JPH04234460A - インドフェノール染料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は一般式Ｉ：

【０００２】

【化３】

【０００３】［式中、Ｘは窒素又はＣＨ基を表わし、Ｑ
はベンゼン環と縮合していてもよいし、かつ窒素、酸素
及び硫黄の群から選択されたヘテロ原子１〜３個を有し
ていてよい芳香族五員複素環基を表わし、かつＫが一般
式：

【０００４】

【化４】

【０００５】の基を表わし、ここでＲ１及びＲ２は同一
又は異なっており、かつそれぞれが他方とは独立して水
素、置換されていてもよく、かつエーテル基の形の酸素
原子１又は２個によって中断されていてよいＣ１〜Ｃ８
−アルキル基又はＣ５〜Ｃ７−シクロアルキル基を表わ
し、Ｒ３は水素、メチル、エチル、メトキシ又はエトキ
シを表わし、Ｒ４は水素、メチル、メトキシ、Ｃ１〜Ｃ
４−アルキルスルホニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４−モノ−又
は−ジアルキルアミノスルホニルアミノ又は−ＮＨＣＯ
Ｒ８又は−ＮＨＣＯ２Ｒ８基を表わし、ここでＲ８はい
ずれの場合にもフェニル、ベンジル、トリル又はエーテ
ル基の形の酸素原子１又は２個によって中断されていて
よいＣ１〜Ｃ８−アルキル基を表わし、Ｒ５は水素、ハ
ロゲン、Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、非置換又はＣ１〜Ｃ４
−アルキル−又はＣ１〜Ｃ４−アルコキシ−置換フェニ
ル、非置換又はＣ１〜Ｃ４−アルキル−又はＣ１〜Ｃ４
−アルコキシ置換ベンジル、シクロヘキシル、チエニル
、ヒドロキシル又はＣ１〜Ｃ８−モノアルキルアミノ基
を表わし、Ｒ６は水素又はメチルを表わし、かつＲ７は
水素、メチル、メトキシ又はアセチルアミノ基を表わし
、かつ環Ａは置換又は非置換ベンゼン環に縮合していて
よい］のインドフェノール染料及びその熱転写法に関す
る。

【０００６】

【従来の技術】特開昭６１−２６８４９３号公報は熱転
写法に適用することを目的としたインドフェノール及び
インドナフトール染料を開示している。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】有利な適用特性を有す
る新規インドフェノール染料を提供することが本発明の
課題である。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この課題は冒頭に記載し
た一般式Ｉのインドフェノール染料によって達せられる
ことが見い出された。

【０００９】前記式Ｉ中のいずれのアルキル基も直鎖又
は分枝鎖であってよい。

【００１０】前記式Ｉ中の置換アルキルは置換基として
例えばシアノ、Ｃ１〜Ｃ６−アルカノイルオキシ、Ｃ１
〜Ｃ４−アルコキシカルボニル又はＣ１〜Ｃ４−アルコ
キシカルボニルオキシ基を有していてよく、最後にあげ
た基はアルコキシ基中でフェニル又はＣ１〜Ｃ４−アル
コキシによって置換されていてよい。

【００１１】式Ｉ中の環Ａに縮合した置換ベンゼン環は
置換分として例えば、メチル、塩素、メチルスルホニル
アミノ又はアセチルアミノを有していてよく、こうして
一般にモノ−又はジ置換されていてよい。

【００１２】有利なＲ１、Ｒ２及びＲ５の基は、例えば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イ
ソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、
ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、２−メチルペ
ンチル、ヘプチル、オクチル及び２−エチルヘキシルで
ある。

【００１３】Ｒ１及びＲ２はそれぞれ、例えば２−シア
ノエチル、２−又は３−シアノプロピル、２−アセチル
オキシエチル、２−又は３−アセチルオキシプロピル、
２−イソブチルオキシエチル、２−又は３−イソブチリ
ルオキシプロピル、２−メトキシカルボニルエチル、２
−又は３−メトキシカルボニルプロピル、２−エトキシ
カルボニルエチル、２−又は３−エトキシカルボニルプ
ロピル、２−メトキシカルボニルオキシエチル、２−又
は３−メトキシカルボニルオキシプロピル、２−エトキ
シカルボニルオキシエチル、２−又は３−エトキシカル
ボニルオキシプロピル、２−プロポキシカルボニルオキ
シエチル、２−又は３−プロポキシカルボニルオキシプ
ロピル、２−ブトキシカルボニルオキシエチル、２−又
は３−ブトキシカルボニルオキシプロピル、２−（２−
フェニルエトキシカルボニルオキシ）エチル、２−又は
３−（２−フェニルエトキシカルボニルオキシ）プロピ
ル、２−（２−エトキシエトキシカルボニルオキシ）エ
チル、２−又は３−（２−エトキシエトキシカルボニル
オキシ）プロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル又
はシクロヘプチルであってよい。

