JPH04227004A - スチーム装置を処理する組成物及び方法 - Google Patents

スチーム装置を処理する組成物及び方法

Info

Publication number
JPH04227004A
JPH04227004A JP3101502A JP10150291A JPH04227004A JP H04227004 A JPH04227004 A JP H04227004A JP 3101502 A JP3101502 A JP 3101502A JP 10150291 A JP10150291 A JP 10150291A JP H04227004 A JPH04227004 A JP H04227004A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
water
dihydroxyacetone
hydroquinone
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3101502A
Other languages
English (en)
Inventor
Cynthia A Soderquist
シンシア エイ. ソダーキスト
Mei-Jan L Lin
メイ−ヤン エル.リン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ChampionX LLC
Original Assignee
Nalco Chemical Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nalco Chemical Co filed Critical Nalco Chemical Co
Publication of JPH04227004A publication Critical patent/JPH04227004A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/20Treatment of water, waste water, or sewage by degassing, i.e. liberation of dissolved gases
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F11/00Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
    • C23F11/02Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in air or gases by adding vapour phase inhibitors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F11/00Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
    • C23F11/08Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
    • C23F11/10Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F11/00Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
    • C23F11/08Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
    • C23F11/10Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
    • C23F11/14Nitrogen-containing compounds
    • C23F11/141Amines; Quaternary ammonium compounds
    • C23F11/142Hydroxy amines

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】ボイラースチーム装置で使用され
た水を、その水の中に溶解または分散した酸素をそこか
ら除去するために処理することが、長年行われてきた。 ボイラー水から酸素ガスを除去することは、スチームを
発生させるボイラーの運転条件下で、ボイラーに含まれ
る酸素が原因で起こる腐食を防止する。この処理は、し
ばしば、ボイラーへ供給されつつある水を含む、ボイラ
