JPH04244097A - ペプチド化合物およびその製造法 - Google Patents

ペプチド化合物およびその製造法

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JPH04244097A
JPH04244097A JP3206614A JP20661491A JPH04244097A JP H04244097 A JPH04244097 A JP H04244097A JP 3206614 A JP3206614 A JP 3206614A JP 20661491 A JP20661491 A JP 20661491A JP H04244097 A JPH04244097 A JP H04244097A
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carboxy
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Keiji Henmi
逸見　恵次
Masahiro Kei
正博 閨
Naoki Fukami
深見　直喜
Shinji Hashimoto
眞志 橋本
Hirokazu Tanaka
田中　洋和
Natsuko Kayakiri
奈津子 茅切
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は新規ペプチド化合物お
よび医薬として許容されるその塩に関する。さらに詳細
には、この発明はエンドセリン拮抗作用等のような薬理
作用を有する新規ペプチド化合物および医薬として許容
されるその塩、その製造法、ならびにそれを含有する医
薬組成物に関する。この発明の一つの目的は、エンドセ
リン拮抗作用等のような薬理作用を有する新規かつ有用
なペプチド化合物および医薬として許容されるその塩を
提供することである。この発明のもう一つの目的は、前
記ペプチド化合物およびその塩の製造法を提供すること
である。この発明のさらにもう一つの目的は、有効成分
として前記ペプチド化合物または医薬として許容される
その塩を含有する医薬組成物を提供することである。
【０００２】
【課題を解決するための手段】この発明の目的化合物は
下記一般式（Ｉ）で示すことができる。 ［式中、Ｒ１は水素原子またはアシル基、Ｒ２は低級ア
ルキル基、置換されていてもよいアル（低級）アルキル
基、シクロ（低級）アルキル（低級）アルキル基または
置換されていてもよい複素環（低級）アルキル基、Ｒ３
は置換されていてもよい複素環（低級）アルキル基また
は置換されていてもよいアル（低級）アルキル基、Ｒ４
は水素原子または置換されていてもよい低級アルキル基
、Ｒ５はカルボキシ基、保護されたカルボキシ基、カル
ボキシ（低級）アルキル基または保護されたカルボキシ
（低級）アルキル基、Ｒ６は水素原子または置換されて
いてもよい低級アルキル基、Ｒ７は水素原子または低級
アルキル基、Ａは−Ｏ−、−ＮＨ−、低級アルキルイミ
ノ基または低級アルキレン基を意味する。但し、Ｒ２が
（Ｓ）−イソブチル基、Ｒ３がＮ−（ジクロロベンジル
オキシカルボニル）インドール−３−イルメチル基、Ｒ
４がメチル基、Ｒ５がメトキシカルボニル基、Ｒ６が水
素原子、Ｒ７が水素原子およびＡが−ＮＨ−の場合、部
分構 とりわけ、下記式（Ｉ′）で示される化合物はエンドセ
リン拮抗物質等としてさらに有用である。 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７お
よびＡはそれぞれ前と同じ意味）。
【０００３】さらに、最も有効な作用を有する化合物（
Ｉ）は下記式で示すことができる。 （式中、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７およびＡはそれぞれ前
と同じ意味であり、 この発明に従って、新規ペプチド化合物（Ｉ）およびそ
の塩は、下記反応式で示される製造法によって製造する
ことができる。
【０００４】各製造法の原料化合物については、それら
のあるものは新規であり、下記の方法および／または後
述の製造例に記載した操作法または常法によって製造す
ることができる。 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７お
よびＡはそれぞれ前と同じ意味であり、Ｒ８はアミノ保
護基、Ｒ９は保護されたカルボキシ基を意味する。）こ
の明細書全体を通じてアミノ酸、ペプチド、保護基、縮
合剤等は、この技術分野で共通して使用されるＩＵＰＡ
Ｃ−ＩＵＢ（生物学命名法委員会）に従った略号によっ
て示されている。さらに、特別に指示がなければ、アミ
ノ酸およびそれらの残基をそのような略号で示す場合に
は、Ｌ型立体配置の化合物および残基を意味し、一方で
はＤ型立体配置の化合物および残基はＤ−の記載で示す
。目的化合物（Ｉ）の医薬として許容される好適な塩類
は常用の無毒性塩であり、例えば酢酸塩、トリフルオロ
酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、フマル酸塩、メタン
スルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ギ酸塩、トルエ
ンスルホン酸塩等の有機酸塩、例えば塩酸塩、臭化水素
酸塩、沃化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等の無
機酸塩のような酸付加塩、または例えばアルギニン、ア
スパラギン酸、グルタミン酸等のアミノ酸との塩、例え
ばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、例え
ばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土金属塩
、アンモニウム塩、例えばトリメチルアミン塩、トリエ
チルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキ
シルアミン塩、Ｎ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジアミン
塩等の有機塩基塩等のような塩基との塩が挙げられる。
【０００５】この明細書の以上および以下の記載におい
て、この発明の範囲内に包含される種々の定義の好適な
例および説明を以下詳細に説明する。特に指示がなけれ
ば、「低級」とは炭素原子１個ないし６個好ましくは１
個ないし４個を意味するものとし、「高級」とは炭素原
子６個を超える数、好ましくは７個ないし１２個を意味
するものとする。好適な「アシル基」としては、カルボ
ン酸、炭酸、カルバミン酸、スルホン酸のような酸から
由来する脂肪族アシル基、芳香族アシル基、複素環式ア
シル基および芳香族基または複素環基で置換された脂肪
族アシル基が挙げられる。
【０００６】脂肪族アシル基としては、カルバモイル基
、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル
、イソブチリル、３，３−ジメチルブチリル、４，４−
ジメチルバレリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイ
ル、ヘキサノイル、３−メチルバレリル等の低級アルカ
ノイル基、例えばメシル、エタンスルホニル、プロパン
スルホニル等の低級アルカンスルホニル基、例えばメト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカル
ボニル、ブトキシカルボニル、第三級ブトキシカルボニ
ル等の低級アルコキシカルボニル基、例えばアクリロイ
ル、メタクリロイル、クロトノイル等の低級アルケノイ
ル基、例えばシクロヘキサンカルボニル等の（Ｃ３−Ｃ
７）シクロアルカンカルボニル基、例えばシクロヘキシ
ルアセチル等の（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキル（低級）
アルカノイル基、アミジノ基、例えばメトキサリル、エ
トキサリル、第三級ブトキサリル等の低級アルコキサリ
ルのような保護されたカルボキシカルボニル基、例えば
シクロヘキシルオキシカルボニル等のＣ３−Ｃ７シクロ
アルキルオキシカルボニル基、例えば３−モルホリノカ
ルボニルプロパノイル等のモルホリノカルボニル（低級
）アルカノイルのような複素環式アシル［その例として
は後記のものを挙げることができる］（低級）アルカノ
イル基、例えばメチルカルバモイル、エチルカルバモイ
ル、プロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル
、ブチルカルバモイル、２−メチルブチルカルバモイル
、ペンチルカルバモイル、１，３−ジメチルブチルカル
バモイル、ヘキシルカルバモイル、ヘプチルカルバモイ
ル、オクチルカルバモイル、ノニルカルバモイル等の低
級または高級アルキルカルバモイル基、例えばＮ−メチ
ル−Ｎ−エチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、
ジエチルカルバモイル、ジプロピルカルバモイル、ジイ
ソプロピルカルバモイル、ジブチルカルバモイル、ジイ
ソブチルカルバモイル、ジヘキシルカルバモイル等のジ
（低級）アルキルカルバモイル基、例えばシクロプロピ
ルカルバモイル、シクロブチルカルバモイル、シクロペ
ンチルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、シ
クロヘプチルカルバモイル等のＣ３−Ｃ７シクロアルキ
ルカルバモイル基、例えばＮ−メチル−Ｎ−シクロプロ
ピルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキシルカ
ルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−シクロヘキシルカルバモ
イル、Ｎ−プロピル−Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル
等のＮ−低級アルキル−Ｎ−（Ｃ３−Ｃ７）シクロアル
キルカルバモイル基、例えばジシクロプロピルカルバモ
イル、ジシクロペンチルカルバモイル、ジシクロヘキシ
ルカルバモイル等のジ（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキルカ
ル　　バモイル基、例えばＮ−（１−（または４−）ジ
メチルカルバモイルシクロヘキシル）カルバモイル等の
Ｎ−［ジ（低級）アルキルカルバモイル（Ｃ３−Ｃ７）
シクロアルキル］カルバモイル基、例えばＮ−［１−（
または４−）（ジメチルカルバモイルメチル）シクロヘ
キシル］カルバモイル等のＮ−［ジ（低級）アルキルカ
ルバモイル（低級）アルキル（Ｃ３−Ｃ７）シクロアル
キル］カルバモイル基、例えばＮ−［１−カルバモイル
−２−メチルブチル］カルバモイル等のＮ−［カルバモ
イル（低級）アルキル］カルバモイル基、例えばＮ−（
１−イソプロピルカルバモイル−２−メチルブチル）カ
ルバモイル等のＮ−［Ｎ−（低級）アルキルカルバモイ
ル（低級）アルキル］カルバモイル基、例えばＮ−［２
−メチル−１−（ピペリジノカルボニル）ブチル］カル
バモイル等のＮ−［Ｎ，Ｎ−低級アルキレンカルバモイ
ル（低級）アルキル］カルバモイル基、例えばＮ−（ジ
メチルカルバモイルメチル）カルバモイル、Ｎ−［１−
（または２−）（ジメチルカルバモイル）エチル］カル
バモイル、Ｎ−［１−（ジメチルカルバモイル）−２−
メチルプロピル］カルバモイル、Ｎ−［２，２−ジメチ
ル−１−（ジメチルカルバモイル）プロピル］カルバモ
イル、Ｎ−［２−メチル−１−（ジメチルカルバモイル
）ブチル］カルバモイル、Ｎ−［２−メチル−１−（ジ
エチルカルバモイル）ブチル］カルバモイル、Ｎ−［３
−メチル−１−（ジメチルカルバモイル）ブチル］カル
バモイル、Ｎ−（１−ジメチルカルバモイルペンチル）
カルバモイル等のＮ−［Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルカ
ルバモイル（低級）アルキル］カルバモイル基、例えば
Ｎ−メチル−Ｎ−［１−ジメチルカルバモイル−２−メ
チルブチル］カルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−［１−ジ
メチルカルバモイル−３−メチルブチル］カルバモイル
等のＮ−（低級）アルキル−Ｎ−［Ｎ，Ｎ−ジ（低級）
アルキルカルバモイル］（低級）アルキルカルバモイル
基、例えばＮ−（１−シクロヘキシルカルバモイル−２
−メチルブチル）カルバモイル等のＮ−［Ｎ−（低級）
シクロアルキルカルバモイル（低級）アルキル］カルバ
モイル基等のような飽和または不飽和、非環式または環
式アシル基が挙げられる。
【０００７】芳香族アシル基としては、例えばベンゾイ
ル、トルオイル、キシロイル、ナフトイル等の（Ｃ６−
Ｃ１０）アロイル基、例えばベンゼンスルホニル、トシ
ル等の（Ｃ６−Ｃ１０）アレーンスルホニル基、例えば
フェニルカルバモイル、トリルカルバモイル等の（Ｃ６
−Ｃ１０）アリールカルバモイル基、例えばフェニルオ
キサリル等の（Ｃ６−Ｃ１０）アリールオキサリル等が
挙げられる。複素環としては後記のものを挙げることが
できる複素環式アシル基としては、例えばフロイル、テ
ノイル、２−（または３−または４−）ピリジルカルボ
ニル、チアゾリルカルボニル、チアジアゾリルカルボニ
ル、テトラゾリルカルボニル、ピペラジニルカルボニル
、モルホリノカルボニル、チオモルホリノカルボニル、
インドリルカルボニル等の複素環カルボニル基、例えば
アジリジン−１−イルカルボニル、アゼチジン−１−イ
ルカルボニル、ピロリジン−１−イルカルボニル、ピペ
リジン−１−イルカルボニル、ヘキサヒドロ−１Ｈ−ア
ゼピン−１−イルカルボニル、オクタヒドロアゾシン−
１−イルカルボニル、テトラヒドロキノリンカルボニル
、テトラヒドロイソキノリンカルボニル、ジヒドロピリ
ジンカルボニル、テトラヒドロピリジンカルボニル等の
低級または高級アルキレンアミノカルボニル基、例えば
ピリジルカルバモイル、ピペリジルカルバモイル、ヘキ
サヒドロ−１Ｈ−アゼピニルカルバモイル等の複素環（
その複素環基は後記のものを挙げることができる。）カ
ルバモイル基等が挙げられる。芳香族基で置換された脂
肪族アシル基としては、例えばフェニルアセチル、フェ
ニルプロピオニル、フェニルヘキサノイル、ナフチルア
セチル等のフェニル（低級）アルカノイル基のような（
Ｃ６−Ｃ１０）アル（低級）アルカノイル基、例えばベ
ンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル
等のフェニル（低級）アルコキシカルボニル基のような
（Ｃ６−Ｃ１０）アル（低級）アルコキシカルボニル基
、例えばフェノキシアセチル、フェノキシプロピオニル
等のフェノキシ（低級）アルカノイル基、例えばベンジ
ルオキサリル等のフェニル（低級）アルコキサリル基の
ような（Ｃ６−Ｃ１０）アル（低級）アルコキサリル基
、例えばシンナモイル等のフェニル（低級）アルケノイ
ル基のような（Ｃ６−Ｃ１０）アル（低級）アルケノイ
ル基、例えばベンジルスルホニル等の（Ｃ６−Ｃ１０）
アル（低級）アルキルスルホニル基等が挙げられる。
【０００８】複素環基で置換された脂肪族アシル基とし
ては、例えばチエニルアセチル、イミダゾリルアセチル
、フリルアセチル、テトラゾリルアセチル、チアゾリル
アセチル、チアジアゾリルアセチル、チエニルプロピオ
ニル、チアジアゾリルプロオニル、ピリジルアセチル等
の複素環［その複素環基は後記のものを挙げることがで
きる。］（低級）アルカノイル基、例えばピリジルメチ
ルカルバモイル、モルホリノエチルカルバモイル等の複
素環［その複素環基は後記のものを挙げることができる
。］（低級）アルキルカルバモイル基等が挙げられる。
【０００９】これらのアシル基はさらに、水酸基、例え
ばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低級アルキル基
、例えば塩素、臭素、沃素、フッ素のようなハロゲン、
カルバモイル基、オキソ基、ジ（低級）アルキルカルバ
モイル基、アミノ基、例えばホルムアミド、アセトアミ
ド、プロピオンアミド等の低級アルカノイルアミノ基の
ような保護されたアミノ基、例えば第三級ブトキシカル
ボニルアミノ等の低級アルコキシカルボニルアミノ基、
例えばメチルスルホニル等の低級アルキルスルホニル基
、例えばフェニルスルホニル、トシル等のアリールスル
ホニル基、例えばベンジル等のアル（低級）アルキル基
、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポ
キシ、ブトキシ、第三級ブトキシ等の低級アルコキシ基
、カルボキシ基、後述のような保護されたカルボキシ基
、例えばカルボキシメチル、カルボキシエチル等のカル
ボキシ（低級）アルキル基、例えば第三級ブトキシカル
ボニルメチル等の保護されたカルボキシ（低級）アルキ
ル基等のような置換基１個以上、望ましくは１個ないし
３個で置換されていてもよい。適当な置換基１ないし２
個以上、好ましくは１ないし３個でさらに置換されてた
前記アシル基の好適な例としては、例えば２−クロロフ
ェニルアセチル等のハロフェニル（低級）アルカノイル
基、例えば４−アミノフェニルアセチル等の（アミノフ
ェニル）（低級）アルカノイル基、例えば４−（第三級
ブトキシカルボニルアミノ）フェニルアセチル等の［（
低級アルコキシカルボニルアミノ）フェニル］（低級）
アルカノイル基、例えば２−アミノ−３−メチルペンタ
ノイル等のアミノ（低級）アルカノイル基、例えば２−
（第三級ブトキシカルボニルアミノ）−３−メチルペン
タノイル等の（低級アルコキシカルボニルアミノ）（低
級）アルカノイル基、例えば２−アミノ−２−フェニル
アセチル、２−（第三級ブトキシカルボニルアミノ）−
２−フェニルアセチル等の適当な置換基（例えばフェニ
ル、アミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ等）で置
換された低級アルカノイル基、例えば２，６−（または
３，５−）ジメチルピペリジン−１−イルカルボニル等
のジ（低級）アルキルピペリジニルカルボニル基、例え
ば４−（ジメチルカルバモイル）ピペリジン−１−イル
カルボニル等）の［ジ（低級）アルキルカルバモイル］
ピペリジニルカルボニル基、例えば２−（ジメチルカル
バモイル）ピロリジン−１−イルカルボニル等の［ジ（
低級）アルキルカルバモイル］ピロリジニルカルボニル
基、例えば４−メチル−３−オキソ−２−（１−メチル
プロピル）ピペラジン−１−イルカルボニル等の適当な
置換基（例えば低級アルキル、オキソ等）で置換された
ピペラジニルカルボニル基、例えばＮ−メチル−Ｎ−（
２−ヒドロキシエチル）カルバモイル等のＮ−（低級）
アルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキル］カルバ
モイル基、例えばＮ−｛１−（ヒドロキシメチル）−３
−メチルブチル｝カルバモイル等のＮ−［ヒドロキシ（
低級）アルキル］カルバモイル基、例えばＮ−（シクロ
ヘキシルメチル）カルバモイル等のＮ−［（Ｃ３−Ｃ７
）シクロアルキル）（低級）アルキル］カルバモイル基
、例えばＮ−（１−カルボキシ−２−メチルブチル）カ
ルバモイル等のＮ−［カルボキシ（低級）アルキル］カ
ルバモイル［例えばＮ−（１−カルボキシ−２−メチル
ブチル）カルバモイル基、例えばＮ−（１−メトキシカ
ルボニル−２−メチルブチル）カルバモイル等のＮ−［
（低級）アルコキシカルボニル（低級）アルキル］カル
バモイル基、例えばε−カプロラクタム−３−イル等の
｛オキソ（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピニル｝カルバモ
イルなどのような（オキソ複素環）カルバモイル基［前
記複素環基は後記のものを挙げることができる。］、例
えばＮ−（Ｎ−エトキシカルボニルピペリジン−４−イ
ル）カルバモイル等のＮ−［Ｎ−（低級）アルコキシカ
ルボニルピペリジニル］カルバモイル基、例えばＮ−｛
１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−１−フェニル
メチル｝カルバモイル、Ｎ−｛１−（Ｎ，Ｎ−ジメチル
カルバモイル）−１−シクロヘキシルメチル｝カルバモ
イル等のフェニル基またはシクロ（低級）アルキル基で
置換されたＮ−［Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルカルバモ
イル（低級）アルキル］カルバモイル基、例えばＮ−（
４−ヒドロキシシクロヘキシル）カルバモイル等のＮ−
［ヒドロキシ（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキル］カルバモ
イル基、例えばＮ−（４−メトキシフェニル）カルバモ
イル等のＮ−（低級アルコキシフェニル）カルバモイル
基、例えばＮ−（２−メチルプロパノイルアミノ）カル
バモイル等のＮ−（低級アルカノイルアミノ）カルバモ
イル基などが挙げられる。アシル基の好ましい例として
は、カルバモイル基、例えばホルミル、アセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、イソブチリル、３，３−ジメチル
ブチリル、４，４−ジメチルバレリル、バレリル、イソ
バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、３−メチルバレ
リル等の低級アルカノイル基、例えばメトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブト
キシカルボニル、第三級ブトキシカルボニル等の低級ア
ルコキシカルボニル基、例えばアクリロイル、メタクリ
ロイル、クロトノイル等の低級アルケノイル基、例えば
シクロヘキサンカルボニル等の（Ｃ３−Ｃ７）シクロア
ルカンカルボニル基、例えばシクロヘキシルアセチル等
の（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキル（低級）アルカノイル
基、例えばシクロヘキシルオキシカルボニル等のＣ３−
Ｃ７シクロアルキルオキシカルボニル基、例えば３−モ
ルホリノカルボニルプロパノイル等のモルホリノカルボ
ニル（低級）アルカノイル基、例えばメチルカルバモイ
ル、エチルカルバモイル、プロピルカルバモイル、イソ
プロピルカルバモイル、ブチルカルバモイル、２−メチ
ルブチルカルバモイル、ペンチルカルバモイル、１，３
−ジメチルブチルカルバモイル、ヘキシルカルバモイル
、ヘプチルカルバモイル、オクチルカルバモイル、ノニ
ルカルバモイル等の低級または高級アルキルカルバモイ
ル基、例えばＮ−メチル−Ｎ−エチルカルバモイル、ジ
メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジプロピ
ルカルバモイル、ジイソプロピルカルバモイル、ジブチ
ルカルバモイル、ジイソブチルカルバモイル、ジヘキシ
ルカルバモイル等のジ（低級）アルキルカルバイル基、
例えばシクロプロピルカルバモイル、シクロブチルカル
バモイル、シクロペンチルカルバモイル、シクロヘキシ
ルカルバモイル、シクロヘプチルカルバモイル等のＣ３
−Ｃ７シクロアルキルカルバモイル基、例えばＮ−メチ
ル−Ｎ−シクロプロピルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ
−シクロヘキシルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−シク
ロヘキシルカルバモイル、Ｎ−プロピル−Ｎ−シクロヘ
キシルカルバモイル等のＮ−低級アルキル−Ｎ−（Ｃ３
−Ｃ７）シクロアルキルカルバモイル基、例えばジシク
ロプロピルカルバモイル、ジシクロペンチルカルバモイ
ル、ジシクロヘキシルカルバモイル等のジ（Ｃ３−Ｃ７
）シクロアルキルカルバモイル基、例えばＮ−（１−ま
たは４−）ジメチルカルバモイルシクロヘキシル）カル
バモイル等のＮ−［ジ（低級）アルキルカルバモイル（
Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキル］カルバモイル基、例えば
Ｎ−［１−（または４−）（ジメチルカルバモイルメチ
ル）シクロヘキシル］カルバモイル等のＮ−［ジ（低級
）アルキルカルバモイル（低級）アルキル（Ｃ３−Ｃ７
）シクロアルキル］カルバモイル基、例えばＮ−［１−
カルバモイル−２−メチルブチル］カルバモイル等のＮ
−［カルバモイル（低級）アルキル］カルバモイル基、
例えばＮ−（１−イソプロピルカルバモイル−２−メチ
ルブチル）カルバモイル等のＮ−［Ｎ−（低級）アルキ
ルカルバモイル（低級）アルキル］カルバモイル基、例
えばＮ−［２−メチル−１−（ピペリジノカルボニル）
ブチル］カルバモイル等のＮ−［Ｎ，Ｎ−低級アルキレ
ンカルバモイル（低級）アルキル］カルバモイル基、例
えばＮ−（ジメチルカルバモイルメチル）カルバモイル
、Ｎ−［１−（または２−）ジメチルカルバモイル）エ
チル］カルバモイル、Ｎ−［１−（ジメチルカルバモイ
ル）−２−メチルプロピル］カルバモイル、Ｎ−［２，
２−ジメチル−１−（ジメチルカルバモイル）プロピル
］カルバモイル、Ｎ−［２−メチル−１−（ジメチルカ
ルバモイル）ブチル］カルバモイル、Ｎ−［２−メチル
−１−（ジエチルカルバモイル）ブチル］カルバモイル
、Ｎ−［３−メチル−１−（ジメチルカルバモイル）ブ
チル］カルバモイル、Ｎ−（１−ジメチルカルバモイル
ペンチル）カルバモイル等のＮ−［Ｎ，Ｎ−ジ（低級）
アルキルカルバモイル（低級）アルキル］カルバモイル
基、例えばＮ−メチル−Ｎ−［１−ジメチルカルバモイ
ル−２−メチルブチル］カルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ
−［１−ジメチルカルバモイル−３−メチルブチル］カ
ルバモイル等のＮ−（低級）アルキル−Ｎ−［Ｎ，Ｎ−
ジ（低級）アルキルカルバモイル］（低級）アルキルカ
ルバモイル基、例えばＮ−（１−シクロヘキシルカルバ
モイル−２−メチルブチル）カルバモイル等のＮ−［Ｎ
−（低級）シクロアルキルカルバモイル（低級）アルキ
ル］カルバモイル基、例えばベンゾイル、トルオイル、
キシロイル、ナフトイル等の（Ｃ６−Ｃ１０）アロイル
基、例えばフェニルカルバモイル、トリルカルバモイル
等の（Ｃ６−Ｃ１０）アリールカルバモイル基、例えば
フェニルオキサリル等の（Ｃ６−Ｃ１０）アリールオキ
サリル基、フロイル、テノイル、２−（または３−また
は４−）ピリジルカルボニル、チアゾリルカルボニル、
チアジアゾリルカルボニル、テトラゾリルカルボニル、
ピペラジニルカルボニル、モルホリノカルボニル、チオ
モルホリノカルボニル、インドリルカルボニル、例えば
アジリジン−１−イルカルボニル、アゼチジン−１−イ
ルカルボニル、ピロリジン−１−イルカルボニル、ピペ
リジン−１−イルカルボニル、ヘキサヒドロ−１Ｈ−ア
ゼピン−１−イルカルボニル、オクタヒドロアゾシン−
１−イルカルボニル、テトラヒドロキノリンカルボニル
、テトラヒドロイソキノリンカルボニル、ジヒドロピリ
ジンカルボニル、テトラヒドロピリジンカルボニル等の
低級アルキレンアミノカルボニル基、ピリジルカルバモ
イル基、ピペリジルカルバモイル基、ヘキサヒドロ−１
Ｈ−アゼピニルカルバモイル基、例えばフェニルアセチ
ル、フェニルプロピオニル、フェニルヘキサノイル、ナ
フチルアセチル等のフェニル（低級）アルカノイルのよ
うな（Ｃ６−Ｃ１０）アル（低級）アルカノイル基、例
えばベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカル
ボニル等のフェニル（低級）アルコキシカルボニルのよ
うな（Ｃ６−Ｃ１０）アル（低級）アルコキシカルボニ
ル基、例えばベンジルオキサリル等のフェニル（低級）
アルコキサリルのような（Ｃ６−Ｃ１０）アル（低級）
アルコキサリル基、例えばシンナモイル等のフェニル（
低級）アルケノイルのような（Ｃ６−Ｃ１０）アル（低
級）アルケノイル基、例えばベンジルスルホニル等の（
Ｃ６−Ｃ１０）アル（低級）アルキルスルホニル基、チ
エニルアセチル基、イミダゾリルアセチル基、フリルア
セチル基、テトラゾリルアセチル基、チアゾリルアセチ
ル基、チアジアゾリルアセチル基、チエニルプロピオニ
ル基、チアジアゾリルプロピオニル基、ピリジルアセチ
ル基、ピリジルメチルカルバモイル基、モルホリノエチ
ルカルバモイル基、例えば２−クロロフェニルアセチル
等のハロフェニル（低級）アルカノイル基、例えば４−
アミノフェニルアセチル等の（アミノフェニル）（低級
）アルカノイル基、例えば４−（第三級ブトキシカルボ
ニルアミノ）フェニルアセチル等の［（低級アルコキシ
カルボニルアミノ）フェニル］（低級）アルカノイル基
、例えば２−アミノ−３−メチルペンタノイル等のアミ
ノ（低級）アルカノイル基、例えば２−（第三級ブトキ
シカルボニルアミノ）−３−メチルペンタノイル等の（
低級）アルコキシカルボニルアミノ）（低級）アルカノ
イル基、例えば２−アミノ−２−フェニルアセチル、２
−（第三級ブトキシカルボニルアミノ）−２−フェニル
アセチル等の適当な置換基（例えばフェニル、アミノ、
低級アルコキシカルボニルアミノ等）で置換された低級
アルカノイル基など、例えば２，６−（または３，５−
）ジメチルピペリジン−１−イルカルボニル等のジ（低
級）アルキルピペリジニルカルボニル基、例えば４−（
ジメチルカルバモイル）ピペリジン−１−イルカルボニ
ル等の［ジ（低級）アルキルカルバモイル］ピペリジニ
ルカルボニル基、例えば２−（ジメチルカルバモイル）
ピロリジン−１−イルカルボニル等の［ジ（低級）アル
キルカルバモイル］ピロリジニルカルボニル基、例えば
４−メチル−３−オキソ−２−（１−メチルプロピル）
ピペラジン−１−イルカルボニル等の適当な置換基（例
えば低級アルキル、オキソ等）で置換されたピペラジニ
ルカルボニル基、例えばＮ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロ
キシエチル）カルバモイル等のＮ−（低級）アルキル−
Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキル］カルバモイル基、
例えばＮ−｛１−（ヒドロキシメチル）−３−メチルブ
チル｝カルバモイル等のＮ−［ヒドロキシ（低級）アル
キル］カルバモイル基、例えばＮ−（シクロヘキシルメ
チル）カルバモイル等のＮ−［（Ｃ３−Ｃ７）シクロア
ルキル）（低級）アルキル］カルバモイル基、例えばＮ
−（１−カルボキシ−２−メチルブチル）カルバモイル
等のＮ−［カルボキシ（低級）アルキル］カルバモイル
基、例えばＮ−（１−メトキシカルボニル−２−メチル
ブチル）カルバモイル等のＮ−［（低級）アルコキシカ
ルボニル（低級）アルキル］カルバモイル基、例えばε
−カプロラクタム−３−イル等の｛オキソ（ヘキサヒド
ロ−１Ｈ−アゼピニル）｝カルバモイルのような（オキ
ソ複素環）カルバモイル基、例えばＮ−（Ｎ−エトキシ
カルボニルピペリジン−４−イル）カルバモイル等のＮ
−［Ｎ−（低級）アルコキシカルボニルピペリジニル］
カルバモイル基、例えばＮ−｛１−（Ｎ，Ｎ−ジメチル
カルバモイル）−１−フェニルメチル｝カルバモイル、
Ｎ−｛１−（Ｎ，Ｎ−ジメチチルカルバモイル）−１−
シクロヘキシルメチル｝カルバモイル等のフェニルまた
はシクロ（低級）アルキルで置換されたＮ−［Ｎ，Ｎ−
ジ（低級）アルキルカルバモイル（低級）アルキル］カ
ルバモイル基、例えばＮ−（４−ヒドロキシシクロヘキ
シル）カルバモイル等のＮ−［ヒドロキシ（Ｃ３−Ｃ７
）シクロアルキル］カルバモイル基、例えばＮ−（４−
メトキシフェニル）カルバモイル等のＮ−（低級アルコ
キシフェニル）カルバモイル基、例えばＮ−（２−メチ
ルプロパノイルアミノ）カルバモイル等のＮ−（低級ア
ルカノイルアミノ）カルバモイル基などが挙げられる。
【００１０】好適な「低級アルキル基」としては、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等のような直
鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられるが、それらの中
で最も望ましい例としてはＲ２についてはイソブチル基
、１−メチルプロピル基、ｎ−ブチル基および２，２−
ジメチルプロピル基が、Ｒ７についてはメチル基が挙げ
られる。好適な「低級アルキレン基」としては、メチレ
ン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチ
レン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等のような直鎖
または分枝鎖アルキレン基が挙げられるが、それらの中
で最も望ましい例としてはメチレン基が挙げられる。
【００１１】好適な「保護されたカルボキシ基」として
は後述のエステル化されたカルボキシ基およびアミド化
されたカルボキシ基が挙げられる。前記「エステル化さ
れたカルボキシ基」としては下記のようなものが挙げら
れる。エステル化されたカルボキシ基のエステル部分の
好適な例としては、例えばメチルエステル、エチルエス
テル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチ
ルエステル、イソブチルエステル、第三級ブチルエステ
ル、ペンチルエステル、ヘキシルエステル等の低級アル
キルエステル、適当な置換基少なくとも１個を有してい
てもよい低級アルキルエステル、その例として、例えば
アセトキシメチルエステル、プロピオニルオキシメチル
エステル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオ
キシメチルエステル、ピバロイルオキシメチルエステル
、ヘキサノイルオキシメチルエステル、１−（または２
−）アセトキシエチルエステル、１−（または２−また
は３−）アセトキシプロピルエステル、１−（または２
−または３−または４−）アセトキシブチルエステル、
１−（または２−）プロピオニルオキシエチルエステル
、１−（または２−または３−）プロピオニルオキシプ
ロピルエステル、１−（または２−）ブチリルオキシエ
チルエステル、１−（または２−）イソブチリルオキシ
エチルエステル、１−（または２−）ピバロイルオキシ
エチルエステル、１−（または２−）ヘキサノイルオキ
シエチルエステル、イソブチリルオキシメチルエステル
、２−エチルブチリルオキシメチルエステル、３，３−
ジメチルブチリルオキシメチルエステル、１−（または
２−）ペンタノイルオキシエチルエステル等の低級アル
カノイルオキシ（低級）アルキルエステル、例えばフェ
ナシルエステル等のベンゾイル（低級）アルキルのよう
なアロイル（低級）アルキルエステル、例えば２−メシ
ルエチルエステル等の低級アルカンスルホニル（低級）
アルキルエステル、例えば２−ヨウドエチルエステル、
２，２，２−トリクロロエチルエステル等のモノ（また
はジまたはトリ）ハロ（低級）アルキルエステル；例え
ばメトキシカルボニルオキシメチルエステル、エトキシ
カルボニルオキシメチルエステル、プロポキシカルボニ
ルオキシメチルエステル、第三級ブトキシカルボニルオ
キシメチルエステル、１−（または２−）メトキシカル
ボニルオキシエチルエステル、１−（または２−）エト
キシカルボニルオキシエチルエステル、１−（または２
−）イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル等
の低級アルコキシカルボニルオキシ（低級）アルキルエ
ステル、フタリジリデン（低級）アルキルエステル、ま
たは例えば（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキ
ソール−４−イル）メチルエステル、（５−エチル−２
−オキソ−１，３−ジオキソール−４−イル）メチルエ
ステル、（５−プロピル−２−オキソ−１，３−ジオキ
ソール−４−イル）エチルエステル等の（５−低級アル
キル−２−オキソ−１，３−ジオキソール−４−イル）
（低級）アルキルエステル；例えばビニルエステル、ア
リルエステル等の低級アルケニルエステル；例えばエチ
ニルエステル、プロピニルエステル等の低級アルキニル
エステル；例えばベンジルエステル、４−メトキシベン
ジルエステル、４−ニトロベンジルエステル、フェネチ
ルエステル、トリチルエステル、ベンズヒドリルエステ
ル、ビス（メトキシフェニル）メチルエステル、３，４
−ジメトキシベンジルエステル、４−ヒドロキシ−３，
５−ジ第三級ブチルベンジルエステル等の適当な置換基
少なくとも１個を有していてもよいアル（低級）アルキ
ルエステル；例えばフェニルエステル、４−クロロフェ
ニルエステル、トリルエステル、第三級ブチルフェニル
エステル、キシリルエステル、メシチルエステル、クメ
ニルエステル等の適当な置換基少なくとも１個を有して
いてもよいアリールエステル；フタリジルエステル等の
ようなものが挙げられる。前記に定義されたエステル化
されたカルボキシ基の好適な例としては、低級アルコキ
シカルボニル基、フェニル（低級）アルコキシカルボニ
ル基およびベンゾイル（低級）アルコキシカルボニル基
が挙げられ、それらの中で最も望ましい例としてはメト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオ
キシカルボニル基およびフェナシルオキシカルボニル基
が挙げられる。
【００１２】「カルボキシ（低級）アルキル基」の好適
な例としてはカルボキシ基で置換された前記低級アルキ
ル基が挙げられ、それらの中で望ましい例としてはカル
ボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロ
ピル基およびカルボキシブチル基が挙げられる。「保護
されたカルボキシ（低級）アルキル基」の好適な例とし
ては既に述べた「保護されたカルボキシ基」で置換され
た前記低級アルキル基が挙げられ、それらの中でＲ５と
してより好ましい例としては低級アルコキシカルボニル
（低級）アルキル基、フェニル（低級）アルコキシカル
ボニル（低級）アルキル基およびベンゾイル（低級）ア
ルコキシカルボニル基が挙げられ、最も好ましい例とし
てはメトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニル
エチル基、メトキシカルボニルプロピル基、メトキシカ
ルボニルブチル基、フェナシルオキシカルボニルメチル
基、フェナシルオキシカルボニルエチル基、フェナシル
オキシカルボニルプロピル基およびフェナシルオキシカ
ルボニルブチル基が挙げられる。
【００１３】前記「アミド化されたカルボキシ基」とし
ては下記のものを挙げることができる。アミド化された
カルボキシ基の好適な例としては下記のものが挙げられ
る。 −カルバモイル基。 −モノ（またはジ）（低級）アルキルカルバモイル基［
その低級アルキル基は前記のものを挙げることができる
］。例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル
基、イソプロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル
基、３−メチルブチルカルバモイル基、イソブチルカル
バモイル基、ペンチルカルバモイル基、ジメチルカルバ
モイル基、ジエチルカルバモイル基等。前記低級アルキ
ル基は下記の基でさらに置換されていてもよい。カルボ
キシ基；保護されたカルボキシ基。例えば低級アルコキ
シカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル等）、アル（低級）アルコキシカルボニル基
、好ましくはフェニル（低級）アルコキシカルボニル基
（例えばベンジルオキシカルボニル等）、アロイル（低
級）アルコキシカルボニル基、好ましくはベンゾイル（
低級）アルコキシカルボニル基（例えばフェナシル等）
；アリール基（例えばフェニル、ナフチル等）；下記の
ような複素環基。例えばピリジル、ピロリジニル等の窒
素原子１ないし４個を含む５ないし６員の飽和また不飽
和複素環基であり、その複素環基はオキソ、カルボキシ
、前記の保護されたカルボキシおよびカルバモイル等の
適当な置換基でさらに置換されていてもよく、例えばカ
ルボキシ、低級アルコキシカルボニルまたはカルバモイ
ルで置換されたオキソピロリジニル基（例えば２−オキ
ソ−５−カルボキシピロリジニル、２−オキソ−５−エ
トキシカルボニルピロリジニル、２−オキソ−５−カル
バモイルピロリジニル等）；カルボキシまたは前記の保
護されたカルボキシで置換されていてもよいＣ３−Ｃ７
シクロアルキル基。例えば低級アルコキシカルボニル基
（例えばカルボキシシクロヘキシル、エトキシカルボニ
ルシクロヘキシル等）。 −（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキルカルバモイル基（例え
ばシクロヘキシルカルバモイル等）。 −アミノまたはジ（低級）アルキルアミノで置換された
カルバモイル基（例えばＮ−アミノカルバモイル、Ｎ−
（ジメチルアミノ）カルバモイル等）。 −Ｎ−（置換されていてもよい複素環）カルバモイル基
。その複素環部分は前記のものを挙げることができる。 例えば、酸素原子１ないし２個および窒素原子１ないし
３個を含む５ないし６員の複素単環基、硫黄原子１ない
し２個および窒素原子１ないし３個を含む５ないし６員
の不飽和複素単環基、硫黄原子１ないし２個および窒素
原子１ないし３個を含む７ないし１２員の不飽和縮合複
素環基、前記複素環基はそれぞれ水酸基、保護された水
酸基、ハロゲン原子、低級アルコキシ、低級アルキル、
アミノ、ニトロおよびシアノ等の適当な置換基で置換さ
れていてもよく、例えばチアゾリルカルバモイル基、ベ
ンゾチアゾリルカルバモイル基、モルホリノカルバモイ
ル基、Ｎ−（低級アルキルチアジアゾリル）カルバモイ
ル基（例えばメチルチアゾリリルカルバモイル等）が挙
げられる。 −低級アルキレンアミノカルボニル基（例えばピロリジ
ン−１−イルカルボニル、ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピ
ン−１−イルカルボニル等）。 前記アルキレン基はカルボキシ基または例えば低級アル
コキシカルボニルのような前記の保護されたカルボキシ
基で置換されていてもよく［例えばカルボキシピロリジ
ン−１−イルカルボニル、（メトキシカルボニル）ピロ
リジン −１−イルカルボニル、（エトキシカルボニル）ピロリ
ジン−１−イルカルボニル等］、また、前記低級アルキ
レン基には他のヘテロ原子、例えば窒素、酸素または硫
黄等が介在していてもよく、その例としてモルホリノカ
ルボニル基等が挙げられる。 −低級アルキルスルホニルカルバモイル基（例えばメチ
ルスルホニルカルバモイル等）。 −アレンスルホニルカルバモイル基（例えばベンゼンス
ルホニルカルバモイル等）など。前記に定義したアミド
化されたカルボキシ基の好ましい例としては、−カルバ
モイル基、 −モノ（またはジ）低級アルキルカルバモイル基（例え
ばメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、イソプロ
ピルカルバモイル、ブチルカルバモイル、３−メチルブ
チルカルバモイル、イソブチルカルバモイル、ペンチル
カルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバ
モイル等）、 −Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［カルボキシ（低級）ア
ルキル］カルバモイル基［例えばＮ−メチル−Ｎ−（カ
ルボキシメチル）カルバモイル等］、 −Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［保護されたカルボキシ
（低級）アルキル］カルバモイル基、例えばＮ−（低級
）アルキル−Ｎ−［低級アルコキシカルボニル（低級）
アルキル］カルバモイル［例えばＮ−メチル−Ｎ−（メ
トキシカルボニルメチル）カルバモイル等］、−Ｎ−［
カルボキシ（低級）アルキル］カルバモイル基［例えば
Ｎ−（カルボキシメチル）カルバモイル、Ｎ−（２−カ
ルボキシエチル）カルバモイル、Ｎ−（３−カルボキシ
プロピル）カルバモイル、Ｎ−（４−カルボキシブチル
）カルバモイル、Ｎ−（５−カルボキシペンチル）カル
バモイル、Ｎ−（１−カルボキシエチル）カルバモイル
、Ｎ−（１−カルボキシ−２−メチルプロピル）カルバ
モイル、Ｎ−（１−カルボキシ−３−メチルブチル）カ
ルバモイル、Ｎ−（１，２−ジカルボキシエチル）カル
バモイル等］、 −Ｎ−［保護されたカルボキシ（低級）アルキル］カル