【００１４】Ｒ１及びＲ２は、それぞれ例えば２−メト
キシエチル、２−又は３−メトキシプロピル、２−エト
キシエチル、２−又は３−エトキシプロピル、２−プロ
ポキシエチル、２−又は３−プロポキシプロピル、２−
ブトキシエチル、２−又は３−ブトキシプロピル、３，
６−ジオキサヘプチル又は３，６−ジオキサオクチルで
あってよい。

【００１５】好適なＲ４は例えばメチルスルホニルアミ
ノ、エチルスルホニルアミノ、プロピルスルホニルアミ
ノ、ブチルスルホニルアミノ又はモノ−又はジ−メチル
アミノスルホニルアミノ、−エチル−アミノスルホニル
アミノ、−プロピルアミノスルホニルアミノ又は−ブチ
ルアミノスルホニルアミノである。

【００１６】Ｒ５は例えばフェニル、２−、３−又は４
−メチルフェニル、２−、３−又は４−エチルフェニル
、２−、３−又は４−プロピルフェニル、２−、３−又
は４−イソプロピルフェニル、２−、３−又は４−ブチ
ルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２−、３−又
は４−メトキシフェニル、２−、３−又は４−エトキシ
フェニル、２−、３−又は４−イソブトキシフェニル又
は２，４−ジメトキシフェニルであってもよい。

【００１７】基Ｑはベンゼン環縮合していてよく、かつ
窒素、酸素及び硫黄の群から選択されたヘテロ原子１〜
３を有する芳香族五員複素環基から誘導される。

【００１８】基Ｑが誘導される、置換基を有していてよ
い複素環構造の例は、ピラゾール、イミダゾール、オキ
サゾール、イソキサゾール、チアゾール、イソチアゾー
ル、１，２，４−トリアゾール、１，２，４−オキサジ
アゾール、１，３，４−オキサジアゾール、１，２，４
−チアジアゾール、１，３，４−チアジアゾール、イン
ダゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、
ベンズイソオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンズイ
ソチアゾール及び１，２，３−ベンズトリアゾールであ
る。

【００１９】特に重要であるのはイミダゾール、ピラゾ
ール、チアゾール、イソチアゾール、１，２，４−オキ
サジアゾール、１，３，４−オキサジアゾール、１，２
，４−チアジアゾール、１，３，４−チアジアゾール又
はベンズイミダゾール系列の複素環である。

【００２０】ここで特に重要なのはＱが式：

【００２１
】

【化５】

【００２２】［式中、Ｌ１は水素、Ｃ１〜Ｃ８−アルキ
ル、ベンジル、シクロヘキシル、フェニル又はトリルを
表わし、Ｌ２は水素、塩素、Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ
１〜Ｃ８−モノオキサアルキル、フェニル、Ｃ１〜Ｃ８
−アルコキシ、シアノ又はＣ１〜Ｃ８−アルコキシカル
ボニルを表わし、ここでアルキル基はエーテル官能基の
形で酸素原子１又は２個により中断されていてよく、Ｌ
３は水素、Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、フェニル、シアノ、
ニトロ又はＣ１〜Ｃ８−アルコキシカルボニルを表わし
、ここでアルキル基はエーテル官能基の形で酸素原子１
又は２個により中断されていてよく、又はＬ２及びＬ３
は一緒になって縮合ベンゼン環を形成し、Ｌ４は水素、
塩素、シアノ、ニトロ又はＣ１〜Ｃ８−アルコキシカル
ボニルを表わし、ここでアルキル基はエーテル官能基の
形で酸素原子１又は２個で中断されていてよく、Ｌ５は
塩素、Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ１〜Ｃ８−モノオキサ
アルキル、Ｃ１〜Ｃ８−アルコキシ又はＣ１〜Ｃ８−ア
ルキルチオを表わし、Ｌ６はＣ１〜Ｃ８−アルキルを表
わし、かつＬ７は水素、塩素、シアノ、チオシアナト、
Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ１〜Ｃ８−モノオキサアルキ
ル、Ｃ１〜Ｃ８−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ８−アルキルチ
オ、２−（Ｃ１〜Ｃ２−アルコキシカルボニル）エチル
チオ又はＣ１〜Ｃ８−アルコキシカルボニルを表わし、
ここでアルキル基はエーテル基の形で酸素原子１又は２
個により中断されていてよい］の基である一般式Ｉのイ
ンドフェノール染料である。

