JPH04248830A - Sealing resin composition and sealed semiconductor device - Google Patents

Sealing resin composition and sealed semiconductor device

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JPH04248830A
JPH04248830A JP2566291A JP2566291A JPH04248830A JP H04248830 A JPH04248830 A JP H04248830A JP 2566291 A JP2566291 A JP 2566291A JP 2566291 A JP2566291 A JP 2566291A JP H04248830 A JPH04248830 A JP H04248830A
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JP
Japan
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resin
resin composition
epoxy
coupling agent
silane coupling
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Application number
JP2566291A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Sawai
沢井 和弘
Koichi Ibuki
伊吹 浩一
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Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Toshiba Chemical Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Chemical Corp filed Critical Toshiba Chemical Corp
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Publication of JPH04248830A publication Critical patent/JPH04248830A/en
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the subject composition, consisting essentially of an epoxy resin, a novolak type phenolic resin, a specific amount of a silane coupling agent having the imidazole skeleton and a specified amount of an inorganic filler and useful as sealed semiconductor devices improved in moisture resistance, moldability, etc. CONSTITUTION:The objective composition is obtained by using (A) an epoxy resin (e.g. an epoxy novolak-based resin) having >=2 epoxy groups in the molecule, (B) a novolak type phenolic resin, (C) a (1-imidazolyl)alkyl-based silane coupling agent {e.g. 4,5-dihydro-1-[3-(triethoxysilyl)propyl]imidazole} in an amount of 0.1-5wt.% (based on the resin composition) and (D) 25-90wt.% inorganic filler (preferably silica powder, etc.) as essential components. The equiv. ratio of the epoxy groups in the aforementioned component (A)/phenolic hydroxyl groups in the component (B) is preferably 0.1-10.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、耐湿性、半田耐熱性、
成形性に優れた封止用樹脂組成物および半導体封止装置
に関する。
[Industrial Application Field] The present invention provides moisture resistance, soldering heat resistance,
The present invention relates to a sealing resin composition with excellent moldability and a semiconductor sealing device.

【0002】0002

【従来の技術】近年、半導体、集積回路の分野における
高集積化、高信頼性化の技術開発と同時に、半導体装置
の実装工程の自動化が推進されている。例えば、フラッ
トパッケージ型の半導体装置を回路基板に取り付ける場
合、従来はリードピン毎に半田付けを行っていたが、最
近は半導体装置全体を 250℃に加熱した半田浴に浸
漬して、一度に半田付けを行う方法が採用されている。
2. Description of the Related Art In recent years, along with the development of technologies for higher integration and higher reliability in the field of semiconductors and integrated circuits, automation of semiconductor device mounting processes has been promoted. For example, when attaching a flat packaged semiconductor device to a circuit board, conventionally each lead pin was soldered individually, but recently the entire semiconductor device is immersed in a solder bath heated to 250°C and soldered all at once. A method of doing this has been adopted.

【0003】従来のエポキシ樹脂、ノボラック型フェノ
ール樹脂および無機質充填剤からなる樹脂組成物で封止
した半導体装置では、装置全体の半田浴浸漬を行うと耐
湿性が低下するという欠点がある。特に吸湿した半導体
装置を半田浴に浸漬すると、封止樹脂と半導体チップと
の間、あるいは封止樹脂とフレームとの間に剥がれが生
じ、著しい耐湿劣化をおこし、電極の腐食による断線や
水分によるリーク電流を生じ、長期間の信頼性を保証す
ることができないという欠点がある。このため、耐湿性
の影響が少なく、半導体装置全体の半田浴浸漬をしても
耐湿劣化の少ない成形性のよい封止用樹脂の開発が強く
要望されていた。
[0003] A semiconductor device sealed with a conventional resin composition comprising an epoxy resin, a novolak type phenolic resin, and an inorganic filler has a drawback that moisture resistance is reduced when the entire device is immersed in a solder bath. In particular, if a semiconductor device that has absorbed moisture is immersed in a solder bath, peeling will occur between the encapsulating resin and the semiconductor chip, or between the encapsulating resin and the frame, resulting in significant deterioration of moisture resistance, resulting in disconnection due to electrode corrosion, and breakage due to moisture. It has the drawback that it generates leakage current and cannot guarantee long-term reliability. For this reason, there has been a strong demand for the development of a sealing resin with good moldability that has less influence on moisture resistance and exhibits less deterioration in moisture resistance even when the entire semiconductor device is immersed in a solder bath.