バモイル基、例えばＮ−［低級アルコキシカルボニル（
低級）アルキル］カルバモイル［例えばＮ−（メトキシ
カルボニルメチル）カルバモイル、Ｎ−（２−メトキシ
カルボニルエチル）カルバモイル、Ｎ−（３−メトキシ
カルボニルプロピル）カルバモイル、Ｎ−（４−メトキ
シカルボニルブチル）カルバモイル、Ｎ−（５−メトキ
シカルボニルペンチル）カルバモイル、Ｎ−［１，２−
ビス（メトキシカルボニル）エチル］カルバモイル等］
、Ｎ−［アル（低級）アルコキシカルボニル（低級）ア
ルキル］カルバモイル、好ましくはＮ−［フェニル（低
級）アルコキシカルボニル（低級）アルキル］カルバモ
イル［例えばＮ−（ベンジルオキシカルボニルメチル）
カルバモイル、Ｎ−（２−ベンジルオキシカルボニルエ
チル）カルバモイル、Ｎ−（３−ベンジルオキシカルボ
ニルプロピル）カルバモイル、Ｎ−（４−ベンジルオキ
シカルボニルブチル）カルバモイル、Ｎ−（５−ベンジ
ルオキシカルボニルペンチル）カルバモイル等］、Ｎ−
［｛アロイル（低級）アルコキシ｝（低級）アルキル］
カルバモイル、好ましくは［ベンゾイル（低級）アルコ
キシ（低級）アルキル］カルバモイル［例えばＮ−（フ
ェナシルオキシカルボニルメチル）カルバモイル、Ｎ−
（２−フェナシルオキシカルボニルエチル）カルバモイ
ル、Ｎ−（３−フェナシルオキシカルボニルプロピル）
カルバモイル、Ｎ−（４−フェナシルオキシカルボニル
ブチル）カルバモイル、Ｎ−（５−フェナシルオキシカ
ルボニルペンチル）カルバモイル、Ｎ−（１−フェナシ
ルオキシエチル）カルバモイル、Ｎ−（１−フェナシル
オキシ−２−メチルプロピル）カルバモイル、Ｎ−（１
−フェナシルオキシ−３−メチルブチル）カルバモイル
等］、 −アリール基で置換されたＮ−［カルボキシ（低級）ア
ルキル］カルバモイル基、例えばフェニルまたはナフチ
ルで置換されたＮ−［カルボキシ（低級）アルキル］カ
ルバモイル［例えばＮ−（１−カルボキシ−２−フェニ
ルエチル）カルバモイル等］、 −アリール基で置換されたＮ−［保護されたカルボキシ
（低級）アルキル］カルバモイル基、例えばフェニルま
たはナフチルで置換されたＮ−［｛低級アルコキシカル
ボニル｝（低級）アルキル］カルバモイル［例えばＮ−
（１−エトキシカルボニル−２−フェニルエチル）カル
バモイル等）、 −複素環基（例えばピロリル、ピロリニル、イミダゾリ
ル、ピラゾリル、ピリジルおよびそのＮ−オキシド、ピ
リミジル、ピラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル、
テトラゾリルおびジヒドロトリアジニル）で置換された
Ｎ−［カルボキシ（低級）アルキル］カルバモイル基、
例えばＮ−｛１−カルボキシ−２−（ピリジン−２−イ
ル）エチル｝カルバモイル等、 −複素環基（例えばピロリル、ピロリニル、イミダゾリ
ル、ピラゾリル、ピリジルおよびそのＮ−オキシド、ピ
リミジル、ピラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル、
テトラゾリルおよびジヒドロトリアジニル）で置換され
たＮ−［保護されたカルボキシ（低級）アルキル］カル
バモイル基、例えばＮ−｛１−エトキシカルボニル−２
−（ピリジン−２−イル）エチル｝カルバモイル等、−
Ｎ−［アリール（低級）アルキル］カルバモイル基、例
えばフェニル（低級）アルキルカルバモイル（例えばＮ
−ベンジルカルバモイル等）、 −Ｎ−［｛カルボキシ（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキル｝
（低級）アルキル］カルバモイル基、例えばＮ−（４−
カルボキシシクロヘキシルメチル）カルバモイル等、−
Ｎ−［｛保護されたカルボキシ（Ｃ３−Ｃ７）シクロア
ルキル｝（低級）アルキル］カルバモイル基、例えばＮ
−［｛低級アルコキシカルボニル（Ｃ３−Ｃ７）シクロ
アルキル｝（低級）アルキル］カルバモイル［例えばＮ
−（４−エトキシカルボニルシクロヘキシルメチル）カ
ルバモイル等］、 −Ｎ−［複素環（低級）アルキル］カルバモイル基［そ
の複素環はアゼチジニル、ピロリジニル、イミダゾリジ
ニル、ピペリジニル、ピラゾリジニルおよびピペラジニ
ルである］、例えばＮ−［ピロリジニル（低級）アルキ
ル］カルボニル［例えばＮ−｛２−（ピロリジン−１−
イル）エチル｝カルバモイル等。前記複素環基はオキソ
、カルボキシ、前記の保護されたカルボキシおよびカル
バモイルなどの適当な置換基で置換されていてもよく（
例えばカルボキシ、低級アルコキシカルボニルまたはカ
ルバモイルで置換されたオキソピロリジニル基等）、例
えば２−オキソ−５−カルボキシピロリジニル、２−オ
キソ−５−エトキシカルボニルピロリジニル、２−オキ
ソ−５−カルバモイルピロリジニル等である；−（Ｃ３
−Ｃ７）シクロアルキルカルバモイル基、例えばシクロ
ヘキシルカルバモイル等、 −アミノまたはジ（低級）アルキルアミノで置換された
カルバモイル基、例えばＮ−アミノカルバモイル、Ｎ−
（ジメチルアミノ）カルバモイル等、 −Ｎ−（置換されていてもよい複素環）カルバモイル基
［その複素環部分はチアゾリル、１，２−チアゾリル、
チアゾリニル、チアジアゾリル、チアゾリジニル、ベン
ゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、モルホリニル等
である］、例えばチアゾリルカルバモイル、ベンゾチア
ゾリルカルバモイルおよびモルホリニルカルバモイル等
。前記複素環基は低級アルキルで置換されていてもよく
、例えばＮ−（低級アルキルチアジアゾリル）カルバモ
イル（例えばメチルチアジアゾリルカルバモイル等）で
ある； −低級アルキレンアミノカルボニル（例えばピロリジン
−１−イルカルボニル、ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン
−１−イルカルボニル等）、 −カルボキシ基または低級アルコキシカルボニル等の保
護されたカルボキシ基で置換された低級アルキレンアミ
ノカルボニル基、例えば２−カルボキシピロリジン−１
−イルカルボニル、２−（メトキシカルボニル）ピロリ
ジン−１−イルカルボニル、２−（エトキシカルボニル
）ピロリジン−１−イルカルボニル等、−低級アルキレ
ンアミノカルボニル基［その低級アルキレンには酸素が
介在している］、例えばモルホリノカルボニル等、 −低級アルキルスルホニルカルバモイル基、例えばメチ
ルスルホニルカルバモイル等、 −Ｃ６−Ｃ１０アレンスルホニルカルバモイル基、例え
ばベンゼンスルホニルカルバモイル等）などが挙げられ
る。 「置換されていてもよい複素環（低級）アルキル基」の
好適な例としては、酸素、硫黄、窒素などのヘテロ原子
を少なくとも１個含む飽和または不飽和複素単環基また
は複素多環基で置換された前記低級アルキル基が挙げら
れる。より好ましい複素環部分としては、下記の如き複
素環基が挙げられる。窒素原子１ないし４個を含む３な
いし８員、好ましくは５ないし６員の不飽和複素単環基
、例えばピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、ピラゾ
リル、ピリジルおよびそのＮ−オキシド、ピリミジル、
ピラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル（例えば４Ｈ
−１，２，４−トリアゾリル、１Ｈ−１，２，３−トリ
アゾリル、２Ｈ−１，２，３−トリアゾリル等）、テト
ラゾリル（例えば１Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テトラゾ
リル等）、ジヒドロトリアジニル（例えば４，５−ジヒ
ドロ−１，２，４−トリアジニル、２，５−ジヒドロ−
１，２，４−トリアジニル等）など、窒素原子１ないし
４個を含む３ないし８員、好ましくは５ないし６員の飽
和複素単環基、例えばアゼチジニル、ピロリジニル、イ
ミダゾリジニル、ピペリジニル、ピラゾリジニル、ピペ
ラジニル等、窒素原子１ないし５個を含む７ないし１２
員の不飽和縮合複素環基、例えばインドリル、イソイン
ドリル、インドリジニル、ベンズイミダゾリル、キノリ
ル、イソキノリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル
、テトラゾロピリジル、テトラゾロピリダジニル（例え
ばテトラゾロ［１，５−ｂ］ピリダジニル等）、ジヒド
ロトリアゾロピリダジニル等、酸素原子１ないし２個お
よび窒素原子１ないし３個を含む３ないし８員、好まし
くは５ないし６員の不飽和複素単環基、例えばオキサゾ
リル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル（例えば１
，２，４−オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジア
ゾリル、１，２，５−オキサジアゾリル等）など、酸素
原子１ないし２個および窒素原子１ないし３個を含む３
ないし８員、好ましくは５ないし６員の飽和複素単環基
、例えばモルホリニル等、酸素原子１ないし２個および
窒素原子１ないし３個を含む７ないし１２員の不飽和縮
合複素環基、例えばベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサ
ジアゾリル等、硫黄原子１ないし２個および窒素原子１
ないし３個を含む３ないし８員、好ましくは５ないし６
員の不飽和複素単環基、例えばチアゾリル、１，２−チ
アゾリル、チアゾリニル、チアジアゾリル（例えば１，
２，４−チアジアゾリル、１３，４−チアジアゾリル、
１，２，５−チアジアゾリル、１，２，３−チアジアゾ
リル）等、硫黄原子１ないし２個および窒素原子１ない
し３個を含む３ないし８員、好ましくは５ないし６員の
飽和複素単環基、例えばチアゾリジニル等、硫黄原子１
個を含む３ないし８員、好ましくは５ないし６員の不飽
和複素単環基、例えばチエニル等、硫黄原子１ないし２
個および窒素原子１ないし３個を含む７ないし１２員の
不飽和縮合複素環基、例えばベンゾチアゾリル、ベンゾ
チアジアゾリル等；前記複素環基は１ないし２個以上、
好ましくは１ないし２個の適当な置換基で置換されてい
てもよく、それら置換基としては下記のものが挙げられ
る。水酸基、保護された水酸基、その水酸基は慣用のヒ
ドロキシ保護基、例えば前記のアシル基、トリ（低級）
アルキルシリル（例えば第三級ブチルジメチルシリル等
）などの保護基で保護されている；ハロゲン原子（例え
ば塩素、臭素、ヨウ素またはフッ素；好ましくはフッ素
）、低級アルコキシ基、直鎖または分枝状でもよく、例
えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ
、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等であり
、より好ましくはＣ１−Ｃ４アルコキシ基（例えばメト
キシ等）である；前記の低級アルキル基（例えばメチル
等）、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、など。またさら
に前記複素環基がその環にイミノ部分を持つ場合、その
イミノ部分は下記の如き適当な置換基で置換されていて
もよい。前記の低級アルキル基（例えばメチル、エチル
、プロピル、イソブチル等）、下記のイミノ保護基、よ
り好ましくは低級アルカノイルオキシカルボニル（例え
ばホルミル等）、アレンスルホニル（例えばトシル等）
など。前記の「置換されていてもよい複素環（低級）ア
ルキル基」の好ましい例としては、窒素原子１ないし４
個を含む５ないし６員の不飽和複素単環基で置換された
低級アルキル基、例えばピリジル（低級）アルキル、イ
ミダゾリル（低級）アルキル等、窒素原子１ないし５個
を含む７ないし１２員の不飽和縮合複素環基で置換され
た低級アルキル基、例えばインドリル（低級）アルキル
等、硫黄原子１ないし２個および窒素原子１ないし３個
を含む５ないし６員の不飽和複素単環基で置換された低
級アルキル基、例えばチアゾリル（低級）アルキル等、
などが挙げられる。前記複素環基は適当な置換基、例え
ば低級アルキル基（例えばメチル、エチル、プロピル、
イソブチル等）、低級アルカノイル基（例えばホルミル
等）、（Ｃ６−Ｃ１０）アレンスルホニル基（例えばト
シル等）などで置換されていてもよい。Ｒ３におけるそ
の最も好ましい例としては、ピリジル（低級）アルキル
基（例えば２−（または３−、または４−）ピリジルメ
チル等）、イミダゾリル（低級）アルキル基（例えばイ
ミダゾール−１−（または３）−イルメチル等）、イン
ドリル（低級）アルキル基（例えばインドール−３−イ
ルメチル等）、チアゾリル（低級）アルキル基（例えば
チアゾール−３−イルメチル等）、Ｎ−アレンスルホニ
ルイミダゾリル（低級）アルキル基（例えば１−トシル
イミダゾール−３−イルメチル等）、Ｎ−（低級）アル
カノイルインドリル（低級）アルキル基（例えばＮ−ホ
ルミルインドール−３−イルメチル等）およびＮ−（低
級）アルキルインドリル（低級）アルキル基（例えばＮ
−メチル（またはエチルまたはプロピルまたはイソブチ
ル）インドール−３−イルメチル等が挙げられ、Ｒ２に
おけるその最も好ましい例としては、ピリジル（低級）
アルキル基（例えば２−ピリジルメチル等）、イミダゾ
リル（低級）アルキル基（例えばイミダゾール−１（ま
たは３）−イルメチル等）およびＮ−アレンスルホニル
イミダゾリル（低級）アルキル基（例えば１−トシルイ
ミダゾール−３−イルメチル等）が挙げられる。「アル
（低級）アルキル基」の好適な例としてはＣ６−Ｃ１０
アル（低級）アルキル基、例えばフェニル（低級）アル
キル（例えばベンジル、フェネチル等）、トリル（低級
）アルキル、キシリル（低級）アルキル、ナフチル（低
級）アルキル（例えばナフチルメチル等）などが挙げら
れ、前記アル（低級）アルキル基は適当な置換基、例え
ば前記「置換されていてもよい複素環（低級）アルキル
基」の説明で述べた如き置換基で置換されていてもよい
。置換されていてもよいアル（低級）アルキル基の好ま
しい例としてはフェニル（低級）アルキル基およびナフ
チル（低級）アルキル基が挙げられるが、Ｒ２における
その最も好ましいものはベンジルおよびナフチルメチル
であり、Ｒ３におけるその最も好ましいものはベンジル
である。「低級アルキルイミノ基」の好適な例としては
前記の低級アルキル基で置換されたイミノ基であり、そ
れらの中で最も好ましいのはメチルイミノ基である。「
シクロ（低級）アルキル（低級）アルキル基」の好適な
例としては、Ｃ３−Ｃ７シクロ（低級）アルキル基、例
えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、シクロヘプチルなどで置換された前記
の低級アルキル基であり、それらの中でより好ましいの
はＣ４−Ｃ６シクロ（低級）アルキル（低級）アルキル
基であり、最も好ましいのはシクロヘキシルメチル基で
ある。「置換された低級アルキル基」の好適な例として
は、後記の置換されていてもよい複素環基（例えばピリ
ジル、チアゾリル、イミダゾリル、Ｎ−トシルイミダゾ
リル等）、後記のアリール（例えばフェニル、ナフチル
等）、アミノ、後記の保護されたアミノ（例えばベンジ
ルオキシカルボニルアミノ等）、カルボキシ、前記の保
護されたカルボキシ（例えばベンジルオキシカルボニル
等）などの適当な置換基で置換されていてもよい前記の
低級アルキル基（例えばメチル、エチル、イソプロピル
、ブチル、イソブチル等）を挙げることができる。前記
定義の「置換されていてもよい低級アルキル基」の好ま
しい例としては、低級アルキル基（例えば、イソプロピ
ル、イソブチル等）、ピリジル（低級）アルキル基［例
えば２−（または３−または４−）ピリジルメチル、２
−（２−ピリジル）エチル等］、チアゾリル（低級）ア
ルキル基（例えば３−チアゾリルメチル等）、イミダゾ
リル（低級）アルキル基［例えば２−（または３−）イ
ミダゾリルメチル等］、Ｎ−保護されたイミダゾリル（
低級）アルキル基、例えばＮ−（アレンスルホニル）イ
ミダゾリル（低級）アルキル［例えばＮ−トシル−２−
（または３−）イミダゾリルメチル等］、Ｃ６−Ｃ１０
アル（低級）アルキル基、例えばフェニル（低級）アル
キル（例えばベンジル、ナフチルメチル等）、アミノ（
低級）アルキル基（例えば４−アミノブチル等）、保護
されたアミノ（低級）アルキル基、例えばＣ６−Ｃ１０
アル（低級）アルコキシカルボニル基［例えば４−（ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ）ブチル等］、カルボキ
シ（低級）アルキル基（例えばカルボキシメチル、２−
カル　　ボキシエチル等）、保護されたカルボキシ（低
級）アルキル基、例えばＣ６−Ｃ１０アル（　　低級）
アルコキシカルボニル（低級）アルキル（例えばベンジ
ルオキシカルボ　　ニルメチル、２−ベンジルオキシカ
ルボニルエチル等）などが挙げられる。前記定義の「置
換されていてもよい低級アルキル基」のＲ４として最も
好ましいものは、イソプロピル、イソブチル、２−（ま
たは３−または４−）ピリジルメチル、２−（２−ピリ
ジル）エチル、３−チアゾリルメチル、２−（または３
−）イミダゾリルメチル、Ｎ−トシル−２−（または３
−）イミダゾリルメチル、ベンジル、ナフチルメチル、
４−アミノブチル、４−（ベンジルオキシカルボニルア
ミノ）ブチル、カルボキシメチル、２−カルボキシエチ
ル、ベンジルオキシカルボニルメチルおよび２−ベンジ
ルオキシカルボニルエチルが挙げられ、Ｒ６として最も
好ましいものは、２−ピリジルメチルおよび２−（２−
ピリジル）エチルが挙げられる。「置換されていてもよ
い複素環基」の好適な例としては、ピロリル、ピロリニ
ル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、およびその
Ｎ−オキシド、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル
、トリアゾリル（例えば４Ｈ−１，２，４−トリアゾリ
ル、１Ｈ−１，２，３−トリアゾリル、２Ｈ−１，２，
３−トリアゾリル等）、テトラゾリル（例えば１Ｈ−テ
トラゾリル、２Ｈ−テトラゾリル等）、ジヒドロトリア
ジニル（例えば、４，５−ジヒドロ−１，２，４−トリ
アジニル、２，５−ジヒドロ−１，２，４−トリアジニ
ル等）、チアゾリル、１，２−チアゾリル、チアゾリニ
ル、チアジアゾリル（例えば１，２，４−チアジアゾリ
ル、１，３，４−チアジアゾリル、１，２，５−チアジ
アゾリル、１，２，３−チアジアゾリル）などの前記複
素環部分と同じものを挙げることができ、その複素環基
は前記と同様の置換基、例えばイミノ保護基（例えばア
レンスルホニル等）などの置換基で置換されていてもよ
い。「アリール基」の好適な例としてはＣ６−Ｃ１０ア
リール基、例えばフェニル、トリル、キシリル、クメニ
ル、ナフチルなどが挙げられ、それらの中でより好まし
いのはフェニル基およびナフチル基である。保護された
アミノ基のアミノ保護基または保護されたイミノ基のイ
ミノ保護基の好適な例としては前記のアシル基が挙げら
れ、それらの中でより好ましいのは低級アルカノイル基
、（Ｃ６−Ｃ１０）アル（低級）アルコキシカルボニル
基および（Ｃ６−Ｃ１０）アレンスルホニル基であり、
最も好ましいのはベンジルオキシカルボニル基である。 「適当な置換基で置換されていてもよい、イミノ含有複
素環（低級）アルキル基」の好適な例とは前記の「置換
されていてもよい複素環（低級）アルキル基」のうち複
素環がイミノ基（−ＮＨ−）を含んでいるものを意味し
ており、例えばインドリル（低級）アルキル基、イミダ
ゾリル（低級）アルキル基等である。「適当な置換基を
有していてもよい、保護されたイミノ含有複素環（低級
）アルキル基」の好適な例とはイミノ基が後述の常用の
イミノ保護基で保護された前述の「適当な置換基を有し
ていてもよい、イミノ含有複素環（低級）アルキル基」
を意味している。
【００１４】「保護されたアミノで置換されたアシル基
」とは、前記保護されたアミノで置換された前記アシル
基を意味する。「アミノで置換されたアシル基」とは、
アミノで置換された前記アシル基を意味する。好適な「
イミノ保護基」としては、保護されたアミノ基のアミノ
保護基について挙げたようなペプチド化学で常用される
ものが挙げられる。各々の定義の好ましい例は以下の通
りである。Ｒ１はカルバモイル基、もしくは有機カルボ
ン酸、有機炭酸、有機スルホン酸または有機カルバミン
酸アシル基等のアシル基。その例として、低級アルカノ
イル基（例えば、アセチル、プロピオニル、３，３−ジ
メチルブチリル、ピバロイル、４−メチルペンタノイル
、等）、アミノ（低級）アルカノイル基（例えば２−ア
ミノ−３−メチルペンタノイル等）、低級アルコキシカ
ルボニルアミノ（低級）アルカノイルのようなアシルア
ミノ（低級）アルカノイルが例として挙げられるような
保護されたアミノ（低級）アルカノイル基（例えば、２
−第三級ブトキシカルボニルアミノ）−３−メチルペン
タノイル、等）、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキルウレイド（
低級）アルカノイル基（例えば、２−（３−シクロヘキ
シルウレイド）−３−メチルペンタノイル、等）、低級
アルコキシカルボニル基（例えば第三級ブトキシカルボ
ニル、等）、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル（低級）アルカ
ノイル基（例えば、シクロヘキシルアセチル、等）、Ｃ
３−Ｃ７シクロアルキルカルボニル基（例えば、シクロ
ヘキシルカルボニル、等）、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル
オキシカルボニル基（例えば、シクロヘキシルオキシカ
ルボニル、等）、Ｃ６−Ｃ１０アロイル等のアロイル基
（例えば、ベンゾイル、１−または２−ナフトイル、等
）、Ｃ６−Ｃ１０アル（低級）アルカノイル等のアル（
低級）アルカノイル基（例えば、フェニルアセチル、１
−または２−フェニルアセチル、３−フェニルプロピオ
ニル、等）、アミノで置換されたフェニル（低級）アル
カノイルのようなアミノで置換された（Ｃ６−Ｃ１０）
アル（低級）アルカノイルが例として挙げられるような
アミノで置換されたアル（低級）アルカノイル基（例え
ば、２−アミノ−２−フェニルアセチル、等）、低級ア
ルコキシカルボニルアミノで置換されたフェニル（低級
）アルカノイルのようなアシルアミノで置換された（Ｃ
６−Ｃ１０）アル（低級）アルカノイルが例として挙げ
られるような保護されたアミノで置換されたアル（低級
）アルカノイル基［例えば２−（４−第三級ブトキシカ
ルボニルアミノフェニル）アセチル、２−第三級ブトキ
シカルボニルアミノ−２−フェニルアセチル、等］、ハ
ロフェニル（低級）アルカノイルのようなハロ（Ｃ６−
Ｃ１０）アル（低級）アルカノイルが例として挙げられ
るようなハロアル（低級）アルカノイル基［例えば、（
２−クロロフェニル）アセチル、等］、フェニル（低級
）アルケノイルのようなＣ６−Ｃ１０アル（低級）アル
ケノイルが例として挙げられるようなアル（低級）アル
ケノイル基（例えば、シンナモイル、等）、Ｃ６−Ｃ１
０アル（低級）アルキルグリオキシロイルのようなアル
（低級）アルキルグリオキシロイル基（例えばベンジル
グリオキシロイル、等）、ピリジルカルボニル基（例え
ば２−または３−または４−ピリジルカルボニル等）、
テトラヒドロピリジルカルボニル基（例えば、１，２，
３，６−テトラヒドロピリジン−１−イルカルボニル、
等）、テトラヒドロキノリルカルボニル基（例えば、１
，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イルカルボ
ニル、等）、テトラヒドロイソキノリルカルボニル基（
例えば、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−
１−イルカルボニル、等）、モルホリニルカルボニル基
（例えば、モルホリノカルボニル、等）、チオモルホリ
ニルカルボニル基（例えば、チオモルホリノカルボニル
、等）、インドリルカルボニル基（例えば２−インドリ
ルカルボニル、等）、オキソおよび低級アルキルから選
ばれた置換基１ないし３個で置換されたピペリジニルカ
ルボニル基（例えば４−メチル−２−（１−メチルプロ
ピル）−３−オキソピペラジン−１−イルカルボニル、
等）、ピリジル（低級）アルカノイル基（例えば４−ピ
リジルアセチル、等）、モルホリニルカルボニル（低級
）アルカノイル基［例えば３−（モルホリノカルボニル
）プロピオニル、等］、フェニル（低級）アルキルスル
ホニルのようなＣ６−Ｃ１０アル（低級）アルキルスル
ホニルが例として挙げられるようなアル（低級）アルキ
ルスルホニル基（例えばベンジルスルホニル、等）、Ｎ
−またはＮ，Ｎ−ジ（Ｃ１−Ｃ１０）アルキルカルバモ
イルのようなＮ−またはＮ，Ｎ−ジ（低級または高級）
アルキルカルバモイル基（例えばイソプロピルカルバモ
イル、２−メチルブチルカルバモイル、ヘプチルカルバ
モイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル
、ジプロピルカルバモイル、ジイソプロピルカルバモイ
ル、ジブチルカルバモイル、ジイソブチルカルバモイル
、等）、ヒドロキシ（低級）アルキルカルバモイル基（
例えば１−ヒドロキシメチル−３−メチルブチルカルバ
モイル、等）、カルボキシ（低級）アルキルカルバモイ
ル基（例えば１−カルボキシ−２−メチルブチルカルバ
モイル、等）、低級アルコキシカルボニル（低級）アル
キルカルバモイルのようなエステル化されたカルボキシ
（低級）アルキルカルバモイルが例として挙げられるよ
うな保護されたカルボキシ（低級）アルキルカルバモイ
ル基（例えば、１−メトキシカルボニル−２−メチルブ
チルカルバモイル、等）、カルバモイル（低級）アルキ
ルカルバモイル基（例えば１−カルバモイル−２−メチ
ルブチルカルバモイル、等）、［Ｎ−またはＮ，Ｎ−ジ
（低級）アルキルカルバモイル］（低級）アルキルカル
バモイル基［　　例えば１−イソプロピルカルバモイル
−２−メチルブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイ
ルメチルカルバモイル、１−（ジメチルカルバモイル）
エチルカルバモイル、２−（ジメチルカルバモイル）−
２−メチルプロピルカルバモイル、１−（ジメチルカル
バモイル）−２，２−ジメチルプロピルカルバモイル、
１−（ジメチルカルバモイル）−２−メチルブチルカル
バモイル、１−（ジメチルカルバモイル）−３−メチル
ブチルカルバモイル、１−（ジエチルカルバモイル）−
２−メチルブチルカルバモイル、１−（ジメチルカルバ
モイル）ペンチルカルバモイル、等］、Ｎ−（低級）ア
ルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキル］カルバモ
イル基（例えばＮ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メ
チルカルバモイル、等）、Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−
［ジ（低級）アルキルカルバモイル（低級）アルキル］
カルバモイル基［例えばＮ−（１−ジメチルカルバモイ
ル−２−メチルブチル）−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ
−（１−ジメチルカルバモイル−３−メチルブチル）−
Ｎ−メチルカルバモイル、等］、Ｃ３−Ｃ１０アルキレ
ンアミノカルボニルのような低級または高級アルキレン
アミノカルボニル基（例えばピロリジン−１−イルカル
ボニル、ピペリジン−１−イルカルボニル、３，５−ま
たは２，６−ジメチルピペリジン−１−イルカルボニル
、ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−イルカルボニル
、オクタヒドロアゾシン−１−イルカルボニル、等）、
ジ（低級）アルキルカルバモイル（低級）アルキレンア
ミノカルボニル基（例えば２−（ジメチルカルバモイル
）ピロリジン−１−イルカルボニル、４−（ジメチルカ
ルバモイル）ピペリジン−１−イルカルボニル、等）、
Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−（Ｃ３−Ｃ７）シクロアル
キルカルバモイル基（例えば、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ
−メチルカルバモイル、等）、モノまたはジ（Ｃ３−Ｃ
７）シクロアルキルカルバモイル基（例えばシクロヘキ
シルカルバモイル、ジシクロヘキシルカルバモイル、等
）、ヒドロキシ−またはジ（低級）アルキルカルバモイ
ル−またはジ（低級）アルキルカルバモイル（低級）ア
ルキルで置換された（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキルカル
バモイル基（例えば、４−ヒドロキシシクロヘキシルカ
ルバモイル、１−または４−（ジメチルカルバモイル）
、シクロヘキシルカルバモイル、１−または４−（ジメ
チルカルバモイルメチル）シクロヘキシルカルバモイル
、等）、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル（低級）アルキルカ
ルバモイル基（例えばシクロヘキシルメチルカルバモイ
ル、等）、ジ（低級）アルキルカルバモイルで置換され
たＣ３−Ｃ７シクロアルキル（低級）アルキルカルバモ
イル基［例えば１−シクロヘキシル−１−（ジメチルカ
ルバモイル）メチル］カルバモイル、等］、ジ（低級）
アルキルカルバモイルで置換されたフェニル（低級）ア
ルキルカルバモイルのようなジ（低級）アルキルカルバ
モイルで置換されたアル（低級）アルキルカルバモイル
基（例えば［１−フェニル−１−（ジメチルカルバモイ
ル）メチル］カルバモイル、等）、アリル基がハロゲン
、低級アルキルおよび低級アルコキシから選択された置
換基１ないし３個で置換されていてもよいＣ６−Ｃ１０
アリールカルバモイルのようなアリールカルバモイル基
（例えばフェニルカルバモイル、２−または３−または
４−クロロフェニルカルバモイル、４−トリルカルバモ
イル、４−メトキシフェニルカルバモイル、等）、ピリ
ジルカルバモイル基（例えば２−ピリジルカルバモイル
、３−ピリジルカルバモイル、等）、Ｎ−（低級）アル
コキシカルボニルピペリジルカルボニルのようなＮ−ア
シルピペリジルカルボニルが例として挙げられるような
Ｎ−保護されたピペリジルカルボニル基（例えば１−エ
トキシカルボニルピペリジン−４−イルカルボニル、等
）、モルホリニル（低級）アルキルカルバモイル基（例
えば２−（モルホリノ）エチルカルバモイル、等）、低
級アルカノイルカルバゾイル基（例えば３−イソブチリ
ルカルバゾイル、等）、低級アルキレンアミノカルバモ
イル基（例えばピペリジン−１−イルカルバモイル、等
）、Ｎ−（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキルカルバモイル（
低級）アルキルカルバモイル基（例えば１−シクロヘキ
シルカルバモイル−２−メチルブチルカルバモイル、等
）、低級アルキレンアミノカルボニル（低級）アルキル
カルバモイル基［例えば１−（ピペリジン−１−イルカ
ルボニル）−２−メチルブチルカルバモイル、等］、ピ
リジル（低級）アルキルカルバモイル基（例えば２−ピ
リジルメチルカルバモイル、等）、またはオキソで置換
されたヘキサヒドロアゼピニルカルバモイル基（例えば
２−オキソ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−イル
カルバモイル、等）、特に好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジ（低
級）アルキルカルバモイル基、モノ−またはジ（Ｃ３−
Ｃ７）シクロアルキルカルバモイル基、Ｎ−（低級）ア
ルキル−Ｎ−（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキルカルバモイ
ル基、Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［ジ（低級）アルキ
ルカルバモイル（低級）アルキル］カルバモイル基、Ｃ
６−Ｃ１０アリールカルバモイル基、Ｃ３−Ｃ１０アル
キレンアミノカルボニルのような低級または高級アルキ
レンアミノカルボニル基、またはＮ−（低級）アルキル
−Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキル］カルバモイル基
、Ｒ２は低級アルキル基（例えば、ブチル、イソブチル
、１−メチルプロピル、２，２−ジメチルプロピル、等
）、特に好ましくは、イソブチル基、Ｒ３はインドリル
（低級）アルキル基（例えば３−インドリルメチル、等
）、Ｎ−（低級）アルキルインドリル（低級）アルキル
基（例えば１−メチル−３−インドリルメチル、１−エ
チル−３−インドリルメチル、１−プロピル−３−イン
ドリルメチル、１−イソブチル−３−インドリルメチル
、等）、Ｎ−（低級）アルカノイルインドリル（低級）
アルキルのようなＮ−アシルインドリル（低級）アルキ
ル基（例えば１−ホルミル−３−インドリルメチル、等
）、Ｃ６−Ｃ１０アル（低級）アルキルのようなアル（
低級）アルキル基（例えばベンジル、１−または２−ナ
フチルメチル、等）、特に好ましくは、１−メチル−３
−インドリルメチルのようなＮ−（低級）アルキルイン
ドリル（低級）アルキル基、Ｒ４は水素原子、低級アル
キル基（例えばイソプロピル、イソブチル、等）、アミ
ノ（低級）アルキル基（例えば４−アミノブチル、等）
、モノまたはジまたはトリフェニル（低級）アルコキシ
カルボニルアミノ（低級）アルキルのようなアシルアミ
ノ（低級）アルキルが例として挙げられるような保護さ
れたアミノ（低級）アルキル基（例えば４−ベンジルオ
キシカルボニルアミノブチル、等）、カルボキシ（低級
）アルキル基（例えばカルボキシメチル、２−カルボキ
シエチル、等）、モノまたはジまたはトリフェニル（低
級）アルコキシカルボニル（低級）アルキルのようなエ
ステル化されたカルボキシ（低級）アルキルが例として
挙げられるような保護されたカルボキシ（低級）アルキ
ル基（例えばベンジルオキシカルボニルメチル、２−ベ
ンジルオキシカルボニルエチル、等）、Ｃ６−Ｃ１０ア
ル（低級）アルキルのようなアル（低級）アルキル基（
例えばベンジル、１−または２−ナフチルメチル、等）
、ピリジル（低級）アルキル基（例えば２−または３−
または４−ピリジルメチル、等）、イミダゾリル（低級
）アルキル基（例えば１Ｈ−４−イミダゾリルメチル、
等）、またはチアゾリル（低級）アルキル基（例えば４
−チアゾリルメチル、等）、特に好ましくは、ベンジル
のようなＣ６−Ｃ１０アル（低級）アルキル基、または
２−ピリジルメチルのようなピリジル（低級）アルキル
基、Ｒ５はカルボキシ基；低級アルコキシカルボニル基
（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、等
）、モノまたはジまたはトリフェニル（低級）アルコキ
シカルボニルのようなアル（低級）アルコキシカルボニ
ル基（例えばベンジルオキシカルボニル、等）、ベンゾ
イル（低級）アルコキシカルボニルのようなアロイル（
低級）アルコキシカルボニル基（例えばフェナシル、等
）、等のエステル化されたカルボキシ基；カルバモイル
基、Ｎ−またはＮ，Ｎ−ジ（低級）アルキルカルバモイ
ル基（例えばメチルカルバモイル、エチルカルバモイル
、プロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、
ブチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、
Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、等）、カルボキシおよ
び保護されたカルボキシ（好ましくはエステル化された
カルボキシ、より好ましくは低級アルコキシカルボニル
、モノまたはジまたはトリフェニル（低級）アルコキシ
カルボニルおよびベンゾイル（低級）アルコキシカルボ
ニル）から選択された置換基１または２個で置換された
低級アルキルカルバモイル基［例えばカルボキシメチル
カルバモイル、１−または２−カルボキシエチルカルバ
モイル、４−カルボキシブチルカルバモイル、５−カル
ボキシペンチルカルバモイル、１−カルボキシ−２−メ
チルプロピルカルバモイル、１−カルボキシ−３−メチ
ルブチルカルバモイル、１，２−ジカルボキシエチルカ
ルバモイル、ベンジルオキシカルボニルメチルカルバモ
イル、２−ベンジルオキシカルボニルエチルカルバモイ
ル、１−または２−フェナシルオキシカルボニルエチル
カルバモイル、４−フェナシルオキシカルボニルブチル
カルバモイル、５−フェナシルオキシカルボニルペンチ
ルカルバモイル、１−メトキシカルボニル−２−メチル
プロピルカルバモイル、１−メトキシカルボニル−３−
メチルブチルカルバモイル、１，２−ビス（メトキシカ
ルボニル）エチルカルバモイル、等）、Ｎ−（低級）ア
ルキル−Ｎ−［カルボキシ｛または保護されたカルボキ
シ（好ましくはエステル化されたカルボキシ、より好ま
しくは低級アルコキシカルボニル）｝（低級）アルキル
］カルバモイル基（例えば、Ｎ−メチル−Ｎ−（カルボ
キシメチル）カルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−（メトキ
シカルボニルメチル）カルバモイル、等）、フェニル（
低級）アルキルカルバモイルのようなＣ６−Ｃ１０アル
（低級）アルキルカルバモイルが例として挙げられるよ
うなアル（低級）アルキルカルバモイル基（例えばベン
ジルカルバモイル、等）、カルボキシ−または低級アル
コキシカルボニルで置換されたフェニル（低級）アルキ
ルカルバモイルのようなカルボキシ−または保護された
カルボキシ（好ましくはエステル化されたカルボキシ）
で置換されたアル（低級）アルキルカルバモイル基（例
えば１−カルボキシ−２−フェニルエチルカルバモイル
、１−エトキシカルボニル−２−フェニルエチルカルバ
モイル、等）、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキルカルバモイル
基（例えばシクロヘキシルカルバモイル、等）、例えば
［カルボキシ（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキル（低級）ア
ルキル］カルバモイル（例えば４−カルボキシシクロヘ
キシルメチルカルバモイル、等）；低級アルコキシカル
ボニル（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキル（低級）アルキル
カルバモイル（例えば４−（エトキシカルボニル）シク
ロヘキシルメチルカルバモイル、等）等の［エステル化
されたカルボキシで置換されたＣ３−Ｃ７シクロアルキ
ル（低級）アルキル（低級）アルキル］カルバモイル；
などのＮ−［カルボキシ−または保護されたカルボキシ
で置換されたＣ３−Ｃ７シクロアルキル（低級）アルキ
ル］カルバモイル基、低級アルキルスルホニルカルバモ
イルなどのアシルカルバモイル基（例えば、メチルスル
ホニルカルバモイル、等）、Ｃ６−Ｃ１０アリールスル
ホニルカルバモイルのようなアリールスルホニルカルバ
モイル基（例えばフェニルスルホニルカルバモイル、等
）、カルボキシ−または低級アルコキシカルボニルで置
換されたピリジル（低級）アルキルカルバモイルのよう
なカルボキシ−または保護されたカルボキシ（好ましく
はエステル化されたカルボキシ）で置換されたピリジル
（低級）アルキルカルバモイル基（例えば、１−カルボ
キシ−２−（２−ピリジル）エチルカルバモイル、１−
エトキシカルボニル−２−（２−ピリジル）エチルカル
バモイル、等）、低級アルキレンアミノカルボニル基（
例えばピロリジン−１−イルカルボニル、ピペリジン−
１−イルカルボニル、等）、カルボキシまたは保護され
たカルボキシ（好ましくはエステル化されたカルボキシ
、より好ましくは低級アルコキシカルボニル）で置換さ
れた低級アルキレンアミノカルボニル基（例えば２−カ
ルボキシピロリジン−１−イルカルボニル、２−メトキ
シカルボニルピロリジン−１−イルカルボニル、等）、
カルボキシ、保護されたカルボキシ（好ましくはエステ
ル化されたカルボキシ、より好ましくは低級アルコキシ
カルボニル）およびカルバモイルから選択された置換基
１または２個で置換された［低級アルキレンアミノ（低
級）アルキル］カルバモイル基（例えば２−（２−カル
ボキシ−５−オキソピロリジン−１−イル）エチルカル
バモイル、２−（２−エトキシカルボニル−５−オキソ
ピロリジン−１−イル）エチルカルバモイル、２−（２
−カルバモイル−５−オキソピロリジン−１−イル）エ
チルカルバモイル、等）、モルホリノカルボニル基；モ
ルホリニルカルバモイル基（例えばモルホリノカルバモ
イル、等）、ピリジルカルバモイル基（例えば２−ピリ
ジルカルバモイル、等）、チアゾリルカルバモイル基（
例えば２−チアゾリルカルバモイル、等）、５−（低級
）アルキル−１，３，４−チアジアゾリルカルバモイル
のような低級アルキルチアゾリルカルバモイル基（例え
ば５−メチル−１，３，４−チアジアゾリルカルバモイ
ル、等）、ベンゾチアゾリルカルバモイル基（例えば２
−ベンゾチアゾリルカルバモイル、等）、モルホリニル
（低級）アルキルカルバモイル基（例えば２−モルホリ
ノ）エチルカルバモイル、等）、ピリジル（低級）アル
キルカルボニル基（例えば２−ピリジルメチルカルボニ
ル、等）、カルバゾイル基、ジ（低級）アルキルカルバ
ゾイル基（例えば３，３−ジメチルカルバゾイル、等）
、カルボキシ（低級）アルキル基（例えば、カルボキシ
メチル、２−カルボキシエチル、３−カルボキシプロピ
ル、４−カルボキシブチル、等）、例えば低級アルコキ
シカルボニル（低級）アルキル基（例えばメトキシカル
ボニルメチル、２−メトキシカルボニルエチル、３−メ
トキシカルボニルプロピル、４−メトキシカルボニルブ
チル、等）、ベンゾイル（低級）アルコキシカルボニル
（低級）アルキル基（例えばフェナシルオキシカルボニ
ルメチル、フェナシルオキシカルボニルエチル、３−フ
ェナシルオキシカルボニルプロピル、４−フェナシルオ
キシカルボニルブチル、等）；などのエステル化された
カルボキシ（低級）アルキルのような保護されたカルボ
キシ（低級）アルキル基、特に好ましくは、カルボキシ
基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ま
たはＮ−またはＮ，Ｎ−ジ（低級）アルキルカルバモイ
ル基、Ｒ６は水素原子またはピリジル（低級）アルキル
基（例えば２−ピリジルメチル、等）、特に好ましくは
、水素原子、Ｒ７は水素原子または低級アルキル基（例
えばメチル、等）、特に好ましくは水素原子、Ａは低級
アルキレン基（例えばメチレン、等）−Ｏ−、−ＮＨ−
、または低級アルキルイミノ基（例えばメチルイミノ、
等）、特に好ましくは、メチレン基又は−ＮＨ−である
。
【００１５】目的化合物（Ｉ）の製造法を以下詳細に説
明する。 製造法１ 目的化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（ＩＩ）また
はカルボキシ基におけるその反応性誘導体またはその塩
を、化合物（ＩＩＩ）またはアミノ基におけるその反応
性誘導体またはその塩と反応させることにより製造する
ことができる。化合物（ＩＩＩ）のアミノ基における好
適な反応性誘導体としては、化合物（ＩＩＩ）とアルデ
ヒド、ケトン等のようなカルボニル化合物との反応によ
って生成するシッフの塩基型イミノまたはそのエナミン
型互変異性体；化合物（ＩＩＩ）とビス（トリメチルシ
リル）アセトアミド、モノ（トリメチルシリル）アセト
アミド、ビス（トリメチルシリル）尿素等のようなシリ
ル化合物との反応によって生成するシリル誘導体；化合
物（ＩＩＩ）と三塩化リンまたはホスゲンとの反応によ
って生成する誘導体等が挙げられる。化合物（ＩＩＩ）
およびその反応性誘導体の好適な塩類については、化合
物（Ｉ）について例示した酸付加塩類を参照すればよい
。化合物（ＩＩ）のカルボキシ基における好適な反応性
誘導体としては酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化アミ
ド、活性化エステル等が挙げられる。反応性誘導体の好
適な例としては、酸塩化物；酸アジ化物；例えばジアル
キルリン酸、フェニルリン酸、ジフェニルリン酸、ジベ