ー水に先立って行われるが、運転中のボイラー内部の沸
騰水にも行われたり、また、スチームが使用されそして
凝縮した後に発生してくる復水及び帰り水の処理にも必
要でありうる。ボイラーへ供給されるために戻りうる、
これら全てのボイラー水源は、酸素を除去するために処
理されることができる。 【0002】さらに、例えば、ボイラー中のアルカリ物
質の分解、ボイラー水の処理に使われた有機化合物の分
解、またはボイラー水に接触する空気からの溶存二酸化
炭素を通して二酸化炭素が蓄積すると、この酸性の源は
運転中のボイラー装置に障害及び腐食を引き起こす可能
性もある。一般に、酸素の処理及び二酸化炭素の処理は
別々に行われてきた。それゆえ、ボイラー水中の溶存二
酸化炭素の中和と同時にボイラー水中の溶存酸素の除去
の両方を一度に処理することは、当該分野における進歩
であろう。 【0003】 【従来の技術】ボイラー水処理には、従来より、酸素を
除去するためにヒドラジン及び/または亜硫酸塩が使用
され、長年にわたり、これらの化合物の延長線上でボイ
ラー水処理は進歩してきた。そして、最も最近の進歩は
、以下の特許により適切に説明されることができる。 【0004】Cuisiaらの米国特許第 40676
90号は、溶存酸素から生じる腐食を効果的に減ずるた
めに、ヒドロキシルアミン及びその誘導体のあるものを
ボイラー水に添加することによる、ボイラー水の処理方
法を開示する。 この好ましい脱酸素剤はN, N−ジエチルヒドロキシ
ルアミンである。 【0005】Kerst の米国特許第 427863
5号は、唯一の脱酸素剤としてヒドロキノン及びその関
連化合物のあるものを使用することにより、溶存酸素が
原因で起こる腐食を防止する、ボイラー水の処理方法を
教示する。 【0006】Muccitelliの米国特許第 42
79767号は、ヒドラジンを含まないヒドロキノン溶
液とミューアミンとから成る改良型の脱酸素剤を教示す
る。ミューアミンは、規定の条件下で水溶液中にヒドロ
キノンと混合したとき、不溶性の残留物または沈澱物を
生じない中和性アミンとして基本的に定義される。 【0007】Ciuba の米国特許第 428211
1号は、ヒドラジンを含まないヒドロキノン水溶液を用
いる、水中の酸素含量を低減する方法を開示する。ヒド
ロキノンは、ボイラー凝縮スチーム装置において唯一の
脱酸素剤として用いられる。処理される水はアルカリ性
pHを有し、NaOHを含むことができる。 【0008】Muccitelliの米国特許第 42
89645号は、ヒドラジンを含まないヒドロキノン溶
液と及びミューアミンとから成る、水性媒体用の改良型
脱酸素剤を教示し、そしてヒドロキノンの脱酸素効率を
向上させるように混合した、ヒドロキノン及びミューア
ミンの混合物を請求する。ミューアミンは、上述の米国
特許第 4279767号で定義されたものと類似のも
のである。 【0009】Cuisiaらの米国特許第 43506
06号は、スチーム凝縮ライン中でヒドロキシルアミン
化合物と及び中和性アミンとの混合を維持することによ
り、スチーム凝縮ライン中の腐食を制御することを教示
する。 【0010】Slovinsky の米国特許第 43
63734号は、ジヒドロキシアセトンと、ヒドロキノ
ン及びマンガン化合物から選択される触媒を、ジヒドロ
キシアセトンの重量を基準にして少なくとも1パーセン
トとを用いることから成る、アルカリ性水から溶存酸素
を掃去する改良された方法を教示する。 【0011】Fuchs らの米国特許第 45404
94号は、無機リガンドを用いると形成するコバルトの
錯体を同時に用いる、ヒドラジンを含まない有機活性剤
に基づく、水に溶け込んだ酸素を除去する方法を教示す
る。 【0012】Muccitelliの米国特許第 45
41932号は、水性媒体、特にボイラー水装置内の水
性媒体から化学的に酸素を掃去するための、ヒドロキノ
ンにより触媒されるフルフラールの使用を教示する。フ
ルフラール及びヒドロキノンは、中和性アミンと混合さ
れることもできる。 【0013】Muccitelliの米国特許第 45
49968号は、ヒドロキノン、ミューアミン、エリソ
ルビン及びアスコルビン酸を混合したものから成る、安
定な脱酸素剤組成物を教示する。 【0014】Muccitelliの米国特許第 45
69783号は、中和性アミンの存在下でも、ヒドロキ
ノンにより触媒されるサリチルアルデヒドを用いて、水
性触媒から酸素を掃去する組成物及び方法を教示する。 ヒドロキノンは、中和性アミンの存在下でのサリチルア
ルデヒドの脱酸素能力を触媒するために、触媒量で存在
