JPH04244233A - 不活性化された水素添加触媒の賦活化方法 - Google Patents
不活性化された水素添加触媒の賦活化方法Info
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- JPH04244233A JPH04244233A JP3217557A JP21755791A JPH04244233A JP H04244233 A JPH04244233 A JP H04244233A JP 3217557 A JP3217557 A JP 3217557A JP 21755791 A JP21755791 A JP 21755791A JP H04244233 A JPH04244233 A JP H04244233A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、担体として酸化アルミ
ニウム上に担持されたルテニウムを金属として含有し、
その作用の点で損なわれた又は不活性になった水素添加
触媒を超音波で処理して、賦活化する方法に関する。
ニウム上に担持されたルテニウムを金属として含有し、
その作用の点で損なわれた又は不活性になった水素添加
触媒を超音波で処理して、賦活化する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】酸化アルミニウム上に担持されたルテニ
ウムを、不飽和炭化水素、たとえば脂肪族アルデヒド及
びケトンの水素添加触媒として使用することは、知られ
ている。便覧ホウベン− ヴェイル、有機化学の方法、
第4/1c巻、第20頁に記載されている様に、特定の
温度− 及び圧力条件下で水素添加を行った場合、Ru
/Al2 O3 を用いて得られる、二重結合が数回置
換された不飽和シクロオレフィンの水素添加生成物は、
好ましくはシス− 立体配置を有する。たとえばα−
ピネンのシス− ピナンへの水素添加が、挙げられる。
ウムを、不飽和炭化水素、たとえば脂肪族アルデヒド及
びケトンの水素添加触媒として使用することは、知られ
ている。便覧ホウベン− ヴェイル、有機化学の方法、
第4/1c巻、第20頁に記載されている様に、特定の
温度− 及び圧力条件下で水素添加を行った場合、Ru
/Al2 O3 を用いて得られる、二重結合が数回置
換された不飽和シクロオレフィンの水素添加生成物は、
好ましくはシス− 立体配置を有する。たとえばα−
ピネンのシス− ピナンへの水素添加が、挙げられる。
【0003】
【化1】
【0004】しかしRu/Al2 O3 の触媒活性は
、実際上の工業的使用で、たとえば固定床中に配置した
場合、オレフィン性化合物及び水素を連続的に通す水素
添加反応器中で比較的急速に低下し、これは活性の完全
な損失まで生じうることが知られている。いわゆる触媒
毒──これは一般に遊離電子対を有するヘテロ原子、た
とえばCl、Br、J、S、Se、Te、N、P、Sb
、Asを含有し、水素添加すべき物質中、場合により併
用される溶剤又はキャリヤーガス中、あるいはガス状水
素中に不純物として痕跡程度存在することができる──
を、完全に遠ざけた場合も、活性の減少が起る。
、実際上の工業的使用で、たとえば固定床中に配置した
場合、オレフィン性化合物及び水素を連続的に通す水素
添加反応器中で比較的急速に低下し、これは活性の完全
な損失まで生じうることが知られている。いわゆる触媒
毒──これは一般に遊離電子対を有するヘテロ原子、た
とえばCl、Br、J、S、Se、Te、N、P、Sb
、Asを含有し、水素添加すべき物質中、場合により併
用される溶剤又はキャリヤーガス中、あるいはガス状水
素中に不純物として痕跡程度存在することができる──
を、完全に遠ざけた場合も、活性の減少が起る。
【0005】Ru/Al2 O3−触媒の水素添加活性
の減弱を阻止する伝統的な操作は、温度及び圧力を高め
、単位時間あたり触媒床を介して誘導される、水素添加
すべき物質の量を低下させることにある。しかしこの操
作は、現在制限された成果しかあげられない。というの
は活性損失が進み、更に数倍の上昇する温度で、シス−
水素添加生成物の形成のためのRu/Al2 O3−
触媒の選択率は、失われるからである。
の減弱を阻止する伝統的な操作は、温度及び圧力を高め
、単位時間あたり触媒床を介して誘導される、水素添加
すべき物質の量を低下させることにある。しかしこの操
作は、現在制限された成果しかあげられない。というの
は活性損失が進み、更に数倍の上昇する温度で、シス−