【００２３】Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ５、Ｌ６及びＬ７の
基はそれぞれ、例えばメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ペン
チル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ヘ
キシル、２−メチルペンチル、ヘプチル、オクチル又は
２−エチルヘキシル基である。

【００２４】Ｌ２、Ｌ５及びＬ７はそれぞれ例えば２−
メトキシエチル、２−又は３−メトキシプロピル、２−
エトキシエチル、２−又は３−エトキシプロピル、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ペンチルオキシ
、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシル
オキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ又は２−エチ
ルヘキシルオキシであってもよい。

【００２５】Ｌ５及びＬ７はそれぞれ例えばメチルチオ
、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチ
ルチオ、イソブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ
、ヘプチルチオ又はオクチルチオであってもよい。

【００２６】Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４及びＬ７はそれぞれ例え
ばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキ
シカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカ
ルボニル、２−メトキシエトキシカルボニル、２−エト
キシエトキシカルボニル、３，６−ジオキサヘプチルオ
キシカルボニル又は３，６−ジオキサオクチルオキシカ
ルボニルであってもよい。

【００２７】Ｒ７は例えば２−メトキシカルボニルエチ
ルチオ又は２−エトキシカルボニルエチルチオであって
もよい。

【００２８】Ｘが窒素である式Ｉのインドフェノール染
料は有利である。

【００２９】Ｘが窒素であり、Ｋが式ＩＩａ又はＩＩｃ
である式Ｉのインドナフトール染料は特に有利である。

【００３０】Ｘが窒素であり、Ｑが式ＩＩＩａ、ＩＩＩ
ｂ、ＩＩＩｃ又はＩＩＩｄである式Ｉのインドナフトー
ル染料は特に有利である。

【００３１】本発明の式Ｉのインドフェノール染料は従
来公知の方法により製造可能である。

【００３２】例えば、式ＩＶａのニトロソ化合物又は式
ＩＶｂのカルボニル化合物

【００３３】

【化６】

【００３４】［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はそれ
ぞれ前記のものを表わす］を式Ｖ：

【００３５】

【化７】

【００３６】［式中、Ｑ及び環Ａはそれぞれ前記のもの
を表わす］のフェノール化合物と縮合することができる
（例えば、ドイツ国特許公開第３７１６６５６号公報参
照）。

【００３７】式ＶＩ：

【００３８】

【化８】

【００３９】［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はそれ
ぞれ前記のものを表わす］のｐ−フェニレンジアミンを
式Ｖのフェノール化合物又はその４−クロル誘導体と酸
化的に結合させることも可能である（例えば、米国特許
第４６９５２８７号明細書）。

【００４０】更に、本発明の課題は新規染料の熱転写法
を提供することである。

【００４１】熱転写印刷法においては、基体上にバイン
ダー１種又は複数種中に熱的に転写可能な染料を含有す
る転写シートを、好適な助剤と共に又は助剤なしに、エ
ネルギー源、例えば熱プリントヘッド又はレーザーを用
いて、短かいパルスで（秒単位の期間で）うしろから加
熱し、染料を転写シートから移行させ、受容体の表面被
覆中に拡散させる。この方法の主要な利点は転写される
べき染料の量（及び従って色階調）がエネルギー源によ
って伝達されるエネルギーの調節により容易に制御可能
であるということである。