ンジルリン酸、ハロゲン化リン酸等の置換されたリン酸
、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、例え
ばメタンスルホン酸等のスルホン酸、例えば酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ピバリン酸、ペンタン酸、
イソペンタン酸、２−ニチル酪酸、トリクロロ酢酸等の
脂肪族カルボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カル
ボン酸のような酸との混合酸無水物；対称酸無水物；イ
ミダゾール、４−置換イミダゾール、ジメチルピラゾー
ル、トリアゾールまたはテトラゾールとの活性化アミド
；または例えばシアノメチ ステル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、Ｐ−
ニトロフェニルエステル、２，４−ジニトロフェニルエ
ステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフ
ェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニルア
ゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、ｐ−ニト
ロフェニルチオエステル、ｐ−クレジルチオエステル、
カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステル、ピ
リジルエステル、ピペリジルエステル、８−キノリルチ
オエステル等の活性化エステル、または例えばＮ，Ｎ−
ジメチルヒドロキシルアミン、１−ヒドロキシ−２−（
１Ｈ）−ピリドン、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ
−ヒドロキシフタルイミド、１−ヒドロキシ−１Ｈ−ベ
ンゾトリアゾール等のＮ−ヒドロキシ化合物とのエステ
ル等が挙げられる。これらの反応性誘導体は使用すべき
化合物（ＩＩ）の種類に従って任意に選択することがで
きる。化合物（ＩＩ）およびその反応性誘導体の好適な
塩類としては、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のア
ルカリ金属塩、例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等
のアルカリ土金属塩、アンモニウム塩、例えばトリメチ
ルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリ
ン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ′−ジベンジ
ルエチレンジアミン塩等の有機塩基塩等のような塩基塩
が挙げられる。反応は通常、水、例えばメタノール、エ
タノール等のアルコール、アセトン、ジオキサン、アセ
トニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレ
ン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ピリジンのような常用の溶媒中で行わ
れるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他
のいかなる有機溶媒中でも反応を行うことができる。 これらの常用の溶媒は水との混合物として使用してもよ
い。この反応において、化合物（ＩＩ）を遊離酸の形ま
たはその塩の形で使用する場合には、Ｎ，Ｎ′−ジシク
ロヘキシルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′
−モルホリノエチルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシ
ル−Ｎ′−（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）カル
ボジイミド；Ｎ，Ｎ′−ジエチルカルボジイミド；Ｎ，
Ｎ′−ジイソプロピルカルボジイミド；Ｎ−エチル−Ｎ
′−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド；
Ｎ，Ｎ′−カルボニルビス（２−メチルイミダゾール）
；ペンタメチレンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；
ジフェニルケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；エトキ
シアセチレン；１−アルコキシ−１−クロロエチレン；
亜リン酸トリアルキル；ポリリン酸エチル；ポリリン酸
イソプロピル；オキシ塩化リン（塩化ホスホリル）；三
塩化リン；ジフェニルホスホリルアジド；塩化チオニル
；塩化オキサリル；例えばクロロギ酸エチル、クロロギ
酸イソプロピル等のハロギ酸低級アルキル；トリフェニ
ルホスフィン；２−エチル−７−ヒドロキシベンズイソ
オキサゾリウム塩；２−エチル−５−（ｍ−スルホフェ
ニル）イソオキサゾリウムヒドロキシド分子内塩；Ｎ−
ヒドロキシベンゾトリアゾール；１−（ｐ−クロロベン
ゼンスルホニルオキシ）−６−クロロ−１Ｈ−ベンゾト
リアゾール；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと塩化チオ
ニル、ホスゲン、クロロギ酸トリクロロメチル、オキシ
塩化リン等との反応によって調製したいわゆるビルスマ
イヤー試薬等のような常用の縮合剤の存在下に反応を行
うのが望ましい。反応はまたアルカリ金属炭酸水素塩、
トリ（低級）アルキルアミン、ピリジン、Ｎ−（低級）
−アルキルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルベ
ンジルアミン等のような無機塩基または有機塩基の存在
下に行ってもよい。反応温度は特に限定されないが、通
常は冷却下ないし加温下に反応が行われる。
【００１６】製造法２ 目的化合物（Ｉ−ｂ）またはその塩は、化合物（Ｉ−ａ
）またはアミノ基におけるその反応性誘導体またはその
塩を、化合物（ＩＶ）またはカルボキシ基におけるその
反応性誘導体またはその塩と反応させることにより製造
することができる。化合物（Ｉ−ａ）およびその反応性
誘導体の好適な塩については、化合物（ＩＩＩ）につい
て例示したものを参照すればよい。化合物（ＩＶ）およ
びその反応性誘導体の好適な塩については、化合物（Ｉ
Ｉ）について例示したものを参照すればよい。化合物（
Ｉ−ｂ）の好適な塩類については、化合物（Ｉ）につい
て例示したものを参照すればよい。記号「Ｒ１」のアシ
ル基がカルバミン酸から誘導されたものである場合には
、原料化合物（ＩＶ）は通常イソシアネートの形で使用
される。この反応は製造法１と実質的に同様にして行わ
れ、従ってこの反応の反応方式および例えば反応性誘導
体、溶媒、反応温度等の反応条件については製造法１の
説明を参照すればよい。
【００１７】製造法３ 目的化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（Ｖ）または
カルボキシ基におけるその反応性誘導体またはその塩を
化合物（ＶＩ）またはアミノ基におけるその反応性誘導
体またはその塩と反応させることにより製造することが
できる。化合物（ＶＩ）の好適な塩およびその反応性誘
導体については、それぞれ化合物（Ｉ）および（ＩＩＩ
）について例示したものを参照すればよい。この反応は
製造法１と実質的に同様にして行うことができ、従って
この反応の反応方式および例えば反応性誘導体、溶媒、
反応温度等の反応条件については製造法１の説明を参照
すればよい。
【００１８】製造法４ ボキシ保護基の脱離反応に付すことにより製造すること
ができる。化合物（Ｉ−ｃ）および（Ｉ−ｄ）の好適な
塩については、化合物（Ｉ）について例示したものを参
照すればよい。この反応は加水分解を含むソルボリシス
、還元等のような常法に従って行われる。ソルボリシス
は塩基またはルイス酸も含めた酸の存在下に行うのが望
ましい。好適な塩基としては、例えばナトリウム、カリ
ウム等のアルカリ金属、例えばマグネシウム、カルシウ
ム等のアルカリ土金属、それらの金属の水酸化物または
炭酸塩または炭酸水素塩、ヒドラジン、例えばトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン、
ピコリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン
−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オ
クタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデ
ス−７−エン等のような無機塩基および有機塩基が挙げ
られる。好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピ
オン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸
、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素
、フッ化水素等の無機酸が挙げられる。例えばトリクロ
ロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロ酢酸のようなル
イス酸を使用する脱離反応は、例えばアニソール、フェ
ノール等の陽イオン捕捉剤の存在下に行うのが望ましい
。反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等の
アルコール、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素
、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
、それらの混合物のような溶媒中で行われるが、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる溶
媒中でも反応を行うことができる。液状の塩基または酸
も溶媒として使用することができる。反応温度は特に限
定されず、通常冷却下ないし加熱下に反応が行われる。 脱離反応に適用され得る還元法としては化学的還元およ
び接触還元が挙げられる。化学的還元に使用される好適
な還元剤は、例えばスズ、亜鉛、鉄等の金属または例え
ば塩化クロム、酢酸クロム等の金属化合物と、例えばギ
酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トル
エンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等の有機酸または無
機酸との組合わせである。接触還元に使用される好適な
触媒は、例えば白金板、白金海綿、白金黒、コロイド白
金、酸化白金、白金線等の白金触媒、例えばパラジウム
海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム−炭
素、コロイドパラジウム、パラジウム−硫酸バリウム、
パラジウム−炭酸バリウム等のパラジウム触媒、例えば
還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケル等のニッ
ケル触媒、例えば還元コバルト、ラネーコバルト等のコ
バルト触媒、例えば還元鉄、ラネー鉄等の鉄触媒、例え
ば還元銅、ラネー銅、ウルマン銅等の銅触媒等のような
常用のものである。還元は通常、水、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
のような反応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒、または
それらの混合物中で行われる。さらに、化学的還元に使
用される上記酸が液体である場合にはそれらも溶媒とし
て使用することができる。またさらに、接触還元に使用
される好適な溶媒としては、上記溶媒およびジエチルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のようなそ
の他の常用の溶媒、またはそれらの混合物が挙げられる
。この還元の反応温度は特に限定されず、通常冷却下な
いし加熱下に反応が行われる。
【００１９】製造法５ ノ保護基の脱離反応に付すことにより製造することがで
きる。化合物（Ｉ−ｅ）および（Ｉ−ｆ）の好適な塩に
ついては、化合物（Ｉ）について例示したものを参照す
ればよい。この脱離反応はソルボリシス、還元等のよう
なペプチド化学における常法によって行われ、その詳細
については製造法４の説明を参照すればよい。
【００２０】製造法６ ノ保護基の脱離反応に付すことにより製造することがで
きる。化合物（Ｉ−ｇ）および（Ｉ−ｈ）の好適な塩に
ついては、化合物（Ｉ）について例示したものを参照す
ればよい。この脱離反応はソルボリシス、還元等のよう
なペプチド化学における常法によって行うことができ、
その詳細については製造法４の説明を参照すればよい。 製造法７ 目的化合物（Ｉ一ｊ）またはその塩は、化合物（Ｉ−ｉ
）またはカルボキシ基におけるその反応性誘導体または
その塩を置換されていてもよいアミンまたはその塩と反
応させることにより製造することができる。化合物（Ｉ
−ｉ）の好適な塩およびその反応性誘導体については、
化合物（ＩＩ）について例示したものを参照すればよい
。化合物（Ｉ−ｊ）の好適な塩については、化合物（Ｉ
）について例示したものを参照すればよい。 の前記アミド化されたカルボキシ基を形成することがで
きるものを意味する。この反応は方法１と実質的に同様
の方法で行うことができ、従ってこの反応の反応様式お
よび反応条件（例えば反応性誘導体、溶媒、反応温度、
等）は、製造法１の説明を参照すればよい。 製造法８ をアシル化することにより製造することができる。化合
物（Ｉ−ｇ）および（Ｉ−ｈ）の好適な塩については、
化合物（Ｉ）について例示したものを参照すればよい。 この反応で使用される好適なアシル化剤としては、カル
ボン酸、炭酸、スルホン酸およびこれらの反応性誘導体
（例えば、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化アミド、
活性化エステル等）のような、前記アシル基を導入する
ことができる慣用のアシル化剤が挙げられる。このよう
な反応性誘導体の好ましい例としては、酸塩化物；酸臭
化物；置換された燐酸（例えば、ジアルキル燐酸、フェ
ニル燐酸，ジフェニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン
化燐酸等），ジアルキル亜燐酸，亜硫酸，チオ硫酸，硫
酸，アルキル炭酸塩（例えば、炭酸メチル、炭酸エチル
、炭酸プロピル等）、脂肪族カルボン酸（例えば、ピバ
リン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、２−エチル酪酸
、トリクロロ酢酸等），芳香族カルボン酸（例えば、安
息香酸等）のような酸との混合酸無水物；対称酸無水物
；イミダゾール、４−置換イミダゾール、ジメチルピラ
ゾール、トリアゾールおよびテトラゾールのようなイミ
ノ官能基を含む複素環式化合物との活性化アミド；活性
化エステル（例えば、ｐ−ニトロフェニルエステル，２
，４−ジニトロフェニルエステル，トリクロロフェニル
エステル，ペンタクロロフェニルエステル，メシルフェ
ニルエステル，フェニルアゾフェニルエステル，フェニ
ルチオエステル，ｐ−ニトロフェニルチオエステル，ｐ
−クレシルチオエステル，カルボキシメチルチオエステ
ル，ピリジルエステル，ピペリジニルエステル，８−キ
ノリルチオエステル，またはＮ，Ｎ−ジメチルヒドロキ
シルアミン，１−ヒドロキシ−２−（１Ｈ）−ピリドン
、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド，Ｎ−ヒドロキシフタ
ル酸イミド，１−ヒドロキシベンゾトリアゾール，１−
ヒドロキシ−６−クロロベンゾトリアゾールのようなＮ
−ヒドロキシ化合物とのエステル等）等が挙げられる。 この反応は、アルカリ金属（例えば、リチウム，ナトリ
ウム，カリウム等）、アルカリ土類金属（例えば、カル
シウム等）、アルカ金属水素化物（例えば、水素化ナト
リウム等）、アルカリ土類金属水素化物（例えば、水素
化カルシウム等）、アルカリ金属水酸化物（例えば、水
酸化ナトリウム，水酸化カリウム等）、アルカリ金属炭
酸塩（例えば、炭酸ナトリウム，炭酸カリウム等）、ア
ルカリ金属重炭酸塩（例えば、重炭酸ナトリウム，重炭
酸カリウム等）、アルカリ金属アルコキシド（例えば、
ナトリウムメトキシド，ナトリウムエトキシド，カリウ
ムｔ−ブトキシド等）、アルカリ金属アルカン酸（例え
ば、酢酸ナトリウム等）、トリアルキルアミン（例えば
、トリメチルアミン等）、ピリジン化合物（例えば、ピ
リジン，ルチジン，ピコリン，４−ジメチルアミノピリ
ジン等）、キノリン等の有機または無機塩基の存在下に
行うことができる。この反応中、アシル化剤が遊離形ま
たは塩の形で使用される場合、反応は、カルボジイミド
化合物［例えば、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジ
イミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−（４−ジエチルア
ミノシクロヘキシル）カルボジイミド、Ｎ，Ｎ′−ジエ
チルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピルカルボ
ジイミド、Ｎ−エチル−Ｎ′−（３−ジメチルアミノプ
ロピル）カルボジイミド等］、ケテンイミン化合物［例
えば、Ｎ，Ｎ′−カルボニルビス（２−メチルイミダゾ
ール），ペンタメチレンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイ
ミン，ジフェニルケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン等
］、オレフィニックまたはアセチレニックエーテル化合
物（例えば、エトキシアセチレン、β−クロロビニルエ
チレンエーテル）、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール
誘導体のスルホン酸エステル［例えば、１−（４−クロ
ロベンゼンスルホニルオキシ）−６−クロロ−１Ｈ−ベ
ンゾトリアゾール等］、亜燐酸トリアルキルまたはトリ
フェニルホスフィンと四塩化炭素，二硫化塩またはジア
ゼンジカルボン酸塩との組合せ（例えば、ジアゼンジカ
ルボン酸ジエチル等）、燐化合物（例えば、ポリ燐酸エ
チル，ポリ燐酸イソプロピル，塩化ホスホリル，三塩化
燐等）、塩化チオニル、塩化オキザリル、Ｎ−エチルベ
ンズイソキサゾリウム塩、Ｎ−エチル−５−フェニルイ
ソキサゾリウム−３−スルホン酸塩、Ｎ，Ｎ−ジ（低級
）アルキルホルムアミド（例えば、ジメチルホルムアミ
ド等）等のアミド化合物と塩化チオニル，塩化ホスホリ
ル，ホスゲン等のハロゲン化合物との反応により調整さ
れる試薬（所謂「ビルスマイヤー試薬」）のような縮合
剤の存在下に行うことが好ましい。 反応は通常、水、アセトン、塩化メチレン、アルコール
（例えば、メタノール，エタノール等），テトラヒドロ
フラン，ピリジン，Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の
反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはこれらの混
合物中で行われる。反応温度は特に限定されず、反応は
通常、冷却ないしは加熱下に行われる。 製造法９ 基の脱離反応に付すことにより製造することができる。 この脱離反応は加溶媒分解、還元等のペプチド化学で用
いられる常用の方法により行うことができ、その詳細に
ついては製造法４を参照すればよい。 製造法１０ キシ保護基の脱離反応に付すことにより製造することが
できる。化合物（Ｉ−ｋ）および（Ｉ−ｌ）の好適な塩
類については、化合物（Ｉ）について例示したものを参
照すればよい。この脱離反応は加溶媒分解、還元等のペ
プチド化学で用いられる常用の方法により行うことがで
き、その詳細については製造法４を参照すればよい。 製造法１１ ノ保護基の脱離反応に付すことにより製造することがで
きる。化合物（Ｉ−ｍ）および（Ｉ−ｎ）の好適な塩類
については、化合物（Ｉ）について例示したものを参照
すればよい。この脱離反応は加溶媒分解、還元等のペプ
チド化学で用いられる常用の方法により行うことができ
、その詳細については製造法４を参照すればよい。 製造法１２ ノまたはイミノ保護基の脱離反応に付すことにより製造
することができる。化合物（Ｉ−ｐ）および（Ｉ−ｏ）
の好適な塩としては、化合物（Ｉ）について例示したも
のを参照すればよい。この脱離反応は加溶媒分解、還元
等のペプチド化学で用いられる常用の方法により行うこ
とができ、その詳細については製造法４を参照すればよ
い。上記製造法によって得られた化合物は粉砕、再結晶
、カラムクロマトグラフィー、再沈殿等のような常法に
より単離、精製することができる。目的化合物（Ｉ）は
常法によりその塩に変化させることができる。化合物（
Ｉ）およびその他の化合物には不斉炭素原子に基づく立
体異性体１個以上が含まれることがあり、そのような異
性体およびそれらの混合物はすべてこの発明の範囲内に
包含される。出発化合物の製造方法を以下に詳細に説明
する。 方法１ ［ステップ１］化合物（ＩＩＩ−ａ）またはその塩は化
合物（ＶＩＩ）またはカルボキシ基におけるその反応性
誘導体またはその塩を化合物（ＶＩ）またはアミノ基に
おけるその反応性誘導体またはその塩と反応させること
により製造することできる。化合物（ＶＩＩ）の好適な
塩およびその反応性誘導体については、化合物（ＩＩ）
について例示したものを参照すればよい。化合物（ＩＩ
Ｉ−ａ）の好適な塩としては、化合物（ＩＩＩ）につい
て例示したものを参照すればよい。この反応は製造法１
と実質的に同じ方法で行うことができ、従ってこの反応
の反応様式および反応条件（例えば反応性誘導体、溶媒
、反応温度、等）については、製造法１の説明を参照す
ればよい。 ［ステップ２］化合物（ＩＩ）またはその塩は化合物（
ＩＩＩ−ａ）またはその塩を製造法４で説明したような
常用の方法で、Ｒ８のアミノ保護基の脱離反応に付すこ
とにより製造することができる。 方法２ ［ステップ１］化合物（ＩＸ）またはその塩は化合物（
ＩＩ）またはカルボキシ基におけるその反応性誘導体ま
たはその塩を、化合物（ＶＩＩＩ）またはアミノ基にお
けるその反応性誘導体またはその塩と反応させることに
より製造することができる。化合物（ＶＩＩＩ）の好適
な塩およびその反応性誘導体については、化合物（ＩＩ
Ｉ）について例示したものを参照すればよい。この反応
は製造法１と実質的に同じ方法で行うことができ、従っ
てこの反応の反応様式および反応条件（例えば、反応性
誘導体、溶媒、反応温度、等）については、製造法１の
説明を参照すればよい。 ［ステップ２］化合物（Ｖ）またはその塩は化合物（Ｉ
Ｘ）またはその塩を製造法４で説明したような常用の方
法で、Ｒ９のカルボキシ保護基の脱離反応に付すことに
より製造することができる。目的化合物（Ｉ）および医
薬として許容されるその塩はエンドセリン拮抗作用、例
えば、血管の弛緩作用等のような薬理作用を有し、高血
圧、狭心症、心筋症、心筋梗塞等の心臓病、脳動脈収縮
、脳虚血、脳血管れん縮等の脳発作、クモ膜下出血後の
脳血管れん縮、気管支ぜん息等のぜん息、急性腎不全、
薬物（例えばシスプラチン、シクロスポリン等）による
腎不全等の腎不全、レイノー病、バージャー病等の末梢
循環不全、動脈硬化、糖尿病性腎症、糖尿病性網膜症、
出血性ショック、エンドトキシンショック等のショック
、ヘマンジオエンドセリオーマ（ｈｅｍａｎｇｉｏｅｎ
ｄｏｔｈｅｌｉｏｍａ）、血液再灌流後の臓器障害（例
えば、臓器移植後、経皮的冠動脈管形成術（ＰＴＣＡ）
後、経皮的冠動脈内血栓溶解法（ＰＴＣＲ）後、等）、
手術後の血流障害、潰瘍、過敏性大腸炎（ＩＢＳ）、排
尿障害、網膜症、月経困難症、早期分娩、切迫早産等の
早産、緑内症、ＰＴＣＡ施行後の再閉塞、などのような
エンドセリン介在疾患の薬物による治療および予防に有
用である。薬物療法用として、この発明のペプチド化合
物（Ｉ）および医薬として許容されるその塩は、経口投
与、非経口投与または外用投与に適した有機もしくは無
機固体または液体賦形剤のような医薬として許容される
担体と混合して、前記化合物の一つを有効成分として含
有する医薬製剤の形として使用することができる。医薬
製剤としてはカプセル剤、錠剤、糖衣錠、顆粒、溶液、
懸濁液、エマルジョン、舌下錠、坐剤、軟膏、エアロゾ
ール、インフュージョン、点眼剤、腟坐剤等が挙げられ
る。所望に応じてこれらの製剤中に助剤、安定剤、湿潤
剤または乳化剤、緩衝液およびその他の通常使用される
添加剤が含まれていてもよい。化合物（Ｉ）の投与量は
患者の年齢および条件によって変化するが、静脈内投与
の場合には人の体重ｋｇ当り有効成分１日投与量０．０
１−１００ｍｇ、筋肉内投与の場合には人の体重ｋｇ当
り有効成分１日投与量０．０５−１００ｍｇ、経口投与
の場合には人の体重ｋｇ当り有効成分１日投与量０．１
−１００ｍｇがエンドセリン介在疾患の治療に一般的に
投与される。
【００２１】
【効果】目的化合物（Ｉ）の有用性を説明するために、
化合物（Ｉ）のある種の代表的化合物の薬理試験結果を
以下に示す。 試験１ 放射性配位子結合検定 （１）試験化合物 ａ、化合物Ａ　　［実施例７−２）の化合物］ｂ、　　
〃　　Ｂ　　［　　〃　　２９６　　　　〃　　　　］
ｃ、　　〃　　Ｃ　　［　　〃　　３２５　　　　〃　
　　　］ｄ、　　〃　　Ｄ　　［　　〃　　３１９　　
　　〃　　　　］ｅ、　　〃　　Ｅ　　［　　〃　　３
７９　　　　〃　　　　］（２）試験法 ａ）粗受容体膜標本 ブタ大動脈をペルーフリーズ・バイオロジカルズ（米国
）から購入し、使用時まで−８０℃で貯蔵した。ブタ大
動脈（５０ｇ）を解凍し、脂肪組織から切除遊離しては
さみで細く切り、次いでポリトロン（ブリンクマンＰＴ
−２０、最高スピード３×１０秒）で１００ｍｌ緩衝液
（０．２５Ｍスクロース、１０ｍＭトリス−ＨＣｌ、０
．１ｍＭＥＤＴＡ）中均質化した。ホモジネートを４℃
、１０，０００ｇで２０分間遠心分離した。血漿膜画分
を含む上澄液を４℃、１００，０００ｇで６０分間遠心
分離し、次いで生成するペレットを粗膜画分とした。 ペレットを結合検定緩衝液（５０ｍＭトリス−ＨＣｌ、
１００ｍＭ　　ＮａＣｌ、５ｍＭＭｇＣｌ２、１．５μ
ｇ／ｍｌフッ化フェニルメチルスルホニル（ＰＭＳＦ）
、１２０μｇ／ｍｌバシトラシン、１２μｇ／ｍｌリュ
ーペプシン、６μｇ／ｍｌキモステイン、０．１％ウシ
血清アルブミン（ＢＳＡ）、ｐＨ７．５）２５ｍｌに再
懸濁した。大動脈膜画分を使用時まで−８０℃で貯蔵し
た。 ｂ）１２５Ｉ−エンドセリン−１結合検定１２５Ｉ−エ
ンドセリン−１（１．６７×１０−１１Ｍ）（日本アマ
ーシャム、比活性：２０００ｃｉ／ｍモル）を大動脈膜
調製物５０μｌと結合検定緩衝液中室温（２０−２２℃
）で終容積２５０μｌで６０分間インキュベートした。 インキュベート後、インキュベート混合物をガラス−繊
維ＧＦ／ｃフィルター（使用に先立って０．１％ポリエ
チレンイミンで３時間予処理）を通して細胞ハーヴェス
ター（ブランデルＭ−２４Ｓ）を用いて濾過した。 次いでフィルターを０℃で洗浄緩衝液（５０ｍＭトリス
−ＨＣｌ、ｐＨ７．５）総計３ｍｌで１０回洗浄した。 フィルターをガンマカウンター（パッカード　　オート
　　ガンマ　　モデル５６５０）で計数した。 （３）試験結果 結果を第１表に示す。
【００２２】試験２ エンドセリンの家兎大動脈または収縮反応に対する効果
（１）試験化合物 試験化合物Ａ （２）試験法 新たに屠殺した雄白家兎（生後１１週齢）から胸大動脈
を切除し、露出した脈管内膜と共に２５ｍｍ条片に切断
した。脂肪組織を除去後、これらの動脈切片（幅２ｍｍ
、長さ２５ｍｍ）を、３７℃に維持して９５％Ｏ２／５
％ＣＯ２ガスを通気したクレブスーリンガー溶液（１１
３ｍＭ　　ＮａＣｌ、４．８ｍＭ　　ＫＣｌ、２．２ｍ
Ｍ　　ＣａＣｌ２、１．２ｍＭ　　ＭｇＣｌ２、２５ｍ
ＭＮａＨＣＯ３、１．２ｍＭ　　ＫＨ２ＰＯ４、５．５
ｍＭ　　グルコース）を充たした臓器容器に懸垂した。 大動脈をＫＣｌ濃度増大により、一定の状態にした後、
予負荷０．５ｇをかけた。収縮を等長性張力の増加とし
て測定した。試験化合物をエンドセリン（３．２×１０
−９Ｍ）によって誘起された家兎大動脈収縮反応に対し
て試験した。合成エンドセリンはペプチド研究所（日本
国、大阪）から入手した。試験化合物はエンドセリンに
よって誘起された収縮反応が最大に達した後に加えた。 （３）試験結果 試験化合物の活性をエンドセリンによって誘起された最
大収縮反応のＩＣ５０値として表わし、第２表に示した
。
【００２３】試験３ エンドセリン−１−昇圧反応に対する効果（１）試験化
合物 試験化合物Ａ （２）試験法 体重２００ｇないし２５０ｇのウィスター系ラットをエ
ーテルで麻酔し、腹大動脈に大腿動脈および静脈を経由
してポリエチレンチューブを挿入し、血圧測定とエンド
セリン−１注射に用いた。動物をケージに割り振って３
時間正気に戻し、各ケージに固定した。血圧を圧トラン
スジューサー（ＰＴ−２００Ｔ、日本光電社製）を経由
して直接監視し、プレライティングレコーダ（ＣＷＴ６
８５Ｇ、日本光電社製）に記録した。エンドセリン−１
（３．２μｇ／ｋｇ）の静脈内注射に対する昇圧反応が
得られた。この投与量により１時間持続した持続性昇圧
反応が起った。試験化合物の静脈内注射の効果をラット
についてエンドセリン−１静脈内注射開始２０分後に調
べた。 （３）試験結果 ラットにおける試験化合物の効力を下記指数で表わした
。 ＋＋：完全に拮抗（ほゞ１００％） ＋：かなり拮抗（約５０％） −：効果なし 上記生物試験の結果から、化合物（Ｉ）はエンドセリン
拮抗作用を有し、従って末梢循環不全のような高血圧症
、狭心症、心筋症、動脈硬化、心筋梗塞等のような心疾
患、レーノー病、脳動脈痙攣、脳虚血、くも膜下出血後
の後期脳痙攣等のような脳卒中、気管支収縮等のような
喘息、急性腎不全等のような腎不全の治療のための血管
拡張剤として使用することができる。
【００２４】
【実施例】以下実施例に従ってこの発明を詳細に説明す
る。これらの実施例においては、ＩＵＰＡＣ−ＩＵＢに
よって採用されている略号に加えて下記略号を使用する
。 Ａｃ　　：アセチル Ｂｏｃ　　：第三級ブトキシカルボニルＢｕ　　　　：
ブチル Ｂｚｌ　　：ベンジル ＤＭＦ　　：ジメチルホルムアミド ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド Ｅｔ　　　　：エチル ＨＯＢＴ：Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾールＭｅ　　
　　：メチル ＮＭＭ　　：Ｎ−メチルモルホリン Ｐａｃ　　：フェナシル Ｄ−Ｐｙａ：Ｄ−（２−ピリジル）アラニンＤ−４Ｐｙ
ａ：Ｄ−（４−ピリジル）アラニンＴＦＡ　　：トリフ
ルオロ酢酸 ＴＥＡ　　：トリエチルアミン ＴｓまたはＴｏｓ：トシル ＷＳＣＤ：１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロ
ピル）カルボジイミド Ｚ　　　　　　：ベンジルオキシカルボニルＤＭＡＰ：
ジメチルアミノピリジン
【００２５】製造例１−１） Ｂｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−ＯＨ（１．５９ｇ）、
ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＣＨ３（１．０８ｇ）およ
びＨＯＢＴ（０．８１ｇ）のＤＭＦ（２０ｍｌ）中混合
物にＷＳＣＤ（０．９３ｇ）を氷浴冷却下に加える。室
温で２時間攪拌後、混合物を減圧濃縮し、残渣を酢酸エ
チル（５０ｍｌ）に溶解する。溶液を０．５Ｎ塩酸（２
０ｍｌ）、水（２０ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液（２０ｍｌ）および水（２０ｍｌ、２回）で順次洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去
する。残渣をエーテルで粉砕して、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ
（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＣＨ３（１．４５ｇ）を得
る。 ｍｐ：９５−９６℃ Ｒｆ：０．８３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０２６】製造例１−２） Ｂｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＣＨ３
（１．４０ｇ）のアニソール（１．４ｍｌ）とＴＦＡ（
１４ｍｌ）との混合物中溶液を０℃で１時間攪拌する。 混合物を減圧濃縮し、１，４−ジオキサン中４Ｎ　　Ｈ
Ｃｌ（１０ｍｌ）に溶解して溶液を減圧濃縮する。残渣
をエーテルで粉砕して、ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ
３）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＣＨ３（１．０９ｇ）を得る。 ｍｐ：１８８−１９２℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０２７】製造例１−３） 塩化フェニルアセチル（５．７ｍｌ）をＴｓＯＨ・Ｈ−
Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（１４．１５ｇ）とＴＥＡ（１２
ｍｌ）とのジクロロメタン（３００ｍｌ）中混合物に氷
浴冷却下に滴下する。同温で１０分間攪拌後、混合物を
減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル（３００ｍｌ）に溶解す
る。溶液を１Ｎ　　ＨＣｌ（１００ｍｌ）、水（１００
ｍｌ）、１Ｍ炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍｌ）
、および食塩水（１００ｍｌ、２回）で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を留去して、Ｎ−フェニルア
セチル−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（１４ｇ）を得る。この
生成物をさらに精製せずに次の工程に使用する。 Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０２８】製造例１−４） ）　　Ｎ−フェニルアセチル−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（
１４ｇ）のメタノール（１４０ｍｌ）溶液を１０％パラ
ジウム−炭素（１．４ｇ）により水素雰囲気中３気圧下
２時間水素添加する。触媒を濾去後、濾液を減圧濃縮す
る。残渣をジイソプロピルエーテルで粉砕してＮ−フェ
ニルアセチル−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ（７．７ｇ）を得る。 ｍｐ：１３５−１３６℃ Ｒｆ：０．１７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０２９】製造例２−１） 製造例１−１）と実質的に同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｔ
ｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＢｚｌを収率８７．２
％で得る。 Ｒｆ：０．７７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）製造
例２−２） 製造例１−２）と実質的に同様にして、ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ
−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＢｚｌを定量的に
得る。 ｍｐ：１４７−１５０℃ Ｒｆ：０．５７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０３０】製造例３−１） 製造例１−１）と同様にして、ＤＭＦ（３０ｍｌ）中Ｂ
ｏｃ−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ（１．３０ｇ）、ＨＣｌ・Ｈ−
Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−ＯＢｚｌ（１．７６ｇ）、ＷＳ
ＣＤ（９５０ｍｌ）およびＨＯＢＴ（８２７ｍｇ）を５
℃で一夜反応させて、Ｂｏｃ−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ
（ＣＨ３）−ＯＢｚｌ（２．４８ｇ）を得る。 ｍｐ：１２４−１２６℃ Ｒｆ：０．８７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）製造
例３−２） 製造例１−４）と同様にして、ＭｅＯＨ（５０ｍｌ）お
よび水（１ｍｌ）中Ｂｏｃ−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（
ＣＨ３）−ＯＢｚｌ（２．４０ｇ）を１０％パラジウム
−炭素で水素添加して、Ｂｏｃ−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒ
ｐ（ＣＨ３−ＯＨ（１．９５ｇ）を得る。 ｍｐ：６４−６７℃ Ｒｆ：０．５７　　（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ
＝１６：１：１）
【００３１】製造例４−１） 製造例１−１）と同様にして、Ｎ−フェニルアセチル−
Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ（２．９６ｇ）、ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｔ
ｒｐ（ＣＨ３）−ＯＢｚｌ（３．９ｇ）、ＨＯＢＴ（１
．６８ｇ）およびＷＳＣＤ（１．９３ｇ）から、Ｎ−フ
ェニルアセチル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−
ＯＢｚｌ（５．９６ｇ）を得る。 ｍｐ：１５２−１５５℃ Ｒｆ：０．７２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）製造
例４−２） Ｎ−フェニルアセチル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ
３）−ＯＢｚｌ（５．９ｇ）のメタノール（６０ｍｌ）
、酢酸（６０ｍｌ）およびＤＭＦ（１００ｍｌ）の混合
物溶液に１０％パラジウム−活性炭（０．６ｇ）を加え
る。混合物を水素雰囲気中３気圧下室温で５時間攪拌す
る。溶液を濾過し、濾液を減圧濃縮する。残渣をエーテ
ル−酢酸エチルで粉砕して、Ｎ−フェニルアセチル−Ｌ
−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−ＯＨ（４．６９ｇ）
を得る。 ｍｐ：７６−７９℃ Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１）
【００３２】製造例５ 製造例１−１）と同様にして、ＤＭＦ（２００ｍｌ）中
Ｂｏｃ−Ｄ一Ｔｒｐ（ＣＨ３）−ＯＨ（６．０ｇ）、Ｄ
−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５・２ＨＣｌ（５．５４ｇ）、ＷＳ
ＣＤ（３．５１ｇ）、ＨＯＢＴ（３．０５ｇ）およびＴ
ＥＡ（２．０９ｇ）を反応させて、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ
（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５（６．１８ｇ）を
得る。 ｍｐ：９９−１０１℃ Ｒｆ：０．６７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）製造
例６ 製造例１−２）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ（Ｃ
Ｈ３）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５（４．５０ｇ）、ＴＦ
Ａ（５０ｍｌ）およびアニソール（５ｍｌ）を反応させ
て、２ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ
−ＯＣ２Ｈ５（４．１５ｇ）を得る。 ｍｐ：８１−８３℃ Ｒｆ：０．２２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１）
【００３３】製造例７ （Ｓ）−α−ベンジルオキシカルボニル−γ−メチルブ
チルイソシアネート（１．５０ｇ）の酢酸エチル（６０
ｍｌ）溶液にヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン（７２２ｍ
ｇ）を室温で加える。同温で３０分間攪拌後、溶液を５
％ＨＣｌ、１Ｍ炭酸水素ナトリウム溶液および飽和塩化
ナトリウム溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。溶液を減圧濃縮して、Ｎ−（ヘキサヒドロ−
１Ｈ−アゼピン−１−イルカルボニル）−Ｌ−ロイシン
ベンジルエステル（２．０６ｇ）を結晶として得る。 ｍｐ：７９−８２℃ Ｒｆ：０．６４（ｎ−ヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝１：１）
【００３４】製造例８ 製造例７と同様にして、酢酸エチル（１０ｍｌ）中（２
Ｓ）−２−アミノ−３，３−ジメチル−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルブチルアミド・塩酸塩（０．２０ｇ）、（Ｓ）−α−
ベンジルオキシカルボニル−γ−メチルブチルイソシア
ネート（０．２５ｇ）およびＴＥＡ（０．１ｍｌ）を反
応させて、Ｎ−［（１Ｓ）−２，２−ジメチル−１−（
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）プロピル］カルバモイ
ル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（０．４０ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．５９（ヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝２：１）製造
例９ 製造例７と同様にして、（Ｓ）−α−ベンジルオキシカ
ルボニル−γ−メチルブチルイソシアネート（５００ｍ
ｇ）およびオクタヒドロアゾシン（２７５ｍｇ）を反応
させて、Ｎ−（オクタヒドロアゾシン−１−イルカルボ
ニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（６８０ｍｇ）を得る。 ｍｐ：８７−８９℃ Ｒｆ：０．６５（ｎ−ヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝１：１）
製造例１０ 実施例４−１）と同様にして、酢酸エチル（１０ｍｌ）
中（２Ｓ）−２−アミノ−３，３−ジメチル−Ｎ，Ｎ−
ジメチルブチルアミド・塩酸塩（０．２５ｇ）、（２Ｓ
）−２−クロロカルボニルオキシ−４−メチル吉草酸ベ
ンジルエステル（０．３６ｇ）およびＴＥＡ（０．３１
ｇ）を反応させて、（２Ｓ）−２−［Ｎ−［（１Ｓ）−
２，２−ジメチル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイ
ル）プロピル］カルバモイルオキシ］−４−メチル吉草
酸ベンジルエステル（０．４４ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．４２（ヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝２：１）