水素添加生成物の形成のためのRu/Al2 O3−
触媒の選択率は、失われるからである。
【0006】したがって選択的水素添加にRu/Al2
O3−触媒を使用することは、従来技術によって制限
されている。Ru/Al2O3−触媒──これはその活
性が著しく又は完全に失っている──は、外観では変化
していない。高分子の又は重合された副生成物で表面が
覆われると推論される触媒の被覆は、何ら認められない
。
O3−触媒を使用することは、従来技術によって制限
されている。Ru/Al2O3−触媒──これはその活
性が著しく又は完全に失っている──は、外観では変化
していない。高分子の又は重合された副生成物で表面が
覆われると推論される触媒の被覆は、何ら認められない
。
【0007】活性成分として周期律表の第VIII族の
金属を含有する水素添加触媒の賦活化方法は、記載され
ている。米国特許第3256205号明細書によれば、
たとえば2又はそれ以下のpH− 値を有する酸溶液で
処理が行われる。しかしRu/Al2 O3−触媒で、
この様な酸処理は適用できない。というのはα− ピネ
ンは酸性媒体中でワグナーメーヤワイン− 転位を受け
るからである。
金属を含有する水素添加触媒の賦活化方法は、記載され
ている。米国特許第3256205号明細書によれば、
たとえば2又はそれ以下のpH− 値を有する酸溶液で
処理が行われる。しかしRu/Al2 O3−触媒で、
この様な酸処理は適用できない。というのはα− ピネ
ンは酸性媒体中でワグナーメーヤワイン− 転位を受け
るからである。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、公知
欠点を有しない不活性化されたRu/Al2 O3−触
媒を賦活化するための適する方法を採用することにある
。
欠点を有しない不活性化されたRu/Al2 O3−触
媒を賦活化するための適する方法を採用することにある
。
【0009】
【課題を解決するための手段】今や、驚くべきことに、
本発明者は、Ru/Al2 O3−触媒を超音波の作用
によって容易にかつ完全に賦活化することができ、それ
によって特に立体特異的水素添加、たとえばα− ピネ
ンからシス− ピナンへの水素添加を再び可能にするこ
とができることを見い出した。
本発明者は、Ru/Al2 O3−触媒を超音波の作用
によって容易にかつ完全に賦活化することができ、それ
によって特に立体特異的水素添加、たとえばα− ピネ
ンからシス− ピナンへの水素添加を再び可能にするこ
とができることを見い出した。
【0010】本発明の対象は、活性成分としてルテニウ
ムを酸化アルミニウム− 担体上に含有する、不活性化
された水素添加触媒の再生方法に於て、触媒を超音波処
理することを特徴とする上記方法である。
ムを酸化アルミニウム− 担体上に含有する、不活性化
された水素添加触媒の再生方法に於て、触媒を超音波処
理することを特徴とする上記方法である。
【0011】触媒再生に超音波を使用することは、米国
特許第4086184号明細書中に記載されている。こ
こではコークス化生成物で覆うことによって効果のなく
なった水素化分解− 触媒を、先ず超音波で処理し、そ
の後更に930〜1050o Fで、酸化ガスで作用さ
せる。
特許第4086184号明細書中に記載されている。こ
こではコークス化生成物で覆うことによって効果のなく
なった水素化分解− 触媒を、先ず超音波で処理し、そ
の後更に930〜1050o Fで、酸化ガスで作用さ
せる。
【0012】超音波を、煙突ガスからNOxの除去に使
用する触媒の再生にも使用する。たとえば Khim.
Tekhnol. (キエフ)3,17−19(19
85)〔C.A.103:146460〕及び Khi
m. Promst (モスクワ)9,549−50(
1985)〔C.A.103:182947〕中に記載
されている。この場合超音波は、触媒上に沈着した物質
(煙突ガス)の塵状部分を除去する様に作用する。活性
減少した又は効果のなくなったRu/Al2 O3−触
媒は、不純物又は高分子の、もはや溶解しない物質の副
− 又は随伴生成物で覆われている徴候を全く示さなか
ったので、超音波での処理の賦活化作用は予想できなか
ったことでありかつ驚異的なことである。この作用の成
因は、恐らく超音波が活性減少された又は効果のなくな
ったRu/Al2 O3−触媒の構造形(結晶構造)を
、活性形が再び製造される様に変化させることにあるこ
とが明らかである。
用する触媒の再生にも使用する。たとえば Khim.