【0004】0004

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の欠点
を解消して要望に応えるためになされたもので、耐熱性
が高く、特に半田浴浸漬後の耐湿性および半田耐熱性に
優れた成形性のよい封止用樹脂組成物および半導体封止
装置を提供しようとするものである。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention has been made in order to solve the above-mentioned drawbacks and meet the demands. The present invention aims to provide a sealing resin composition with good moldability and a semiconductor sealing device.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、イミダゾール
系シランカップリング剤を配合することによって、耐熱
性、半田浴浸漬後の耐湿性および半田耐熱性が向上し、
かつ成形性がよくなることを見いだし、本発明を完成し
たものである。すなわち、本発明は、 (A)エポキシ樹脂、 (B)ノボラック型フェノール樹脂、 (C)(1−イミダゾリル)アルキル系シランカップリ
ング剤及び (D)無機質充填剤 を必須成分とし、樹脂組成物に対して前記(C)の(1
−イミダゾリル)アルキル系シランカップリング剤を 
0.1〜 5重量%、また前記(D)の無機質充填剤を
25〜90重量%含有してなることを特徴とする封止用
樹脂組成物である。またこの封止用樹脂組成物の硬化物
により、半導体ペレットが封止されてなることを特徴と
する半導体封止装置である。
[Means for Solving the Problems] As a result of intensive research to achieve the above object, the present inventors have found that by incorporating an imidazole-based silane coupling agent, the present inventors have achieved heat resistance and moisture resistance after immersion in a solder bath. The properties and soldering heat resistance are improved.
They also found that the moldability was improved, and completed the present invention. That is, the present invention includes (A) an epoxy resin, (B) a novolac type phenol resin, (C) a (1-imidazolyl)alkyl silane coupling agent, and (D) an inorganic filler as essential components, and a resin composition containing On the other hand, (1) of (C) above
-imidazolyl)alkyl-based silane coupling agent
A sealing resin composition characterized by containing 0.1 to 5% by weight and 25 to 90% by weight of the inorganic filler (D). Further, the present invention is a semiconductor sealing device characterized in that a semiconductor pellet is sealed with a cured product of this sealing resin composition.

【0006】以下、本発明を詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below.

【0007】本発明に用いる(A)エポキシ樹脂として
は、その分子中にエポキシ基を少なくとも 2個有する
化合物である限り、分子構造、分子量など特に制限はな
く、一般に封止用材料として使用されているものを広く
包含することができる。例えば、ビスフェノール型の芳
香族系、シクロヘキサン誘導体等脂肪族系、また次の一
般式で示されるエポキシノボラック系の樹脂などが挙げ
られる。
The epoxy resin (A) used in the present invention is not particularly limited in terms of molecular structure and molecular weight, as long as it is a compound having at least two epoxy groups in its molecule, and is generally used as a sealing material. It can cover a wide range of people. Examples include aromatic resins such as bisphenol type, aliphatic resins such as cyclohexane derivatives, and epoxy novolak resins represented by the following general formula.

【0008】[0008]

【化1】 (但し、式中はR1 は水素原子、ハロゲン原子又はア
ルキル基を、R2 は水素原子又はアルキル基を、nは
 1以上の整数をそれぞれ表す) これらのエポキシ樹脂は単独もしくは 2種以上混合し
て用いる。
[Formula 1] (In the formula, R1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, R2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and n represents an integer of 1 or more.) These epoxy resins may be used alone or in combination of two types. The above mixture is used.