【０
０３５】製造例１１ 製造例１−１）と同様にして、（２Ｒ）−２−カルボキ
シメチル−４−メチル吉草酸ベンジル（１．３５ｇ）、
ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン（０．６１０ｇ）および
ＷＳＣＤ・ＨＣｌ（１．１８ｇ）を塩化メチレン（３０
ｍｌ）中反応させて、（２Ｒ）−２−（ヘキサヒドロ−
１Ｈ−アゼピン−１−イルカルボニルメチル）−４−メ
チル吉草酸ベンジル（１．６５ｇ）を得る。 Ｒｆ：０８７（ベンゼン：ＥｔＯＡｃ：ＡｃＯＨ＝２０
：２０：１） 製造例１２ 製造例４−２）と同様にして、対応するベンジルエステ
ルの接触還元により下記化合物を得る。 １）Ｎ−［（１Ｓ）−２，２−ジメチル−１−（Ｎ，Ｎ
−ジメチルカルバモイル）プロピル］カルバモイル］−
Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 ｍｐ：９０−９３℃ Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ２）（２Ｓ）−２−［Ｎ−［（１Ｓ）−２，２−ジメチ
ル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）プロピル］
カルバモイルオキシ］−４−メチル吉草酸。 ｍｐ：１４６−１４８℃ Ｒｆ：０．２０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：＝９：１）３
）Ｎ−（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−イルカル
ボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．４０（ベンゼン：ＥｔＯＡｃ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１） ４）（２Ｒ）−２−（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−
１−イルカルボニルメチル）−４−メチル吉草酸。 Ｒｆ：０．５５（ベンゼン：ＥｔＯＡｃ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１） ５）Ｎ−（オクタヒドロアゾシン−１−イルカルボニル
）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．４５（ベンゼン：ＥｔＯＡｃ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１）
【００３６】製造例１３ 製造例１−１）と同様にして、対応する原料化合物を２
ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５とＮＭＭの存在下
に反応させて下記化合物を得ることができる。 １）Ｂｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ（ｉ−Ｃ４Ｈ９）−Ｄ−Ｐｙａ
−ＯＣ２Ｈ５。 ｍｐ：６０−６２℃ Ｒｆ：０．６２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）２）
Ｂｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨＯ）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ
５。 ｍｐ：１３１−１３４℃ Ｒｆ：０．６０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）３）
Ｂｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ（Ｃ２Ｈ５）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２
Ｈ５。 ｍｐ：６４−６７℃ Ｒｆ：０．６１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）４）
Ｂｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ（ｎ−Ｃ３Ｈ７）−Ｄ−Ｐｙａ−Ｏ
Ｃ２Ｈ５。 ｍｐ：６２−６３℃ Ｒｆ：０．６０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０３７】製造例１４ 製造例１−２）と同様にして、対応する原料化合物から
ＴＦＡとアニソールとにより第三級ブトキシカルボニル
基を脱離することにより下記化合物を得ることができる
。 １）２ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｔｒｐ（ｉ−Ｃ４Ｈ９）−Ｄ−
Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５。 Ｒｆ：０．０９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）２）
２ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨＯ）−Ｄ−Ｐｙａ−Ｏ
Ｃ２Ｈ５。 Ｒｆ：０．１５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）３）
ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｔｒｐ（Ｃ２Ｈ５）−Ｄ−Ｐｙａ−Ｏ
Ｃ２Ｈ５。 Ｒｆ＝０．１５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）４）
ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｔｒｐ（ｎ−Ｃ３Ｈ７）−Ｄ−Ｐｙａ
−ＯＣ２Ｈ５。 Ｒｆ：０．１３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０３８】製造例１５ 製造例７と同様にして、（Ｓ）−α−ベンジルオキシカ
ルボニル−γ−メチルブチルイソシアネートを対応する
アミンと反応させて下記化合物を得ることができる。 １）Ｎ−（チオモルホリノカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−
ＯＢｚｌ。 ｍｐ：８９−９１℃ Ｒｆ：０．５３（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝１：１）
２）Ｎ−（１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン
−２−イルカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．７１（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝１：１）
３）Ｎ−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１
−イルカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．６２（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
４）Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル）−Ｌ−Ｌｅ
ｕ−ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．７０（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
５）Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル）−Ｌ−Ｌ
ｅｕ−ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．６９（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
６）Ｎ−（Ｎ−ヘプチルカルバモイル）−Ｌ−Ｌｅｕ−
ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．６３（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
７）Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルバモイル）−Ｌ
−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．７６（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
８）Ｎ−（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルカルバモイ
ル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．８２（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝１：１）
９）Ｎ−［４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ピペ
リジノカルボニル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） １０）Ｎ−（２−ピリジルカルバモイル）−Ｌ−Ｌｅｕ
−ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．６１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）１１
）Ｎ−［（２Ｓ）−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイ
ル）ピロリジン−１−イルカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−
ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．４７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）１２
）Ｎ−［（２Ｒ）−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイ
ル）ピロリジン−１−イルカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−
ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）１３
）Ｎ−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）シクロ
ヘキシルカルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ。 ｍｐ：１４５−１４８℃ Ｒｆ：０．６１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）１４
）Ｎ−［（１Ｓ，２Ｓ）−１−（Ｎ，Ｎ−ジエチルカル
バモイル）−２−メチルブチルカルバモイル］−Ｌ−Ｌ
ｅｕ−ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．３１（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
１５）Ｎ−（１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−
１−イルカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．４９（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
１６）Ｎ−（２，６−ジメチルピペリジノカルボニル）
−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ。 ｍｐ：８１−８３℃ Ｒｆ：０．５３（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
１７）Ｎ−（３，５−ジメチルピペリジノカルボニル）
−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．６０（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
１８）Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルバモイル）
−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ。 ｍｐ：１００−１０３℃ Ｒｆ：０．８０（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
１９）Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル）−Ｌ−Ｌ
ｅｕ−ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．４５（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
２０）Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルバモイル）−
Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．６５（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
２１）Ｎ−［Ｎ−メチル−Ｎ−［（１Ｓ）−３−メチル
−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ブチル］カル
バモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ。 ｍｐ：１８３−１８７℃ Ｒｆ：０．３８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ２２）Ｎ−［（１Ｓ）−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイル）ペンチルカルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚ
ｌ。 ｍｐ：１３３−１３６℃ Ｒｆ：０．５９（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
２３）Ｎ−［Ｎ−メチル−Ｎ−［（１Ｓ，２Ｓ）−１−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−２−メチルブチル
］カルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．６０（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
２４）Ｎ−［（１Ｓ）−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイル）エチルカルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ
。 Ｒｆ：０．５５（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
【００３９】製造例１６ （２Ｓ）−２−クロロカルボニルオキシ−４−メチル吉
草酸ベンジル（０．５６ｇ）のテトラヒドロフラン（１
１ｍｌ）溶液にシクロヘキシルアミン（０．４０ｇ）を
室温で加える。１０分間攪拌後、溶媒を減圧下に留去し
、残渣を酢酸エチル（３０ｍｌ）に溶解する。溶液を１
Ｎ　　ＨＣｌ、水および食塩水で順次洗浄する。有機層
を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣の固
体をヘキサンで粉砕して、（２Ｓ）−２−シクロヘキシ
ルカルバモイルオキシ−４−メチル吉草酸ベンジル（０
．４５ｇ）を得る。 ｍｐ：８９−９０℃ Ｒｆ：０．７０（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
製造例１７ 製造例１６と同様にして、（２Ｓ）−２−クロロカルボ
ニルオキシ−４−メチル吉草酸ベンジルを対応するアミ
ンと反応させて下記化合物を得ることができる。 １）（２Ｓ）−４−メチル−２−［（２Ｓ）−２−メチ
ルブチルカルバモイルオキシ］吉草酸ベンジル。 ｍｐ：４８−４９℃ Ｒｆ：０．６９（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
２）（２Ｓ）−４−メチル−２−［（１Ｓ，２Ｓ）−２
−メチル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ブチ
ルカルバモイルオキシ］吉草酸ベンジル。 Ｒｆ：０．９１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）３）
（２Ｓ）−４−メチル−２−［（１Ｒ，２Ｓ）−２−メ
チル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ブチルカ
ルバモイルオキシ］吉草酸ベンジル。 Ｒｆ：０．３６（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
４）（２Ｓ）−４−メチル−２−［（１Ｓ）−２−メチ
ル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）プロピルカ
ルバモイルオキシ］吉草酸ベンジル。 Ｒｆ：０．３６（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
５）（２Ｓ）−４−メチル−２−［（１Ｓ）−３−メチ
ル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ブチルカル
バモイルオキシ］吉草酸ベンジル。 Ｒｆ：０．３７（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
６）（２Ｓ）−４−メチル−２−［（１Ｓ，２Ｓ）−２
−メチル−１−（ピペリジノカルボニル）ブチルカルバ
モイルオキシ］吉草酸ベンジル。 Ｒｆ：０．３６（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
７）（２Ｓ）−４−メチル−２−［（１Ｓ，２Ｓ）−１
−カルバモイル−２−メチルブチルカルバモイルオキシ
］吉草酸ベンジル。 ｍｐ：１４０−１４１℃ Ｒｆ：０．１３（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
８）（２Ｓ）−２−［（１Ｓ，２Ｓ）−１−（イソプロ
ピルカルバモイル）−２−メチルブチルカルバモイルオ
キシ］−４−メチル吉草酸ベンジル。 ｍｐ：９０−９２℃ Ｒｆ：０．６７（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
９）（２Ｓ）−４−メチル−２−（ピペリジノカルボニ
ルオキシ）吉草酸ベンジル。 Ｒｆ：０．７０（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
１０）（２Ｓ）−２−［（１Ｓ，２Ｓ）−１−（シクロ
ヘキシルカルバモイル）−２−メチルブチルカルバモイ
ルオキシ］−４−メチル吉草酸ベンジル。 ｍｐ：９８−１００℃ Ｒｆ：０．５５（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
１１）（２Ｓ）−２−（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン
−１−イルカルボニルオキシ）−４−メチル吉草酸ベン
ジル。 Ｒｆ：０．７８（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
１２）（２Ｓ）−２−（１，２，３，４−テトラヒドロ
イソキノリン−２−イルカルボニルオキシ）−４−メチ
ル吉草酸ベンジル。 Ｒｆ：０．６８（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
【００４０】製造例１８ （２Ｒ）−２−カルボキシメチル−４−メチル吉草酸ベ
ンジル（５２７ｍｇ）およびシクロヘキシルアミン（２
３８ｍｇ）の塩化メチレン（１０ｍｌ）溶液にＷＳＣＤ
・ＨＣｌ（４６０ｍｇ）を室温で加える。一夜攪拌後、
混合物を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル（３０ｍｌ）に
溶解する。溶液を５％ＨＣｌ、水、飽和炭酸水素ナトリ
ウム溶液および水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し
て溶媒を減圧下に留去する。残渣をｎ−ヘキサンで粉砕
して、（２Ｒ）−２−（シクロヘキシルカルバモイルメ
チル）−４−メチル吉草酸ベンジル（４１０ｍｇ）を得
る。 ｍｐ：９９−１０２℃ Ｒｆ：０．８４（ベンゼン：ＡｃＯＥｔ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１）
【００４１】製造例１９ 製造例１８と同様にして、（２Ｒ）−２−カルボキシメ
チル−４−メチル吉草酸ベンジル（３２０ｍｇ）、オク
タヒドロアゾシン（１６５ｍｇ）およびＷＳＣＤ・ＨＣ
ｌ（２８０ｍｇ）を塩化メチレン（２０ｍｌ）中反応さ
せて、（２Ｒ）−２−（オクタヒドロアゾシン−１−イ
ルカルボニルメチル）−４−メチル吉草酸ベンジル（３
７８ｍｇ）を得る。 Ｒｆ：０．８３（ベンゼン：ＡｃＯＥｔ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１）
【００４２】製造例２０ 製造例１−４）と同様にして、対応するベンジルエステ
ル化合物を１０％パラジウム−炭素の存在下に還元して
下記化合物を得ることができる。 １）Ｎ−（１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン
−２−イルカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 ｍｐ：９３−９５℃ Ｒｆ：０．３２（ベンゼン：ＡｃＯＥｔ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１） ２）Ｎ−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１
−イルカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．４６（ベンゼン：ＡｃＯＥｔ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１） ３）Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル）−Ｌ−Ｌｅ
ｕ−ＯＨ。 ｍｐ：１２１−１２３℃ Ｒｆ：０．５１（ベンゼン：ＡｃＯＥｔ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１） ４）Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル）−Ｌ−Ｌ
ｅｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．４１（ベンゼン：ＡｃＯＥｔ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１） ５）　　Ｎ−（Ｎ−ヘプチルカルバモイル）−Ｌ−Ｌｅ
ｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．４８（ベンゼン：ＡｃＯＥｔ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１） ６）Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルカルバモイル）−Ｌ−
Ｌｅｕ−ＯＨ。 ｍｐ：１１６−１１８℃ Ｒｆ：０．３９（ベンゼン：ＡｃＯＥｔ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１） ７）Ｎ−（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルカルバモイ
ル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．５１（ベンゼン：ＡｃＯＥｔ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１） ８）Ｎ−［４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ピペ
リジノカルボニル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．１０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ９）Ｎ−（２−ピリジルカルバモイル）−Ｌ−Ｌｅｕ−
ＯＨ。 Ｒｆ：０．１９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） １０）Ｎ−［（２Ｓ）−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイル）ピロリジン−１−イルカルボニル］−Ｌ−Ｌｅ
ｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．３４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） １１）Ｎ−［（２Ｒ）−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイル）ピロリジン−１−イルカルボニル］−Ｌ−Ｌｅ
ｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．３４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） １２）Ｎ−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）シ
クロヘキシルカルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 ｍｐ：１９１−１９２℃ Ｒｆ：０．３５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） １３）Ｎ−［（１Ｓ，２Ｓ）−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチル
カルバモイル）−２−メチルブチルカルバモイル］−Ｌ
−Ｌｅｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．３５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） １４）Ｎ−（２，６−ジメチルピペリジノカルボニル）
−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：Ｍ
ｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１６：１：１） １５）Ｎ−（３，５−ジメチルピペリジノカルボニル）
−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） １６）Ｎ−［Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルバモイル）
−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 ｍｐ：６２−７３℃ Ｒｆ：０．４２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） １７）Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル）−Ｌ−Ｌ
ｅｕ−ＯＨ。 ｍｐ：１０６−１０７℃ Ｒｆ：０．３６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） １８）Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルバモイル）−
Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．３８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） １９）Ｎ−［Ｎ−メチル−Ｎ−［（１Ｓ）−３−メチル
−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ブチル］カル
バモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．３８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ２０）Ｎ−［（１Ｓ）−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイル）ペンチルカルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 ｍｐ：１５５−１６０℃ Ｒｆ：０．３４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ２１）Ｎ−［Ｎ−メチル−Ｎ−［（１Ｓ，２Ｓ）−１−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−２−メチルブチル
］カルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ２２）Ｎ−［（１Ｓ）−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイル）エチルカルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．４６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ２３）（２Ｓ）−２−シクロヘキシルカルバモイルオキ
シ−４−メチル吉草酸。 Ｒｆ：０．４５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）２４
）（２Ｓ）−４−メチル−２−［（２Ｓ）−２−メチル
ブチルカルバモイルオキシ］吉草酸。 Ｒｆ：０．４０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）２５
）（２Ｓ）−４−メチル−２−［（１Ｓ，２Ｓ）−２−
メチル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ブチル
カルバモイルオキシ］吉草酸。 Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ２６）（２Ｓ）−４−メチル−２−［（１Ｒ，２Ｓ）−
２−メチル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ブ
チルカルバモイルオキシ］吉草酸。 Ｒｆ：０．３３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ２７）（２Ｓ）−４−メチル−２−［（１Ｓ）−２−メ
チル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）プロピル
カルバモイルオキシ］吉草酸。 Ｒｆ：０．３１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ２８）（２Ｓ）−４−メチル−２−［（１Ｓ）−３−メ
チル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ブチルカ
ルバモイルオキシ］吉草酸。 Ｒｆ：０．３５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ２９）（２Ｓ）−４−メチル−２−［（１Ｓ，２Ｓ）−
１−カルバモイル−２−メチルブチルカルバモイルオキ
シ］吉草酸。 ｍｐ：１７０−１７５℃ Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ３０）（２Ｓ）−２−［（１Ｓ，２Ｓ）−１−（イソプ
ロピルカルバモイル）−２−メチルブチルカルバモイル
オキシ］−４−メチル吉草酸。 ｍｐ：１７９−１８０℃ Ｒｆ：０．３７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ３１）（２Ｓ）−４−メチル−２−（ピペリジノカルボ
ニルオキシ）吉草酸。 Ｒｆ：０．５６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ３２）（２Ｓ）−２−［（１Ｓ，２Ｓ）−１−（シクロ
ヘキシルカルバモイル）−２−メチルブチルカルバモイ
ルオキシ］−４−メチル吉草酸。 ｍｐ：１９３−１９５℃ Ｒｆ：０．４３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ３３）（２Ｓ）−２−（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン
−１−イルカルボニルオキシ）−４−メチル吉草酸。 ｍｐ：８６−８８℃ Ｒｆ：０．５３（ベンゼン：ＡｃＯＥｔ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１） ３４）（２Ｓ）−２−（１，２，３，４−テトラヒドロ
イソキノリン−２−イルカルボニルオキシ）−４−メチ
ル吉草酸。 Ｒｆ：０．４８（ベンゼン：ＡｃＯＥｔ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１） ３５）（２Ｒ）−２−（シクロヘキシルカルバモイルメ
チル）−４−メチル吉草酸。 ｍｐ：８６−８８℃ Ｒｆ：０．５３（ベンゼン：ＡｃＯＥｔ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１） ３６）（２Ｒ）−２−（オクタヒドロアゾシン−１−イ
ルカルボニルメチル）−４−メチル吉草酸。 ｍｐ：７９−８１℃ Ｒｆ：０．５６（ベンゼン：ＡｃＯＥｔ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１） ３７）Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル−Ｌ−Ｌｅｕ−
ＯＨ。 ｍｐ：１０５−１０８℃ Ｒｆ：０．３２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）３８
）Ｎ−［１−（Ｎ，Ｎ，ジメチルカルバモイルメチル）
シクロヘキシルカルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．３５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ３９）Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル−Ｌ−Ｌｅｕ−
Ｄ−Ｔｙｐ（ＣＨ３）−ＯＨ ｍｐ；２０２−２０６℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） ４０）Ｎ−（ピペリジノカルバモイル）−Ｌ−Ｌｅｕ−
ＯＨ。 ｍｐ：１８５−１８７℃ Ｒｆ：０．７０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）４１
）Ｎ−［（２Ｓ）−２−メチルブチルカルバモイル］−
Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ。 Ｒｆ：０．２２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） ４２）Ｎ−（２−ピリジルメチルカルバモイル）−Ｌ−
Ｌｅｕ−ＯＨ。 ｍｐ：１８３−１８５℃ Ｒｆ：０．２３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） ４３）Ｎ−［（１Ｓ，２Ｓ）−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチル
カルバモイル）−２−メチルブチルカルバモイル］−Ｌ
−Ｌｅｕ−ＯＨ。 ｍｐ：１８５−１８７℃ Ｒｆ：０．２７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１）
【００４３】製造例２１ Ｎ−（１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イ
ルカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（０．５８ｇ）
のＭｅＯＨ（６ｍｌ）溶液に１Ｎ　　ＮａＯＨ（３．５
ｍｌ）を室温で加える。１時間後、混合物を１Ｎ　　Ｈ
Ｃｌ（５ｍｌ）で酸性にし、溶媒を減圧下に留去する。 残査を酢酸エチル（２０ｍｌ）に溶解し、水（２０ｍｌ
）および食塩水（２０ｍｌ）で洗浄する。有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して、Ｎ−（１，２，
３，６−テトラヒドロピリジン−１−イルカルボニル）
−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ（０．３１ｇ）を油状物として得る
。 Ｒｆ：０．４２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 製造例２２ 製造例２１と同様にして、対応するベンジルエステルを
１Ｎ　　ＮａＯＨで加水分解して下記化合物を得ること
ができる。 １）Ｎ−（チオモルホリノカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−
ＯＨ。 Ｒｆ：０．３１（ベンゼン：ＡｃＯＥｔ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１） ２）（２Ｓ）−２−［（１Ｓ，２Ｓ）−１−（ピペリジ
ノカルボニル）−２−メチルブチルカルバモイルオキシ
］−４−メチル吉草酸。 Ｒｆ：０．４７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１）
【００４４】製造例２３ Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ（１０．０ｇ）を、濃硫酸（３．２ｍ
ｌ）を含む水（１５０ｍｌ）に０℃で溶解する。この溶
液に硝酸ナトリウム（７．９ｇ）の水（５０ｍｌ）溶液
を１時間かけて滴下する。混合物を塩化ナトリウムで飽
和せしめ、酢酸エチル（５００ｍｌ）で抽出する。有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣の
固体をヘキサンで粉砕して、（２Ｓ）−２−ヒドロキシ
−４−メチル吉草酸（６．５１ｇ）を得る。 ｍｐ：７０−７２℃ Ｒｆ：０．８０（ｎ−ＢｕＯＨ：ＡｃＯＨ：Ｈ２Ｏ＝４
：１：１） 製造例２４ （２Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−メチル吉草酸（５．０
ｇ）および臭化ベンジル（４．９５ｍｌ）のＤＭＦ（５
０ｍｌ）溶液を攪拌しながらこれに炭酸カリウム（３．
１３ｇ）を室温で加える。１２時間撹拌後、溶媒を減圧
下に留去する。残渣を酢酸エチル（１００ｍｌ）に溶解
し、水、１Ｎ　　ＨＣｌおよび食塩水で順次洗浄する。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥して減圧濃縮する。残
渣の油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出液としてヘキサン−酢酸エチル）により精製して、（
２Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−メチル吉草酸ベンジル（
８．２ｇ）を無色油状物として得る。 Ｒｆ：０．６７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１）
【００４５】製造例２５ （２Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−メチル吉草酸ベンジル
（１．００ｇ）のテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液
にクロロギ酸トリクロロメチル（０．５５ｍｌ）を室温
で加える。溶液を１１時間還流し、溶媒を大気圧下に留
去して、（２Ｓ）−２−クロロカルボニルオキシ−４−
メチル吉草酸ベンジル（１．２６ｇ）を油状物として得
る。 Ｒｆ：０．８１（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝２：１）
製造例２６ （２Ｒ）−２−第三級ブトキシカルボニルメチル−４−
メチル吉草酸ベンジル（３．４０ｇ）のＴＦＡ（６０ｍ
ｌ）溶液を氷浴冷却下に１時間攪拌する。ＴＦＡを留去
して、（２Ｒ）−２−カルボキシメチル−４−メチル吉
草酸ベンジル（２．７２ｇ）を油状物として得る。 Ｒｆ：０．７３（ベンゼン：ＡｃＯＥｔ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１）
【００４６】製造例２７ 製造例７と同様にして、Ｅｔ３ＮまたはＮＭＭ中対応す
る原料化合物をフェニルイソシアネートと反応させて下
記化合物を得ることができる。 １）Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｏ
Ｂｚｌ。 ｍｐ：１２０−１２５℃ Ｒｆ：０．７３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）２）
Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔ
ｒｐ（ＣＨ３）−ＯＢｚｌ。 ｍｐ：１９０−１９３℃ Ｒｆ：０．７４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）製造
例２８ 実施例７２と同様にして、ＴｓＯＨ・Ｈ−Ｌ−Ｌｅｕ−
ＯＢｚｌを対応するアミンとクロロギ酸トリクロロメチ
ルの存在下に反応させて下記化合物を得ることができる
。 １）Ｎ−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルメ
チル）シクロヘキシルカルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｏ
Ｂｚｌ。 Ｒｆ：０．７０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）２）
Ｎ−［（１Ｓ，２Ｓ）−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイル−２−メチルブチルカルバモイル）］−Ｌ−Ｌｅ
ｕ−ＯＢｚｌ。 ｍｐ：９５−９８℃ Ｒｆ：０．３２（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝１：１）
３）Ｎ−（ピペリジノカルバモイル）−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｏ
Ｂｚｌ。 Ｒｆ：０．４３（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝１：１）
４）Ｎ−（２−ピリジルメチルカルバモイル）−Ｌ−Ｌ
