JPH0425040A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

Info

Publication number
JPH0425040A
JPH0425040A JP12618190A JP12618190A JPH0425040A JP H0425040 A JPH0425040 A JP H0425040A JP 12618190 A JP12618190 A JP 12618190A JP 12618190 A JP12618190 A JP 12618190A JP H0425040 A JPH0425040 A JP H0425040A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
defective
pellet
semiconductor device
sheet
pellets
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12618190A
Other languages
English (en)
Inventor
Akitoshi Saito
斉藤 晃敏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
NEC Kyushu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Kyushu Ltd filed Critical NEC Kyushu Ltd
Priority to JP12618190A priority Critical patent/JPH0425040A/ja
Publication of JPH0425040A publication Critical patent/JPH0425040A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置の製造方法に関し、特に半導体ウェ
ハに多数個形成された半導体装置片を半導体ウェハー状
態で行う電気的及び光学的試験結果の表示とその後、各
半導体装置片を切断分離し前記試験結果で分類する半導
体装置の製造方法に関する。
〔従来の技術〕
従来のこの種の半導体装置片く以下ペレッI・と記ず)
のウェハ状態での良否判定を表示し分類する方法には以
下の様な方法があった。
第2図(a)、(b)に示す様に、半導体ウェハ1状態
のペレッ)〜に探針2を用いて電気的特性を測定し、不
良ベレット7にインク付着による不良マーク12又は、
機械的な傷を付けることによる不良マーク14で表示す
る。
その後、第2図(C)に示す様に、ダイシング等の方法
で半導体ウェハ1を各ペレットに分離し、人手によって
良品ペレット1、Oを取り出し再配列する。あるいは、
第2図(d)に示す様に、自動認識装置によってインク
による不良マーク12又は傷による不良マーク14を検
出し、第2図(e>に示す様に、不良ペレッ1へ7を吸
着治具]、7にて吸着除去する。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来の人手による良品ペレットを再配列する方
法では、多量の半導体装置を製造する場合に無理があっ
た。
一方、ペレット上の良否判定マークを光学装置で自動認
識し、不良ペレットを除去又は良品ペレッ1〜を配列す
る方法では、認識時間が長く、更に、機械的傷又はイン
クによる良否判定マークの形状と光学的背景となる半導
体ペレット上の回路パターンの関係によっては、マーク
の認識率が低下し、良好な品質を維持出来ないという欠
点があった。
また、上記2つの従来の方法ともに良品ペレツIへの再
配列又は不良ペレット除去時にピンセット又は吸着治具
を使用してペレットを扱うため治具自体で良品ペレット
に傷つける及びペレット運搬時に他のペレット上に落下
して傷をつけるという欠点かあった。
本発明の目的は、短時間て良否の判定が出来、良品ペレ
ットに傷をつけることがない良好な品質を維持出来る半
導体装置の製造方法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の半導体装置の製造方法は、半導体ウェハに多数
個の半導体装置片を形成し、前記半導体ウェハに形成さ
れた多数個の前記半導体装置片のそれぞれの電気的特性
試験を行い、該電気的特性試験後に両面に粘着性を有す
るシールを不良半導体装置片に付着させ、前記半導体ウ
ェハを切断し前記半導体装置片を分離後に、該半導体装
置片の上面にシートを乗せて前記不良半導体装置片を付
着させ、同時に多数個の該不良半導体装置片を除去する
工程を含んで構成されている。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
第11図(a)〜(c)は本発明の一実施例を説明する
工程順に示した断面図である。
まず、第1図(a)に示すように、電気的回路3か形成
された半導体ウェハ1について電気的動作、特性を測定
する。ペレットの電極4に測定器の探針2を接触させ、
測定器によって電気的特性の良否判定を行う。判定結果
は測定器により出力された良/不良信号で自動貼付治具
5を制御し、両面に粘着性を有する不良マーク用シール
6を不良ペレットに付着させる事で明示する。この状態
でも従来の自動認識による不良除去方法を使用し、不良
マークの大きさが規格化され、第2図(a)、(b)の
従来のインク又は傷の不良マーク12.14に比べ背景
に対する濃淡差が大きくなるため、検出力を高める事か
出来るが、本実施例では、更に、不良ペレット7除去の
際の傷を無くず為、以下の工程で不良ペレッ1−7を除
去する。
」1記の良否判定後、第1図(b)に示すように、従来
から知られている方法に従って、半導体ウェハ]を一定
量の粘着性を有する粘着シート8に貼り、ダイシング等
の方法によって各半導体ペレットに分離した後、上記半
導体ウェハ11−上に不良ペレット除去用シート9を乗
せ、両面に充分な粘着性を持つ不良マーク用シール6を
介して不良ペレット7を不良ペレット除去用シート9に
付着させる。
この後、第2図(c)に示す様に、不良ペレット除去用
シート9を取り除く事で不良ペレット7を一括して短時
間に、しがも、周辺の良品ペレット10に障害を与えず
に除去出来る。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、半導体ウェハ状態での電
気的試験結果を不良ペレットの両面に粘着性を有する不
良マーク用シールを付着させること及びその後ウェハを
半導体ペレットに分離してその上部に不良ペレット除去
用シートを乗せ、不良ペレットを除去することで、品質
の良い半導体装置を多量に、且つ、短時間に製造できる
効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(C)は本発明の一実施例を説明する工
程順に示した断面図、第2図(a)〜(e)は従来の半
導体装置の製造方法の一例を説明する工程順に示した断
面図である。 ]、・・・半導体ウェハ、2・・・探針、3・・・回路
、4・・電極、5・・・自動貼付治具、6・・・不良マ
ーク用シール、7・・・不良ペレット、8・・・粘着性
シート、9不良ペレッ1〜除去用シート、コ−0・・・
良品ペレット、11..13・・・マーク治具、12.
14・・・不良マーク、]5・・光学センサ、16・・
・マーク検出器、1.7・・・吸着治具。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  半導体ウェハに多数個の半導体装置片を形成し、前記
    半導体ウェハに形成された多数個の前記半導体装置片の
    それぞれの電気的特性試験を行い、該電気的特性試験後
    に両面に粘着性を有するシールを不良半導体装置片に付
    着させ、前記半導体ウェハを切断し前記半導体装置片を
    分離後に、該半導体装置片の上面にシートを乗せて前記
    不良半導体装置片を付着させ、同時に多数個の該不良半
    導体装置片を除去する工程を含むことを特徴とする半導
    体装置の製造方法。
JP12618190A 1990-05-16 1990-05-16 半導体装置の製造方法 Pending JPH0425040A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12618190A JPH0425040A (ja) 1990-05-16 1990-05-16 半導体装置の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12618190A JPH0425040A (ja) 1990-05-16 1990-05-16 半導体装置の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0425040A true JPH0425040A (ja) 1992-01-28

