JPH04242968A - 半導体集積回路 - Google Patents
半導体集積回路Info
- Publication number
- JPH04242968A JPH04242968A JP3000305A JP30591A JPH04242968A JP H04242968 A JPH04242968 A JP H04242968A JP 3000305 A JP3000305 A JP 3000305A JP 30591 A JP30591 A JP 30591A JP H04242968 A JPH04242968 A JP H04242968A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fet
- self
- voltage
- aligned
- gate electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 5
- 230000005669 field effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 5
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0214—Particular design considerations for integrated circuits for internal polarisation, e.g. I2L
- H01L27/0218—Particular design considerations for integrated circuits for internal polarisation, e.g. I2L of field effect structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body
- H01L27/06—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration
- H01L27/0605—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits made of compound material, e.g. AIIIBV
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body
- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
- H01L27/085—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
- H01L27/095—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being Schottky barrier gate field-effect transistors
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路に関し
、特に化合物半導体集積回路に係り、出力電圧増大を意
図した半導体集積回路に関する。
、特に化合物半導体集積回路に係り、出力電圧増大を意
図した半導体集積回路に関する。
【0002】一般に、FETのピンチオフ電圧を小さく
するために薄い活性層が用いられるが、GaAsなどの
ように表面準位によって表面空乏層が生じる化合物半導
体材料を用いると、活性層が薄い分、表面空乏層のチャ
ネル中に占める割合が増してチャネルが狭められてしま
う。その結果、寄生抵抗、特に、ソース抵抗RS が大
きくなり、相互コンダクタンスが低下する。そこで、寄
生抵抗RS を極力下げるために、表面空乏層の影響を
少なくする工夫が種々なされる。
するために薄い活性層が用いられるが、GaAsなどの
ように表面準位によって表面空乏層が生じる化合物半導
体材料を用いると、活性層が薄い分、表面空乏層のチャ
ネル中に占める割合が増してチャネルが狭められてしま
う。その結果、寄生抵抗、特に、ソース抵抗RS が大
きくなり、相互コンダクタンスが低下する。そこで、寄
生抵抗RS を極力下げるために、表面空乏層の影響を
少なくする工夫が種々なされる。
【0003】ゲート電極に自己整合して形成された高濃
度不純物層を持つFET、いわゆる自己整合型(セルフ
アライン型)FETはその工夫のひとつである。高濃度
不純物層がゲート近傍まできているので、RS を極め
て小さくすることができる。
度不純物層を持つFET、いわゆる自己整合型(セルフ
アライン型)FETはその工夫のひとつである。高濃度
不純物層がゲート近傍まできているので、RS を極め
て小さくすることができる。
【0004】
【従来の技術】図5は従来の半導体集積回路を示す図で
ある。10は内部回路を構成するロジック部、11は負
荷を駆動するドライバ部であり、ロジック部10は内部
信号S1 を論理信号S2(およびS2の反転信号S2
X)に変換する。ドライバ部11はこの論理信号S2お
よびS2Xの振幅を増大して、負荷を駆動できる充分な
大きさの駆動信号S3(およびS3の反転信号S3X)
に変換する。なお、T1〜T4は自己整合型FET、R
1およびR2は抵抗である。
ある。10は内部回路を構成するロジック部、11は負
荷を駆動するドライバ部であり、ロジック部10は内部
信号S1 を論理信号S2(およびS2の反転信号S2
X)に変換する。ドライバ部11はこの論理信号S2お
よびS2Xの振幅を増大して、負荷を駆動できる充分な