ｅｕ−ＯＢｚｌ。 Ｒｆ：０．５０（ＡｃＯＥｔ） ５）Ｎ−［（２Ｓ）−２−メチルブチルカルバモイル］
−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ。 ｍｐ：７３−７５℃ Ｒｆ：０．２９（ｎ−ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝３：１）
【００４７】製造例２９ １）ＴｓＯＨ・Ｈ−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（１２．０ｇ
）、酢酸エチル（１５０ｍｌ）および１Ｍ炭酸水素ナト
リウム（１５０ｍｌ）の混合物を室温で２０分間攪拌す
る。有機相を分取して１Ｍ炭酸水素ナトリウムおよび塩
化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、次いで硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。この溶液に酢酸エチル（１５．３ｍｌ
）中４Ｎ塩化水素を加え、氷冷下に５分間攪拌する。 溶媒を留去して、ＨＣｌ・Ｈ−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（
７．６６ｇ）を得る。 ２）上記生成物（７．６ｇ）のトルエン（２２８ｍｌ）
溶液に活性炭（３８０ｍｇ）およびクロロギ酸トリクロ
ロメチル（３．６ｍｌ）のトルエン（７．６ｍｌ）溶液
を加え、混合物を１２０℃で２時間攪拌して濾過する。 溶媒を濾液から留去して残渣をトルエン（１５２ｍｌ）
に溶解する。この溶液の溶媒を留去して、（Ｓ）−α−
ベンジルオキシカルボニル−γ−メチルブチルイソシア
ネート（７．５８ｇ）を得る。 ３）この生成物の酢酸エチル（１１４ｍｌ）溶液にヘキ
サヒドロ−１Ｈ−アゼピン（３．５ｇ）を氷冷下に加え
、混合物を同温で３０分間攪拌する。この溶液を５％Ｈ
Ｃｌ、炭酸水素ナトリウム水溶液および塩化ナトリウム
飽和水溶液で洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を留去して、Ｎ−（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼ
ピン−１−イルカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（
９．９６ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．７１（ｎ−ヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝２：１）
４）Ｎ−（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−イルカ
ルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（９．０ｇ）のエタ
ノール（６９ｍｌ）溶液を１０％パラジウム−炭素（０
．６９２ｇ）により水素雰囲気中３気圧下３０分間接触
還元する。触媒を濾去し、濾液を蒸発乾固する。残渣を
酢酸エチル（１３８ｍｌ）に溶解し、この溶液を５％Ｈ
Ｃｌおよび塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄して乾燥す
る。溶媒を留去して得る残渣を酢酸エチルとヘキサンか
ら結晶化させて、Ｎ−（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン
−１−イルカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ（５．７ｇ
）を得る。 ｍｐ：９０−９２℃ Ｒｆ：０．４３（ベンゼン：ＥｔＯＡｃ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１）
【００４８】製造例３０ １）Ｂｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ−ＯＨ（１５．０ｇ）のＤＭＦ
（１５０ｍｌ）溶液にカリウム第三級ブトキシド（１３
．８ｇ）および沃化メチル（１０．５ｇ）を氷冷下に加
える。氷冷下に３０分間、室温で１５分間攪拌後、反応
混合物を氷冷０．２４Ｎ　　ＨＣｌに注ぎ、酢酸エチル
で抽出する。抽出液を５％ＮａＨＣＯ３および飽和塩化
ナトリウム水溶液で洗浄する。溶媒を留去して得る残渣
をジイソプロピルエーテルから結晶化させて、Ｂｏｃ−
Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−ＯＨ（９．１８ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．６１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝８：２）２）
この生成物（６．８４ｇ）のジクロロメタン（１３７ｍ
ｌ）溶液にＮＭＭ（２．１７ｇ）およびクロロギ酸イソ
ブチル（２．９３ｇ）を−３０℃で加える。これに２Ｈ
Ｃｌ・Ｈ−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５（６．０ｇ）を−１
５℃ないし−１０℃で加え、次いでＮＭＭ（４．５４ｇ
）を−２０℃で加えて混合物を同温で３０分間攪拌する
。反応混合物を１Ｍ炭酸水素ナトリウムおよび塩化ナト
リウム飽和水溶液で洗浄して活性炭処理する。溶媒を留
去し、残渣を酢酸エチルおよびヘキサンから結晶化させ
て、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ
２Ｈ５（７．８８ｇ）を得る。 ｍｐ：９９−１０１℃ Ｒｆ：０．８０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）３）
上記生成物（７．８ｇ）の酢酸エチル（６１．７ｍｌ）
溶液に酢酸エチル（３０．８ｍｌ）中４Ｎ塩化水素を氷
冷下に加え、この混合物を室温で１時間攪拌する。 所望の生成物を傾斜して集め、酢酸エチルで粉砕して、
２ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−Ｏ
Ｃ２Ｈ５（７．４ｇ）を得る。
【００４９】製造例３１ １）製造例１−１）と同様にして、Ｎα−Ｂｏｃ−Ｎα
−メチル−Ｎｉｎ−メチル−Ｄ−Ｔｒｐ−ＯＨ（０．６
５ｇ）、２ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＥｔ（０．５２
ｇ）、ＨＯＢｔ（０．３２ｇ）、ＷＳＣＤ（０．３６ｇ
）、Ｅｔ３Ｎ（０．２０ｇ）およびＤＭＦ（２０ｍｌ）
を反応させてＮα−Ｂｏｃ−Ｎα−メチル−Ｎｉｎ−メ
チル−Ｄ−Ｔｒｐ−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＥｔ（０．７８ｇ）
を得る。Ｒｆ：０．８７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：
１） ２）製造例１−１）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ
（ＣＨＯ）−ＯＨ（２．０ｇ）、２ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｐ
ｙａ−ＯＥｔ（１．６１ｇ）、ＷＳＣＤ（１．０３ｇ）
、ＨＯＢｔ（０．９０ｇ）、ＮＭＭ（０．６１ｇ）およ
びＤＭＦ（２０ｍｌ）を反応させてＢｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ
（ＣＨＯ）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＥｔ（２．２３ｇ）を得る
。 ｍｐ：１３６−１３７℃ Ｒｆ：０．６５（酢酸エチル） ３）Ｂｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨＯ）−ＯＨ（０．７９ｇ
）とＮ−メチルモルホリン（０．１３ｍｌ）の塩化メチ
レン（２０ｍｌ）溶液にクロロギ酸イソブチル（０．３
１ｍｌ）を−１５℃で滴下する。１５分後、この溶液に
Ｎ−メチルモルホリン（０．１３ｍｌ）およびＨＣｌ・
Ｈ−Ｄ−Ｇｌｕ（ＯＢｚｌ）−ＯＰａｃ（０．８５ｇ）
を−３０℃で加える。１時間攪拌後、混合物を０．５Ｎ
塩酸（１０ｍｌ）、水（１０ｍｌ）および１Ｍ炭酸水素
ナトリウム（１０ｍｌ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮する。残渣の固体をエチルエーテルで
粉砕してＢｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨＯ）−Ｄ−Ｇｌｕ（
ＯＢｚｌ）−ＯＰａｃ（１．３１ｇ）を得る。 ｍｐ：１４２−１４４℃ Ｒｆ：０．７９（クロロホルム：メタノール＝９：１）
４）製造例１−１）と同様にしてＢｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ（
ＣＨＯ）−Ｄ−ｐｈｅ−ＯＰａｃを得る。 ｍｐ：１４２−１４６℃ Ｒｆ：０．７８（クロロホルム：メタノール＝９：１）
５）製造例１−１）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ
（ＣＨＯ）−ＯＨ（１．０ｇ）、ＨＣｌ・Ｈ−βＡｌａ
−ＯＰａｃ（０．８１ｇ）、ＨＯＢＴ（０．４９ｇ）、
ＷＳＣＤ（０．５６ｇ）およびＤＭＦ（１０ｍｌ）を反
応させてＢｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨＯ）−βＡｌａ−Ｏ
Ｐａｃ（３．１５ｇ）を得る。 ｍｐ：１５３−１５５℃ Ｒｆ：０．５８（クロロホルム：メタノール＝９：１）
６）製造例１−１）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ
（ＣＨＯ）−ＯＨ（１０．０ｇ）、ＨＣｌ・Ｈ−βＡｌ
ａ−ＯＭｅ（４．４１ｇ）、ＨＯＢＴ（４．４７ｇ）、
ＷＳＣＤ（５．１４ｇ）およびＤＭＦ（１００ｍｌ）を
反応させてＢｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨＯ）−βＡｌａ−
ＯＭｅ（８．７７ｇ）を得る。 ｍｐ：１３４−１３５℃ Ｒｆ：０．５４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）７）
製造例１−１）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｐｈｅ−Ｏ
Ｈ（２６５ｍｇ）、２ＨＣｌ−Ｈ−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＥｔ
（２６７ｍｇ）、ＨＯＢＴ（０．１６ｇ）、ＷＳＣＤ（
０．１９ｇ）、Ｎ−メチルモルホリン（０．１０ｇ）お
よびＤＭＦ（６ｍｌ）を反応させてＢｏｃ−Ｄ−Ｐｈｅ
−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＥｔ（０．３２ｇ）を得る。 ｍｐ：９７−９９℃ Ｒｆ：０．５８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０５０】製造例１−２）と同様にして、対応する原料化
合物から第三級ブトキシカルボニル基を脱離することに
より下記化合物を得ることができる。 製造例３２ １）ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｔｒｐ（Ｍｅ）−Ｄ−Ｌｅｕ−Ｏ
Ｂｚｌ ｍｐ：８５−９０℃ Ｒｆ：０．２７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）２）
２ＨＣｌ・Ｎα−メチル−Ｄ−Ｔｒｐ（Ｍｅ）−Ｄ−Ｐ
ｙａ−ＯＥｔ ｍｐ：１００−１１０℃ Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）３）
２ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨＯ）−Ｄ−Ｐｙａ−Ｏ
Ｅｔ Ｒｆ：０．１６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１，ｖ／ｖ） ４）ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨＯ）−Ｄ−Ｇｌｕ（
ＯＢｚｌ）−ＯＰａｃｍｐ：８０−８９℃Ｒｆ：０．５
０（クロロホルム：メタノール＝９：１）５）ＨＣｌ・
Ｈ−Ｄ一Ｔｒｐ（ＣＨＯ）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＰａｃ ｍｐ：１８５℃（分解） Ｒｆ：０．３７（クロロホルム：メタノール：酢酸＝１
６：１：１） ６）ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨＯ）−βＡｌａ−Ｏ
Ｐａｃ ｍｐ：１５７−１６４℃ Ｒｆ：０．１７（クロロホルム：メタノール：酢酸＝１
６：１：１） ７）ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨＯ）−βＡｌａ−Ｏ
Ｍｅ ｍｐ：１６８−１６９℃ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）８）２
ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｐｈｅ−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＥｔＲｆ：０
．１２（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）
【００５１】製
造例７と同様にして、（Ｓ）−α−ベンジルオキシカル
ボニル−γ−メチルブチルイソシアネートを対応するア
ミンと反応させて下記化合物を得ることができる。 製造例３３ １）Ｎ−（ピロリジン−１−イルカルボニル）−Ｌ−Ｌ
ｅｕ−ＯＢｚｌ Ｒｆ：０．１４（ＥｔＯＡｃ：ヘキサン＝１：２）２）
Ｎ−（ピペリジン−１−イルカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ
−ＯＢｚｌ ｍｐ：７５−７６℃ Ｒｆ：０．２７（ＥｔＯＡｃ：ヘキサン＝１：２）３）
Ｎ−［（２Ｓ）−４−メチル−２−（１−メチルプロピ
ル）−３−オキソピペリジン−１−イルカルボニル］−
Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ Ｒｆ：０．１３（ＥｔＯＡｃ：ヘキサン＝１：１，ｖ／
ｖ） ４）Ｎ−［｛（１Ｓ）−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイル）−１−シクロヘキシルメチル｝カルバモイル］
−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ Ｒｆ：０．２６（ＥｔＯＡｃ：ヘキサン＝１：１，ｖ／
ｖ） ５）Ｎ−［｛（１Ｓ）−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイル）−１−フェニルメチル｝カルバモイル］−Ｌ−
Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ Ｒｆ：０．０８（ＥｔＯＡｃ：ヘキサン＝１：２，ｖ／
ｖ） ６）Ｎ−［｛シス−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイ
ルメチル）シクロヘキシル｝カルバモイル］−Ｌ−Ｌｅ
ｕ−ＯＢｚｌ Ｒｆ：０．２５（酢酸エチル） ７）Ｎ−［｛シス−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイ
ル）シクロヘキシル｝カルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｏ
Ｂｚｌ Ｒｆ：０．３４（酢酸エチル） ８）Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルメチル）カル
バモイル−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ Ｒｆ：０．２３（酢酸エチル） ９）Ｎ−［｛２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）エ
チル｝カルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌＲｆ：０
．３３（酢酸エチル） １０）Ｎ−［（トランス−４−ヒドロキシシクロヘキシ
ル）カルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌｍｐ：１６
９−１７１℃ Ｒｆ：０．５３（酢酸エチル） １１）Ｎ−［｛（１Ｓ）−１−（ヒドロキシメチルー３
−メチルブチル｝カルバモイル］−Ｌ一Ｌｅｕ−ＯＢｚ
ｌ Ｒｆ：０．３８（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）
１２）Ｎ−［｛２−（モルホリノ）エチル｝カルバモイ
ル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ Ｒｆ：０．４６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） １３）Ｎ−（ε−カプロラクタム−３−イルカルバモイ
ル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ ｍｐ：１４８−１５０℃ Ｒｆ：０．５２（酢酸エチル） １４）Ｎ−（Ｎ′−イソブチリルヒドラジノカルボニル
）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ ｍｐ：９３−９６℃ Ｒｆ：０．１６（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）
１５）Ｎ−［（１−エトキシカルボニルピペリジン−４
−イル）カルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌＲｆ：
０．３５（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）
【００
５２】製造例１−４）と同様にして、対応する原料化合
物からベンジル基を脱離することにより下記化合物を得
る。 製造例３４ １）Ｎ−（ピロリジン−１−イルカルボニル）−Ｌ−Ｌ
ｅｕ−ＯＨ Ｒｆ：０．１８（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）２）Ｎ
−（ピペリジノカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨＲｆ：
０．１７（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）３）Ｎ−（２
−クロロフェニルカルバモイル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ Ｒｆ：０．２０（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）４）Ｎ
−（ｏ−クロロフェニルアセチル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ ｍｐ：１４５−１４６℃ Ｒｆ：０．２１（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）５）（
２Ｒ）−２−［｛（１Ｓ）−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカ
ルバモイル）−２，２−ジメチルプロピル｝カルバモイ
ル］メチル−４−メチル吉草酸 Ｒｆ：０．４３（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）６）Ｎ
−［（２Ｓ）−４−メチル−２−（１−メチルプロピル
）−３−オキソピペラジン−１−イルカルボニル］−Ｌ
−Ｌｅｕ−ＯＨ ｍｐ：１８０℃（分解） Ｒｆ：０．２０（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）７）Ｎ
−［｛（１Ｓ）−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル
）−１−シクロヘキシルメチル｝カルバモイル］−Ｌ−
Ｌｅｕ−ＯＨ ｍｐ：２１０−２１１℃ Ｒｆ：０．２０（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）８）Ｎ
−［｛（１Ｓ）−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル
）−１−フェニルメチル｝カルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ
−ＯＨ Ｒｆ：０．３８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１，ｖ／ｖ） ９）Ｎ−（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−イルカ
ルボニル）−Ｎ−メチル−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨＲｆ：０．
５８（ベンゼン：酢酸エチル：酢酸＝２０：２０：１，
ｖ／ｖ） １０）Ｎ−［｛シス−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモ
イルメチル）シクロヘキシル｝カルバモイル］−Ｌ−Ｌ
ｅｕ−ＯＨ Ｒｆ：０．５７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） １１）Ｎ−［｛シス−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモ
イル）シクロヘキシル｝カルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−
ＯＨ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） １２）Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルメチル）カ
ルバモイル−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ Ｒｆ：０．７３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） １３）Ｎ−［｛２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）
エチル｝カルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨＲｆ：０．
７７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８：２：１） １４）Ｎ−［（トランス−４−ヒドロキシシクロヘキシ
ル）カルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨＲｆ：０．７８
（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８：１：１） １５）Ｎ−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチ
ルカルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ Ｒｆ：０．６５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） １６）Ｎ−［｛（１Ｓ）−（１−ヒドロキシメチル）−
３−メチルブチル｝カルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ
Ｒｆ：０．３８（ベンゼン：酢酸エチル：酢酸＝２０：
２０：１） １７）Ｎ−［｛２−（モルホリノ）エチル｝カルバモイ
ル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ Ｒｆ：０．２１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） １８）Ｎ−［ε−カプロラクタム−３−イルカルバモイ
ル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ Ｒｆ：０．６７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） １９）　　Ｎ−（Ｎ′−イソブチリルヒドラジノカルボ
ニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ Ｒｆ：０．４５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） ２０）Ｎ−［（１−エトキシカルボニルピペリジン−４
−イル）カルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨＲｆ：０．
４８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８：１：１）
【００５３】製造例３５ ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン（０．３ｇ）、（Ｓ）−
α−ベンジルオキシカルボニル−γ，γ−ジメチルブチ
ルイソシアネート（０．４８ｇ）およびＥｔＯＡｃ（１
０ｍｌ）を製造例７と同様に反応させて、Ｎ−（ヘキサ
ヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−イルカルボニル）−γ−
メチル−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌを得る。この生成物と１
０％Ｐｄ−Ｃ（６０ｍｇ）、ＭｅＯＨ（１０ｍｌ）およ
びＨ２Ｏ（１ｍｌ）とを製造例１−４）と同様に反応さ
せて、Ｎ−（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−イル
カルボニル）−γ−メチル−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ（０．４
３ｇ）を得る。 ｍｐ：６４−６６℃ Ｒｆ：０．２０（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）
【００
５４】製造例３６ １）　　製造例１−１）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−１
−Ｎａ１−ＯＨ（０．５０ｇ）、メタンスルホンアミド
（０．１８ｇ）、ＤＭＡＰ（０．２３ｇ）、ＷＳＣＤ．
ＨＣｌ（０．３７ｇ）およびＣＨ２Ｃｌ２（１０ｍｌ）
を反応させて、Ｂｏｃ−Ｄ−１−Ｎａｌ−メタンスルホ
ンアミド（０．６３ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．４８　　（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）２
）　　製造例１−１）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｐｈ
ｅ−ＯＨ（０．２０ｇ）、メタンスルホンアミド（７９
ｍｇ）、ＤＭＡＰ（０．１１ｇ）、ＷＳＣＤ・ＨＣｌ（
０．１７ｇ）およびＤＭＦ（４ｍｌ）を反応させて、Ｂ
ｏｃ−Ｄ−Ｐｈｅ−メタンスルホンアミド（０．２１ｇ
）を得る。 ｍｐ：７３−７５℃ Ｒｆ：０．８０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１，ｖ／ｖ） ３）製造例１−１）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｐｈｅ
−ＯＨ（０．２０ｇ）、ベンゼンスルホンアミド（０．
１３ｇ）、ＤＭＡＰ（０．１１ｇ）、ＷＳＣＤ・ＨＣｌ
（０．１７ｇ）およびＣＨ２Ｃｌ２（４ｍｌ）を反応さ
せて、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｐｈｅ−ベンゼンスルホンアミド（
０．３２ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．８３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１，ｖ／ｖ） ４）製造例１−１）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｐｙａ
−ＯＨ（０．２０ｇ）、ジエチルアミン（６６ｍｇ）、
ＨＯＢｔ（０．１２ｇ）、ＷＳＣＤ・ＨＣｌ（０．１７
ｇ）およびＤＭＦ（２ｍｌ）を反応させて、Ｂｏｃ−Ｄ
−Ｐｙａ−ジエチルアミド（４５ｍｇ）を得る。 ｍｐ：１３３−１３５℃ Ｒｆ：０．３２（ＥｔＯＡｃ）
【００５５】製造例３７ １）製造例１−２）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−１−Ｎ
ａｌ−メタンスルホンアミド（０．６０ｇ）、４Ｎ　　
ＨＣｌ−ＥｔＯＡｃ（１０ｍｌ）およびＥｔＯＡｃ（３
ｍｌ）を反応させて、ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−１−Ｎａｌ−メ
タンスルホンアミドを得る。 ｍｐ：２５０℃（分解） Ｒｆ：０．４２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１，ｖ／ｖ） ２）製造例１−２）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｐｈｅ
一メタンスルホンアミド（０．１９ｇ）および４Ｎ　　
ＨＣｌ−ＥｔＯＡｃ（１０ｍｌ）を反応させて、ＨＣｌ
・Ｈ−Ｄ−Ｐｈｅ−メタンスルホンアミド（０．１３ｇ
）を得る。 ｍｐ：２４３℃（分解） Ｒｆ：０．１２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１，ｖ／ｖ） ３）製造例１−２）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｐｈｅ
−ベンゼンスルホンアミド（０．３０ｇ）および４Ｎ　
　ＨＣｌ−ＥｔＯＡｃ（１０ｍｌ）を反応させて、ＨＣ
ｌ・Ｈ−Ｄ−Ｐｈｅ−ベンゼンスルホンアミド（０．２
２ｇ）を得る。 ｍｐ：２３０゜Ｃ（分解） Ｒｆ：０．２２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１ｖ／ｖ） ４）　　製造例１−２）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｐ
ｙａ−ジエチルアミド（４５ｍｇ）および４Ｎ　　ＨＣ
ｌ−ＥｔＯＡｃ（１ｍｌ）を反応させて、２ＨＣｌ・Ｈ
−Ｄ−Ｐｙａ−ジエチルアミド（４１ｍｇ）を得る。 Ｒｆ：０．１８　　（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）
【
００５６】製造例３８ １）　　製造例７と同様にして、ｏ−クロロフェニルイ
ソシアネート（１．５４ｇ）、　　ＴｏｓＯＨ・Ｈ−Ｌ
−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（３．９４ｇ）、Ｎ−メチルモルホ
リン（１．１ｇ）およびＥｔＯＡｃ（５０ｍｌ）を反応
させて、Ｎ−（２−クロロフェニルカルバモイル）−Ｌ
−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（４．３０ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．８６（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）２）　
　製造例１−１）と同様にして、ｏ−クロロフェニル酢
酸（０．７３ｇ）、ＨＣｌ・　　Ｈ　　−Ｌ−Ｌｅｕ−
ＯＢｚｌ（１．０ｇ）、ＷＳＣＤ（０．６６ｇ）および
ＣＨ２Ｃｌ２（２０ｍｌ）を反応させて、Ｎ−（ｏ−ク
ロロフェニルアセチル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（１．
４ｇ）を得る。 ｍｐ：７５−７７℃ ７　　Ｒｆ：０．８６（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）
【００５７】製造例３９ Ｎ−Ｂｏｃ−Ｎ−メチル−グリシナール（２．０ｇ）お
よびＨＣｌ・Ｈ−Ｌ−Ｉｌｅ−ＯＭｅ（２．０ｇ）のＭ
ｅＯＨ攪拌溶液にシアノ水素化ホウ素ナトリウム（０．
８７ｇ）を室温で加える。３０分後、溶媒を減圧留去し
、残渣を酢酸エチル（５０ｍｌ）に溶解し、炭酸水素ナ
トリウムで洗浄する。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（４０ｇ、溶離溶媒として酢酸エチル−ヘキサ
ン＝１：３〜３：１）で精製して、Ｎ−［２−（Ｎ−Ｂ
ｏｃ−Ｎ−メチルアミノ）エチル−Ｌ−Ｉｌｅ−ＯＭｅ
（１．６７ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．７８（ＥｔＯＡｃ：ヘキサン＝２：１，ｖ／
ｖ）
【００５８】製造例４０ 製造例１−２）と同様にして、Ｎ−［２−（Ｎ−Ｂｏｃ
−Ｎ−メチルアミノ）エチル］−Ｌ−Ｉｌｅ−ＯＭｅ（
１．６０ｇ）と４Ｎ　　ＨＣｌ−ＥｔＯＡｃ（２０ｍｌ
）を反応させて、２ＨＣｌ・Ｎ−［２−（Ｎ−メチルア
ミノ）エチル］−Ｌ−Ｉｌｅ−ＯＭｅ（１．４０ｇ）を
得る。 ｍｐ：１４８−１５０゜Ｃ Ｒｆ：０．１９　　（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）
【
００５９】製造例４１ ２ＨＣｌ・Ｎ−［２−（Ｎ−メチルアミノ）エチル］−
Ｌ−Ｉｌｅ−ＯＭｅ（１．３０ｇ）を２４Ｎ　　ＮＨ３
−ＭｅＯＨ（２０ｍｌ）に室温で溶解し、溶液を５日間
静置する。溶媒を減圧留去し、残渣ＥｔＯＡｃ（３０ｍ
ｌ）に溶解後、炭酸水素ナトリウム（２０ｍｌ）で洗浄
する。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し
て、（３Ｓ）−１−メチル−３−（１−メチルプロピル
）−２−オキソピペラジン（０．６９ｇ）を得る。Ｒｆ
：０．５７（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）
【００６０
】製造例４２ Ｎα−Ｂｏｃ−Ｎｉｎ−メチル−Ｄ−Ｔｒｐ−ＯＨ（１
．０ｇ）およびＮａＨ（０．３１ｇ、鉱油中６０％）の
テトラヒドロフラン中懸濁液に攪拌しながら室温でヨウ
化メチル（１．３４ｇ）を加える。８日後、混合物を減
圧濃縮し、残渣をＥｔＯＡｃ（３０ｍｌ）に懸濁後、１
Ｎ　　ＨＣｌおよび食塩水で洗浄する。有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（２０ｇ、溶離溶媒：ＣＨＣ
ｌ３中２％ＭｅＯＨ）で精製して、Ｎα−Ｂｏｃ−Ｎα
−メチル−Ｎｉｎ−メチル−Ｄ−Ｔｒｐ−ＯＨ（０．７
０ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．４２（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）
【００
６１】製造例４３ 炭酸カリウムの微粉末（５．８ｇ）を２−（アミノメチ
ル）ピリジン（３．０ｇ）とブロモ酢酸エチル（３．１
ｍｌ）のジメチルホルムアミド（３０ｍｌ）溶液に懸濁
する。混合物を室温で一夜攪拌後、氷水中に注ぐ。混合
物を酢酸エチル（５０ｍｌ×２）で抽出し、有機層を飽
和食塩水（２回）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後
、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶離溶媒、ＭｅＯＨ：ＣＨＣｌ３＝１：９９）
で精製して、Ｎ−（エトキシカルボニルメチル）−Ｎ−
（ピリジン−２−イルメチル）アミン（２．３０ｇ）を
得る。 Ｒｆ：０．２７（ＭｅＯＨ／ＣＨＣｌ３１／２０）
【０
０６２】製造例４４ ２−［２−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）エチル］
ピリジン（２ｇ）のジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）
溶液を水素化ナトリウム（０．５４ｇ）のジメチルホル
ムアミド（１０ｍｌ）中懸濁液に０℃で加える。混合物
を０゜Ｃで１時間、室温で１時間攪拌する。これにブロ
モ酢酸エチル（１．５ｍｌ）のジメチルホルムアミド（
５ｍｌ）溶液を加え、混合物を室温で２時間攪拌する。 溶液を飽和塩化アンモニウム（５０ｍｌ）に注ぎ、混合
物を酢酸エチル（３０ｍｌ×２）で抽出する。有機層を
合わせ、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（溶離溶媒、ＭｅＯＨ：ＣＨＣｌ３＝１：９９）で精
製して、２−［２−｛Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）
−Ｎ−（エトキシカルボニルメチル）アミノ｝エチル］
ピリジンを得る。 Ｒｆ：０．４７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝１：１９）
【
００６３】製造例４５ 製造例１−２）と同様にして、２−［２−｛Ｎ−（ｔ−
ブトキシカルボニル）−Ｎ−（エトキシカルボニルメチ
ル）アミノ｝ニチル］ピリジン（４３９ｍｇ）と４Ｎ　
　ＨＣｌ−１，４−ジオキサン（５ｍｌ）を反応させて
、Ｎ−（エトキシカルボニルメチル）−Ｎ−［２−（ピ
リジン−２−イル）エチル］アミン２塩酸塩を得る。 Ｒｆ：０．２４　　（ＭｅＯＨ：ＣＨＣｌ３＝１：１９
）
【００６４】製造例４６ 製造例２９−２）および２９−３）と同様にして、Ｎ−
メチル−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ塩酸塩（６００ｍｇ）、
クロロギ酸トリクロロメチル（０．５４ｍｌ）およびヘ
キサメチレンイミン（８７７ｍｇ）を反応させて、Ｎ−
（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−イルカルボニル
）−Ｎ−メチル−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（５１５ｍｇ）
を得る。 Ｒｆ：０．４４（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）
【００６５】製造例４７ 製造例１−１）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｌ−Ａｓｐ（Ｏ
Ｂｚｌ）−ＯＨ（１．０ｇ）、２−アミノピリジン（０
．３５ｇ）、ＨＯＢＴ（０．５０ｇ）、ＷＳＣＤ（０．
７１ｇ）およびＤＭＦ（２０ｍｌ）を反応させて、Ｂｏ
ｃ−Ｌ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−２−ピリジルアミドを得
る。 Ｒｆ：０．５２　　（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝ＡｃＯＨ
＝１６：１：１）
【００６６】製造例４８ 製造例１−２）と同様にして、Ｈ−Ｌ−Ａｓｐ（ＯＢｚ
ｌ）−２−ピリジルアミド・２ＨＣｌを得る。 ｍｐ：１７０−１７８℃ Ｒｆ：０．２３（クロロホルム：メタノール：酢酸＝８
：１：１）
【００６７】製造例４９ 製造例１−１）と同様にして、ＨＣｌ・Ｈ−Ｌ−ｔｅｒ
ｔＬｅｕジメチルアミド（０．２２ｇ）、（２Ｒ）−２
−（カルボキシメチル）−４−メチル吉草酸ベンジル（
０．３０ｇ）ＷＳＣＤ（０．２１ｇ）およびＣＨ２Ｃｌ
２（８ｍｌ）を反応させて、（２Ｒ）−２−［｛（１Ｓ
）−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル−２，２−ジ
メチルプロピル｝カルバモイル］メチル−４−メチル吉
草酸ベンジル（０．４０ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．７１（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ
【００６
８】実施例１−１） Ｎ−フェニルアセチル−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ（０．２５ｇ
）、ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｈｅ−
ＯＣＨ３（０．４８ｇ）およびＨＯＢＴ（０．１６ｇ）
のＤＭＦ（８ｍｌ）中混合物にＷＳＣＤ（０．１９ｇ）
を氷浴中冷却下に加える。同温で４．５時間攪拌後、混
合物を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル（５０ｍｌ）に溶
解する。溶液を０．５Ｎ　　ＨＣｌ（１０ｍｌ）、炭酸
水素ナトリウム飽和水溶液（１０ｍｌ）および食塩水（
１０ｍｌ）で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して
減圧濃縮する。残渣をエーテルで粉砕して目的化合物（
０．９０ｇ）を得る。 ｍｐ：１８５−１８８゜Ｃ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１−２） Ｎ−フェニルアセチル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ
３）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＣＨ３（０．８５ｇ）のＤＭＦ（
７ｍｌ）溶液に１Ｎ　　ＮａＯＨ（１．５ｍｌ）を０℃
で加える。同温で２０分間攪拌後、混合物を１Ｎ　　Ｈ
Ｃｌ（２ｍｌ）で酸性にし、減圧濃縮する。残渣を酢酸
エチル（２０ｍｌ）に溶解し、溶液を０．５Ｎ　　ＨＣ
ｌ（１０ｍｌ）および食塩水（１０ｍｌ）で洗浄する。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥して減圧濃縮する。残
渣をエーテルで粉砕して目的化合物（０．５０ｇ）を得
る。 ｍｐ：１７７−１８５℃ ＦＡＢ−ＭＳｍ／ｚ：５９８　　［Ｍ＋Ｈ］＋　　Ｒｆ
：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１６：
１：１）
【００６９】実施例２−１） 実施例１−１）と同様にして、ＤＭＦ（２ｍｌ）中３−
フェニルプロピオン酸（３３ｍｇ）、ＨＣｌ・Ｈ−Ｌ−
Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＢｚｌ
（０．１２ｇ）、ＨＯＢＴ（３２ｍｇ）およびＷＳＣＤ
（３７ｍｇ）を反応させて目的化合物（０．１３ｇ）を
得る。 ｍｐ：２１８−２２０℃ Ｒｆ：０．７４　　（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
実施例２−２） 実施例１−２）と同様にして、ＤＭＦ（１．５ｍｌ）中
Ｎ−（３−フェニルプロピオニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−
Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＢｚｌ（０．１ｇ）
を１Ｎ　　ＮａＯＨ（０．５ｍｌ）で加水分解して目的
化合物（６８ｍｇ）を得る。 ｍｐ：１７５−１８０℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳｍ／ｚ：６１１［Ｍ＋Ｈ］＋
【００７０】
実施例３−１） 実施例１−１）と同様にして、ＤＭＦ（２ｍｌ）中シク
ロヘキシル酢酸（３１ｍｇ）、ＨＣｌ・Ｈ−Ｌ−Ｌｅｕ
−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＢｚｌ（０．
