pm表示)を示し、表Vに列挙してある。
【0086】
【表5】
【0087】これらの化合物は実施例4と同じ条件の下
で31−燐核磁気共鳴により同様に特性を調べた。スペ
クトルによる定量によれば、異性体(III−c)の割
合は85%で、異性体(III−d)の割合は15%で
ある。それぞれの異性体について観測される化学シフト
をppmで表示して表Vに示す。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  式: 【化1】 [式中、R1 は水素原子及びメチル基から選択され、
    Aは(CH2 )n 基(式中、nは2〜12の整数)
    及び−(CH2CH2 O)d −CH2 −CH2 
    −基(式中、dは1〜20の整数)から選択され、Xは
    硫黄原子及び酸素原子から選択され、Yは硫黄原子及び
    酸素原子から選択されるが、Aが−(CH2CH2 O
    )d −CH2 −CH2 −基である場合、Xは硫黄
    原子でありYは酸素原子であって、Rは1〜20個の炭
    素原子を有するアルキル基及び−(CH2 )p SR
    3 基(式中、pは3〜12の整数であって、R3 は
    1〜20個の炭素原子を有するアルキル基である)から
    選択される]の化合物、式:【化2】 [式中、R1 は水素原子及びメチル基から選択され、
    Aは(CH2 )n 基(式中、nは2〜12の整数)
    及び−(CH2CH2 O)d −CH2 −CH2 
    −基(式中、dは1〜20の整数)から選択され、Xは
    硫黄原子及び酸素原子から選択される]の化合物、及び
    式:【化3】 [式中、R1 は水素原子及びメチル基から選択され、
    Aは(CH2 )n 基(式中、nは2〜12の整数)
    から選択され、mは1〜3の整数であり,Zは水素原子
    、R2 QH基(式中、R2 は2〜12個の炭素原子
    を有するアルキル基であって、Qは酸素及び硫黄の原子
    から選択される)並びに周期表のIA、IIA、 II
    IA、IB、IIB、VIB、 VIIB及びVIII
    族の金属原子から選択されるが、mが1である場合、Z
    は水素原子及びR2 OH基から選択され、Zが金属で
    ある場合、mはZの原子価である]の化合物から選択さ
    れる、アクリル系及びメタクリル系の化合物。
  2. 【請求項2】  5価の燐の化合物と式:【化4】 (式中、R1 、A及びYは式(I)中と同じ意味を有
    する)のアクリル系又はメタクリル系の化合物とを反応
    させることから成ることを特徴とする、請求項1に記載
    の化合物の製造方法。
  3. 【請求項3】  5価の燐の化合物が式:【化5】 (式中、R及びYは式(I)中と同じ意味を有し、Tは
    ハロゲン原子を表わす)を有することを特徴とする、式
    (I)のアクリル系及びメタクリル系の化合物の、請求
    項2に記載の製造方法。
  4. 【請求項4】  式: 【化6】 (式中、Xは硫黄原子及び酸素原子から選択され、Tは
    ハロゲン原子を表わし,pは2〜12の整数であって、
    R3 は1〜20個の炭素原子を有するアルキル基であ
    る)の燐含有化合物。
  5. 【請求項5】  Yが酸素である式(IV)のアクリル
    系及びメタクリル系の化合物を、式PXT3 (式中、
    Xは式(II)中と同じ意味を有し、Tはハロゲン原子
    を表わす)の化合物と反応させることを特徴とする、式
    (II)のアクリル系及びメタクリル系の化合物の、請
    求項2に記載の製造方法。
  6. 【請求項6】  5価の燐の化合物が五硫化燐であるこ
    とを特徴とする、mが1でありZが水素原子である式(
    III )のアクリル系及びメタクリル系の化合物の、
    請求項2に記載の製造方法。
  7. 【請求項7】  初めに五硫化燐と式(IV)の化合物
    とを反応させ、次に一般式: 【化7】 (式中、R4 は水素原子及び1〜10個の炭素原子を
    有する線状又は分枝状のアルキル基から選択される)の
    アルキレンオキシド又はスルフィド(QがOであるか又
    はQがSであるかによる)と上記初めのステップで得ら
    れる化合物とを反応させることから成ることを特徴とす
    る、mが1でありZがR2 QH基である式(III 
    )のアクリル系及びメタクリル系の化合物の、請求項2
    に記載の製造方法。
  8. 【請求項8】  初めに五硫化燐と式(IV)の化合物
    とを反応させ、次に金属Zの無機塩とこの初めのステッ
    プで得られる化合物とを、アルカリ性媒質中で反応させ
    ることから成ることを特徴とする、mがZの原子価であ
    り、Zが金属原子である式(III )のアクリル系及
    びメタクリル系の化合物の、請求項2に記載の製造方法
  9. 【請求項9】  式(I)、式(II)又は式(III
     )のアクリル系又はメタクリル系の化合物の少くとも
    1つから誘導されるユニットを少くとも1個含むポリマ
    ー及びコポリマー。
  10. 【請求項10】  式R3 S(CH2 )p OHの
    アルコールと式PT3 Xのオキシハロゲン化燐又は硫
    ハロゲン化燐とを反応させることから成ることを特徴と
    する、請求項4に記載の燐含有化合物の製造方法。
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