Family

ID=14928694

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12618190A Pending JPH0425040A (ja) 1990-05-16 1990-05-16 半導体装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0425040A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009021572A (ja) * 2007-06-12 2009-01-29 Shin Etsu Handotai Co Ltd 欠陥検出方法及び欠陥検出システム並びに発光素子の製造方法
JP2010114117A (ja) * 2008-11-04 2010-05-20 Sinfonia Technology Co Ltd Icチップ選別方法、及びicチップ選別装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009021572A (ja) * 2007-06-12 2009-01-29 Shin Etsu Handotai Co Ltd 欠陥検出方法及び欠陥検出システム並びに発光素子の製造方法
JP2010114117A (ja) * 2008-11-04 2010-05-20 Sinfonia Technology Co Ltd Icチップ選別方法、及びicチップ選別装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1484791A4 (en) DIE CUTTING METHOD, INTEGRATED CIRCUIT ELEMENT INSPECTION METHOD, SUBSTRATE SUPPORT DEVICE, AND SELF-ADHESIVE FILM
US7772830B2 (en) Test handler automatic contactor cleaner methods and surrogate cleaning device
JP2008098348A (ja) 半導体チップの検査方法
JPH0425040A (ja) 半導体装置の製造方法
US6281694B1 (en) Monitor method for testing probe pins
US6992499B2 (en) Test method and test apparatus for semiconductor device
JP2008172203A (ja) 半導体チップの選別装置
US7169469B2 (en) Particle-removing wafer
JPH06216207A (ja) ウエーハの検査方法
CN101587850A (zh) 承载结构以及测试装置
JPS6222448A (ja) Icの形成されたウエ−ハ
JP2005044949A (ja) 半導体チップの選別装置、半導体チップの選別方法、及び半導体チップの製造方法
JPS6185837A (ja) チツプ分離装置
JPH02235355A (ja) 半導体製造装置及び製造方法
JPH07106390A (ja) 半導体基板
JPS59130437A (ja) 半導体装置の選別方法
JPS59175739A (ja) 半導体素子の選別方法
KR100499167B1 (ko) 웨이퍼 상에 형성된 소정의 막의 접착력을 분석하는 테이프
JPS5935441A (ja) プロ−バ装置
CN111725104A (zh) 一种晶圆的编带方法、装置和设备
JPH04162644A (ja) 半導体ウェーハ及び半導体素子の識別方法
JPH01125949A (ja) 検査方法
JPH0242744A (ja) チップ選別方法
JPS57121244A (en) Evaluating method for wafer
JPH02162748A (ja) 半導体装置の製造方法