１２ｇ）、ＨＯＢＴ（３２ｍｇ）およびＷＳＣＤ（３７
ｍｇ）を反応させて目的化合物（０．１２ｇ）を得る。 ｍｐ：１９１−１９４℃ Ｒｆ：０．７４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３−２） 実施例１−２）と同様にして、ＤＭＦ（１．５ｍｌ）中
Ｎ−シクロヘキシルアセチル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｔｒｐ（Ｃ
Ｈ３）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＣ２Ｈ５（０．１ｇ）を１Ｎ　
　ＮａＯＨ（０．５ｍｌ）と反応させて目的化合物（６
３ｍｇ）を得る。 ｍｐ：２２５−２２８℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳｍ／ｚ：６０３［Ｍ＋Ｈ］＋
【００７１】
実施例４−１） ＨＣｌ・Ｈ−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−
Ｐｈｅ−ＯＢｚｌ（１２０ｍｇ）およびＥｔ３Ｎ（２２
ｍｇ）のＤＭＦ（５ｍｌ）溶液にフェニルイソシアネー
ト（２６ｍｇ）を室温で加える。混合物を同温で３０分
間攪拌する。溶媒を留去後、残渣をＡｃＯＥｔ（２０ｍ
ｌ）に溶解し、溶液を５％ＨＣｌ、１Ｍ炭酸水素ナトリ
ウム水溶液および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して減圧濃縮する。残
渣をエーテルから結晶化させて目的化合物（１１５ｍｇ
）を得る。 ｍｐ：２２２−２２４℃ Ｒｆ：０．７７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４−２） 実施例１−２）と同様にして、ＤＭＦ（２ｍｌ）中Ｎ−
フェニルカルバモイル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ
３）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＢｚｌ（１１５ｍｇ）を１Ｎ　　
ＮａＯＨ（０．３ｍｌ）で加水分解して目的化合物（９
３ｍｇ）を得る。 ｍｐ：２４８−２５１℃ Ｒｆ：０．６０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１）
【００７２】実施例５−１） 実施例４−１）と同様にして、ＤＭＦ（１０ｍｌ）中Ｈ
Ｃｌ・Ｈ−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐ
ｈｅ−ＯＢｚｌ（３００ｍｇ）、Ｅｔ３Ｎ（５０．２ｍ
ｇ）およびシクロヘキシルイソシアネート（６８．２ｍ
ｇ）を室温で３０分間反応させて目的化合物（３２５ｍ
ｇ）を得る。 ｍｐ：２１８−２２０℃ Ｒｆ：０．６７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例５−２） 実施例１−２）と同様にして、ＤＭＦ（１０ｍｌ）中Ｎ
−シクロヘキシルカルバモイル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒ
ｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＢｚｌ（３００ｍｇ）を
１Ｎ　　ＮａＯＨ（２．２ｍｌ）により室温で３０分間
加水分解して目的化合物（２４６ｍｇ）を得る。 ｍｐ：２１９−２２１℃ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１）
【００７３】実施例６−１） 製造例３−３）と同様にして、Ｎ−フェニルアセチル−
Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−ＯＨ（０．２０ｇ
）、ＨＯＢＴ（７２ｍｇ）、ＷＳＣＤ（８３ｍｇ）およ
びＮＭＭ（５４ｍｇ）を反応させて目的化合物（０．２
１ｇ）を得る。 ｍｐ：１３０−１３７℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）ＦＡ
Ｂ−ＭＳｍ／ｚ：６２６［Ｍ＋Ｈ］＋実施例６−２） 実施例１−２）と同様にして、ＤＭＦ（２ｍｌ）中Ｎ−
フェニルアセチル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）
−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５・ＨＣｌ（０．１５ｇ）を１
Ｎ　　ＮａＯＨ（１ｍｌ）と０℃で２０分間反応させて
目的化合物（１０２ｍｇ）を得る。 ｍｐ：２０５（分解） Ｒｆ：０．３３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：　　５９８［Ｍ＋Ｈ］＋
【０
０７４】実施例７−１） 実施例４−１）と同様にして、ＤＭＦ（１０ｍｌ）中２
ＨＣｌ・Ｈ−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−
Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５（３５０ｍｇ）、Ｅｔ３Ｎ（１２２
ｍｇ）およびシクロヘキシルイソシアネート（９１ｍｇ
）を室温で３０分間反応させて目的化合物（２８４ｍｇ
）を得る。 ｍｐ：２１６−２１８℃ Ｒｆ：０．６１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例７−２） 実施例１−２）と同様にして、ＭｅＯＨ（１０ｍｌ）中
Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔ
ｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５（２３０ｍｇ
）を１Ｎ　　ＮａＯＨ（１．６ｍｌ）と室温で１時間反
応させて目的化合物（１２５ｍｇ）を得る。 ｍｐ：２０７−２１０℃ Ｒｆ：０．４５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１）
【００７５】実施例８−１） 実施例１−１）と同様にして、ＤＭＦ（２ｍｌ）中Ｎ−
フェニルアセチル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）
−ＯＨ（９０ｍｇ）、ＨＣｌ・Ｈ−Ｌ−Ｐｈｅ−ＯＥｔ
（４６ｍｇ）、ＷＳＣＤ（３３ｍｇ）およびＨＯＢＴ（
２７ｍｇ）を５℃で一夜反応させて目的化合物（８７ｍ
ｇ）を得る。ｍｐ：２０７−２０９℃Ｒｆ：０．３８（
ＣＨＣｌ３：ＡｃＯＥｔ＝３：１）
【００７６】実施例
８−２） 実施例１−２）と同様にして、ＤＭＳＯ（２ｍｌ）中Ｎ
−フェニルアセチル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３
）−Ｌ−Ｐｈｅ−ＯＥｔ（６４ｍｇ）を１ＮＮａＯＨ（
０．２ｍｌ）と室温で２時間反応させて目的化合物（４
８ｍｇ）を得る。 ｍｐ：１７２−１７５℃ Ｒｆ：０．３０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝５：１）実施
例９ Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔ
ｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５（９２０ｍｇ
）のＤＭＦ（２０ｍｌ）溶液に１ＮＮａＯＨ（７．３ｍ
ｌ）を室温で加える。１０分後、　　１Ｎ　　ＨＣｌ（
８．５ｍｌ）を加え、溶媒を減圧下に留去する。残渣を
１Ｎ　　ＨＣｌ（５０ｍｌ　　）および水（２００ｍｌ
）に溶解し、「ダイヤイオンＨＰ−２０」（商標、三菱
化成工業　　社製）のカラムに適用し、ＭｅＯＨ（３０
０ｍｌ）で溶出する。溶出液を減圧濃縮後、残渣（７５
０ｍｇ）を１Ｎ　　ＮａＯＨ（１．２４ｍｌ）に溶解し
、凍結乾燥して目的化合物（７２８ｍｇ）を白色粉末と
して得る。 Ｒｆ：０．４５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１０ 実施例１−１）と同様にしてＤＭＦ（７ｍｌ）中Ｎ−［
（１Ｓ）−２，２−ジメチル　　−１−（Ｎ，Ｎ−ジメ
チルカルバモイル）プロピル］カルバモイル−Ｌ−Ｌｅ
ｕ−ＯＨ（０．２８ｇ）、Ｈ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−
Ｄ−ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５・２ＨＣｌ（０．４１ｇ）、Ｈ
ＯＢＴ　　０．１４ｇ）、ＷＳＣＤ（０．１６ｇ）およ
びＴＥＡ（８９ｍｇ）を反応させて目的化合物（０．４
０ｇ）を得る。 ｍｐ：１４１−１４５℃ Ｒｆ：０．４３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０７７】実施例１１ 実施例１−１）と同様にして、ＤＭＦ（４ｍｌ）中（２
Ｓ）−２−［Ｎ−［（１Ｓ）−２，２−ジメチル−１−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）プロピル］カルバモ
イルオキシ］−４−メチル吉草酸（０．１５ｇ）、Ｈ−
Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５・２Ｈ
Ｃｌ（０．２４ｇ）、ＨＯＢＴ（７７ｍｇ）、ＷＳＣＤ
（８８ｍｇ）およびＮＭＭ（５３ｍｇ）を反応させて目
的化合物（０．３３ｇ）を得る Ｒｆ：０．７３（ＣＨＣｌ３：Ｍｅ０Ｈ＝９：１）実施
例１２ 実施例１−１）と同様にして、ＤＭＦ（６０ｍｌ）中Ｎ
−（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−イルカルボニ
ル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ（１．５１ｇ）、２ＨＣｌ・Ｈ
−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５（２
．５０ｇ）、ＷＳＣＤ（９９７ｍｇ）、ＨＯＢＴ（８６
８ｍｇ）およびＮＭＭ（５４１ｍｇ）を反応させて目的
化合物（２．１６ｇ）を得る。 Ｒｆ　　：０．３４（酢酸エチル）
【００７８】実施例１３ 実施例１−１）と同様にして、ＤＭＦ（３０ｍｌ）中（
２Ｒ）−２−（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−イ
ルカルボニルメチル）−４−メチル吉草酸（９８２ｍｇ
）２ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−
ＯＣ２Ｈ５（１．５４ｇ）、ＷＳＣＤ（６１２ｍｇ）、
ＨＯＢＴ（５３２ｍｇ）およびＴＥＡ（３３２ｍｇ）を
反応させて目的化合物（１．４１ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．４３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１４ 実施例１−１）と同様にして、ＤＭＦ（２０ｍｌ）中Ｎ
−（オクタヒドロアゾシン−１−イルカルボニル）−　
　Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ（１９１ｍｇ）、２ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ
−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５（３００
ｍｇ）、ＷＳＣＤ（１２０ｍｇ）、ＨＯＢＴ（１０４ｍ
ｇ）およびＴＥＡ（６５ｍｇ）を反応させて目的化合物
（３４０ｍｇ）を得る。 Ｒｆ：０．６０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０７９】実施例１５ 実施例４−１）と同様にして、ＤＭＦ（６０ｍｌ）中２
ＨＣｌ・Ｈ−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−
Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５（４．３５ｇ）、塩化ヘキサヒドロ
−１Ｈ−アゼピン−１−イルカルボニル（１．２９ｇ）
およびＴＥＡ（２．３３ｇ）を反応させて目的化合物（
１．９５ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．４４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１６ Ｎ−（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−イルカルボ
ニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙ
ａ−ＯＣ２Ｈ５（３７ｇ）のエタノール（７４０ｍｌ）
溶液に１Ｎ　　ＮａＯＨ（１４６ｍｌ）を氷浴冷却下に
加える。３０分間攪拌後、１Ｎ　　ＨＣｌ（１５０ｍｌ
）を反応混合物に加え、溶媒を減圧下に留去する。残渣
を１Ｎ　　ＨＣｌ（５００ｍｌ）および水（　　５００
０ｍｌ）に溶解して非イオン吸着樹脂「ダイヤイオンＨ
Ｐ−２０」（３１）を使用するカラムクロマトグラフィ
ーに付し、メタノール（１０ｌ）で溶出する。溶出液を
減圧濃縮後、残渣をｎ−ヘキサンから結晶化させて目的
化合物（３４．１ｇ）を得る。 ｍｐ：１１３−１１８℃ Ｒｆ：０．３４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１）
【００８０】実施例１７ 実施例９と同様にして、エタノール（３０ｍｌ）中Ｎ−
（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−イルカルボニル
）−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−
ＯＣ２Ｈ５（１．３５ｇ）および１Ｎ　　ＮａＯＨ（６
．４ｍｌ）を反応させて目的化合物（１．０８ｇ）を得
る。 Ｒｆ：０．４４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１８ 実施例９と同様にして、ＤＭＦ中Ｎ−［Ｎ−［（１Ｓ）
−２，２−ジメチル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモ
イル）プロピル］カルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔ
ｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５（０．３１ｇ
）および１ＮＮａＯＨ（１．５ｍｌ）を反応させて目的
化合物（０．２５ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．３１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１）
【００８１】実施例１９ 実施例９と同様にして、ＤＭＦ（２．６ｍｌ）中Ｎ−［
（２Ｓ）−２−［Ｎ−［（１Ｓ）−２，２−ジメチル−
１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）プロピル］カル
バモイルオキシ］−４−メチルバレリル］−Ｄ−Ｔｒｐ
（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５（０．３０ｇ）お
よび１Ｎ　　ＮａＯＨ（１．３ｍｌ）を反応させて目的
化合物（０．２６ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．２０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例２０ 実施例９と同様にして、エタノール（２０ｍｌ）中Ｎ−
［（２Ｒ）−２−（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１
−イルカルボニルメチル）−４−メチルバレリル］−Ｄ
−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５（１．１
０ｇ）および１Ｎ　　ＮａＯＨ（５．２ｍｌ）を反応さ
せて目的化合物（７８３ｍｇ）を得る。 Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１）
【００８２】実施例２１ 実施例９と同様にして、エタノール（１０ｍｌ）中Ｎ−
（オクタヒドロアゾシン−１−イルカルボニル）−Ｌ−
Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ
５（３００ｍｇ）および１Ｎ　　ＮａＯＨ（２．４ｍｌ
）を反応させて目的化合物（２１０ｍｇ）を得る。 Ｒｆ：０．６８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例２２ Ｎ−（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−イルカルボ
ニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙ
ａ−ＯＣ２Ｈ５（８００ｍｇ）のエタノール（１０ｍｌ
）溶液に酢酸エチル中４Ｎ塩化水素（０．６３ｍｌ）を
氷浴冷却下に加える。同温で５分間攪拌後、溶液を減圧
濃縮して目的化合物（８２８ｍｇ）を得る。 Ｒｆ：０．６４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２３ 実施例２２と同様にして、エタノール（１０ｍｌ）中Ｎ
−［（２Ｒ）−２−ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１
−イルカルボニルメチル）−４−メチルバレリル］−Ｄ
−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５（３００
ｇ）、酢酸エチル中４Ｎ塩化水素（０．３６ｍｌ）を反
応させて目的化合物（２９８ｍｇ）を得る。 Ｒｆ：０．４３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０８３】実施例１−１）と同様にして、対応する原料化
合物（ＩＩ）と（ＩＩＩ）とを反応させて実施例２４な
いし７１の目的化合物を得ることができる。これらの目
的化合物の物理化学的性質を以下に示す。 実施例２４ ｍｐ：１９３−１９５℃ Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２５ ｍｐ：１８６−１８９℃ Ｒｆ：０．６２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２６ ｍｐ：１８１−１８３℃ Ｒｆ：０．５６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例２７ Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２８ Ｒｆ：０．７７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２９ Ｒｆ：０．７７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３０ Ｒｆ：０．５７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３１ Ｒｆ：０．５６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３２ ｍｐ：１８４−１８５℃ Ｒｆ：０．５４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３３ Ｒｆ：０．７７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３４ Ｒｆ：０．４３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３５ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３６ Ｒｆ：０．３６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３７ ｍｐ：７９−８１℃ Ｒｆ：０．６０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 実施例３８ ｍｐ：６９−７１℃ Ｒｆ：０．４３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３９ ｍｐ：５４−５５℃ Ｒｆ：０．４１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４０ ｍｐ：１００−１０５℃ Ｒｆ：０．４１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４１ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４２ Ｒｆ：０．５５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４３ ｍｐ：６２−６８℃ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４４ ｍｐ：６０−６７℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４５ ｍｐ：７０−７５℃ Ｒｆ：０．５８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４６ ｍｐ：８０−８３℃ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４７ Ｒｆ：０．５５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４８ Ｒｆ：０．４８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４９ ｍｐ：１４０−１４２℃ Ｒｆ：０．４３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例５０ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例５１ ｍｐ：１３５−１３８℃ Ｒｆ：０．３１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例５２ ｍｐ：１９０−１９３℃ Ｒｆ：０．７０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例５３ ｍｐ：１８５−１８８℃ Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例５４ ｍｐ：１７０−１７８℃ Ｒｆ：０．４８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例５５ ｍｐ：１９４−１９６℃ Ｒｆ：０．４５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例５６ ｍｐ：１６６−１６７℃ Ｒｆ：０．７０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例５７ ｍｐ：１１０−１１５℃ Ｒｆ：０・５９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例５８ ｍｐ：７９−８０℃ Ｒｆ：０．７９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例５９ ｍｐ：７７−７９℃ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例６０ Ｒｆ：０．３６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例６１ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例６２ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例６３ ｍｐ：１８５−１８８℃ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例６４ ｍｐ：１７０−１７５℃ Ｒｆ：０．５８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例６５ Ｒｆ：０．７１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例６６ ｍｐ：１８３−１９０℃ Ｒｆ：０．６０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例６７ Ｒｆ：０．７０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例６８ Ｒｆ：０．７９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例６９ ｍｐ：１５９−１６１℃ Ｒｆ：０．６２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例７０ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例７１ ｍｐ：１４８−１５０℃ Ｒｆ：０．７８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０８４】実施例７２ ＨＣｌ・Ｈ−Ｌ−Ｉｌｅ−ＯＭｅ（１３５ｍｇ）および
Ｅｔ３Ｎ（５０．２ｍｇ）の乾燥トルエン（１０ｍｌ）
溶液にクロロギ酸トリクロロメチル（０．０５５ｍｌ）
を加える。溶液を３０分間還流後、減圧濃縮する。残渣
をＤＭＦ（１０ｍｌ）に溶解し、この溶液にＨＣｌ・Ｈ
−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｈｅ−Ｏ
Ｂｚｌ（３００ｍｇ）とＥｔ３Ｎ（５０．２ｍｇ）との
ＤＭＦ（１０ｍｌ）中混合物を室温で加える。反応混合
物を１時間攪拌後、溶媒を減圧下に留去する。残渣を酢
酸エチル（３０ｍｌ）に溶解し、溶液を５％ＨＣｌ、１
Ｍ炭酸水素ナトリウム　　および塩化ナトリウム飽和水
溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧濃縮する。残渣をエーテルから結晶化させて目的化合
物（３２４ｍｇ）を得る。 ｍｐ：１８４−１８６℃ Ｒｆ：０．８０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例７３ ＨＣｌ・Ｈ−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−
Ｐｈｅ−ＯＢｚｌ（０．１２ｇ）、４−ピリジル酢酸（
３８ｍｇ）およびＮＭＭ（２４ｍｇ）のＤＭＦ（２ｍｌ
）中混合物にＷＳＣＤ（３７ｍｇ）を氷浴冷却下に加え
る。室温で３時間攪拌後、混合物を減圧濃縮して残渣を
酢酸エチルに溶解する。溶液を０．５ＮＨＣｌ、水、飽
和炭酸水素ナトリウムおよび水で順次洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。残渣をエ
ーテルで粉砕して目的化合物（１０７ｍｇ）を得る。 ｍｐ；１２２−１２５℃ Ｒｆ：０．４６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０８５】実施例７３と同様にして、対応する原料化合物
（ＩＶ）と（Ｖ）とを反応させて実施例７４ないし８２
の目的化合物を得ることができる。これらの目的化合物
の物理化学的性質を以下に示す。 実施例７４ ｍｐ：１０５−１１０℃ Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例７５ ｍｐ：９８−１０８℃ Ｒｆ：０．６５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例７６ ｍｐ：１７３−１７５℃ Ｒｆ：０．８４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例７７ ｍｐ：１９６−１９９℃ Ｒｆ：０．７９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例７８ ｍｐ：１３９−１４１℃ Ｒｆ：０．６０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例７９ ｍｐ：９０−９６℃ Ｒｆ：０．３６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例８０ ｍｐ：２０６−２０９℃ Ｒｆ：０．４５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例８１ ｍｐ：１２４−１２８℃ Ｒｆ：０．５６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例８２ Ｒｆ：０．６４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０８６】実施例８３ 塩化ベンジルスルホニル（０．１８ｇ）およびＨＣｌ・
Ｈ−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−
ＯＣ２Ｈ５（０．５０ｇ）のＤＭＦ（１０ｍｌ）中混合
物にＥｔ３Ｎ（０．４２ｍｌ）を０℃で加える。反応完
結後、溶液を減圧下に蒸発乾固する。残渣を酢酸エチル
に溶解し、溶液を０．５Ｎ　　ＨＣｌで洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥して減圧濃縮する。残渣の固体をエー
テルで粉砕して目的化合物（０．２９ｇ）を得る。 ｍｐ：９８−１００℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例８４ 実施例８３と同様にして、塩化モルホリノカルボニル（
１０８ｍｇ）、２ＨＣｌ・Ｈ−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ
（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５（３５０ｍｇ）お
よびＥｔ３Ｎ（１２２ｍｇ）を反応させて目的化合物を
得る。 Ｒｆ：０．４５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０８７】実施例４−１）と同様にして、対応する原料化
合物（ＩＶ）をイソシアネート化合物（Ｖ）と反応させ
て実施例８５ないし９１の目的化合物を得ることができ
る。これらの目的化合物の物理化学的性質を以下に示す
。 実施例８５ ｍｐ：２２２−２２３℃ Ｒｆ：０．７９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例８６ ｍｐ：１９８−２０４℃ Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例８７ ｍｐ：２０５−２０６℃ Ｒｆ：０．４６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例８８ ｍｐ：２１６−２１８℃ Ｒｆ：０．４５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例８９ ｍｐ：１８８−２０２℃ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例９０ ｍｐ：１６７−１７２℃ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例９１ ｍｐ：１６３−１６７℃ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０８８】実施例９２ Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔ
ｒｐ（ＣＨ３）−ＯＨ（０．４０ｇ）、Ｈ−Ｄ−４Ｐｙ
ａ−ＯＣ２Ｈ５・２ＨＣｌ（０．２６ｇ）、ＮＭＭ（０
．１０ｇ）およびＨＯＢＴ（０．１４ｇ）のＤＭＦ（８
ｍｌ）中混合物にＷＳＣＤ（０．１６ｇ）を氷浴冷却下
に加える。室温で攪拌後、混合物を減圧濃縮して残渣を
酢酸エチルに溶解する。溶液を０．５Ｎ　　ＨＣｌ、水
、飽和炭酸水素ナトリウムおよび水で順次洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。残渣
をエーテルで粉砕して目的化合物（０．４５ｇ）を得る
。 ｍｐ：１８２−１８６℃ Ｒｆ：０．３２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１）
【００８９】実施例９２と同様にして対応する原料化合
物（ＶＩ）と（ＶＩＩ）とを反応させて実施例９３ない
し９８の目的化合物を得ることができる。これらの目的
化合物の物理化学的性質を以下に示す。 実施例９３ ｍｐ：１７０−１７３℃ Ｒｆ：０．４３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例９４ ｍｐ：１８１−１８２℃ Ｒｆ：０．７１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例９５ ｍｐ：１９７−１９８℃ Ｒｆ：０．７０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９；１）実施
例９６ ｍｐ：１１５−１２３℃ Ｒｆ：０．７４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例９７ ｍｐ：１４８−１５６℃ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 実施例９８ ｍｐ：１５４−１５８℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
０９０】実施例１−２）、９または１６と同様にして、
対応するエチルエステル化合物（Ｉ−ａ）をＮａＯＨ水
溶液で加水分解して実施例９９ないし１４５の目的化合
物を得ることができる。これらの目的化合物の物理化学
的性質を以下に示す。 実施例９９ ｍｐ：１６７−１７０℃ Ｒｆ：０．４４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１００ ｍｐ：１７３−１７８℃ Ｒｆ：０．６２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１０１ ｍｐ：１５０−１５５℃ Ｒｆ：０．２５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１０２ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１０３ Ｒｆ：０．６９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１０４ Ｒｆ：０．６６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例１０５ Ｒｆ：０．７８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例１０６ Ｒｆ：０．５７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１０７ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例：１０８ Ｒｆ：０．７２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１０９ Ｒｆ：０．５６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝２
０：２０：１） 実施例１１０ Ｒｆ：０．３２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１１１ Ｒｆ：０．３１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１１２ ｍｐ：１５０−１５５℃ Ｒｆ：０．２９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例１１３ Ｒｆ：０．３１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１１４ Ｒｆ：０．３１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１１５ Ｒｆ：０．３３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１１６ Ｒｆ：０．３３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１１７ Ｒｆ：０．３４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１１８ Ｒｆ：０．３２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１１９ Ｒｆ：０．３３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１２０ Ｒｆ：０．３８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１２１ Ｒｆ：０．３４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１２２ Ｒｆ：０．３５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１２３ Ｒｆ：０．３３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１２４ Ｒｆ：０．３１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１２５ Ｒｆ：０．３３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１２６ Ｒｆ：０．２８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１２７ Ｒｆ：０．３０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１２８ Ｒｆ：０．３２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１２９ Ｒｆ：０．２９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１３０ Ｒｆ：０．３３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１３１ Ｒｆ：０．２９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１３２ Ｒｆ：０．３３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１３３ Ｒｆ：０．３１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１３４ Ｒｆ：０．３７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１３５ Ｒｆ：０．４６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１３６ Ｒｆ：０．２４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１３７ Ｒｆ：０．３８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１３８ Ｒｆ：０．２９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１３９ Ｒｆ：０．３２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１４０ Ｒｆ：０．３１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１４１ Ｒｆ：０．３３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１４２ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１４３ Ｒｆ：０．５７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯｍ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１４４ Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：Ａ０ｍｇ＝８
：１：１） 実施例１４５ Ｒｆ：０．６２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１）
【００９１】実施例１−２）、９または１６と同様にし
て、対応するベンジルエステル化合物（Ｉ−ａ）をＮａ
ＯＨ水溶液で加水分解して実施例１４６ないし１５１の
目的化合物を得ることができる。これらの目的化合物の
物理化学的性質を以下に示す。 実施例１４６ ｍｐ：１２０−１２４℃ Ｒｆ：０．８５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１４７ ｍｐ：２２０−２３６℃ Ｒｆ：０．１６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ　　ＭＳ　　ｍ／ｚ：５９８［Ｍ＋Ｈ］＋実施例
１４８ ｍｐ：２１４−２１８℃ Ｒｆ：０．２０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ　　ＭＳ　　ｍ／ｚ：５９８［Ｍ＋Ｈ］＋実施例
１４９ ｍｐ：１７４−１８０℃ Ｒｆ：０．３２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ　　ＭＳ　　ｍ／ｚ：５９８［Ｍ＋Ｈ］＋実施例
１５０ ｍｐ：１９４℃（分解） Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ　　ＭＳ　　ｍ／ｚ：７１１［Ｍ＋Ｈ］＋実施例
１５１ ｍｐ：１９５℃（分解） Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ　　ＭＳ　　ｍ／ｚ：７１１［Ｍ＋Ｈ］＋
【００
９２】実施例１−２）、９または１６と同様にして、対
応するエチルエステル化合物（Ｉ−ａ）をＮａＯＨ水溶
液で加水分解して実施例１５２ないし１５７の目的化合
物を得ることができる。これらの目的化合物の物理化学
的性質を以下に示す。 実施例１５２ ｍｐ：１２７−１４５℃ Ｒｆ：０．２９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） ＦＡＢ　　ＭＳ　　ｍ／ｚ：６７２［Ｍ＋Ｈ］＋実施例
１５３ Ｒｆ：０．３６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１５４ Ｒｆ：０．３８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１５５ Ｒｆ：０．３５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１５６ Ｒｆ：０．３２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１５７ Ｒｆ：０．４５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１）
【００９３】実施例１５８ 実施例１−２）と同様にして、ＤＭＦ（２ｍｌ）中イソ
プロピルカルバモイル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ
３）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＢｚｌ（６０ｍｇ）を１Ｎ　　Ｎ
ａＯＨと室温で３０分間反応させて目的化合物（４８ｍ
ｇ）を得る。 ｍｐ：２１１−２１３℃ Ｒｆ：０．５４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１）
【００９４】実施例９と同様にして、対応エチルエステ
ル化合物（Ｉ−ａ）をＮａＯＨ水溶液で加水分解して、
実施例１５９ないし１６６の目的化合物を得ることがで
きる。これらの目的化合物の物理化学的性質を以下に示
す。 実施例１５９ ｍｐ：＞２５０℃ Ｒｆ：０．１２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 実施例１６０ ｍｐ：＞２５０℃ Ｒｆ：０．１０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 実施例１６１ ｍｐ：＞２５０℃ Ｒｆ：０．１２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 実施例１６２ ｍｐ：＞２５０℃ Ｒｆ：０．１３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 実施例１６３ ｍｐ：２４５℃（分解） Ｒｆ：０．１３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 実施例１６４ ｍｐ：＞２５０℃ Ｒｆ：０．１３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 実施例１６５ Ｒｆ：０．３７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１６６ Ｒｆ：０．３３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１）
【００９５】実施例１−２）または１６と同様にして、
対応するベンジルエステル化合物（Ｉ−ａ）をＮａＯＨ
水溶液で加水分解して実施例１６７ないし１６９の目的
化合物を得ることができる。これらの目的化合物の物理
化学的性質を以下に示す。 実施例１６７ ｍｐ：１７１−１７４℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ　　ＭＳ　　ｍ／ｚ：５６３［Ｍ＋Ｈ］＋実施例
１６８ ｍｐ：１６５−１７５℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ　　ＭＳ　　ｍ／ｚ：５４９［Ｍ＋Ｈ］＋実施例
１６９ ｍｐ：１３２−１３６℃ Ｒｆ：０．３１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：２８％　　ａ
ｑ．アンモニア＝６５：２５：４）
【００９６】実施例１７０ 実施例１−２）と同様にして、Ｎ−フェニルアセチル−
Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−４−チアゾリ
ルアラニン・ＨＣｌを１Ｎ　　ＮａＯＨで加水分解して
目的化合物を得る。 ｍｐ：１１２−１１６℃ Ｒｆ：０．３３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１ ＦＡＢ　　ＭＳ　　ｍ／ｚ：６０４［Ｍ＋Ｈ］＋実施例
１７１ 実施例９と同様にして、ＤＭＦ（３ｍｌ）中Ｎ−シクロ
ヘキシルカルボニル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３
）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５（０．２５ｇ）を１Ｎ　　
ＮａＯＨ（１ｍｌ）で加水分解して目的化合物（０．１
６ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．３６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１）
【００９７】実施例１７２ Ｎ−フェニルアセチル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ
Ｏ）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＰａｃ（０．２０ｇ）をＤＭＦ（
２ｍｌ）と酢酸（２ｍｌ）との混合物に溶解し、Ｚｎ末
（０．２０ｇ）を混合物に室温で加える。同温で３時間
攪拌後、混合物を濾過し、減圧濃縮する。残渣を酢酸エ
チルに溶解し、溶液を０．５Ｎ　　ＨＣｌで洗浄して硫
酸マグネシウムで乾燥して減圧濃縮する。残渣をエチル
エーテルで粉砕して目的化合物（０．１６ｇ）を得る。 ｍｐ：２３０℃（分解） Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６１１ 実施例１７３ 実施例１７２と同様にして、ＤＭＦ（１．６ｍｌ）中Ｂ
ｏｃ−Ｄ−ａｌｌｏＩｌｅ−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（
ＣＨＯ）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＰａＣ（０．１６ｇ）、Ｚｎ
末（０．１６ｇ）および酢酸（１．６ｍｌ）を反応させ
て目的化合物（０．１１ｇ）を得る。 ｍｐ：１９７℃（分解） Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：７０７
【００９８】実施例１７４ Ｎ−［１（Ｓ）−メトキシカルボニル−２（Ｓ）−メチ
ルブチルカルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（Ｃ
Ｈ３）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＢｚｌ（２７０ｍｇ）のＤＭＦ
（２０ｍｌ）および水（１ｍｌ）溶液を１０％Ｐｄ−Ｃ
　　５０ｍｇ）で水素雰囲気中３気圧下室温で１時間水
素添加する。溶液を濾過後、濾液を減圧濃縮し、残渣を
酢酸エチルとエーテルから結晶化させて目的化合物（１
９８ｍｇ）を得る。 ｍｐ：２１０−２１２℃ Ｒｆ：０．４８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 実施例１７５ 実施例１−２）と同様にして、ＤＭＦ（２ｍｌ）中Ｎ−
［１（Ｓ）−メトキシカルボニル−２（Ｓ）−メチルブ
チルカルバモイル］−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３
）−Ｄ−Ｐｈｅ−ＯＢｚｌ（７０ｍｇ）および１Ｎ　　
ＮａＯＨ（１ｍｌ）を反応させて目的化合物（５０ｍｇ
）を得る。 ｍｐ：２２１−２２５℃ Ｒｆ：０．４２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１）
【００９９】実施例１７６ シクロヘキサノール（０．１０ｍｌ）のテトラヒドロフ
ラン（３ｍｌ）溶液にクロロギ酸トリクロロメチル（０
．１３ｍｌ）を室温で加える。この溶液を１１時間還流
し、溶媒を大気圧下に留去する。残渣の油状物をＤＭＦ
（１０ｍｌ）に溶解し、２ＨＣｌ・Ｈ−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ
−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＥｔ（０．５０ｇ
）を加える。混合物をＮＭＭ（約０．２ｇ）で約ｐＨ７
に調整する。１０分後、溶媒を減圧下に留去し、残渣を
酢酸エチル（２０ｍｌ）に溶解する。この溶液を１Ｎ　
　ＨＣｌ、飽和炭酸水素ナトリウムおよび食塩水で順次
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧濃縮する。 残渣の固体をエチルエーテルで粉砕して目的化合物（０
．２９ｇ）を得る。 ｍｐ：１２８−１３０℃ Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１７７ Ｎ−フェニルアセチル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ
３）−Ｄ−Ｈｉｓ（Ｔｏｓ）−ＯＢｚｌ（７８ｍｇ）の
ＤＭＦ（２ｍｌ）溶液にピリジン・塩酸塩（０．１５ｇ
）を室温で加える。２時間攪拌後、溶媒を減圧下に留去
し、残渣を酢酸エチル（２０ｍｌ）に溶解する。この溶
液を１Ｍ炭酸水素ナトリウム（１０ｍｌ）で洗浄して硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去して目的
化合物（４５ｍｇ）を得る。 ｍｐ：１１８−１２６℃ Ｒｆ：０．２８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１７８ 製造例１−２）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−フェニルグ
リシルＬ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｈｅ
−ＯＨ（０．１ｇ）、トリフルオロ酢酸（１．５ｍｌ）
およびアニソール（０．２ｍｌ）を反応させて目的化合
物（９０ｍｇ）を得る。 ｍｐ：１３５−１６５℃ Ｒｆ：０．２０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６１２［Ｍ＋Ｈ］＋実施例１
７９ 製造例１−２）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｌ−フェニルグ
リシル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｈ
ｅ−ＯＨ（０．１１ｇ）、ＴＦＡ（１．５ｍｌ）および
アニソール（０．２ｍｌ）を反応させて目的化合物（１
０７ｍｇ）を得る。 ｍｐ：１４５−１７０℃ Ｒｆ：０．２０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６１２［Ｍ＋Ｈ］＋実施例１
８０ 実施例１−１）と同様にして、対応する原料化合物（Ｉ
Ｉ）と（ＩＩＩ）とを反応させて目的化合物を得ること
ができる。 ｍｐ：１９７−２０２℃ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
１００】実施例１８１ないし２１５の目的化合物は、実
施例１−１）と同様にして、対応する原料化合物（ＩＩ
）および（ＩＩＩ）を、好ましくは適当な塩基の存在下
で反応させることにより得られる。これらの目的化合物
の物理化学的性質を以下に示す。 実施例１８１ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１８２ Ｒｆ：０．６１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１８３ Ｒｆ：０．８０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１８４ ｍｐ：１９２−１９３℃ Ｒｆ：０．６７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１８５ ｍｐ：１５５−１６０℃ Ｒｆ：０．８２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１８６ Ｒｆ：０．７２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１８７ Ｒｆ：０．３４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１８８ ｍｐ：１８０−１８５℃ Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１８９ ｍｐ：１２５−１２７℃ Ｒｆ：０．４６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１９０ Ｒｆ：０．７８（ＣＨＣｌ１：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１９１ Ｒｆ：０．５８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１９２ ｍｐ：１４３−１４６℃ Ｒｆ：０．４６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１９３ Ｒｆ：０．４０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１９４ ｍｐ：１８０℃ Ｒｆ：０．４４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１９５ ｍｐ：１３８−１４０℃ Ｒｆ：０．４２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１９６ Ｒｆ：０．３７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１９７ Ｒｆ：０．５４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１９８ Ｒｆ：０．６６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例１９９ ｍｐ：１８６−１９０℃ Ｒｆ：０．６１１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝
８：２：１） 実施例２００ ｍｐ：１９４−１９７℃ Ｒｆ：０．４８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２０１ Ｒｆ：０．３９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２０２ Ｒｆ：０．７０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２０３ ｍｐ：１５９−１６１℃ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例２０４ ｍｐ：１８３−１８５℃ Ｒｆ：０．５８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２０５ ｍｐ：１５４−１５９℃ Ｒｆ：０．５８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２０６ ｍｐ：８２−８３℃ Ｒｆ：０．５８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２０７ ｍｐ：１６４−１６７℃ Ｒｆ：　　０．８３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
実施例２０８ ｍｐ：１４８−１５３℃ Ｒｆ：０．５８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２０９ ｍｐ：１１６−１２０℃ Ｒｆ：０．８３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２１０ ｍｐ：８８−９５℃ Ｒｆ：０．６４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２１１ ｍｐ：１４３−１４９℃ Ｒｆ：０．５７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２１２ ｍｐ：１８２−１８６℃ Ｒｆ：０．５８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２１３ ｍｐ：１５５−１６０℃ Ｒｆ：０．５８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２１４ ｍｐ：１８０−１８１℃ Ｒｆ：０．５８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２１５ ｍｐ：１９９−２００℃ Ｒｆ：０．３８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
１０１】実施例２１６ 塩化フェニルアセチル（０．２７ｇ）およびＨＣｌ・Ｈ
−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨＯ）−βＡｌａ−ＯＰ
ａｃ（０．９４ｇ）のＤＭＦ（１０ｍｌ）中混合物にト
リエチルアミン（０．５４ｍｌ）を０℃で加える。３０
分後、溶媒を減圧留去し、残渣を酢酸エチル（５０ｍｌ
）に溶解する。溶液を０．５Ｎ塩酸（３０ｍｌ）で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮する。残渣の
固体をエチルエーテルで粉砕して目的化合物（０．９３
ｇ）を得る。 ｍｐ：１６３−１７１℃ Ｒｆ：０．４５（クロロホルム：メタノール＝９：１）
【０１０２】実施例７３または２１６と同様にして、対
応する原料加合物（Ｉ−ａ）および（ＩＶ）を反応させ
て実施例２１７ないし２４４の目的化合物を得ることが
できる。これらの目的化合物の物理化学的性質を以下に
示す。 実施例２１７ ｍｐ：１５２−１５３℃ Ｒｆ：０．４８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２１８ ｍｐ：１８０−１８１．５℃ Ｒｆ：０．５７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１実施例
２１９ ｍｐ：１９７−１９９℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２２０ ｍｐ：７６−７９℃ Ｒｆ：０．５４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２２１ ｍｐ：１５４−１６０℃ Ｒｆ：０．６４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２２２ ｍｐ：９８−１０３℃ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２２３ ｍｐ：１７１−１７４℃ Ｒｆ：０．４０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２２４ ｍｐ：１５０−１５３℃ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２２５ ｍｐ：１７０−１７２℃ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２２６ ｍｐ：１５９−１６８℃ Ｒｆ：０．３８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２２７ ｍｐ：７７−８８℃ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２２８ ｍｐ：１５８−１６２℃ Ｒｆ：０．５５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２２ ｍｐ：１９１−１９３℃ Ｒｆ：０．４３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２３０ ｍｐ：１５８−１６２℃ Ｒｆ：０．４３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２３１ ｍｐ：１２３−１２０℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２３２ ｍｐ：１４５−１４６℃ Ｒｆ：０．６０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２３３ ｍｐ：１６８−１７０℃ Ｒｆ：０．７２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２３４ ｍｐ：１８０−１８３℃ Ｒｆ：０．５９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２３５ ｍｐ：１９６−２０４℃ Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２３６ ｍｐ：２２１−２２６℃ Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２３７ Ｒｆ：０．４７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２３８ ｍｐ：１９８−１９９℃ Ｒｆ：０．６５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２３９ ｍｐ：１０４−１０７℃ Ｒｆ：０．５９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２４０ ｍｐ：２２８−２３０℃ Ｒｆ：０．５７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２４１ ｍｐ：１９６−１９９℃ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２４２ ｍｐ：２０７−２１２℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２４３ ｍｐ：１８６−１９０℃ Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２４４ Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
１０３】実施例９２と同様にして、対応する原料化合物
（Ｖ）および（ＶＩ）を反応させて実施例２４５ないし
２６３の目的化合物を得ることができる。これらの目的
化合物の物理化学的性質を以下に示す。 実施例２４５ ｍｐ：１４５−１４８℃ Ｒｆ：０．６８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２４６ ｍｐ：１５６−１６０℃ Ｒｆ：０．５６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２４７ ｍｐ：１４３−１４７℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２４８ ｍｐ：１０６−１１０℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２４９ ｍｐ：１１６−１１９℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２５０ ｍｐ：１４０−１４３℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２５１ ｍｐ：１５６−１６０℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２５２ ｍｐ：１２８−１３０℃ Ｒｆ：０．７６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例２５３ ｍｐ：１２０−１３０℃ Ｒｆ：０．８５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例２５４ ｍｐ：１４５−１４８℃ Ｒｆ：０．８８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例２５５ ｍｐ：１６５−１６７℃ Ｒｆ：０．９１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例２５６ Ｒｆ：０．３７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
＝１：１） 実施例２５７ Ｒｆ：０．５６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝１９：１）実
施例２５８ Ｒｆ：０．４５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝１９：１）実
施例２５９ ｍｐ：６９−７０℃ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２６０ Ｒｆ：０．４５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝１９：１）実
施例２６１ Ｒｆ：０．７１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例２６２ ｍｐ：１２０−１３０℃ Ｒｆ：０．８５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例２６３ ｍｐ：１２０−１２２℃ Ｒｆ：０．７２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
１０４】実施例２６４ Ｎ−フェニルアセチル−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（Ｍｅ
）−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｚ）−ＯＢｚｌ（０．１０ｇ）のＤＭ
Ｆ（２ｍｌ）溶液に１０％パラジウム−活性炭（３０ｍ
ｇ）とギ酸アンモニウム（０．２ｇ）を室温で加える。 ３時間後、懸濁液を濾過し、濾液を減圧濃縮する。 残渣を１Ｎ塩酸（１ｍｌ）に溶解し、「ダイヤイオンＨ
Ｐ−２０」（商標、三菱化成工業社製）カラムクロマト
グラフィー（溶離溶媒：ＭｅＯＨ）で精製し、凍結乾燥
して目的化合物（５７．４ｍｇ）を得る。 ｍｐ：１４２−１６０℃ Ｒｆ：０．２６（クロロホルム：メタノール：２８％ア
ンモニア水＝５：３：１）ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：５
７８［Ｍ＋Ｈ］
【０１０５】実施例２６５ 実施例１−２）と同様にして、Ｎ−フェニルアセチル−
Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨＯ）βＡｌａ−ＯＨ（０
．３８ｇ）および１Ｎ　　ＮａＯＨ（５ｍｌ）を反応さ
せて目的化合物（０．２３ｇ）を得る。 ｍｐ：８５−９５℃ Ｒｆ：０．４８（クロロホルム：メタノール：酢酸＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：５０７［Ｍ＋Ｈ］
【０１０６
】実施例２６６ 実施例１７７と同様にして、　　Ｎ−フェニルアセチル
−Ｌ−Ｈｉｓ（Ｔｏｓ）−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨＯ）−βＡ
ｌａ−ＯＭｅ（０．３２ｇ）とピリジン塩酸塩（０．６
ｇ）をＤＭＦ（６ｍｌ）中で反応させて目的化合物（０
．２０ｇ）を得る。 ｍｐ：１６０−１６６℃ Ｒｆ：０．３０（ＣＨＣｌ３中１０％ＭｅＯＨ）
【０１
０７】実施例２６７ 製造例１−２）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−ａｌｌｏＩ
ｌｅ−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＥｔ（
２．０ｇ）と４Ｎ　　ＨＣｌをジオキサン（３．５ｍｌ
）中で反応させて目的化合物（１．８２ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．６２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１）
【０１０８】実施例２６８ 製造例１−２）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｄ−ａｌｌｏＩ
ｌｅ−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（ＣＨＯ）−Ｄ−Ｇｌｕ
（ＯＢｚｌ）−ＯＨ（０．６７ｇ）、ＴＦＡ（１０ｍｌ
）およびアニソール（１ｍｌ）を反応させて目的化合物
（０．６０ｇ）を得る。 Ｒｆ：０．１６（クロロホルム：メタノール：酢酸＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６７９［Ｍ＋Ｈ］実施例１７
２と同様にして、対応するＰａｃエステル化合物（Ｉ−
ｃ）、亜鉛末、酢酸およびＤＭＦを反応させて実施例２
６９ないし２９２および実施例３４９の目的化合物を得
る。実施例１−２）、９または１６と同様にして、対応
するメチル、エチル、ベンジルまたはＰａｃエステル化
合物（Ｉ−ｃ）とＮａＯＨ水溶液を反応させて実施例２
９３ないし２９４、２９７ないし３３０、３３３ないし
３４５、３４７および３４８、３５０ないし３５５の目
的化合物を得る。製造例１−４）と同様にして、対応す
るベンジルエステル化合物（Ｉ−ｃ）を水素添加するこ
とにより実施例２９５ないし２９６および３３１ないし
３３２の目的化合物を得る。
【０１０９】実施例３４６ 実施例１−１）と同様にして、Ｎ−（ε−カプロラクタ
ム−３−イルアミノカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−ＯＨ（
２９３ｍｇ）、２ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−Ｔｒｐ（Ｍｅ）−Ｄ
−Ｐｙａ−ＯＥｔ（４００ｍｇ）、ＷＳＣＤ（１５９ｍ
ｇ）、ＨＯＢＴ（１３９ｍｇ）、Ｅｔ３Ｎ（８７ｍｇ）
およびＤＭＦ（１０ｍｌ）を反応させて目的化合物（４
１１ｍｇ）を得る。実施例２６９ないし３５５のこれら
の目的化合物の物理化学的性質を以下に示す。 実施例２６９ ｍｐ：１６５−１６８℃ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６６９［Ｍ＋Ｈ］実施例２７
０ ｍｐ：１５２一１５７℃ Ｒｆ：０．４１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６８３［Ｍ＋Ｈ］実施例２７
１ ｍｐ：１５０−１５３℃ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：７１９［Ｍ＋Ｈ］実施例２７
２ ｍｐ：１９６−１９９℃ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：７１９［Ｍ＋Ｈ］実施例２７
３ ｍｐ：９０−１００℃ Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６４９［Ｍ＋Ｈ］実施例２７
４ ｍｐ：１４０−１４８℃ Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：７０８［Ｍ＋Ｈ］実施例２７
５ ｍｐ：９５−１０５℃ Ｒｆ：０．４４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６７０［Ｍ＋Ｈ］実施例２７
６ ｍｐ：１８３−１８５℃ Ｒｆ：０．３６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６７１［Ｍ＋Ｈ］実施例２７
７ ｍｐ：１４５−１５０℃ Ｒｆ：０．４６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６６４［Ｍ＋Ｈ］実施例２７
８ ｍｐ：２０５−２０７℃ Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６７５［Ｍ＋Ｈ］実施例２７
９ ｍｐ：９０−１３０℃ Ｒｆ：０．４１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例２８０ ｍｐ：８９−１２０℃ Ｒｆ：０．４０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６７８［Ｍ＋Ｈ］実施例２８
１ ｍｐ：１４５−１５０℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６６３［Ｍ＋Ｈ］実施例２８
２ ｍｐ：１６５−１７０℃ Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：７３３［Ｍ＋Ｈ］実施例２８
３ ｍｐ：１５６−１６０℃ Ｒｆ：０．４７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：７３３［Ｍ＋Ｈ］実施例２８
４ ｍｐ：１６５−２００℃ Ｒｆ：０．２９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６１６［Ｍ＋Ｈ］実施例２８
５ ｍｐ：１３７−１４２℃ Ｒｆ：０．４６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６４４［Ｍ＋Ｈ］実施例２８
６ ｍｐ：１５５−１５７℃ Ｒｆ：０．４８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６５８［Ｍ＋Ｈ］実施例２８
７ ｍｐ：１１１−１２８℃ Ｒｆ：０．４８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６７３［Ｍ＋Ｈ］実施例２８
８ ｍｐ：８０−１０８℃ Ｒｆ：０．４７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：８１７［Ｍ＋Ｈ］実施例２８
９ ｍｐ：１１０−１１３℃ Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 実施例２９０ ｍｐ：１９５℃（分解） Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：５３５［Ｍ＋Ｈ］実施例２９
１ ｍｐ：１６５−１６９℃ Ｒｆ：０．４５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６３０［Ｍ＋Ｈ］実施例２９
２ Ｒｆ：０．３２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例２９３ Ｒｆ：０．３２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例２９４ Ｒｆ：０．６８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例２９５ ｍｐ：１８８−１９０℃ Ｒｆ：０．３１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例２９６ ｍｐ：２０２−２０５℃ Ｒｆ：０．２９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例２９７ Ｒｆ：０．１０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例２９８ Ｒｆ：０．０７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施２９９ Ｒｆ：０．１０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３００ Ｒｆ：０．０９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３０１ Ｒｆ：０．１１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３０２ Ｒｆ：０．２５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３０３ Ｒｆ：０．２２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 実施例３０４ Ｒｆ：０．２９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３０５ Ｒｆ：０．３３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３０６ Ｒｆ：０．４５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３０７ Ｒｆ：０．２９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３０８ Ｒｆ：０．３３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３０９ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３１０ Ｒｆ：０．２８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３１１ Ｒｆ：０．２５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３１２ Ｒｆ：０．６２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３１３ Ｒｆ：０．６４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３１４ Ｒｆ：０．４６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３１５ ｍｐ：２４８℃（分解） Ｒｆ：０．２７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３１６ Ｒｆ：０．３２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３１７ ｍｐ：１４２−１４７℃ Ｒｆ：０．３４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３１８ Ｒｆ：０．３１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３１９ Ｒｆ：０．３７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３２０ Ｒｆ：０．３７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３２１ Ｒｆ：０．２０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３２２ Ｒｆ：０．３２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３２３ Ｒｆ：０．３６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３２４ Ｒｆ：０．３６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３２５ Ｒｆ：０．３６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３２６ Ｒｆ：０．５４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３２７ Ｒｆ：０．５４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３２８ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３２９ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３３０ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３３１ ｍｐ：２０５−２０８℃ Ｒｆ：０．２７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３３２ ｍｐ：２００−２１０℃ Ｒｆ：０．３４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３３３ ｍｐ：１４６−１５０℃ Ｒｆ：０．７４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３３４ ｍｐ：１３８−１４１℃ Ｒｆ：０．７０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３３５ ｍｐ：８０−９０℃ Ｒｆ：０．４２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） Ｒｆ：０．７２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３３６ Ｒｆ：０．６１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 実施例３３７ ｍｐ：１０３−１１０℃ Ｒｆ：０．４６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 実施例３３８ ｍｐ：１２８−１３７℃ Ｒｆ：０．４７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３３９ ｍｐ：１０５−１１５℃ Ｒｆ：０．４８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 実施例３４０ ｍｐ：１３３−１３６℃ Ｒｆ：０．４７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３４１ ｍｐ：１５８−１６２℃ Ｒｆ：０．４２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３４２ Ｒｆ：０．６４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３４３ Ｒｆ：０．５６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３４４ Ｒｆ：０．３０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３４５ Ｒｆ：０．４１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３４６ ｍｐ：２１０−２１２℃ Ｒｆ：０．４４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３４７ Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３４８ ｍｐ：１２９−１３５℃ Ｒｆ：０．３７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３４９ ｍｐ：９１−１１３℃ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 実施例３５０ ｍｐ：１６２−１６７℃ Ｒｆ：０．１２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３５１ ｍｐ：１３３−１４０℃ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３５２ ｍｐ：２０８−２１０℃ Ｒｆ：０．７２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３５３ ｍｐ：１１３−１２３℃ Ｒｆ：０．７２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３５４ ｍｐ：１６０−１６４℃ Ｒｆ：０．８０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例３５５ Ｒｆ：０．３０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） 実施例１−１）と同様にして、対応するカルボン酸化合
物（Ｉ−ｉ）と置換アミンを反応させて実施例３５６な
いし３７４、３７６ないし３７７、３８０ないし３８２
、３８４ないし３９２および４００の目的化合物を得る
ことができる。実施例３８３と同様にして、対応するカ
ルボン酸またはそのエチルエステル化合物（Ｉ−ｉ）と