大きさの駆動信号S3(およびS3の反転信号S3X)
に変換する。なお、T1〜T4は自己整合型FET、R
1およびR2は抵抗である。
【0005】ここで、駆動信号S3およびS3Xの振幅
値は、T2、T3のスイッチング動作に伴うR1、R2
の両端電位ER1、ER2で与えられる。例えば、S3
の振幅値は、オフ状態のときのT2のドレイン電圧VD
2off(VD2off=VDD)から、オン状態のと
きのT2のドレイン電圧VD2on(VD2on=VD
D−ER1)を引いた値、すなわちER1で与えられる
。
値は、T2、T3のスイッチング動作に伴うR1、R2
の両端電位ER1、ER2で与えられる。例えば、S3
の振幅値は、オフ状態のときのT2のドレイン電圧VD
2off(VD2off=VDD)から、オン状態のと
きのT2のドレイン電圧VD2on(VD2on=VD
D−ER1)を引いた値、すなわちER1で与えられる
。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
従来の半導体集積回路にあっては、ドライバ部のFET
が自己整合型であったため、駆動信号の振幅値が最大で
も5V(一般に安全率を見込んで3V)にしかならず、
特に5V以上の駆動信号を必要とする負荷をドライブで
きないといった問題点がある。
従来の半導体集積回路にあっては、ドライバ部のFET
が自己整合型であったため、駆動信号の振幅値が最大で
も5V(一般に安全率を見込んで3V)にしかならず、
特に5V以上の駆動信号を必要とする負荷をドライブで
きないといった問題点がある。
【0007】すなわち、図5において、駆動信号S3(
およびS3の反転信号S3X)の振幅を5V以上にする
には、2つの電源VDD、VSS間の電位差を少なくと
も10V以上にしなければならないが、こうすると、オ
フ状態のT2(またはT3)のドレイン−ソース間に当
該電位差(10V以上)が印加されてしまい、自己整合
型FETのドレイン耐圧が高々4V〜6V程度であるか
ら、結局、T2(またはT3)が永久破壊してしまう。
およびS3の反転信号S3X)の振幅を5V以上にする
には、2つの電源VDD、VSS間の電位差を少なくと
も10V以上にしなければならないが、こうすると、オ
フ状態のT2(またはT3)のドレイン−ソース間に当
該電位差(10V以上)が印加されてしまい、自己整合
型FETのドレイン耐圧が高々4V〜6V程度であるか
ら、結局、T2(またはT3)が永久破壊してしまう。
【0008】そこで、本発明は、負荷駆動信号の振幅を
5V以上にできる半導体集積回路を提供することを目的
とする。
5V以上にできる半導体集積回路を提供することを目的
とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためその原理図を図1に示すように、ゲート電極
に自己整合して形成された高濃度不純物層を持つ第1F
ETと、ゲート電極から分離して形成された高濃度不純
物層を持つ第2FETとを共通の化合物半導体基板上に
形成し、前記第1FETの出力電圧IN2を前記第2F
ETを介して取り出すと共に、該取り出した電圧OUT
を負荷駆動信号として使用することを特徴とする。
成するためその原理図を図1に示すように、ゲート電極
に自己整合して形成された高濃度不純物層を持つ第1F
ETと、ゲート電極から分離して形成された高濃度不純
物層を持つ第2FETとを共通の化合物半導体基板上に
形成し、前記第1FETの出力電圧IN2を前記第2F
ETを介して取り出すと共に、該取り出した電圧OUT
を負荷駆動信号として使用することを特徴とする。
【0010】但し、IN1は第1FETの入力電圧、V
DD1は第1FETの高電位側電源電圧、VSS1は第
1FETの低電位側電源電圧、VDD2は第2FETの
高電位側電源電圧、VSS2は第2FETの高電位側電
源電圧である。
DD1は第1FETの高電位側電源電圧、VSS1は第
1FETの低電位側電源電圧、VDD2は第2FETの
高電位側電源電圧、VSS2は第2FETの高電位側電
源電圧である。
【0011】
【作用】本発明では、第2FET、すなわち非自己整合
型(ノンセルフアライン型)FETの出力電圧で負荷が
駆動される。
型(ノンセルフアライン型)FETの出力電圧で負荷が
駆動される。
【0012】ここで、ノンセルフアライン型FETとし
ては、例えばLDD(Lightly Dop−ed
Drain )構造のFETがある。ドレイン−ソース
間の距離が長く、ドレイン−ソース耐圧が大きい(一般
に10V〜15V)特長がある。
ては、例えばLDD(Lightly Dop−ed
Drain )構造のFETがある。ドレイン−ソース
間の距離が長く、ドレイン−ソース耐圧が大きい(一般
に10V〜15V)特長がある。
【0013】従って、VDD2、VSS2間の電位差を
、10V以上(当然、ドレイン−ソース耐圧の制限内)
に大きくすることができ、駆動信号OUTの振幅を5V
以上にすることができる。
、10V以上(当然、ドレイン−ソース耐圧の制限内)
に大きくすることができ、駆動信号OUTの振幅を5V
以上にすることができる。
【0014】
【実施例】以下、本発明を図面に基づいて説明する。図
2、図3は本発明に係る半導体集積回路の一実施例を示
す図である。
2、図3は本発明に係る半導体集積回路の一実施例を示
す図である。
【0015】図2において、20はロジック部、30は
ドライバ部である。ロジック部20は、3個の自己整合
型FET21、22、23を含み、FET21および2
2のソースを共通にしてFET23のドレインに接続し