【００４２】一般にカラーレコーディングは三種の減色
プライマリー黄、マゼンタ及びシアン（ブラックと共に
又はなしに）を用いて実施する。

【００４３】最適なカラーレコーディングを確実にする
ために、染料は次の特性を有していなければならない：
−容易な熱転写性、 −受容体の表面被覆内での又は外への室温における低い
移行傾向、 −高い熱安定性及び光化学安定性及び湿気及び化学物質
への高い抵抗性、 −減色混合のための好適な色調、 −高いモル吸収率、 −転写シートを貯蔵する際に晶出する傾向なし、−容易
な工業上の適用性。

【００４４】これらの要求は同時に達成されることは非
常に困難である。

【００４５】このような理由から、現存する熱転写用染
料のほとんどが所望される特性の組合わせを有していな
い。

【００４６】染料の新規熱転写法という課題が、エネル
ギー源を用いて拡散又は昇華によって転写剤からプラス
チック被覆紙のシートにインドフェノール染料を転写さ
せるための方法によって達せられ、この方法は前記一般
式Ｉのインドフェノール染料１種以上を含有する転写剤
を使用することからなるということが見い出された。

【００４７】現存の方法で使用される染料と比較すると
、本発明の方法で転写されるべき染料は一般に室温での
受容体中への改良された移行、より容易な熱転写性、よ
り高い熱及び光化学安定性、より容易な産業上の適用性
、より良好な湿気及び化学物質に対する抵抗性、より高
い色強さ、より良好な溶解性又はより高い色調の純度を
有する。

【００４８】その高いモル吸光率及びその高い光沢によ
り、新規方法に適用される一般式Ｉの染料は減色混合に
必要とされる三原色系を製造するために特に好適である
。

【００４９】ヨーロッパ公開特許第４１６４３４号明細
書中にすでに記載されたトリアゾロピリジン染料とのブ
レンドは高い純度の色調を製造し、相応する三原色系に
おいて、改良された黒印刷を製造する。

【００５０】本発明方法のために必要な染料転写剤を製
造するためには、この染料を好適な有機溶剤中に、又は
溶剤混合物中に１種以上の結合剤及び、場合により染料
が有利に分子的に分散した、すなわち溶解した形で存在
する印刷インキを形成するための助剤と共に混合する。 印刷インキはナイフ塗布及び乾燥空気により不活性基体
上に適用されうる。

【００５１】染料Ｉのための好適な有機溶剤は例えば染
料Ｉの溶解性が２０℃で１重量％より大のもの、有利に
は５重量％より大のものである。

【００５２】挙げることのできる例はエタノール、プロ
パノール、イソブタノール、テトラハイドロフラン、塩
化メチレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、
シクロヘキサノン、トルエン、クロルベンゼン及びその
混合物である。

【００５３】好適な結合剤は有機溶剤中に溶け、かつ不
活性基体に摩擦落ちしない形で染料を結合させることの
できる、すべての樹脂又はポリマー材料である。印刷イ
ンキを空気乾燥した後も、染料の可視の結晶が生じずに
澄んで透明なフィルム中に染料を保持する結合剤が優れ
ている。

【００５４】そのような結合剤の例はセルロース誘導体
、例えばメチルセルロース、エチルセルロース、エチル
ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセル
ロース、セルロースアセテート又はセルロースアセトブ
チレート、デンプン、アルギネート、アルキド樹脂、ビ
ニル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテー
ト、ポリビニルブチレート及びポリビニルピロリドンで
ある。アクリレート又はその誘導体のポリマー又はコポ
リマー、例えばポリアクリル酸、ポリメチルメタクリレ
ート又はスチレンアクリレートコポリマー、ポリエステ
ル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂又は天然Ｃ
Ｈ樹脂、例えばアラビアゴムを使用することも可能であ
る。更に好適な結合剤は西独特許公開第３５２４５１９
号公報中の例に関して記載されている。

【００５５】有利な結合剤はエチルセルロース、エチル
ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルブチレート及
びポリビニルアセテートである。

【００５６】染料への結合剤の重量比は変化してよく、
有利には１：１〜１０：１である。

【００５７】可能な助剤はヨーロッパ公開特許第２２７
０９２号、同第１９２４３５号公報及びその中に引用さ
れた特許明細書中に挙げられた剥離剤であるが、特にイ
ンキリボンの加熱及び貯蔵により転写染料が析出するこ
とを防ぐ有機添化物、例えばコレステロール又はバニリ
ンである。