する。 【0015】さらに、いくつかの外国特許出願があり、
知られているものは通常上述の出願の少なくとも一つに
対応する。これらの出願の代表例を以下に示すが、これ
で出願リストを完備するものでは決してない。 【0016】Ciuba の欧州特許出願第 0 03
9 130号は、ヒドラジンを含まないジオキソ芳香族
化合物またはその有機置換誘導体を用いることにより、
水中の酸素含量を低減することを教示する。上述の全て
の特許は、参照としてここで取り入れられる。 【0017】上述の特許には、ジヒドロキシアセトンと
触媒量のヒドロキノンとを混合し、その混合物が、これ
をさらに中和性及び揮発性アミンと混合して使用したと
きに、水中、特にボイラー水中の酸素を掃去しそして炭
酸ガスを中和することにおいて、非常に改良される方法
を教示するものはない。 【0018】 【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような3
成分系の混合物を作製するものである。ジヒドロキシア
セトンと、触媒量のヒドロキノンと、及び中和性及び揮
発性アミンとを混合することにより、水中、特にボイラ
ー水中に溶存する二酸化炭素を中和することと共に溶存
する酸素を処理することができ、2つの問題を同時に解
決することができる。解決される問題は、ボイラー装置
内部のみならず、オーバーヘッドスチーム装置、復水帰
りラインなどの中の、酸素及び二酸化炭素により引き起
こされる腐食である。 【0019】 【課題を解決するための手段】本発明は、ジヒドロキシ
アセトン、ヒドロキノン、及び揮発性アミンの混合物か
ら成る組成物を含む。好ましくは、本組成物は、ジヒド
ロキシアセトン、ヒドロキノン、及び揮発性アミンを、
約1.0:0.01:0.1から約1.0:1.0:1
00 の範囲の重量比で含む。本組成物は、ジヒドロキ
シアセトンと揮発性アミンを1:0.5から1:50の
範囲の重量比で含みながら、ジヒドロキシアセトンとヒ
ドロキノンを1:0.05から約1:1の範囲の重量比
で含むこともでき、そしてヒドロキノンと揮発性アミン
を1:1から約1:100 の範囲の重量比で含むこと
もまたできる。 【0020】本組成物は、好ましくは水をもまた含む配
合物の中に含まれる組成物である。この配合物は、さら
にオクタデシルアミン、エトデュオミーン(ethod
uomeen) 、またはその混合物のような皮膜性ア
ミンを含むことができる。また、本配合物は必要に応じ
て、これらの配合物中に含まれる全ての材料の溶液中で
の安定性を助けるために、カップリング剤、界面活性剤
、分散剤、または他の溶剤を含むことができる。 【0021】水中の溶存酸素を除去するために用いられ
る好ましい組成物は、 (a)ジヒドロキシアセトン  0.1〜10.0重量
%(b)ヒドロキノン          0.005
 〜10.0重量%(c)揮発性アミン       
   0.01〜50.0重量%(d)残りは水 の混合物で、(a):(b)の重量比が1:1を超えな
いようなものから成る。 【0022】これらの好ましい組成物は、0.01〜約
25重量パーセントの皮膜性アミンをさらに含むことが
できる。これらの皮膜性アミンは、好ましくはオクタデ
シルアミン、エトデュオミーン(ethoduomee
n) 、及びその混合物から成る群より選択される。ま
た、これらの揮発性アミンのあるものは、ヒドロキノン
と反応して純水に不溶性である沈澱物またはガムを生成
する。この不溶物の生成は、必ずしも上述の組成物の効
果を無効にするものではない。しかしながら、この状況
が進展すると、カップリング剤、界面活性剤、分散剤、
及び/または補助溶剤を用いて、これらの組成物を任意
の用途のために配合することができる。また、これらの
材料を含む水配合物のpHは、約7.0〜約11.5ま
たはそれ以上の範囲に調整されることができる。pHは
しばしば、配合物に加えられる揮発性アミンの量により
調整されるが、 H2SO4、HNO3、NaOHのよ
うな他のpH調整剤もまた使用することができる。 【0023】ジヒドロキシアセトンジヒドロキシアセト
ン(本文中ときどきDHAとして表す)は、以下の化学
式1にある化学式を有する。この物質は、化学式2の構
造をしばしば与えられる、ジヒドロキシアセトン、環状
二量体とラベルされた二量体として購入されることもで
きる。 【0024】 【化1】 【0025】 【化2】 【0026】水中の、特にpH8.0以上の水中のジヒ
ドロキシアセトンは、二量体及び/または三量体である
可能性を、及びさらに大きなオリゴマーである可能性を
示す、複雑な核磁気共鳴スペクトルを有する。このスペ