Tekhnol. (キエフ)3,17−19(19
85)〔C.A.103:146460〕及び Khi
m. Promst (モスクワ)9,549−50(
1985)〔C.A.103:182947〕中に記載
されている。この場合超音波は、触媒上に沈着した物質
(煙突ガス)の塵状部分を除去する様に作用する。活性
減少した又は効果のなくなったRu/Al2 O3−触
媒は、不純物又は高分子の、もはや溶解しない物質の副
− 又は随伴生成物で覆われている徴候を全く示さなか
ったので、超音波での処理の賦活化作用は予想できなか
ったことでありかつ驚異的なことである。この作用の成
因は、恐らく超音波が活性減少された又は効果のなくな
ったRu/Al2 O3−触媒の構造形(結晶構造)を
、活性形が再び製造される様に変化させることにあるこ
とが明らかである。
【0013】超音波処理の実際の実施は、極めて簡単に
行われる。Ru/Al2 O3−触媒を、適する液状媒
体中で超音波で作用させる。触媒を化学的に変化させず
、触媒表面上に堆積物を全く残さないすべての媒体が適
する。液状媒体として水素添加しうる炭化水素又はその
水素添加生成物を使用するのが好ましい。その際反応系
内の異物の除去のための後処理は省かれることが、極め
て有利である。
行われる。Ru/Al2 O3−触媒を、適する液状媒
体中で超音波で作用させる。触媒を化学的に変化させず
、触媒表面上に堆積物を全く残さないすべての媒体が適
する。液状媒体として水素添加しうる炭化水素又はその
水素添加生成物を使用するのが好ましい。その際反応系
内の異物の除去のための後処理は省かれることが、極め
て有利である。
【0014】超音波処理を、水素添加活性の減少が認め
られるやいなや、定期的に水素添加反応器の外部で、超
音波浴中で行うことができる。超音波処理を水素添加反
応器の外部で、水素添加すべき物質又はその水素添加生
成物中で実施した場合、引き続き再生されたRu/Al
2 O3−触媒の特別な後処理は、不必要である。触媒
を、たとえば直ちに超音波浴から取り出し、乾燥、燬焼
等々することなく再び水素添加反応器中に導入する。
られるやいなや、定期的に水素添加反応器の外部で、超
音波浴中で行うことができる。超音波処理を水素添加反
応器の外部で、水素添加すべき物質又はその水素添加生
成物中で実施した場合、引き続き再生されたRu/Al
2 O3−触媒の特別な後処理は、不必要である。触媒
を、たとえば直ちに超音波浴から取り出し、乾燥、燬焼
等々することなく再び水素添加反応器中に導入する。
【0015】当然、その場で水素添加反応器中に固定設
置された超音波源も再生処理のために考慮しなければな
らない。その時この処理は連続的水素添加によって可能
である。短時間でかつ定期的にくり返すことができる超
音波処理が、水素添加効率の減少を妨げるのに十分であ
る。
置された超音波源も再生処理のために考慮しなければな
らない。その時この処理は連続的水素添加によって可能
である。短時間でかつ定期的にくり返すことができる超
音波処理が、水素添加効率の減少を妨げるのに十分であ
る。
【0016】本発明で得られる利点は、特に完全に不活
性化されたRu/Al2 O3−触媒を費用の面で好都
合な方法に従って、その効率の点で新しい触媒と同等で
ある様に再生することにある。
性化されたRu/Al2 O3−触媒を費用の面で好都
合な方法に従って、その効率の点で新しい触媒と同等で
ある様に再生することにある。
【0017】超音波源は、18〜500KHzの周波数
を有しなければならず、一般に約20KHzの範囲が十
分である。音波強度は10〜100w/cm2 でなけ