、FET23のゲートおよびソースを低電位側電源VS
S20(例えば−5.2V)に接続する。また、FET
21のドレインを高電位側電源VDD20(例えば0V
)に接続し、FET22のドレインから出力電圧V20
を取り出す。
ドライバ部である。ロジック部20は、3個の自己整合
型FET21、22、23を含み、FET21および2
2のソースを共通にしてFET23のドレインに接続し
、FET23のゲートおよびソースを低電位側電源VS
S20(例えば−5.2V)に接続する。また、FET
21のドレインを高電位側電源VDD20(例えば0V
)に接続し、FET22のドレインから出力電圧V20
を取り出す。
【0016】一方、ドライバ部30は、1個の非自己整
合型FET31を含み、FET31のソースを上記FE
T22のドレインに接続し、FET31のドレインを抵
抗R31を介して高電位側電源VDD30に接続する。 また、FET31のゲートを抵抗R32とR33の接続
点P30に繋ぎ、R32とR33をそれぞれ高電位側電
源VDD31と低電位側電源VSS30とに接続する。 なお、V30は負荷を駆動するための駆動電圧(負荷駆
動信号)で、FET31のドレインから取り出される。
合型FET31を含み、FET31のソースを上記FE
T22のドレインに接続し、FET31のドレインを抵
抗R31を介して高電位側電源VDD30に接続する。 また、FET31のゲートを抵抗R32とR33の接続
点P30に繋ぎ、R32とR33をそれぞれ高電位側電
源VDD31と低電位側電源VSS30とに接続する。 なお、V30は負荷を駆動するための駆動電圧(負荷駆
動信号)で、FET31のドレインから取り出される。
【0017】図3は、ロジック部20の自己整合型FE
T(例えばFET22)とドライバ部30の非自己整合
型FET31の構造を示す断面図である。ここで、FE
T22は発明の要旨に記載の第1FETであり、FET
31は発明の要旨に記載の第2FETである。
T(例えばFET22)とドライバ部30の非自己整合
型FET31の構造を示す断面図である。ここで、FE
T22は発明の要旨に記載の第1FETであり、FET
31は発明の要旨に記載の第2FETである。
【0018】この図において、自己整合型FET22を
図面の下半分に表し、非自己整合型FET31を図面の
上半分に表す。
図面の下半分に表し、非自己整合型FET31を図面の
上半分に表す。
【0019】これらのFETは、共通の化合物半導体(
GaAs)基板40上に形成されている。すなわち、同
一チップ上に形成されている。なお、図中の符号A、B
は接続記号である。
GaAs)基板40上に形成されている。すなわち、同
一チップ上に形成されている。なお、図中の符号A、B
は接続記号である。
【0020】自己整合型FET22は、ドレイン電極D
22、ゲート電極G22およびソース電極S22を備え
ると共に、ゲート電極G22に自己整合して形成された
2つの高濃度不純物層41、42を備え、さらに、ゲー
ト電極G22の直下で且つ2つの高濃度不純物層41、
42の間隙L22にチャネル領域43を形成する。
22、ゲート電極G22およびソース電極S22を備え
ると共に、ゲート電極G22に自己整合して形成された
2つの高濃度不純物層41、42を備え、さらに、ゲー
ト電極G22の直下で且つ2つの高濃度不純物層41、
42の間隙L22にチャネル領域43を形成する。
【0021】非自己整合型FET31は、ドレイン電極
D31、ゲート電極G31およびソース電極S31を備
えると共に、ゲート電極G31から分離して形成された
2つの高濃度不純物層44、45を備え、さらに、ゲー
ト電極G31の直下で且つ2つの高濃度不純物層44、
45の間隙L31にチャネル領域46を形成する。
D31、ゲート電極G31およびソース電極S31を備
えると共に、ゲート電極G31から分離して形成された
2つの高濃度不純物層44、45を備え、さらに、ゲー
ト電極G31の直下で且つ2つの高濃度不純物層44、
45の間隙L31にチャネル領域46を形成する。
【0022】自己整合型FET22と非自己整合型FE
T31の構造上の大きな違いは、2つの高濃度不純物層
の間隔(L22、L31)にある。例えば、双方のゲー
ト電極長を略等しいとすると、必ずL22<L31の関
係になる。
T31の構造上の大きな違いは、2つの高濃度不純物層
の間隔(L22、L31)にある。例えば、双方のゲー
ト電極長を略等しいとすると、必ずL22<L31の関
係になる。
【0023】ここで、上記間隔は、ドレイン−ソース耐
圧を決定する因子の1つである。間隔を広げると耐圧を
向上できる。非自己整合型FET31のドレイン−ソー
ス耐圧は、自己整合型FET22のそれよりも倍以上大
きく、一般に、自己整合型の4V〜6Vに対して非自己
整合型では10V〜15Vである。
圧を決定する因子の1つである。間隔を広げると耐圧を
向上できる。非自己整合型FET31のドレイン−ソー
ス耐圧は、自己整合型FET22のそれよりも倍以上大
きく、一般に、自己整合型の4V〜6Vに対して非自己
整合型では10V〜15Vである。
【0024】従って、本実施例によれば、耐圧の大きな
非自己整合型のFET31をドライバ部30に用いたの
で、当該FET31のオフ時のドレイン−ソース間電圧
を10V以上(言うまでもなく耐圧が上限となる)に高
めることができ(従来例では高々5V程度)、その結果
、当該FET31のドレインから取り出される駆動電圧
V30の振幅を5V以上にすることができる。
非自己整合型のFET31をドライバ部30に用いたの
で、当該FET31のオフ時のドレイン−ソース間電圧