【００５８】不活性基体材料は例えば薄葉紙、吸取紙又
は硫酸紙及び良好な耐熱性を有するプラスチックフィル
ム、例えば蒸着又は非蒸着ポリエステル、ポリアミド又
はポリイミドである。エネルギー源、特にサーマルプリ
ンティングヘッドの基体材料への粘着を防ぐために、付
加的に不活性基体はサーマルプリンティングヘッドに向
く面上が滑剤又はスリップ層で被覆されていてよい。好
適な滑剤は例えばヨーロッパ公開特許第２１６４８３号
及び同第２２７０９５号公報中に例として記載されてい
る。基体の厚さは一般に３〜３０μｍ、有利に５〜１０
μｍである。

【００５９】染料受容層は基本的に転写されるべき染料
に親和性を有する任意の耐熱性プラスチック層、例えば
改変ポリカーボネート又はポリエステルであってよい。 受容層組成物に関する好適な処方はヨーロッパ公開特許
第２２７０９４号、同第１３３０１２号、同第１３３０
１１号、同第１１１００４号明細書、特開昭６１−１９
９９９７号、同第６１−２８３５９５号、同第６１−２
３７６９４号及び同第６１−１２７３９２号公報中の例
において詳しく記載されている。

【００６０】転写法はエネルギー源を用いて行なわれる
が、このエネルギー源は例えばレーザー又は有利にサー
マルプリンティングヘッドであり、これは時間範囲ｔ：
０＜ｔ＜１５ｍｓｅｃ内に染料の転写が生じるように３
００℃以上に加熱可能でなくてはならない。転写の間に
、染料は転写シートから外へ移行し、受容体の表面被覆
中に拡散する。

【００６１】本発明の染料は合成材料、例えばポリエス
テル、ポリアミド又はポリカーボネート、及び特に繊維
材料であるポリエステル、ポリアミド又はポリエステル
コットンブレンド布を染色するためにも優れて好適であ
る。

【００６２】新規染料はヨーロッパ公開特許第３９９４
７３号明細書の例に記載されているカラーフィルターを
製造するためにも優れて好適である。

【００６３】この染料は電子写真において使用するため
のトナーを製造するためにも有利に使用することができ
る。

【００６４】

【実施例】次に、実施例につき本発明を詳細に説明する
が、他に記載のないかぎり％は重量％を表わす。

【００６５】染料の製造 例　　１ ａ）

【００６６】

【化９】

【００６７】１−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン
酸３７．６ｇ及び２−アミノジフェニルアミン３６．８
ｇをジオキサン２５０ｍｌ中に溶かし、かつ５０℃に加
熱する。ジオキサン１５０ｍｌ中のジシクロヘキシルカ
ルボジイミド４９．６ｇの溶液を変換が完了するまで（
ＴＬＣ）、強力な撹拌下に滴加した。室温に冷却した後
、沈殿したウレアを吸引濾別し、濾液を氷水４ｌ中に撹
拌し、生じた沈殿を吸引で濾別し、乾燥させ、かつｎ−
プロパノールから再結晶させる［融点：１２８〜１２９
℃；Ｒｆ−値（ＳｉＯ２、３：２ｖ／ｖトルエン／酢酸
エチル）：０．８７］。

【００６８】ｂ）

【００６９】

【化１０】

【００７０】１ａで得られた化合物２７ｇを変換が完了
するまで（ＴＬＣ）酢酸２７０ｍｌ中で沸騰下に加熱し
た。引き続き、これを氷水２．７ｌ中で撹拌し、酢酸エ
チルで抽出し、減圧下に溶剤を除去した。収量：２２．
５ｇ［融点：１６８〜１６９℃、Ｒｆ値（ＳｉＯ２、５
：１ｖ／ｖトルエン／酢酸エチル：０．９２］。

【００７１】ｃ）

【００７２】

【化１１】

【００７３】Ｎ−（２−シアノエチル）−Ｎ−エチル−
ｍ−トルイジン３．８ｇを従来の方法で塩酸で酸性にし
た溶液中で亜硝酸ナトリウムを用いてニトロソ化した。 生じたニトロソ化合物を塩化メチレン中に取り込み、塩
化メチレン５０ｍｌ及び酢酸無水物５０ｍｌ中のナフト
ール（１ｂ）６．８ｇの溶液に加え、かつ変換が完了す
るまで（ＴＬＣ）室温で撹拌する。次いで水１００ｍｌ
を加え、該混合物を１時間４０℃に加熱し、次いで塩化
メチレンほぼすべてを留去した。室温に冷却した後、染
料ペーストを分離し、水で洗浄し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド中に溶かし、水で析出させ、吸引濾過し、減
圧下に５０℃で乾燥させ、かつシリカゲル上トルエン／
酢酸エチル３：２ｖ／ｖでクロマトグラフィーを行なっ
た（Ｒｆ値（トルエン／酢酸エチル３：２ｖ／ｖ）：０
．５４）。λｍａｘ（塩化メチレン中で測定した）：６
２０ｎｍ。収量：５．５ｇ同様な方法で第１表中に挙げ
た式：

【００７４】

【化１２】

【００７５】の染料が得られた。

【００７６】

【表１】

【００７７】

【表２】

【００７８】脚注 ａ）溶離剤：トルエン／酢酸エチル５：１ｖ／ｖｂ）溶
離剤：トルエン／酢酸エチル３：２ｖ／ｖｃ）塩化メチ
レン中で測定 ｄ）アセトン中で測定 例１５ ａ）

【００７９】

【化１３】

【００８０】２−ヒドロキシチオベンズアミド３．６ｇ
とエチル−２−クロルアセトアセテート３．３ｇをイソ
プロパノール８０ｍｌ中で変換が完了するまで（ＴＬＣ
）還流下に撹拌した。室温に冷却した後、沈殿を吸引下
に濾別し、イソプロパノールで洗浄し、かつ乾燥した（
融点：８８〜９０℃） ｂ）

【００８１】

【化１４】

【００８２】Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン２．１ｇを塩酸
で酸性にした溶液中で亜硝酸ナトリウムを用いて従来法
でニトロソ化した。生じたニトロソ化合物を塩化メチレ
ン中に取り込み、塩化メチレン３５ｍｌ及び無水酢酸３
７ｍｌ中のフェノール（ａ）３．７ｇの溶液に加え、室
温で変換が完了するまで（ＴＬＣ）撹拌した。次いで、
水１００ｍｌを加え、該混合物を１時間４０℃に加熱し
、次いで塩化メチレンほぼすべてを留去した。室温に冷
却後、染料ペーストを分離し、水で洗浄し、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド中に溶解し、水で沈殿させ、吸引で
濾別し、減圧下に乾燥し、シリカゲル上でトルエン／酢
酸エチル５：１ｖ／ｖでクロマトグラフィーを行なった
（Ｒｆ−値（トルエン／酢酸エチル５：１ｖ／ｖ）：０
．５２、λｍａｘ（アセトン中で測定）：６６９ｎｍ。

【００８３】染料の転写 染料の転写特性の簡単な定量試験のためには、熱転写は
サーマルプリンティングヘッドのかわりに大きなホット
プレートで達成され、転写温度は７０℃＜Ｔ＜１２０℃
の範囲で変化させ、一方転写時間を２分間に固定した。

【００８４】α）染料で基体を被覆するための一般的な
方法： 結合剤１ｇをトルエン／エタノール８：２ｖ／ｖ８ｍｌ
中に４０〜５０℃で溶かした。テトラハイドロフラン１
５ｍｌ中の染料０．２５ｇの溶液を撹拌と共に加え、必
要であれば、不溶性残分を濾別した。このようにして得
られたプリントペーストをポリエステルシート（厚さ：
６〜１０μｍ）にドクターブレード８０μｍで適用し、
かつヘアードライヤーで乾燥した。