置換されていてもよいアミンを反応させて実施例３７５
、３７８ないし３７９および３９３ないし３９９の目的
化合物を得ることができる。
【０１１０】実施例３８３ Ｎ−（ヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−イルカルボ
ニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（Ｍｅ）−Ｄ−Ｐｙａ
−ＯＥｔ（０．２０ｇ）を２．４Ｎメタノール性アンモ
ニア（１０ｍｌ）に溶解し、混合物を室温で３日間静置
する。次いで、混合物を減圧濃縮し、残渣をジエチルエ
ーテル（１０ｍｌ）で粉砕して目的化合物（０．１８ｇ
）を得る
【０１１１】実施例４０１ 実施例３８３と同様にして、Ｎ−（ヘキサヒドロ−１Ｈ
−アゼピン−１−イルカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−
Ｔｒｐ（Ｍｅ）−Ｄ−Ｐｙａ−２−［（５Ｓ）−５−エ
トキシカルボニル−２−オキソピロリジン−１−イル］
エチルアミド（７０ｍｇ）と２．４Ｎメタノール性アン
モニア（５ｍｌ）を反応させて目的化合物（４２．７ｍ
ｇ）を得る。実施例３５６ないし４０１の目的化合物の
物理化学的性質を以下に示す。 実施例３５６ ｍｐ：２２０一２２４℃ Ｒｆ：０．４７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３５７ ｍｐ：１９６−２０３℃ Ｒｆ：０．３６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３５８ Ｒｆ：０．６２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３５９ ｍｐ：１４０−１４５℃ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３６０ Ｒｆ：０．５６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３６１ Ｒｆ：０．６０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３６２ Ｒｆ：０．６０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３６３ Ｒｆ：０．５８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３６４ Ｒｆ：０．５８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３６５ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３６６ Ｒｆ：０．５３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３６７ Ｒｆ：０．５２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３６８ Ｒｆ：０．８３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３６９ Ｒｆ：０．８３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３７０ Ｒｆ：０．８３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３７１ Ｒｆ：０．８３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３７２ Ｒｆ：０．８３（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：２：１） 実施例３７３ ｍｐ：１９０−１９５℃ Ｒｆ：０．７２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３７４ ｍｐ：１９５−１９７℃ Ｒｆ：０．７６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３７５ Ｒｆ：０．４１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３７６ Ｒｆ：０．４４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３７７ ｍｐ：１６０−１６４℃ Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３７８ Ｒｆ：０．４４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３７９ ｍｐ：２００−２０３℃ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３８０ ｍｐ：７６−７８℃ Ｒｆ：０．５４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３８１ ｍｐ：７５−７８℃ Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３８２ Ｒｆ：０．６４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３８３ ｍｐ：１１０−１１２℃ Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３８４ ｍｐ；１４０−１４５℃ Ｒｆ：０．６４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３８５ Ｒｆ：０．６５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３８６ Ｒｆ：０．６２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３８７ Ｒｆ：０．６２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３８８ Ｒｆ：０．６２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３８９ Ｒｆ：０．６５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３９０ Ｒｆ：０．４５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３９１ ｍｐ：１６５−１６７℃ Ｒｆ：０．４８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３９２ ｍｐ：１４２−１４３℃ Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３９３ ｍｐ：１６８℃ Ｒｆ：０．４６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３９４ ｍｐ：１２０−１２５℃ Ｒｆ：０．４７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３９５ ｍｐ：１１５−１２５℃ Ｒｆ：０．４７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３９６ ｍｐ：１６８℃ Ｒｆ：０．４１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３９７ ｍｐ：２１５℃ Ｒｆ：０．３５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例３９８ ｍｐ：１０８−１０９℃ Ｒｆ：０．３４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝１９：１）実
施例３９９ ｍｐ：１１９−１２０℃ Ｒｆ：０．２８（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝１９：１）実
施例４００ Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４０１ ｍｐ：１９５−１９７℃ Ｒｆ：０．２６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
１１２】実施例４０２ 実施例１−１）と同様にして、Ｎ−（ヘキサヒドロ−１
Ｈ−アゼピン−１−イルカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ
−Ｔｒｐ（Ｍｅ）−ＯＨ（４００ｍｇ）、Ｎ−（エトキ
シカルボニルメチル）−Ｎ−（ピリジン−２−イルメチ
ル）アミン（１８７ｍｇ）、ＨＯＢＴ（１３１ｍｇ）、
ＷＳＣＤ−ＨＣｌ（１５０ｍｇ）およびＤＭＦ（５ｍｌ
）を反応させて目的化合物（５５４ｍｇ）を得る。 Ｒｆ：０．３７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝２０：１）
【
０１１３】実施例４０３ 実施例９２と実質的に同様にして、Ｎ−（ヘキサヒドロ
−１Ｈ−アゼピン−１−イルカルボニル）−Ｌ−Ｌｅｕ
−Ｄ−Ｔｒｐ（Ｍｅ）−ＯＨ（４００ｍｇ）、Ｎ−（エ
トキシカルボニルメチル）−Ｎ−［２−（ピリジン−２
−イル）エチル］アミン・２塩酸塩（２７１ｍｇ）、Ｈ
ＯＢＴ（１３１ｍｇ）、ＷＳＣＤ（１５０ｍｇ）、Ｎ−
メチルモルホリン（９８ｍｇ）およびＤＭＦ（５ｍｌ）
を反応させて目的化合物（２８８ｍｇ）を得る。 Ｒｆ：０．３２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝２０：１）
【
０１１４】実施例４０４ 実施例４−１）と同様にして、シクロヘキシルイソシア
ネート（６０ｍｇ）、２ＨＣｌ・Ｈ−Ｄ−ａｌｌｏＩｌ
ｅ−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ−Ｔｒｐ（Ｍｅ）−Ｄ−Ｐｙａ−Ｏ
Ｅｔ（３００ｍｇ）、Ｅｔ３Ｎ（８７ｍｇ）およびＤＭ
Ｆ（１０ｍｌ）を反応させて目的化合物（２６０ｍｇ）
を得る。 ｍｐ：２３５−２３７℃ Ｒｆ：０．４５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
１１５】実施例４０５ 実施例４０６と実質的に同様にして、目的化合物を収率
９０．８％で得る。 ｍｐ：１１１−１１５℃ Ｒｆ：０．４６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
１１６】実施例４０６ 製造例１−２）と同様にして、Ｂｏｃ−Ｌ−Ｌｅｕ−Ｄ
−Ｔｒｐ（ＣＨ３）−Ｄ−Ｐｙａ−ＯＣ２Ｈ５（１．７
０ｇ）のＴＦＡ（２０ｍｌ）とアニソール（２ｍｌ）と
の混合物を０℃で１時間反応させ、次いで生成物を１，
４−ジオキサン中４Ｎ　　ＨＣｌと反応させて目的化合
物（１．６０ｇ）を得る。 ｍｐ：１４１−１４５℃ Ｒｆ：０．３１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）製造
例１−２）と同様にして、対応する原料化合物（Ｉ−ｂ
）からＴＦＡとアニソールを用いてｔ−ブトキシカルボ
ニル基を脱離して実施例４０７ないし４１６の目的化合
物を得ることができる。これらの目的化合物の物理化学
的性質を以下に示す。 実施例４０７ ｍｐ：１４６−１５６℃ Ｒｆ：０．３５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４０８ Ｒｆ：０．２６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４０９ Ｒｆ：０．２６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４１０ ｍｐ：８６−１０３℃ Ｒｆ：０．３６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４１１ ｍｐ：７６−１０２℃ Ｒｆ：０．２０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝１
６：１：１） 実施例４１２ ｍｐ：１５２−１６５℃ Ｒｆ：０．３２（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４１３ Ｒｆ：０．２７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４１４ Ｒｆ：０．２６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４１５ ｍｐ：１９４−２０２℃ Ｒｆ：０．２６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４１６ Ｒｆ：０．２６（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）
【０
１１７】実施例２２と同様にして、対応する原料化合物
を酢酸エチル中４Ｎ塩化水素と反応させて実施例４１７
ないし４２６の目的化合物を得ることができる。これら
の目的化合物の物理化学的性質を以下に示す。 実施例４１７ ｍｐ：１４１−１４６℃ Ｒｆ：０．８７（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ：ＡｃＯＨ＝８
：１：１） ＦＡＢ−ＭＳ　　ｍ／ｚ：６７８［Ｍ＋Ｈ］実施例４１
８ ｍｐ：１０３−１２０℃ 実施例４１９ Ｒｆ：０．４１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４２０ Ｒｆ：０．４４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４２１ Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４２２ Ｒｆ：０．４４（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４２３ Ｒｆ：０．５１（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４２４ Ｒｆ：０．６５（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４２５ ｍｐ：１１０−１３５℃ Ｒｆ：０．５０（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）実施
例４２６ ｍｐ：１０５−１４５℃ Ｒｆ：０．４９（ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ＝９：１）上記
実施例で得られる目的化合物を表１に示す。
【表１】

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】　　式（Ｉ）： ［式中、Ｒ１は水素原子またはアシル基、Ｒ２は低級ア
    ルキル基、置換されていてもよいアル（低級）アルキル
    基、シクロ（低級）アルキル（低級）アルキル基または
    置換されていてもよい複素環（低級）アルキル基、Ｒ３
    は置換されていてもよい複素環（低級）アルキル基また
    は置換されていてもよいアル（低級）アルキル基、Ｒ４
    は水素原子または置換されていてもよい低級アルキル基
    、Ｒ５はカルボキシ基、保護されたカルボキシ基、カル
    ボキシ（低級）アルキル基または保護されたカルボキシ
    （低級）アルキル基、Ｒ６は水素原子または置換されて
    いてもよい低級アルキル基、Ｒ７は水素原子または低級
    アルキル基、Ａは−Ｏ−、−ＮＨ−、低級アルキルイミ
    ノ基または低級アルキレン基を意味する。但し、Ｒ２が
    （Ｓ）−イソブチル基、Ｒ３がＮ−（ジクロロベンジル
    オキシカルボニル）インドール−３−イルメチル基、Ｒ
    ４がメチル基、Ｒ５がメトキシカルボニル基、Ｒ６が水
    素原子、Ｒ７が水素原子およびＡが−ＮＨ−の場合、で
    示されるペプチド化合物または医薬として許容されるそ
    の塩。
  2. 【請求項２】　　式： で示される絶対配置をもつ請求項１に記載の化合物。
  3. 【請求項３】　　Ｒ１がアシル基、Ｒ２が低級アルキル
    基；ヒドロキシ、保護されたヒドロキシ、ハロゲン、低
    級アルコキシ、低級アルキル、アミノ、ニトロおよびシ
    アノからなる群から選ばれた適当な置換基によって置換
    されていてもよいアル（低級）アルキル基；シクロ（低
    級）アルキル（低級）アルキル基；またはヒドロキシ、
    保護されたヒドロキシ、ハロゲン、低級アルコキシ、低
    級アルキル、アミノ、ニトロ、シアノおよびイミノ保護
    基からなる群から選ばれた適当な置換基によって置換さ
    れていてもよい複素環（低級）アルキル基であり、該複
    素環基は窒素原子１ないし４個を含む３ないし８員不飽
    和複素単環基、窒素原子１ないし４個を含む３ないし８
    員飽和複素単環基、窒素原子１ないし５個を含む７ない
    し１２員の不飽和縮合複素環基、酸素原子１ないし２個
    および窒素原子１ないし３個を含む３ないし８員不飽和
    複素単環基、酸素原子１ないし２個および窒素原子１な
    いし３個を含む３ないし８員飽和複素単環基、酸素原子
    １ないし２個および窒素原子１ないし３個を含む７ない
    し１２員の不飽和縮合複素環基、硫黄原子１ないし２個
    および窒素原子１ないし３個を含む３ないし８員不飽和
    複素単環基、硫黄原子１ないし２個および窒素原子１な
    いし３個を含む３ないし８員飽和複素単環基、硫黄原子
    １個を含む３ないし８員不飽和複素単環基、または硫黄
    原子１ないし２個および窒素原子１ないし３個を含む７
    ないし１２員の不飽和縮合複素単環基である、Ｒ３がそ
    れぞれヒドロキシ、保護されたヒドロキシ、ハロゲン、
    低級アルコキシ、低級アルキル、アミノ、ニトロ、シア
    ノおよびイミノ保護基からなる群から選ばれた適当な置
    換基によって置換されていてもよい、複素環（低級）ア
    ルキル基またはアル（低級）アルキル基であり、該複素
    環基は窒素原子１ないし４個を含む３ないし８員不飽和
    複素単環基、窒素原子１ないし４個を含む３ないし８員
    飽和複素単環基、窒素原子１ないし５個を含む７ないし
    １２員の不飽和縮合複素環基、酸素原子１ないし２個お
    よび窒素原子１ないし３個を含む３ないし８員不飽和複
    素単環基、酸素原子１ないし２個および窒素原子１ない
    し３個を含む３ないし８員飽和複素単環基、酸素原子１
    ないし２個および窒素原子１ないし３個を含む７ないし
    １２員の不飽和縮合複素環基、硫黄原子１ないし２個お
    よび窒素原子１ないし３個を含む３ないし８員不飽和複
    素単環基、硫黄原子１ないし２個および窒素原子１ない
    し３個を含む３ないし８員飽和複素単環基、硫黄原子１
    個を含む３ないし８員不飽和複素単環基、または硫黄原
    子１ないし２個および窒素原子１ないし３個を含む７な
    いし１２員の不飽和縮合複素環基である、Ｒ４が水素原
    子、低級アルキル基、アル（低級）アルキル基、アミノ
    （低級）アルキル基、保護されたアミノ（低級）アルキ
    ル基、カルボキシ（低級）アルキル基、保護されたカル
    ボキシ（低級）アルキル基または置換されていてもよい
    複素環（低級）アルキル基であり、該複素環基は窒素原
    子１ないし４個を含む３ないし８員不飽和複素単環基、
    窒素原子１ないし４個を含む３ないし８員飽和複素単環
    基、窒素原子１ないし５個を含む７ないし１２員の不飽
    和縮合複素環基、酸素原子１ないし２個および窒素原子
    １ないし３個を含む３ないし８員不飽和複素単環基、酸
    素原子１ないし２個および窒素原子１ないし３個を含む
    ３ないし８員飽和複素単環基、酸素原子１ないし２個お
    よび窒素原子１ないし３個を含む７ないし１２員の不飽
    和縮合複素環基、硫黄原子１ないし２個および窒素原子
    １ないし３個を含む３ないし８員不飽和複素単環基、硫
    黄原子１ないし２個および窒素原子１ないし３個を含む
    ３ないし８員飽和複素単環基、硫黄原子１個を含む３な
    いし８員不飽和複素単環基、または硫黄原子１ないし２
    個および窒素原子１ないし３個を含む７ないし１２員の
    不飽和縮合複素環基であり、該複素環基はヒドロキシ、
    保護されたヒドロキシ、ハロゲン、低級アルコキシ、低
    級アルキル、アミノ、ニトロ、シアノおよびイミノ保護
    基からなる群から選ばれた適当な置換基１個または２個
    によって置換されていてもよい、Ｒ５がカルボキシ基、
    エステル化されたカルボキシ基またはアミド化されたカ
    ルボキシ基、Ｒ６が水素原子または複素環基が窒素原子
    １ないし４個を含む３ないし８員不飽和複素環基である
    、複素環（低級）アルキル基である請求項２に記載の化
    合物。
  4. 【請求項４】　　Ｒ１がカルバモイル基；芳香族基また
    は複素環基で置換されていてもよい飽和または不飽和、
    非環式または環式脂肪族アシル基；芳香族アシル基；ま
    たは複素環式アシル基であり、それぞれのアシル基は有
    機カルボン酸、有機炭酸、有機スルホン酸または有機カ
    ルバミン酸から由来している；Ｒ２が低級アルキル基；
    Ｃ６−Ｃ１０アル（低級）アルキル基；Ｃ３−Ｃ７シク
    ロアルキル（低級）アルキル基；窒素原子１ないし３個
    を含む５または６員芳香族複素単環（低級）アルキル基
    ；Ｒ３がベンゼン縮合した９または１０員複素環（低級
    ）アルキル基であり、該複素環部分は１ないし３個の窒
    素原子を含んでおり、かつ低級アルキルまたは有機カル
    ボン酸アシルで置換されていてもよい；またはＣ６−Ｃ
    １０アル（低級）アルキル基；Ｒ４が水素原子；低級ア
    ルキル基；Ｃ６−Ｃ１０アル（低級）アルキル基；アミ
    ノ（低級）アルキル基；保護されたアミノ（低級）アル
    キル基；カルボキシ（低級）アルキル基；保護されたカ
    ルボキシ（低級）アルキル基；窒素原子１ないし３個を
    含む５または６員芳香族複素単環（低級）アルキル基；
    または窒素原子１または２個および硫黄原子１個を含む
    ５または６員芳香族複素単環（低級）アルキル基；Ｒ５
    がカルボキシ基；低級アルコキシカルボニル基、Ｃ６−
    Ｃ１０アル（低級）アルコキシカルボニル基、およびＣ
    ６−Ｃ１０アロイル（低級）アルコキシカルボニル基か
    ら成る群から選択されたエステル化されたカルボキシ基
    ；カルバモイル、Ｎ−またはＮ，Ｎ−ジ（低級）アルキ
    ルカルバモイル、カルボキシおよび保護されたカルボキ
    シからなる群から選択された置換基１または２個で置換
    された低級アルキルカルバモイル基、Ｎ−（低級）アル
    キル−Ｎ−［カルボキシ−または保護されたカルボキシ
    （低級）アルキル］カルバモイル基、Ｃ６−Ｃ１０アル
    （低級）アルキルカルバモイル基、カルボキシ−または
    保護されたカルボキシで置換された、Ｃ６−Ｃ１０アル
    （低級）アルキルカルバモイル基、Ｃ３−Ｃ７シクロア
    ルキルカルバモイル基、Ｎ−［カルボキシ−または保護
    されたカルボキシで置換された（Ｃ３−Ｃ７）シクロア
    ルキル（低級）アルキル］カルバモイル基、低級アルキ
    ルスルホニルカルバモイル基、Ｃ６−Ｃ１０アリールス
    ルホニルカルバモイル基、カルボキシ−または保護され
    たカルボキシで置換された、窒素原子１ないし３個を含
    む５または６員芳香族複素単環（低級）アルキルカルバ
    モイル基、低級アルキレンアミノカルボニル基、カルボ
    キシまたは保護されたカルボキシで置換された低級アル
    キレンアミノカルボニル基、カルボキシ、保護されたカ
    ルボキシおよびカルバモイルからなる群から選択された
    １または２個の置換基で置換された［低級アルキレンア
    ミノ（低級）アルキル］カルバモイル基、モルホリノカ
    ルボニル基、窒素原子１個および酸素原子１個を含む５
    または６員飽和複素単環カルバモイル基、窒素原子１な
    いし３個を含む５または６員芳香族複素単環カルバモイ
    ル基、窒素原子１ないし２個および硫黄原子１個を含む
    ５または６員芳香族複素単環カルバモイル基、窒素原子
    １ないし２個および硫黄原子１個を含む９または１０員
    ベンゼン縮合複素環カルバモイル基、窒素原子１個およ
    び酸素原子１個を含む５または６員飽和複素単環（低級
    ）アルキルカルバモイル基、窒素原子１ないし３個を含
    む５または６員芳香族複素単環（低級）アルキルカルバ
    モイル基、カルバゾイル基、ジ（低級）アルキルカルバ
    ゾイル基から選択されるアミド化されたカルボキシ基；
    カルボキシ（低級）アルキル基；または保護されたカル
    ボキシ（低級）アルキル基；Ｒ６が水素原子；または窒
    素原子１ないし３個を含む５または６員芳香族複素単環
    （低級）アルキル基である請求項３に記載の化合物。
  5. 【請求項５】　　Ｒ１がカルバモイル基；低級アルカノ
    イル基；アミノ（低級）アルカノイル基；低級アルコキ
    シカルボニルアミノ（低級）アルカノイル基；Ｃ３−Ｃ
    ７シクロアルキルウレイド（低級）アルカノイル基；低
    級アルコキシカルボニル基；Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル
    （低級）アルカノイル基；Ｃ３−Ｃ７シクロアルキルカ
    ルボニル基；Ｃ３−Ｃ７シクロアルキルオキシカルボニ
    ル基；ベンゾイル基；ナフトイル基；フェニル（低級）
    アルカノイル基；ナフチル（低級）アルカノイル基；ア
    ミノで置換されたフェニル（低級）アルカノイル基；低
    級アルコキシカルボニルアミノで置換されたフェニル（
    低級）アルカノイル基；ハロフェニル（低級）アルカノ
    イル基；フェニル（低級）アルケノイル基；フェニルグ
    リオキシロイル基；フェニル（低級）アルキルグリオキ
    シロイル基；ピリジルカルボニル基；テトラヒドロピリ
    ジルカルボニル基；テトラヒドロキノリルカルボニル基
    ；テトラヒドロイソキノリルカルボニル基；モルホリノ
    カルボニル基；チオモルホリノカルボニル基；インドリ
    ルカルボニル基；オキソおよび低級アルキルから選ばれ
    た置換基１ないし３個で置換されたピペリジニルカルボ
    ニル基；ピリジル（低級）アルカノイル基；モルホリニ
    ルカルボニル（低級）アルカノイル基；フェニル（低級
    ）アルキルスルホニル基；Ｎ−またはＮ，Ｎ−ジ（Ｃ１
    −Ｃ１０）アルキルカルバモイル基；ヒドロキシ（低級
    ）アルキルカルバモイル基；カルボキシ（低級）アルキ
    ルカルバモイル基；低級アルコキシカルボニル（低級）
    アルキルカルバモイル基；カルバモイル（低級）アルキ
    ルカルバモイル基；［Ｎ−またはＮ，Ｎ−ジ（低級）ア
    ルキルカルバモイル］（低級）アルキルカルバモイル基
    ；Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（低級）ア
    ルキル］カルバモイル基；Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−
    ［ジ（低級）アルキルカルバモイル（低級）アルキル］
    カルバモイル基；Ｃ３−Ｃ１０アルキレンアミノカルボ
    ニル基；ジ（低級）アルキルカルバモイル（低級）アル
    キレンアミノカルボニル基；Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ
    −（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキルカルバモイル基；モノ
    またはジ（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキルカルバモイル基
    ；ヒドロキシ−またはジ（低級）アルキルカルバモイル
    −またはジ（低級）アルキルカルバモイル（低級）アル
    キルで置換された（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキルカルバ
    モイル基；Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル（低級）アルキル
    カルバモイル基；ジ（低級）アルキルカルバモイルで置
    換されたＣ３−Ｃ７シクロアルキル（低級）アルキルカ
    ルバモイル基；ジ（低級）アルキルカルバモイルで置換
    されたフェニル（低級）アルキルカルバモイル基；フェ
    ニル基がハロゲン、低級アルキルおよび低級アルコキシ
    から選択された置換基１ないし３個で置換されていても
    よいフェニルカルバモイル基；ピリジルカルバモイル基
    ；Ｎ−（低級）アルコキシカルボニルピペリジルカルボ
    ニル基；モルホリニル（低級）アルキルカルバモイル基
    ；低級アルカノイルカルバゾイル基；低級アルキレンア
    ミノカルバモイル基；Ｎ−（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキ
    ルカルバモイル（低級）アルキルカルバモイル基；低級
    アルキレンアミノカルボニル（低級）アルキルカルバモ
    イル基；ピリジル（低級）アルキルカルバモイル基；ま
    たはオキソで置換されたヘキサヒドロアゼピニルカルバ
    モイル基；Ｒ２が低級アルキル基；Ｒ３がインドリル（
    低級）アルキル基；Ｎ−（低級）アルキルインドリル（
    低級）アルキル基；Ｎ−（低級）アルカノイルインドリ
    ル（低級）アルキル基；フェニル（低級）アルキル基；
    またはナフチル（低級）アルキル基；Ｒ４が水素原子；
    低級アルキル基；アミノ（低級）アルキル基；モノまた
    はジまたはトリフェニル（低級）アルコキシカルボニル
    アミノ（低級）アルキル基；カルボキシ（低級）アルキ
    ル基；モノまたはジまたはトリフェニル（低級）アルコ
    キシカルボニル（低級）アルキル基；フェニル（低級）
    アルキル基；ナフチル（低級）アルキル基；ピリジル（
    低級）アルキル基；イミダゾリル（低級）アルキル基；
    またはチアゾリル（低級）アルキル基；Ｒ５がカルボキ
    シ基；低級アルコキシカルボニル基；モノまたはジまた
    はトリフェニル（低級）アルコキシカルボニル基；ベン
    ゾイル（低級）アルコキシカルボニル基；カルバモイル
    基；Ｎ−またはＮ，Ｎ−ジ（低級）アルキルカルバモイ
    ル基；カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、モノま
    たはジまたはトリフェニル（低級）アルコキシカルボニ
    ルおよびベンゾイル（低級）アルコキシカルボニルから
    選択された置換基１または２個で置換された低級アルキ
    ルカルバモイル基；Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［カル
    ボキシ（または低級アルコキシカルボニル）（低級）ア
    ルキル］カルバモイル基；フェニル（低級）アルキルカ
    ルバモイル基；カルボキシ−または低級アルコキシカル
    ボニルで置換されたフェニル（低級）アルキルカルバモ
    イル基；Ｃ３−Ｃ７シクロアルキルカルバモイル基；［
    カルボキシ（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキル（低級）アル
    キル］カルバモイル基；低級アルコキシカルボニル（Ｃ
    ３−Ｃ７）シクロアルキル（低級）アルキルカルバモイ
    ル基；低級アルキルスルホニルカルバモイル基；フェニ
    ルスルホニルカルバモイル基；カルボキシ−または低級
    アルコキシカルボニルで置換されたピリジル（低級）ア
    ルキルカルバモイル基；低級アルキレンアミノカルボニ
    ル基；カルボキシまたは低級アルコキシカルボニルで置
    換された低級アルキレンアミノカルボニル基；カルボキ
    シ、低級アルコキシカルボニルおよびカルバモイルから
    選択された置換基１または２個で置換された［低級アル
    キレンアミノ（低級）アルキル］カルバモイル基；モル
    ホリノカルボニル基；モルホリニルカルバモイル基；ピ
    リジルカルバモイル基；チアゾリルカルバモイル基；低
    級アルキルチアゾリルカルバモイル基；ベンゾチアゾリ
    ルカルバモイル基；モルホリニル（低級）アルキルカル
    バモイル基；ピリジル（低級）アルキルカルボニル基；
    カルバゾイル基；ジ（低級）アルキルカルバゾイル基；
    カルボキシ（低級）アルキル基；低級アルコキシカルボ
    ニル（低級）アルキル基；またはベンゾイル（低級）ア
    ルコキシカルボニル（低級）アルキル、Ｒ６およびＲ７
    がそれぞれ水素原子である請求項４に記載の化合物。
  6. 【請求項６】　　Ｒ１がＮ−またはＮ，Ｎ−ジ−（Ｃ１
    −Ｃ１０）アルキルカルバモイル基、Ｎ−（低級）アル
    キル−Ｎ−（Ｃ３−Ｃ７）シクロアルキルカルバモイル
    基、Ｎ−または　　Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ３−Ｃ７）シクロア
    ルキルカルバモイル基、Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［
    Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルカルバモイル（低級）アル
    キル］カルバモイル基；フェニルカルバモイル基；Ｃ３
    −Ｃ１０アルキレンアミノカルボニル基またはＮ−（低
    級）アルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキル］カ
    ルバモイル基、Ｒ２が低級アルキル基、Ｒ３がインドリ
    ル（低級）アルキル基、Ｎ−（低級）アルカノイルイン
    ドリル（低級アルキル基またはＮ−（低級）アルキルイ
    ンドリル（低級）アルキル基；Ｒ４がピリジル（低級）
    アルキル基またはフェニル（低級）アルキル基、Ｒ５が
    カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモ
    イル基またはＮ−またはＮ，Ｎ−ジ（低級）アルキルカ
    ルバモイル基、Ａがメチレン基または−ＮＨ−基である
    請求項５に記載の化合物。
  7. 【請求項７】　　Ｒ１がイソプロピルカルバモイル基、
    ２−メチルブチルカルバモイル基、ヘプチルカルバモイ
    ル基、ジメチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル
    基、ジプロピルカルバモイル基、ジイソプロピルカルバ
    モイル基、ジブチルカルバモイル基、ジイソブチルカル
    バモイル基、ピロリジン−１−イルカルボニル基、ピペ
    リジン−１−イルカルボニル基、３，５−ジまたは２，
    ６−ジメチルピペリジン−１−イルカルボニル基、ヘキ
    サヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−イルカルボニル基また
    はオクタヒドロアゾシン−１−イルカルボニル基、Ｒ２
    がイソブチル基、Ｒ３がインドール−３−イルメチル基
    、Ｎ−ホルミルインドール−３−イルメチル基、Ｎ−メ
    チルインドール−３−イルメチル基、Ｎ−エチルインド
    ール−３−イルメチル基、Ｎ−プロピルインドール−３
    −イルメチル基またはＮ−イソブチルインドール−３−
    イルメチル基、Ｒ４が２−ピリジルメチル基またはベン
    ジル基、Ｒ５がカルボキシ基、メトキシカルボニル基、
    エトキシカルボニル基、カルバモイル基、メチルカルバ
    モイル基、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイ
    ル基、イソプロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイ
    ル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基またはＮ，Ｎ−
    ジエチルカルバモイル基である請求項６に記載の化合物
    。
  8. 【請求項８】　　（ａ）式： （式中、Ｒ１は水素原子またはアシル基、Ｒ２は低級ア
    ルキル基、置換されていてもよいアル（低級）アルキル
    基、シクロ（低級）アルキル（低級）アルキル基または
    置換されていてもよい複素環（低級）アルキル基、Ａは
    −Ｏ−、−ＮＨ−、低級アルキルイミノ基または低級ア
    ルキレン基を意味する）で示される化合物またはカルボ
    キシ基におけるその反応性誘導体またはその塩を、式：
    ［式中、Ｒ３は置換されていてもよい複素環（低級）ア
    ルキル基または置換されていてもよいアル（低級）アル
    キル基、Ｒ４は水素原子または置換されていてもよい低
    級アルキル基、Ｒ５はカルボキシ基、保護されたカルボ
    キシ基、カルボキシ（低級）アルキル基または保護され
    たカルボキシ（低級）アルキル基、Ｒ６は水素原子また
    は置換されていてもよい低級アルキル基、Ｒ７は水素原
    子または低級アルキル基を意味する］で示される化合物
    またはアミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩
    と反応させて、式： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７お
    よびＡはそれぞれ前と同じ意味）で示される化合物また
    はその塩を得るか；または（ｂ）式： （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＡ
    はそれぞれ前と同じ意味）で示される化合物またはアミ
    ノ基におけるその反応性誘導体またはその塩を、式：け
    るその反応性誘導体またはその塩と反応させて、式：（
    式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およ
    びＡはそれぞれ前と同じ意味）で示される化合物または
    その塩を得るか；または（ｃ）式： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７およびＡはそれぞれ前
    と同じ意味）で示される化合物またはカルボキシ基にお
    けるその反応性誘導体またはその塩を、式：（式中、Ｒ
    ４、Ｒ５およびＲ６はそれぞれ前と同じ意味）で示され
    る化合物またはアミノ基におけるその反応性誘導体また
    はその塩と反応させて、式：（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３
    、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＡはそれぞれ前と同じ
    意味）で示される化合物またはその塩を得るか；または
    （ｄ）式： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７およびＡ
    はそれぞれ前と同じ意味であり、 を意味する）で示される化合物またはその塩をカルボキ
    シ保護基の脱離反応に付して、式： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７およびＡ
    はそれぞれ前と同じ意味であり、 る化合物またはその塩を得るか；または（ｅ）式：（式
    中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＡはそ
    れぞれ前と同じ意味であり、 アルキル基を意味する）で示される化合物またはその塩
    をイミノ保護基の脱離反応に付して、式：（式中、Ｒ１
    、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＡはそれぞれ前
    と同じ意味であり、 を意味する）で示される化合物またはその塩を得るか；
    または（ｆ）式： （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＡ
    はそれぞれ前と同じ意味であり、 またはその塩をアミノ保護基の脱離反応に付して、式：
    （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＡ
    はそれぞれ前と同じ意味であり 塩を得るか；または（ｇ）式： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７およびＡ
    はそれぞれ前と同じ意味であり、 カルボキシ基における反応性誘導体またはその塩を置換
    されていてもよいアミンまたはその塩と反応させて式、
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７およびＡ
    はそれぞれ前と同じ意味であり、 を得るか；または（ｈ）式： 化反応に付して、式： じ意味である）で示される化合物またはその塩を得るか
    ；または（ｉ）式： 式： （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＡ
    はそれぞれ前と同じ意味である）で示される化合物を得
    るか；または（ｊ）式： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＡ
    はそれぞれ前と同じ意味であり、 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＡ
    はそれぞれ前と同じ意味であり、 塩を得るか；または（ｋ）式： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＡ
    はそれぞれ前と同じ意味であり、 護基の脱離反応に付して、式： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＡ
    はそれぞれ前と同じ意味であり、 を意味する）で示される化合物を得るか；または（ｌ）
    式： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＡ
    はそれぞれ前と同じ意味であり、 て、式： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＡ
    はそれぞれ前と同じ意味であり、 ノ含有複素環（低級）アルキル基を意味する）で示され
    る化合物またはその塩を得ることを特徴とする、式：（
    式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およ
    びＡはそれぞれ前と同じ意味である。但し、Ｒ２が（Ｓ
    ）−イソブチル基、Ｒ３がＮ−（ジクロロベンジルオキ
    シカルボニル）インドール−３−イルメチル基、Ｒ４が
    メチル基、Ｒ５がメトキシカルボニル基、Ｒ６が水素原
    子、Ｒ７が水素原子およびＡが−ＮＨ−のつ。）で示さ
    れるペプチド化合物の製造法。
  9. 【請求項９】　　請求項１記載の化合物または医薬とし
    て許容されるその塩および医薬として許容される担体ま
    たは賦形剤を含有するエンドセリン拮抗剤。
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