を10V以上(言うまでもなく耐圧が上限となる)に高
めることができ(従来例では高々5V程度)、その結果
、当該FET31のドレインから取り出される駆動電圧
V30の振幅を5V以上にすることができる。
【0025】なお、非自己整合型FET31を用いると
、その広い間隔L31によって特にソース抵抗RS が
高くなり、動作速度の点で不都合を生ずる恐れがある。 この対策としては、例えば図4に示すように、自己整合
型FETのゲート電極長Laをできるだけ小さくすると
共に、非自己整合型FETのゲート電極長Lbをできる
だけ小さくするのが好ましい。
、その広い間隔L31によって特にソース抵抗RS が
高くなり、動作速度の点で不都合を生ずる恐れがある。 この対策としては、例えば図4に示すように、自己整合
型FETのゲート電極長Laをできるだけ小さくすると
共に、非自己整合型FETのゲート電極長Lbをできる
だけ小さくするのが好ましい。
【0026】これは、一般にLaの最小限界が0.8μ
m程度であり、これに対してLbの最小限界が0.25
μm程度であるからで、従って、微小なLbにより、非
自己整合型FETの実質的なチャネル長を縮小でき、動
作速度を向上できるからである。
m程度であり、これに対してLbの最小限界が0.25
μm程度であるからで、従って、微小なLbにより、非
自己整合型FETの実質的なチャネル長を縮小でき、動
作速度を向上できるからである。
【0027】
【発明の効果】本発明によれば、自己整合型FET(第
1FET)の出力電圧を非自己整合型FET(第2FE
T)を介して取り出すと共に、該取り出した電圧を負荷
駆動信号として使用したので、第2FETのドレイン−
ソース間電圧を高めることができ、負荷駆動信号の振幅
を5V以上にすることができる。
1FET)の出力電圧を非自己整合型FET(第2FE
T)を介して取り出すと共に、該取り出した電圧を負荷
駆動信号として使用したので、第2FETのドレイン−
ソース間電圧を高めることができ、負荷駆動信号の振幅
を5V以上にすることができる。
【図1】本発明の原理構成図である。
【図2】一実施例の構成図である。
【図3】一実施例のFET構造を示す断面図である。
【図4】一実施例の好ましいFET構造を示す断面図で
ある。
ある。
【図5】従来例の構成図である。
V30……駆動電圧(負荷駆動信号)
22……FET(第1FET)
31……FET(第2FET)
40……化合物半導体基板
Claims (1)
- 【請求項1】ゲート電極に自己整合して形成された高濃
度不純物層を持つ第1FETと、ゲート電極から分離し
て形成された高濃度不純物層を持つ第2FETとを共通
の化合物半導体基板上に形成し、前記第1FETの出力
電圧を前記第2FETを介して取り出すと共に、該取り
出した電圧を負荷駆動信号として使用することを特徴と
する半導体集積回路。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3000305A JPH04242968A (ja) | 1991-01-08 | 1991-01-08 | 半導体集積回路 |
US07/817,092 US5256915A (en) | 1991-01-08 | 1992-01-06 | Compound semiconductor integrated circuit |
EP92100155A EP0494642A1 (en) | 1991-01-08 | 1992-01-07 | Compound semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3000305A JPH04242968A (ja) | 1991-01-08 | 1991-01-08 | 半導体集積回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04242968A true JPH04242968A (ja) | 1992-08-31 |
Family
ID=11470190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3000305A Withdrawn JPH04242968A (ja) | 1991-01-08 | 1991-01-08 | 半導体集積回路 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5256915A (ja) |
EP (1) | EP0494642A1 (ja) |
JP (1) | JPH04242968A (ja) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS598065B2 (ja) * | 1976-01-30 | 1984-02-22 | 松下電子工業株式会社 | Mos集積回路の製造方法 |
JPS52149481A (en) * | 1976-06-08 | 1977-12-12 | Toshiba Corp | Semiconductor integrated circuit device and its production |
CA1131367A (en) * | 1978-11-13 | 1982-09-07 | Keming W. Yeh | Self-aligned mesfet having reduced series resistance |
KR890004212B1 (en) * | 1983-07-08 | 1989-10-27 | Fujitsu Ltd | Complementary logic circuit |