ればならない。すべての市販の超音波源を使用すること
ができ、たとえば水素添加反応器中での再生処理に関し
て超音波棒及び反応器外部での処理に関して超音波浴を
使用する。
を有しなければならず、一般に約20KHzの範囲が十
分である。音波強度は10〜100w/cm2 でなけ
ればならない。すべての市販の超音波源を使用すること
ができ、たとえば水素添加反応器中での再生処理に関し
て超音波棒及び反応器外部での処理に関して超音波浴を
使用する。
【0018】不活性化された触媒の賦活化に必要な時間
は、10分〜10時間であることができる。その期間は
、不活性の強度によるが、ほとんどの場合約60分の超
音波処理で十分である。一般に超音波処理の期間は、超
音波源の採用される効率と共に増加する。
は、10分〜10時間であることができる。その期間は
、不活性の強度によるが、ほとんどの場合約60分の超
音波処理で十分である。一般に超音波処理の期間は、超
音波源の採用される効率と共に増加する。
【0019】超音波処理の間の温度を、液状媒体が十分
に低い粘度を有する様に選択しなければならない。固定
設置された超音波源で、温度は水素添加温度に相当する
。液状媒体の高い粘度によって、超音波強度のあまりに
も強い減少が生じる。
に低い粘度を有する様に選択しなければならない。固定
設置された超音波源で、温度は水素添加温度に相当する
。液状媒体の高い粘度によって、超音波強度のあまりに
も強い減少が生じる。
【0020】
【実施例】次に例によって本発明を更に詳細に説明する
。
。
【0021】〔例1〕市販のα− ピネンを、酸化アル
ミニウム上に1%ルテニウムを含有する触媒(エンゲル
ハルト− 固定床接触TCH2933)で300バール
、50℃で水素添加する。触媒の負荷は0.2−0.3
lα−ピネン/1触媒及び時間である。水素添加反応器
から排出後のα− ピネンの残存含有率は、<0.1%
であり、選択率はシス− ピナンに対して95−97%
である。連続作業で23日後、α− ピネン− 含有率
の上昇が生じ、48時間以内に30.4%の値に達する
。反応器から取り出された触媒を、3時間超音波浴中で
処理し(溶剤 :α− ピネン)、湿潤状態で再度使
用する。短い移行相の後、α− ピネン含有率は再び<
0.1%である。
ミニウム上に1%ルテニウムを含有する触媒(エンゲル
ハルト− 固定床接触TCH2933)で300バール
、50℃で水素添加する。触媒の負荷は0.2−0.3
lα−ピネン/1触媒及び時間である。水素添加反応器
から排出後のα− ピネンの残存含有率は、<0.1%
であり、選択率はシス− ピナンに対して95−97%
である。連続作業で23日後、α− ピネン− 含有率
の上昇が生じ、48時間以内に30.4%の値に達する
。反応器から取り出された触媒を、3時間超音波浴中で
処理し(溶剤 :α− ピネン)、湿潤状態で再度使
用する。短い移行相の後、α− ピネン含有率は再び<
0.1%である。
【0022】〔例2〕例1と同様に、α− ピネンをロ
ーン− ポウレンク(Rhone−Poulenc)
社のRu− 触媒(TC402,1%Ru/Al2 O
3)で300バール、70℃で水素添加する。α− ピ
ネン− 残存含有率は初め<0.1%から17日後7.
2%に上昇する。その水素添加作用の点で弱められた触
媒の処理は、例1と同様に行われる。その後再びα−
ピネン− 残存率は<0.1%に達する。
ーン− ポウレンク(Rhone−Poulenc)
社のRu− 触媒(TC402,1%Ru/Al2 O
3)で300バール、70℃で水素添加する。α− ピ
ネン− 残存含有率は初め<0.1%から17日後7.