【0009】本発明に用いる(B)ノボラック型フェノ
ール樹脂としては、フェノール、アルキルフェノール等
のフェノール類とホルムアルデヒド、パラホルムアルデ
ヒド等のアルデヒド類とを反応させて得られるノボラッ
ク型フェノール樹脂、およびこれらの変性樹脂、例えば
エポキシ化もしくはブチル化ノボラック型フェノール樹
脂等が挙げられ、これらの樹脂は単独もしくは 2種以
上混合して用いる。ノボラック型フェノール樹脂の配合
割合は、前述したエポキシ樹脂のエポキシ基(a )と
ノボラック型フェノール樹脂のフェノール性水酸基(b
 )との当量比[(a )/(b )]が 0.1〜1
0の範囲内であることが望ましい。当量比が 0.1未
満もしくは10を超えると、耐熱性、耐湿性、成形作業
性および硬化物の電気特性が悪くなり、いずれの場合も
好ましくない。従って、上記の範囲内に限定するのがよ
い。
The novolak type phenolic resin (B) used in the present invention includes novolac type phenol resins obtained by reacting phenols such as phenol and alkylphenols with aldehydes such as formaldehyde and paraformaldehyde, and modified resins thereof. Examples include epoxidized or butylated novolac type phenolic resins, and these resins may be used alone or in combination of two or more. The blending ratio of the novolac type phenolic resin is the epoxy group (a) of the epoxy resin described above and the phenolic hydroxyl group (b) of the novolac type phenol resin.
) with an equivalent ratio [(a)/(b)] of 0.1 to 1
It is desirable that it be within the range of 0. If the equivalent ratio is less than 0.1 or more than 10, heat resistance, moisture resistance, molding workability, and electrical properties of the cured product will deteriorate, and either case is unfavorable. Therefore, it is better to limit it within the above range.

【0010】本発明に用いる(C)(1−イミダゾリル
)アルキル系シランカップリング剤としては、例えば次
の化2に示される、4,5−ジハイドロ−1−[3−(
トリエトキシシリル)プロピル]イミダゾールと、2−
フェニル −4−ジハイドロ−5− メチル−1−[3
−(トリエトキシシリル)プロピル]イミダゾール等が
挙げられる。
As the (C)(1-imidazolyl)alkyl-based silane coupling agent used in the present invention, for example, 4,5-dihydro-1-[3-(
triethoxysilyl)propyl]imidazole and 2-
Phenyl-4-dihydro-5-methyl-1-[3
-(triethoxysilyl)propyl]imidazole and the like.

【0011】[0011]

【化2】 これらは単独又は 2種以上混合して使用することがで
きる。また、更にその他のシラン系、チタン系、ジルコ
ニウム系等のカップリング剤を併用することもできる。 イミダゾール系シランカップリング剤の配合割合は、全
体の樹脂組成物に対して 0.1〜5 重量%含有する
ことが望ましい。この割合が 0.1重量%未満では半
田耐熱性に効果なく、また 5重量%を超えると樹脂粘
度が増加する等、成形性に悪影響を与え、実用に適さず
好ましくない。
embedded image These can be used alone or in combination of two or more. Further, other coupling agents such as silane type, titanium type, zirconium type, etc. can also be used in combination. The blending ratio of the imidazole-based silane coupling agent is preferably 0.1 to 5% by weight based on the entire resin composition. If this proportion is less than 0.1% by weight, it has no effect on soldering heat resistance, and if it exceeds 5% by weight, the resin viscosity increases, which adversely affects moldability, making it unsuitable for practical use.

【0012】本発明に用いる(D)無機質充填剤として
は、シリカ粉末、アルミナ、三酸化アンチモン、タルク
、炭酸カルシウム、チタンホワイト、クレー、マイカ、
ベンガラ、ガラス繊維等が挙げられ、これらは単独もし
くは 2種以上混合して使用する。これらの中でも特に
シリカ粉末やアルミナ粉末が好ましく、よく使用される
。無機質充填剤の配合割合は、全体の樹脂組成物に対し
て25〜90重量%である。その割合が25重量%未満
では、耐熱性、耐湿性、半田耐熱性、機械的特性および
成形性が悪くなり、また90重量%を超えるとカサバリ
が大きくなり成形性が悪く実用に適さない。
Inorganic fillers (D) used in the present invention include silica powder, alumina, antimony trioxide, talc, calcium carbonate, titanium white, clay, mica,
Examples include red iron oxide and glass fiber, which may be used alone or in combination of two or more. Among these, silica powder and alumina powder are particularly preferred and often used. The blending ratio of the inorganic filler is 25 to 90% by weight based on the entire resin composition. If the proportion is less than 25% by weight, the heat resistance, moisture resistance, soldering heat resistance, mechanical properties and moldability will be poor, and if it exceeds 90% by weight, the bulk will be large and the moldability will be poor, making it unsuitable for practical use.

【0013】本発明の封止用樹脂組成物は、エポキシ樹
脂、ノボラック型フェノール樹脂、イミダゾール系のシ
ランカップリング剤および無機質充填剤を必須成分とす
るが、本発明の目的を損なわないかぎり、また必要に応
じて、天然ワックス類,合成ワックス類,直鎖脂肪酸の
金属塩,酸アミド,エステル類,パラフィン類などの離
型剤、塩素化パラフィン,ブロム化トルエン,ヘキサブ
ロムベンゼン,三酸化アンチモン等の難燃剤、カーボン
ブラック,ベンガラなどの着色剤、種々の硬化促進剤を
適宜添加配合することができる。
The sealing resin composition of the present invention contains an epoxy resin, a novolac type phenolic resin, an imidazole-based silane coupling agent, and an inorganic filler as essential components, but as long as the object of the present invention is not impaired, If necessary, release agents such as natural waxes, synthetic waxes, metal salts of linear fatty acids, acid amides, esters, paraffins, chlorinated paraffins, brominated toluene, hexabromobenzene, antimony trioxide, etc. Flame retardants, colorants such as carbon black and red iron oxide, and various curing accelerators can be appropriately added and blended.

【0014】本発明の封止用樹脂組成物を成形材料とし
て製造する場合の一般的な方法は、エポキシ樹脂、ノボ
ラック型フェノール樹脂、イミダゾール系シランカップ
リング剤、無機質充填剤、その他の原料成分を所定の組
成比に選んで、ミキサー等によって十分均一に混合した
後、更に熱ロールによる溶融混合処理、またニーダ等に
よる混合処理を行い、次いで冷却固化させ、適当な大き
さに粉砕して成形材料とする。そして、この成形材料を
半導体ペレット、電子部品或いは電気部品の封止に、ま
たそれらの被覆、絶縁等に適用し、優れた特性と信頼性
を付与することができる。
[0014] A general method for producing the encapsulating resin composition of the present invention as a molding material is to prepare an epoxy resin, a novolac type phenolic resin, an imidazole silane coupling agent, an inorganic filler, and other raw materials. After selecting a predetermined composition ratio and mixing it sufficiently uniformly using a mixer, etc., it is further melted and mixed using hot rolls, and mixed using a kneader, etc., then cooled and solidified, and pulverized to an appropriate size to form a molding material. shall be. This molding material can be applied to seal semiconductor pellets, electronic components, or electrical components, and to coat, insulate, etc., and provide excellent characteristics and reliability.