クトルはまた、前記二量体及び三量体が、化学式2に示
したような環状のものだけではなく、線状の二量体、三
量体、及びより大きなオリゴマーまたはその混合物であ
ることもできる可能性も示す。我々がジヒドロキシアセ
トンと名付けて使用するときは、化学式1に示されるよ
うな及び/または化学式2に示されるようなジヒドロキ
シアセトン、または全ての他の二量体/三量体、または
水性媒体中に形成される上述のオリゴマー化合物の存在
を示す。 【0027】ヒドロキノン ヒドロキノンは、当業者には容易に知られる、1, 4
−ジヒドロキシベンゼン化合物であり、例えば、先に引
用したヒドロキノンを含む特許を参照できる。本組成物
中でのヒドロキノンは、ジヒドロキシアセトン、その二
量体、三量体、オリゴマーなどの脱酸素能力を触媒する
目的で、本質的に触媒量で使用される。ヒドロキノンは
本発明の配合物中に、ジヒドロキシアセトンとヒドロキ
ノンが約1.0:0.01〜約1.0:1.0の範囲の
重量比で存在する。好ましくは、これらの重量比は約1
:0.05〜約1:0.50の範囲であり、最も好まし
くは、これらの重量比は約1:0.1〜約1:0.25
の範囲である。 【0028】揮発性アミン 揮発性アミンは、少なくとも100 ℃の内部温度を有
する運転中のボイラー装置へ加えられたときに、このよ
うな装置のスチームへ加えられたアミンの少なくとも0
.1重量%が蒸発し、つづいてスチーム凝縮装置内で部
分的にまたは完全に凝縮して集められ、従ってそこから
由来する復水中に検出されるようなアミンである。これ
らの揮発性アミンはまた、中和性アミンでもあるべきで
あり、モルフォリン(MORPH) 、シクロヘキシル
アミン(CHA) 、ジエチルアミノエタノール(DE
AE)、メトキシプロピルアミン(MOPA)、モノエ
タノールアミン(MEA) 、ジメチルアミノイソプロ
パノール(DMAIP) 、イソプロピルアミン(IP
A) 、及び全ての R1N(R2)OH(式中、R1
 及びR2 は、1〜4個の炭素原子を有する線状また
は枝分かれのアルキル基、好ましくはジエチルヒドロキ
シルアミン(DEHA)、から成る群より各々個別に選
択される) を含む揮発性アミンから成る群の少なくと
も一つより選択されることができる。 【0029】本発明の揮発性アミンは、中和に用いうる
アミンであり、そして、少なくとも100℃の温度で運
転中のボイラーへ加えられたときに生成するスチーム中
に少なくとも約1重量パーセントが蒸発し、スチームか
ら凝縮しボイラー凝縮装置中に集められた水が少なくと
もいくらかの量のこれらの揮発性アミンを含むのに十分
な揮発性を有することが好ましい。これらの揮発性アミ
ンは、好ましくは中和性アミンであり、そして好ましく
は、モルフォリン、シクロヘキシルアミン、ジエチルア
ミノエタノール、メトキシプロピルアミン、モノエタノ
ールアミン、ジメチルアミノイソプロパノール、イソプ
ロピルアミン、及び先に示した構造を有する全てのジア
ルキルヒドロキシルアミンから成る群より選択される。 好ましくは、このジアルキルヒドロキシルアミンはジエ
チルヒドロキシルアミンである。このアミンは、本発明
の範囲内で用いられる場合には、単独でも、またはその
どんな組合せまたは混合物でも使用されることができる
。 【0030】皮膜性アミン 皮膜性アミンをこの組成物に加えることもできる。通常
皮膜性アミンは、少なくとも一つの疎水性炭化水素基を
有するアミンであり、このアミンは、これらの皮膜性ア
ミンを含む水性溶液または分散液を金属表面と接触させ
ると、金属表面上にコーティングまたはフィルムを形成
する傾向がある。これらの皮膜性アミンの例は、オクタ
デシルアミン、エトデュオミーン(ethoduome
en) 、またはその混合物から成る群より選択される
アミンである。 しかしながら、通常これらの皮膜性アミンは、窒素基に
結合するすべて合わせて少なくとも16個の炭素原子を
、好ましくは線状または枝分かれのアルキル置換基で、
有するアミン化合物であればなんでもよい。これらの皮
膜性アミンは、このアミンが分散または溶解される水を
金属表面と接触させると、このアミンが金属表面上にフ
ィルムを形成する傾向を有する限り、2個以上の窒素基
を含むポリアミンであることができる。このアミンは、
遊離アミンまたは通常のその酸塩のすべてのもの、例え
ばオクタデシルアミンの硫酸塩、として本配合物に加え
られることができる。一般に、「皮膜性アミン」という
場合には、アミノ基窒素に結合する置換基内に少なくと
も約16個の炭素原子を含む、アルキル基またはジアル
キル基で置換されたアミンまたはポリアミンを、または