2%に上昇する。その水素添加作用の点で弱められた触
媒の処理は、例1と同様に行われる。その後再びα−
ピネン− 残存率は<0.1%に達する。
【0023】
【発明の効果】本発明によれば、完全に不活性化された
Ru/Al2 O3−触媒を、安価に再生することがで
きる。
Ru/Al2 O3−触媒を、安価に再生することがで
きる。
Claims (6)
- 【請求項1】 活性成分としてルテニウムを酸化アル
ミニシム− 担体上に含有する不活性化された水素添加
触媒の再生に於て、触媒に超音波処理を行うことを特徴
とする、上記再生方法。 - 【請求項2】 超音波処理を液状媒体中で行い、触媒
の化学的変化を引き起さない請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 液状媒体として水素添加すべき物質又
は水素添加生成物を使用する、請求項2記載の方法。 - 【請求項4】 超音波処理を、水素添加反応器の外部
の超音波浴中で実施する請求項1記載の方法。 - 【請求項5】 超音波処理を反応器中で反応器中に存
在する超音波源を用いて実施する、請求項1記載の方法
。 - 【請求項6】 超音波源は、周波数18−500KH
z及び効率10−100w/cm2 を有する請求項1
記載の方法。
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DE40274195 | 1990-08-30 | ||
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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JP (1) | JPH04244233A (ja) |
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DE19829916B4 (de) * | 1998-07-06 | 2005-03-24 | Envica Gmbh | Verfahren zur Regeneration von Katalysatoren und regenerierte Katalysatoren |
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US7326394B2 (en) * | 2003-03-07 | 2008-02-05 | Velocys | Catalysts, methods of making catalysts, and methods of combustion |
DE102005039997A1 (de) * | 2005-08-24 | 2007-03-01 | Samant, Gurudas, Dr. | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von SCR-Reaktoren im Zementdrehrohrofen |
CN100457271C (zh) * | 2005-10-19 | 2009-02-04 | 中国石油化工股份有限公司 | 负载型催化剂的干燥方法及加氢裂化催化剂的制备方法 |
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CN105198689B (zh) * | 2015-10-30 | 2018-01-19 | 青岛科技大学 | 一种α‑蒎烯选择性加氢制备顺式蒎烷的方法 |
WO2017140909A1 (de) | 2016-02-19 | 2017-08-24 | Basf Se | Enzymatische zyklisierung von homofarnesylsäure |
CN105622328B (zh) * | 2016-03-28 | 2017-12-22 | 青岛科技大学 | 一种α‑蒎烯加氢制备顺式蒎烷的方法 |
CN107513004B (zh) * | 2017-09-09 | 2020-11-03 | 江西省科学院应用化学研究所 | 一种α-蒎烯选择性加氢合成顺式蒎烷的方法及其催化剂 |
CN107519867B (zh) * | 2017-09-14 | 2020-05-15 | 江西省科学院应用化学研究所 | 一种α-蒎烯选择性加氢合成顺式蒎烷的钌负载二氧化钛催化剂的制备方法 |
CN107652154B (zh) * | 2017-09-22 | 2020-10-09 | 江西省科学院应用化学研究所 | 一种铌酸钠负载钌催化剂催化α-蒎烯加氢制备顺式蒎烷的方法 |
CN114130409B (zh) * | 2020-09-03 | 2023-09-01 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种加氢催化剂的再生方法 |
CN114130418B (zh) * | 2020-09-03 | 2023-09-01 | 中国石油化工股份有限公司 | 加氢催化剂的再生方法 |
CN115722233B (zh) * | 2022-12-09 | 2023-08-04 | 贵州重力科技环保股份有限公司 | 一种乙炔氢氯化金基催化剂失活后的再生方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1267354A (en) * | 1968-06-12 | 1972-03-15 | Sperry Rand Ltd | Metal plating on dielectric substrate |
US4171698A (en) * | 1977-08-15 | 1979-10-23 | Abbott Laboratories | Prefilled two-compartment syringe |
US4572439A (en) * | 1983-11-30 | 1986-02-25 | Phillips Petroleum Company | Attrition resistant particles and preparation of same |
JPS60166039A (ja) * | 1984-02-07 | 1985-08-29 | Nitto Chem Ind Co Ltd | アンチモン含有酸化物触媒の製法 |
DE3840406A1 (de) * | 1987-11-30 | 1989-06-08 | Gold Star Co | Schutzschaltung fuer eine schaltmodus-stromversorgungsschaltung |
US4914256A (en) * | 1988-06-30 | 1990-04-03 | Mobil Oil Corp. | Reactivation of partially deactivated catalyst employing ultrasonic energy |
-
1990
- 1990-08-30 DE DE4027419A patent/DE4027419A1/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-06-28 EP EP91110730A patent/EP0472853B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-06-28 ES ES91110730T patent/ES2044657T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-06-28 DE DE9191110730T patent/DE59100280D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-07-05 US US07/726,287 patent/US5132270A/en not_active Ceased
- 1991-08-28 JP JP3217557A patent/JPH04244233A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5132270A (en) | 1992-07-21 |
EP0472853A1 (de) | 1992-03-04 |
DE4027419A1 (de) | 1992-03-05 |
DE59100280D1 (de) | 1993-09-16 |
EP0472853B1 (de) | 1993-08-11 |
ES2044657T3 (es) | 1994-01-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981112 |