US4888626A (en) * | 1985-03-07 | 1989-12-19 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Self-aligned gaas fet with low 1/f noise |
JPS63131581A (ja) * | 1986-11-21 | 1988-06-03 | Hitachi Ltd | 化合物半導体集積回路 |
US4958089A (en) * | 1988-12-20 | 1990-09-18 | Gazelle Microcircuits, Inc. | High output drive FET buffer for providing high initial current to a subsequent stage |
US4937474A (en) * | 1989-02-23 | 1990-06-26 | Northern Telecom Limited | Low power, high noise margin logic gates employing enhancement mode switching FETs |
-
1991
- 1991-01-08 JP JP3000305A patent/JPH04242968A/ja not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-01-06 US US07/817,092 patent/US5256915A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-01-07 EP EP92100155A patent/EP0494642A1/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0494642A1 (en) | 1992-07-15 |
US5256915A (en) | 1993-10-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5457420A (en) | Inverter circuit and level shifter circuit for providing a high voltage output | |
US7804332B2 (en) | Circuit configurations having four terminal JFET devices | |
US6661277B2 (en) | Enhanced conductivity body biased PMOS driver | |
US4816705A (en) | Bi-CMOS logic circuit | |
US10496121B2 (en) | Current mirror circuit and driving method of the current mirror circuit | |
US6094068A (en) | CMOS logic circuit and method of driving the same | |
US3991326A (en) | MISFET switching circuit for a high withstand voltage | |
US4117353A (en) | Controlled current sink | |
KR950704817A (ko) | 선형 전압제어저항소자[linear voltage-controlled resistance element] | |
JP3196301B2 (ja) | 化合物半導体集積回路装置 | |
JPH04242968A (ja) | 半導体集積回路 | |
KR960002098B1 (ko) | 정전기 파괴에 대한 높은 내성을 갖는 출력 버퍼 | |
US4418291A (en) | Logic gate having an isolation FET and noise immunity circuit | |
US5250833A (en) | Power transistor free from back gate bias effect and an integrated circuit device using the same | |
JP3249293B2 (ja) | 半導体集積回路 | |
JP3293563B2 (ja) | 電界効果トランジスタ及びその駆動方法 | |
JPS6232722A (ja) | プツシユプル出力回路 | |
US5087836A (en) | Electronic circuit including a parallel combination of an E-FET and a D-FET | |
US4975631A (en) | Constant current source circuit | |
JP2755686B2 (ja) | 半導体装置の保護回路 | |
JP2894964B2 (ja) | 半導体集積回路 | |
US5543642A (en) | P-channel transistor | |
JP3031090B2 (ja) | 出力ポート回路 | |
JP3457392B2 (ja) | 半導体集積回路 | |
JPH06318858A (ja) | インバータ回路 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |