JPH0424631A - 非晶質膜作製方法 - Google Patents
非晶質膜作製方法Info
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- JPH0424631A JPH0424631A JP12914490A JP12914490A JPH0424631A JP H0424631 A JPH0424631 A JP H0424631A JP 12914490 A JP12914490 A JP 12914490A JP 12914490 A JP12914490 A JP 12914490A JP H0424631 A JPH0424631 A JP H0424631A
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Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、蒸着法によって得られた非晶質薄膜がガラス
状の安定な非晶質薄膜と成るようにする薄膜作製方法に
関する。
状の安定な非晶質薄膜と成るようにする薄膜作製方法に
関する。
有機物の薄膜作製方法としては、スパッタ法、真空蒸着
法、スピンコード法、キャスト法、ディッピング法、ラ
ングミュア−プロジェット(Langmuir−Blo
dgett) (L B )法等がある。
法、スピンコード法、キャスト法、ディッピング法、ラ
ングミュア−プロジェット(Langmuir−Blo
dgett) (L B )法等がある。
このうち、真空蒸着法は溶媒や分散剤等を使用せず、乾
式(ドライ)プロセスで薄膜を作製できるため、膜厚を
簡単に制御でき、しかも多層薄膜や数種類の有機物を任
意の割合で混合した混合薄膜を作製することができる。
式(ドライ)プロセスで薄膜を作製できるため、膜厚を
簡単に制御でき、しかも多層薄膜や数種類の有機物を任
意の割合で混合した混合薄膜を作製することができる。
また、蒸着の際に昇華精製プロセスが必然的に加わるた
めに、不純物を含まない純粋な有機物から成る薄膜を得
ることができる。
めに、不純物を含まない純粋な有機物から成る薄膜を得
ることができる。
しかしながら、有機物の種類によっては真空蒸着法によ
り作製した薄膜が、微結晶を含んだり多結晶質膜となっ
て、不透明な有機薄膜しか得られない化合物も多数存在
する。また、真空中ではガラス状の非晶質薄膜であって
も、空気中にさらすと結晶粒が発生して結晶化が進行し
、白濁化・不透明化する有機物があった。
り作製した薄膜が、微結晶を含んだり多結晶質膜となっ
て、不透明な有機薄膜しか得られない化合物も多数存在
する。また、真空中ではガラス状の非晶質薄膜であって
も、空気中にさらすと結晶粒が発生して結晶化が進行し
、白濁化・不透明化する有機物があった。
また、光照射により分子構造を変化させてフォトクロミ
ズムを示す有機物は、その蒸着膜のほとんどが微結晶性
の不透明な薄膜となってしまい、上記に示した様ないか
なる薄膜作製方法を用いてもガラス状の非晶質薄膜を作
製することは困難であった。
ズムを示す有機物は、その蒸着膜のほとんどが微結晶性
の不透明な薄膜となってしまい、上記に示した様ないか
なる薄膜作製方法を用いてもガラス状の非晶質薄膜を作
製することは困難であった。
そこで、光照射によって分子になんらかの変化が生じる
ことに着目し、蒸着中の有機物に紫外光を照射しながら
堆積させる方法が開発されたが〔例えば、特願昭61−
117406号:光照射有機薄膜作製法、特願昭62−
172970号:有機非晶質膜作製法、特願平1−10
1567号:光照射薄膜作M装置及び薄膜作製法、吉田
卓史はか、シン ソリッド フィルムス(Thin 5
oild Films)第162巻、第343〜352
頁(1988)〕、非非晶質膜の耐久性に問題があり、
長時間使用していると空気中の水分を吸収したり室温下
で分子の再配列が起こり、その結果、微結晶が発生して
来る欠点があった。
ことに着目し、蒸着中の有機物に紫外光を照射しながら
堆積させる方法が開発されたが〔例えば、特願昭61−
117406号:光照射有機薄膜作製法、特願昭62−
172970号:有機非晶質膜作製法、特願平1−10
1567号:光照射薄膜作M装置及び薄膜作製法、吉田
卓史はか、シン ソリッド フィルムス(Thin 5
oild Films)第162巻、第343〜352
頁(1988)〕、非非晶質膜の耐久性に問題があり、
長時間使用していると空気中の水分を吸収したり室温下
で分子の再配列が起こり、その結果、微結晶が発生して
来る欠点があった。
本発明の目的は、有機物の真空蒸着法による薄膜作製方
法において、従来技術では結晶化のために安定なガラス
状の非晶質薄膜を得られない有機物に対し、非晶質膜を
安定に保持させることができる真空蒸着法を提供するこ
とにある。
法において、従来技術では結晶化のために安定なガラス
状の非晶質薄膜を得られない有機物に対し、非晶質膜を
安定に保持させることができる真空蒸着法を提供するこ
とにある。
本発明を概説すれば、本発明は非晶質膜作製方法に関す
る発明であって、真空蒸着法による非晶質薄膜形成方法
において、得られた蒸着膜上に保護層を設けることを特
徴とする。
る発明であって、真空蒸着法による非晶質薄膜形成方法
において、得られた蒸着膜上に保護層を設けることを特
徴とする。
従来の非晶質膜作製方法では、長時間放置していると微
結晶の発生及び結晶化によりほとんどの有機物が白濁化
していた。また、蒸着直後の真空中ではガラス状の非晶
質薄膜であっても、空気中にさらすと結晶粒が発生して
結晶化が進行し、白濁化・不透明化する有機物があった
。
結晶の発生及び結晶化によりほとんどの有機物が白濁化
していた。また、蒸着直後の真空中ではガラス状の非晶
質薄膜であっても、空気中にさらすと結晶粒が発生して
結晶化が進行し、白濁化・不透明化する有機物があった
。
しかし、本発明を用いれば、非晶質状態を安定に保持す
ることができ、従来の技術では得られなかった有機非晶
質薄膜を得ることができるようになった。
ることができ、従来の技術では得られなかった有機非晶
質薄膜を得ることができるようになった。
保護層を形成する際には、非晶質薄膜を真空中から一度
大気圧に戻してから形成しても、そのまま真空中で形成
しても良いが、空気中にさらすと結晶粒が発生する薄膜
では真空を保持したまま保護層を形成した方が望ましい
。
大気圧に戻してから形成しても、そのまま真空中で形成
しても良いが、空気中にさらすと結晶粒が発生する薄膜
では真空を保持したまま保護層を形成した方が望ましい
。
本発明においては該真空蒸着を、蒸着中の物質に光を照
射しながら行うことが好ましい。また、該保護層は空気
中の水分を透過させない物質で構成されることが好まし
い。その例としてはアルミニウムが挙げられる。更に該
保護層は蒸着法又はスパッタ法で作製することが好まし
い。
射しながら行うことが好ましい。また、該保護層は空気
中の水分を透過させない物質で構成されることが好まし
い。その例としてはアルミニウムが挙げられる。更に該
保護層は蒸着法又はスパッタ法で作製することが好まし
い。
以下、本発明を実施例によって、更に詳細に説明するが
、本発明はこれら実施例に限定されない。
、本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例1
第1図は、実施例1で使用する非晶質膜作製装置の断面
概略図である。第1図において符号1はペルジャー 2
は基板、3は紫外光、4は500W超高圧水銀灯、5は
シャッター 6は試料、7は加熱ボート、8は加熱温度
制御装置、9は石英製窓、10は色ガラスフィルターを
意味する。有機物は紫外光照射により分子構造の変化す
るE−α−(2,5−ジメチル−3−フリルエチリデン
)−(アダマンチリデン)−こはく酸無水物(略称:A
F)を用いた。光照射によるその構造変化を下記式で示
す。下記式の左側は消色状態、右側は着色状態である。
概略図である。第1図において符号1はペルジャー 2
は基板、3は紫外光、4は500W超高圧水銀灯、5は
シャッター 6は試料、7は加熱ボート、8は加熱温度
制御装置、9は石英製窓、10は色ガラスフィルターを
意味する。有機物は紫外光照射により分子構造の変化す
るE−α−(2,5−ジメチル−3−フリルエチリデン
)−(アダマンチリデン)−こはく酸無水物(略称:A
F)を用いた。光照射によるその構造変化を下記式で示
す。下記式の左側は消色状態、右側は着色状態である。
第1図中8の加熱温度制御装置によって第1図中7の加
熱ボートを182℃にし、真空度は5 X 10 ””
Torr、紫外光源としては500Wの超高圧水銀灯に
色ガラスフィルター(UV−D35、東芝製)10を装
着し360nmの輝線を用いて、気相状態にある八Pに
紫外光照射しながら真空蒸着を行った。AFの膜厚は3
000人であった。AFの蒸着が終了してから一度大気
圧下に戻し、今度は通常の光照射なしの蒸着装置でアル
ミニウムを蒸着し、AF膜の上にアルミニウムの保護層
を2000人形成させた。その後、500Wの超高圧水
銀灯に色ガラスフィルター(Y−50、東芝製)を装着
して可視光を照射し、AFを消色状態に戻した。
熱ボートを182℃にし、真空度は5 X 10 ””
Torr、紫外光源としては500Wの超高圧水銀灯に
色ガラスフィルター(UV−D35、東芝製)10を装
着し360nmの輝線を用いて、気相状態にある八Pに
紫外光照射しながら真空蒸着を行った。AFの膜厚は3
000人であった。AFの蒸着が終了してから一度大気
圧下に戻し、今度は通常の光照射なしの蒸着装置でアル
ミニウムを蒸着し、AF膜の上にアルミニウムの保護層
を2000人形成させた。その後、500Wの超高圧水
銀灯に色ガラスフィルター(Y−50、東芝製)を装着
して可視光を照射し、AFを消色状態に戻した。
第2図は光照射なしの従来の方法(a)で得たAF薄膜
に紫外光を飽和するまで照射し、次いで可視光を飽和す
るまで照射した薄膜と、本実施例による方法ら)とで得
たAF薄膜の透過率の経時変化〔横軸は時間(日数)、
縦軸は透過率(%)を示す〕を示す。(a)は透過法で
測定し、(b)は基板に対して測定光が5°の正反射を
する反射法で測定した。どちらもAFの着色状態の吸収
極大波長(535nm)で測定し、基板はどちらも透明
な石英基板を用いた。
に紫外光を飽和するまで照射し、次いで可視光を飽和す
るまで照射した薄膜と、本実施例による方法ら)とで得
たAF薄膜の透過率の経時変化〔横軸は時間(日数)、
縦軸は透過率(%)を示す〕を示す。(a)は透過法で
測定し、(b)は基板に対して測定光が5°の正反射を
する反射法で測定した。どちらもAFの着色状態の吸収
極大波長(535nm)で測定し、基板はどちらも透明
な石英基板を用いた。
従来の方法で得たAP薄膜(a)は結晶化により経時的
に白濁が進行し、光の散乱による透過率の減少が観察さ
れた。それに対し、本実施例による方法で得られたAF
薄膜は、安定な無定形状態にあり、更にA1保護膜を設
けたため経時的にも安定し、完全に透明のままであった
。
に白濁が進行し、光の散乱による透過率の減少が観察さ
れた。それに対し、本実施例による方法で得られたAF
薄膜は、安定な無定形状態にあり、更にA1保護膜を設
けたため経時的にも安定し、完全に透明のままであった
。
また、アルミニウムの代りにニフッ化マグネシウム(M
gPz)を用いて保護層を設けた場合には、AP薄膜中
の微結晶粒発生を抑制することができず、透過率は保護
層を設けない場合と同じ速度で低下し白濁化した。ニフ
ッ化マグネシウムはピンホールが多く空気中の水分を透
過させるためAF薄膜中の微結晶粒発生を抑制すること
ができなかった。これに対しアルミニウムは、空気中の
水分を透過させないため、本実施例による方法で得られ
たAP薄膜は、完全に透明のままであった。
gPz)を用いて保護層を設けた場合には、AP薄膜中
の微結晶粒発生を抑制することができず、透過率は保護
層を設けない場合と同じ速度で低下し白濁化した。ニフ
ッ化マグネシウムはピンホールが多く空気中の水分を透
過させるためAF薄膜中の微結晶粒発生を抑制すること
ができなかった。これに対しアルミニウムは、空気中の
水分を透過させないため、本実施例による方法で得られ
たAP薄膜は、完全に透明のままであった。
実施例2
通常の蒸着装置を用い、実施例1と同じ蒸着条件(加熱
温度182℃、真空度5X10−5Torr)で紫外光
を照射せずにAFを3000人蒸着した。蒸着したAF
膜を別の蒸着装置に移しアルミニウムの保護層を200
0人蒸着法により形成し、その後可視光を照射して消色
状態に戻した。
温度182℃、真空度5X10−5Torr)で紫外光
を照射せずにAFを3000人蒸着した。蒸着したAF
膜を別の蒸着装置に移しアルミニウムの保護層を200
0人蒸着法により形成し、その後可視光を照射して消色
状態に戻した。
本実施例による方法で得たAF薄膜の透過率の経時変化
を第2図の(C)に示す。(C)は基板に対して測定光
が5°の正反射をする反射法で535nmの変化を測定
した。第2図の(C)は、保護層を設けなかった実施例
1の(a)が結晶化し白濁化して行くのに対し、非晶質
状態を安定に保てていることが分かる。
を第2図の(C)に示す。(C)は基板に対して測定光
が5°の正反射をする反射法で535nmの変化を測定
した。第2図の(C)は、保護層を設けなかった実施例
1の(a)が結晶化し白濁化して行くのに対し、非晶質
状態を安定に保てていることが分かる。
光照射しながら得た蒸着膜にA1保護膜を形成した実施
例1の第2図の的と比較すると、第2図(C)は透過率
が約20%程度劣っているが、これは紫外光照射蒸着方
法を用いなかったために、アルミニウムの保護層を形成
させるまでの僅かな時間の間に微結晶が発生したためで
ある。しかしながら、保護層を形成した後は透過率に変
化が認められず、従来の方法では得られなかった安定な
非晶質膜を形成することができた。
例1の第2図の的と比較すると、第2図(C)は透過率
が約20%程度劣っているが、これは紫外光照射蒸着方
法を用いなかったために、アルミニウムの保護層を形成
させるまでの僅かな時間の間に微結晶が発生したためで
ある。しかしながら、保護層を形成した後は透過率に変
化が認められず、従来の方法では得られなかった安定な
非晶質膜を形成することができた。
なお、実施例1及び2においては、AI保護層を蒸着法
により形成しているが、これに限定されることはなく、
スパッタリング等の薄膜形成法により保護層を形成して
もよい。
により形成しているが、これに限定されることはなく、
スパッタリング等の薄膜形成法により保護層を形成して
もよい。
実施例3
第3図は実施例3で使用する非晶質膜作製装置の断面概
略図である。第3図において符号11はペルジャー 1
2は基板、13はシャッター、14は試料、15は加熱
ボート、16は加熱温度制御装置、17は仕切り板、1
8はアルミニウム(A+) 19はアルミニウム蒸
着加熱用のタンタル(Ta) ・フィラメントを意味
する。
略図である。第3図において符号11はペルジャー 1
2は基板、13はシャッター、14は試料、15は加熱
ボート、16は加熱温度制御装置、17は仕切り板、1
8はアルミニウム(A+) 19はアルミニウム蒸
着加熱用のタンタル(Ta) ・フィラメントを意味
する。
実施例1と同じ条件でAFを紫外光を照射しながら蒸着
し、その後形成したAP蒸着膜を大気圧下にさらすこと
なく、そのまま、第3図19のタンタル・フィラメント
に電流を流してhu熱し、AF蒸着膜の上にアルミニウ
ムの保護層を200OA形成した。実施例1ではこの後
可視光を照射し、AFを消色状態にして非晶質安定性を
測定したが、実施例3では着色状態のまま非晶質安定性
を測定した。
し、その後形成したAP蒸着膜を大気圧下にさらすこと
なく、そのまま、第3図19のタンタル・フィラメント
に電流を流してhu熱し、AF蒸着膜の上にアルミニウ
ムの保護層を200OA形成した。実施例1ではこの後
可視光を照射し、AFを消色状態にして非晶質安定性を
測定したが、実施例3では着色状態のまま非晶質安定性
を測定した。
第4図は従来の方法、すなわち光照射なしで蒸着したま
まのAF膜(6)と、本実施例による方法(e)とで得
たAF薄膜の透過スペクトル図〔横軸は時間(日数)、
縦軸は透過率(%)を示すを示す。(d)は透過法で測
定し、(e)は基板に対して測定光が5°の正反射をす
る反射法で測定した。どちらもAFの着色状態の吸収極
大波長(535nm)で測定し、基板はどちらも透明な
石英基板を用いた。従来の方法で得たAF薄膜は結晶化
により白濁が進行し、光の散乱による透過率の減少が観
察された。それに対し、本発明による方法で得られたA
P薄膜は、完全に透明のままであった。
まのAF膜(6)と、本実施例による方法(e)とで得
たAF薄膜の透過スペクトル図〔横軸は時間(日数)、
縦軸は透過率(%)を示すを示す。(d)は透過法で測
定し、(e)は基板に対して測定光が5°の正反射をす
る反射法で測定した。どちらもAFの着色状態の吸収極
大波長(535nm)で測定し、基板はどちらも透明な
石英基板を用いた。従来の方法で得たAF薄膜は結晶化
により白濁が進行し、光の散乱による透過率の減少が観
察された。それに対し、本発明による方法で得られたA
P薄膜は、完全に透明のままであった。
以上説明したように、本発明の非晶質膜作製〕
方法を用いることにより、従来の薄膜作製方法では、非
晶質の薄膜を安定化させることが困難であった化合物も
、ガラス状の透明な非晶質膜を、安定化させることがで
きるようになった。
晶質の薄膜を安定化させることが困難であった化合物も
、ガラス状の透明な非晶質膜を、安定化させることがで
きるようになった。
したがって、従来、透明な非晶質膜を得ることが不可能
であった化合物も蒸着が可能となり、現在、湿式でしか
薄膜が得られなかった有機物も乾式で薄膜化が可能とな
る。
であった化合物も蒸着が可能となり、現在、湿式でしか
薄膜が得られなかった有機物も乾式で薄膜化が可能とな
る。
更にまた、実施例で示したように、従来の方法では結晶
化し白濁化してしまい、不透明な薄膜となるAF膜も非
晶質になり、しかも透明な非晶質のまま、紫外光、可視
光(又は加熱)により可逆な色の着色・消色、いわゆる
フォトクロミズムを効率よく示すので、書換え型の光デ
イスク媒体として用いることができ、高分子分散媒体等
を用いる必要がなく、非晶質のAF単独の薄膜なので、
高SN比を得ることができる。
化し白濁化してしまい、不透明な薄膜となるAF膜も非
晶質になり、しかも透明な非晶質のまま、紫外光、可視
光(又は加熱)により可逆な色の着色・消色、いわゆる
フォトクロミズムを効率よく示すので、書換え型の光デ
イスク媒体として用いることができ、高分子分散媒体等
を用いる必要がなく、非晶質のAF単独の薄膜なので、
高SN比を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図、及び第3図は本発明で使用する有機非晶質薄膜
作製装置の1例の断面概略図、第2図、及び第4図はA
P真空蒸着薄膜の透過スペクトル図である。 1及び11:ベルジャ−2及び12:基板、3:紫外光
、4:500W超高圧水銀灯、5及び13:シャッター
6及び14:試料、7及び15:加熱ボート、8及び
16:加熱温度制御装置、9:石英窓、10:色ガラス
フィルタ17:仕切り板、18ニアルミニウム(AI)
19ニアルミニウム蒸着加熱用のタンタル(Ta)・フ
ィラメント 特許出願人 日本電信電話株式会社
作製装置の1例の断面概略図、第2図、及び第4図はA
P真空蒸着薄膜の透過スペクトル図である。 1及び11:ベルジャ−2及び12:基板、3:紫外光
、4:500W超高圧水銀灯、5及び13:シャッター
6及び14:試料、7及び15:加熱ボート、8及び
16:加熱温度制御装置、9:石英窓、10:色ガラス
フィルタ17:仕切り板、18ニアルミニウム(AI)
19ニアルミニウム蒸着加熱用のタンタル(Ta)・フ
ィラメント 特許出願人 日本電信電話株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、真空蒸着法による非晶質薄膜形成方法において、得
られた蒸着膜上に保護層を設けることを特徴とする非晶
質膜作製方法。 2、該蒸着を、蒸着中の物質に光を照射しながら行う請
求項1に記載の非晶質膜作製方法。 3、該保護層が空気中の水分を透過させない物質で構成
される請求項1又は2に記載の非晶質膜作製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12914490A JPH0424631A (ja) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | 非晶質膜作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12914490A JPH0424631A (ja) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | 非晶質膜作製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0424631A true JPH0424631A (ja) | 1992-01-28 |
Family
ID=15002218
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12914490A Pending JPH0424631A (ja) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | 非晶質膜作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0424631A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0791755A (ja) * | 1993-06-07 | 1995-04-04 | Samsung Electronics Co Ltd | 蓄熱/蓄冷システムの複数蓄熱槽 |
-
1990
- 1990-05-21 JP JP12914490A patent/JPH0424631A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0791755A (ja) * | 1993-06-07 | 1995-04-04 | Samsung Electronics Co Ltd | 蓄熱/蓄冷システムの複数蓄熱槽 |
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