【0015】本発明の半導体封止装置は、上記のように
して得られた封止用樹脂組成物を用いて半導体ペレット
を封止することにより容易に製造することができる。封
止の最も一般的な方法としては、低圧トランスファー成
形法があるが、射出成形、圧縮成形、注型等による封止
も可能である。封止用樹脂組成物を封止の際に加熱して
硬化させ、最終的にはこの組成物の硬化物によって封止
された半導体封止装置が得られる。加熱による硬化は 
150℃以上の温度で加熱硬化させることが望ましい。 封止を行う半導体ペレットとしては、例えば集積回路、
大規模集積回路、トランジスタ、サイリスタ、ダイオー
ド等で特に限定されるものではない。
The semiconductor encapsulation device of the present invention can be easily manufactured by encapsulating semiconductor pellets using the encapsulation resin composition obtained as described above. The most common method for sealing is low-pressure transfer molding, but sealing by injection molding, compression molding, casting, etc. is also possible. The sealing resin composition is heated and cured during sealing, and a semiconductor sealing device sealed with the cured product of this composition is finally obtained. Curing by heating
It is desirable to heat and harden at a temperature of 150° C. or higher. Examples of semiconductor pellets for sealing include integrated circuits,
It is not particularly limited to large-scale integrated circuits, transistors, thyristors, diodes, etc.

【0016】[0016]

【作用】本発明において、特定のイミダゾール系シラン
カップリング剤を用いたことによって目的とする特性が
得られるものである。イミダゾール骨格を有するシラン
カップリング剤は樹脂組成物の耐熱性を向上させ、半田
浴に浸漬しても耐湿性の劣化を防止することができる。
[Function] In the present invention, the desired properties can be obtained by using a specific imidazole-based silane coupling agent. The silane coupling agent having an imidazole skeleton can improve the heat resistance of the resin composition and prevent deterioration of moisture resistance even when immersed in a solder bath.

【0017】[0017]

【実施例】次に本発明を実施例によって具体的に説明す
るが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではな
い。以下の実施例および比較例において「%」とは「重
量%」を意味する。
[Examples] Next, the present invention will be specifically explained using examples, but the present invention is not limited to the following examples. In the following Examples and Comparative Examples, "%" means "% by weight".

【0018】実施例1 クレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当量 2
15)18%に、ノボラック型フェノール樹脂(フェノ
ール当量 107) 9%、次式に示した4,5−ジハ
イドロ−1−[3−(トリエトキシリル)プロピル]イ
ミダゾール 0.4%、
Example 1 Cresol novolac epoxy resin (epoxy equivalent weight 2
15) 18%, novolac type phenol resin (phenol equivalent: 107) 9%, 4,5-dihydro-1-[3-(triethoxylyl)propyl]imidazole shown in the following formula 0.4%,

【0019】[0019]

【化3】 溶融シリカ粉末71%、およびエステル系ワックス 0
.3%を配合し、常温で混合し更に90〜95℃で混練
冷却した後、粉砕して成形材料を製造した。この成形材
料を170℃に加熱した金型内にトランスファー注入し
硬化させて成形品(封止品)をつくった。この成形品に
ついて耐湿性等の特性を試験したので、その結果を表1
に示した。 特に耐湿性において本発明の顕著な効果が認められた。
[Chemical formula 3] Fused silica powder 71% and ester wax 0
.. 3%, mixed at room temperature, kneaded and cooled at 90 to 95°C, and then pulverized to produce a molding material. This molding material was transfer-injected into a mold heated to 170° C. and cured to produce a molded product (sealed product). This molded product was tested for characteristics such as moisture resistance, and the results are shown in Table 1.
It was shown to. In particular, the remarkable effects of the present invention on moisture resistance were observed.

【0020】実施例2 クレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当量 2
15)19%に、ノボラック型フェノール樹脂(フェノ
ール当量 107) 9%、次式に示した2−フェニル
 −4−ジハイドロ −5−メチル−1−[3−(トリ
エトキシシリル)プロピル]イミダゾール 0.4%、
Example 2 Cresol novolac epoxy resin (epoxy equivalent weight 2
15) 19%, novolac type phenol resin (phenol equivalent: 107) 9%, 2-phenyl-4-dihydro-5-methyl-1-[3-(triethoxysilyl)propyl]imidazole shown in the following formula 0. 4%,

【0021】[0021]

【化4】 シリカ粉末71%、およびエステル系ワックス 0.3
%を実施例1と同様に混合、混練、粉砕して成形材料を
製造した。また実施例1と同様にして成形品をつくり耐
湿性等の特性試験を行ったので、その結果を表1に示し
た。耐湿性において本発明の顕著な効果が認められた。
[Chemical formula 4] Silica powder 71% and ester wax 0.3
% was mixed, kneaded, and crushed in the same manner as in Example 1 to produce a molding material. In addition, a molded article was made in the same manner as in Example 1, and property tests such as moisture resistance were conducted. The results are shown in Table 1. The remarkable effect of the present invention on moisture resistance was observed.

【0022】実施例3 クレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当量 2
15)19%に、ノボラック型フェノール樹脂(フェノ
ール当量 107) 9%、2−フェニル −4−ジハ
イドロ −5−メチル−1−[3−(トリエトキシシリ
ル)プロピル]イミダゾール 0.2%、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン 0.2%、シリカ粉
末71%およびエステル系ワックス 0.3%を実施例
1と同様に混合、混練、粉砕して成形材料を製造した。 また実施例1と同様にして成形品をつくり耐湿性等の特
性試験を行ったので、その結果を表1に示した。耐湿性
において本発明の顕著な効果が確認された。
Example 3 Cresol novolak epoxy resin (epoxy equivalent weight 2
15) 19%, novolac type phenolic resin (phenol equivalent 107) 9%, 2-phenyl-4-dihydro-5-methyl-1-[3-(triethoxysilyl)propyl]imidazole 0.2%, γ- A molding material was prepared by mixing, kneading, and pulverizing 0.2% glycidoxypropyltrimethoxysilane, 71% silica powder, and 0.3% ester wax in the same manner as in Example 1. In addition, a molded article was made in the same manner as in Example 1, and property tests such as moisture resistance were conducted. The results are shown in Table 1. The remarkable effect of the present invention on moisture resistance was confirmed.

【0023】比較例 クレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当量 2
15)19%に、ノボラック型フェノール樹脂(フェノ
ール当量 107) 9%、シリカ粉末71%、硬化促
進剤 0.3%、エステル系ワックス 0.3%および
シラン系カップリング剤 0.4%を配合し、実施例1
と同様にして成形材料を製造した。この成形材料を用い
て成形品とし、成形品の諸特性について実施例1と同様
にして試験を行い、その結果を表1に示した。
Comparative Example Cresol novolac epoxy resin (epoxy equivalent: 2
15) 19%, 9% novolac type phenol resin (phenol equivalent: 107), 71% silica powder, 0.3% curing accelerator, 0.3% ester wax, and 0.4% silane coupling agent. Example 1
A molding material was produced in the same manner. This molding material was used to make a molded article, and the various properties of the molded article were tested in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

【0024】[0024]