【００８５】β）熱転写性のテスト 使用した染料を次のようにテストした：テストすべき染
料を被覆前面に含有するポリエステルシートドナーを市
販の紙レセプター（詳細な説明は下記）のシートに前面
を向けて置いて加圧した。次いで、ドナー／レセプター
をアルミニウムシート中に包み、かつ種々の温度Ｔ（温
度範囲７０℃＜Ｔ＜１２０℃）で２つのホットプレート
の間で加熱した。レセプターの輝やくプラスチック層中
への染料の拡散の量は光学密度に比例する（＝吸収度Ａ
）。光学密度は測光法により決定された。温度８０〜１
１０℃の範囲で測定した染色レセプター紙の吸光度Ａの
対数を相応する絶対温度の逆数にプロットすると、直線
を示し、この傾斜から転写実験のための活性化エネルギ
ーΔＥＴを計算することが可能である：ΔＥＴ＝２．３
・Ｒ・ΔｌｏｇＡ／Δ１／Ｔ完全な特徴付けのためには
、このプロットから更に着色したレセプター紙の吸光度
Ａが値１に達する温度Ｔ＊［℃］が得られる。

【００８６】第２表中に挙げた染料をα）により加工し
、かつ得られた染料で被覆された転写剤をβ）によりそ
の転写挙動に関してテストした。表中にはそれぞれ熱転
写パラメーターＴ＊及びΔＥＴ並びに重量比（染料：結
合剤）を記載した。

【００８７】その際、次の略語を使用した：Ｄ＝染料 ＶＹ−ＳＸ＝日立ＶＹ−ＳＸ紙（レセプター）ＶＹ−Ｃ
＝日立ＶＹ−Ｃ紙（レセプター）ＶＹ−Ｔ＝日立ＶＹ−
Ｔ紙（レセプター）ＨＣＶＰＰ＝日立カラービデオプリ
ント紙（レセプター） Ｂ＝結合剤 （ＥＨＥＣ＝エチルヒドロキシエチルセルロース、Ｖ＝
Ｖｙｌｏｎ２９０（東洋紡の商標）ＰＶＢ＝ポリビニル
ブチレート ＥＣ＝エチルセルロース）

【００８８】

【表３】

【００８９】

【表４】

【００９０】良好な結果は次式の染料でも得られる：例
Ｎｏ．

【００９１】

【化１５】

【００９２】

【化１６】

【００９３】

【化１７】

【００９４】Ｒｆ値（酢酸エチル）：０．４６λｍａｘ
（テトラハイドロフラン）：６８３ｎｍ

【００９５】

【化１８】

【００９６】Ｒｆ値（トルエン／酢酸エチル３：２ｖ／
ｖ）：０．４８

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　一般式Ｉ： 【化１】 ［式中、Ｘは窒素又はＣＨ基を表わし、Ｑはベンゼン環
   と縮合していてもよいし、かつ窒素、酸素及び硫黄の群
   から選択されたヘテロ原子１〜３個を有していてよい芳
   香族五員複素環基を表わし、かつＫが一般式：【化２】 の基を表わし、ここでＲ１及びＲ２は同一又は異なって
   おり、かつそれぞれが他方とは独立して水素、置換され
   ていてもよく、かつエーテル基の形の酸素原子１又は２
   個によって中断されていてよいＣ１〜Ｃ８−アルキル基
   又はＣ５〜Ｃ７−シクロアルキル基を表わし、Ｒ３は水
   素、メチル、エチル、メトキシ又はエトキシを表わし、
   Ｒ４は水素、メチル、メトキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル
   スルホニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４−モノ−又は−ジアルキ
   ルアミノスルホニルアミノ又は−ＮＨＣＯＲ８又は−Ｎ
   ＨＣＯ２Ｒ８基を表わし、ここでＲ８はいずれの場合に
   もフェニル、ベンジル、トリル又はエーテル基の形の酸
   素原子１又は２個によって中断されていてよいＣ１〜Ｃ
   ８−アルキル基を表わし、Ｒ５は水素、ハロゲン、Ｃ１
   〜Ｃ８−アルキル、非置換又はＣ１〜Ｃ４−アルキル−
   又はＣ１〜Ｃ４−アルコキシ−置換フェニル、非置換又
   はＣ１〜Ｃ４−アルキル−又はＣ１〜Ｃ４−アルコキシ
   置換ベンジル、シクロヘキシル、チエニル、ヒドロキシ
   ル又はＣ１〜Ｃ８−モノアルキルアミノ基を表わし、Ｒ
   ６は水素又はメチルを表わし、かつＲ７は水素、メチル
   、メトキシ又はアセチルアミノ基を表わし、かつ環Ａは
   置換又は非置換ベンゼン環に縮合していてよい］のイン
   ドフェノール染料。