【表1】 *1 :トランスファー成形によって直径50mm、厚
さ 3mmの成形品をつくり、これを 127℃, 2
気圧の飽和水蒸気中に24時間放置し、増加した重量に
よって求めた*2 :吸水率の試験と同じ成形品をつく
り、これを 175℃で 8時間の後硬化を行い適当な
大きさのテストピースとし、熱機器分析装置を用いて測
定した、*3 :成形材料を用いて 2本以上のアルミ
ニウム配線を有するシリコン製チップ(テスト用素子)
を42アロイフレームに接着し、 175℃で 2分間
トランスファー成形して 5×10× 1.5mmのフ
ラットパッケージ型成形品をつくり、その後 175℃
で 8時間の後硬化を行った。この成形品を予め40℃
,90%RH, 100時間の吸湿処理をした後、 2
50℃の半田浴に10秒間浸漬した。その後 127℃
, 2.5気圧の飽和水蒸気中でPCTを行い、アルミ
ニウムの腐食による断線を不良として評価した。
[Table 1] *1: A molded product with a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm was made by transfer molding, and this was heated to 127°C, 2
Determined by weight increase after being left in saturated steam at atmospheric pressure for 24 hours *2: The same molded product as in the water absorption test was made, and this was post-cured at 175°C for 8 hours, and a test piece of an appropriate size was prepared. *3: Silicon chip (test element) with two or more aluminum wirings using molding material.
was adhered to a 42 alloy frame and transfer molded at 175℃ for 2 minutes to create a flat package molded product measuring 5 x 10 x 1.5mm, and then transferred to 175℃.
Post-curing was carried out for 8 hours. This molded product is heated at 40℃ in advance.
, 90% RH, after 100 hours of moisture absorption treatment, 2
It was immersed in a 50°C solder bath for 10 seconds. Then 127℃
, PCT was performed in saturated steam at 2.5 atmospheres, and wire breaks due to corrosion of aluminum were evaluated as defects.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上の説明および表1から明らかなよう
に、本発明の封止用樹脂組成物及び半導体封止装置は、
耐熱性、成形性、半田浴に浸漬した後でも耐湿性に優れ
、その結果、電極の腐食による断線や水分によるリーク
電流の発生などを著しく低減することができ、しかも長
時間にわたって信頼性を保証することができる。また、
250℃の半田浴浸漬にもかかわらず優れた半田耐熱性
を示した。
Effects of the Invention As is clear from the above explanation and Table 1, the encapsulating resin composition and semiconductor encapsulating device of the present invention have
It has excellent heat resistance, moldability, and moisture resistance even after being immersed in a solder bath, and as a result, it can significantly reduce the occurrence of disconnections due to electrode corrosion and leakage current due to moisture, and it also guarantees long-term reliability. can do. Also,
It showed excellent soldering heat resistance despite being immersed in a 250°C solder bath.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  (A)エポキシ樹脂、(B)ノボラッ
ク型フェノール樹脂、 (C)(1−イミダゾリル)アルキル系シランカップリ
ング剤及び (D)無機質充填剤 を必須成分とし、樹脂組成物に対して前記(C)の(1
−イミダゾリル)アルキル系シランカップリング剤を 
0.1〜 5重量%、また前記(D)の無機質充填剤を
25〜90重量%含有してなることを特徴とする封止用
樹脂組成物。
Claim 1: A resin composition containing (A) an epoxy resin, (B) a novolac type phenol resin, (C) a (1-imidazolyl)alkyl silane coupling agent, and (D) an inorganic filler as essential components. and (1) of (C) above.
-imidazolyl)alkyl-based silane coupling agent
A sealing resin composition comprising 0.1 to 5% by weight and 25 to 90% by weight of the inorganic filler (D).
【請求項2】  (A)エポキシ樹脂、(B)ノボラッ
ク型フェノール樹脂、 (C)(1−イミダゾリル)アルキル系シランカップリ
ング剤及び (D)無機質充填剤 を必須成分とし、樹脂組成物に対して前記(C)の(1
−イミダゾリル)アルキル系シランカップリング剤を 
0.1〜 5重量%、また前記(D)の無機質充填剤を
25〜90重量%含有した封止用樹脂組成物の硬化物に
より、半導体ペレットが封止されてなることを特徴とす
る半導体封止装置。
2. A resin composition containing (A) an epoxy resin, (B) a novolac type phenol resin, (C) a (1-imidazolyl)alkyl silane coupling agent, and (D) an inorganic filler as essential components. and (1) of (C) above.
-imidazolyl)alkyl-based silane coupling agent
A semiconductor characterized in that a semiconductor pellet is sealed with a cured product of a sealing resin composition containing 0.1 to 5% by weight and 25 to 90% by weight of the inorganic filler (D). Sealing device.
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