その水溶性または分散性の酸塩を意味する。 【0031】これらの皮膜性アミンは、約0.01〜約
25重量パーセント、好ましくは約0.1〜約20重量
パーセント、及び最も好ましくは約0.1〜約10重量
パーセントの範囲内で、本発明の好ましい組成物に含ま
れることができる。最も好ましい皮膜性アミンはオクタ
デシルアミンである。 【0032】本発明はまた、ボイラー水を、ジヒドロキ
シアセトン、ヒドロキノン、及び揮発性アミンから成る
酸素除去に有効な量の組成物製品で処理することから成
る、ボイラー水中から溶存酸素を除去する及びボイラー
水中の溶存二酸化炭素を中和する方法をも含む。この組
成物製品は、さらに皮膜性アミンを含むことができる。 【0033】(a)ジヒドロキシアセトン、(b)ヒド
ロキノン、及び(c)揮発性アミンを含む組成物製品は
、(a):(b):(c)の重量比が約1:0.01:
0.10から約1:1:100 の範囲になるように、
水溶液または分散液中に通常は配合される。溶存酸素を
除去する及び溶存二酸化炭素を中和する方法は、通常、
混合物中に含まれるジヒドロキシアセトンとボイラー水
中の溶存酸素とのモル比が、約0.5:1〜約10.0
:1.0の範囲になるように、溶存酸素及び溶存二酸化
炭素が存在するボイラー水を上述の組成物製品で処理す
ることから成る。 「ボイラー水」という語句は、ボイラー給水、内部沸騰
水、復水などを意味する。 【0034】好ましくは、ボイラー水中の溶存酸素を除
去する及び溶存二酸化炭素を中和する方法は、組成物製
品中に含まれるジヒドロキシアセトンとボイラー水中の
溶存酸素とのモル比が、少なくとも1:1から約8:1
までであるように、ボイラー水を上述の組成物製品で処
理することから成る。 【0035】好ましい処理方法では、ジヒドロキシアセ
トン、ヒドロキノン、及び揮発性アミンの比は、約1.
0:0.1:1.0〜約1.0:0.75:50の範囲
であり、そして0.5〜約50.0重量パーセント、ま
たはそれ以上の溶解性蒸発残留物を含むことができる水
配合物中の本組成物製品は、DHA:酸素のモル比が約
1:1〜約8:1の範囲、最も好ましくは約2:1〜約
4:1の間になるように、ボイラー水を処理するのに用
いられる。前と同じように、これらのボイラー水を処理
する方法は、少なくとも約1.0重量パーセントの皮膜
性アミンをさらに含む上述の組成物製品を加えることを
含むことができる。 【0036】ボイラー水を、以下の成分:(a)ジヒド
ロキシアセトン  0.1〜10.0重量%(b)ヒド
ロキノン          0.005 〜10.0
重量%(c)モルフォリン、シクロヘキシルアミン、ジ
エチルアミノエタノール、メトキシプロピルアミン、モ
ノエタノールアミン、ジメチルアミノイソプロパノール
、イソプロピルアミン、及び R1N(R2)OH (
式中、R1 及びR2 は、1〜4個の炭素原子を有す
る線状または枝分かれのアルキル基より個別に及び独立
に選択される)の構造を有するジアルキルヒドロキシル
アミンの群から選択される少なくとも一つのアミンから
成る揮発性アミン  0.01〜50.0重量% (d)残りは水 を、(a):(b)の重量比が1:1を、好ましくは1
:0.5を、最も好ましくは1:0.25を超えないよ
うに含む、酸素除去に有効な量の組成物製品で処理する
ことから成る好ましい方法において、溶存酸素及び溶存
二酸化炭素の両方がボイラー水から除去されまたは中和
される。 【0037】最も好ましくは、ジヒドロキシアセトンと
共に用いられるヒドロキノンの触媒量が、約1:0.0
1〜約1:1の範囲の、好ましくは約1:0.05〜約
1:0.5の間の、及び最も好ましくは約1:0.1〜
約1:0.25の間の比であることである。 【0038】ヒドロキノンは、ジヒドロキシアセトン及
びその二量体/三量体/オリゴマーなどが酸素と反応す
る能力を高めるための、触媒として主に用いられる。ヒ
ドロキノンは、組成物製品中において、もしこれが単独
で存在するならば、いくつかが上述のMuccitel
liにより定義されたミューアミンである中和性アミン
の存在下でさえ、処理される水中に存在する酸素のすべ
てを除去するためには十分ではないような濃度で用いら
れる。 【0039】 【実施例】上述の組成物、及びこれらの組成物を作製す
ることにより得られた驚くべき結果をよりよく例示する
ために、以下の実験結果を提示する。 【0040】図1は、ベンチテスト用脱酸素剤実験装置
の線図を示す。この装置は、酸素を処理するための本発
明の材料による組成物の効果を測定するために用いられ
る。本テストに用いられる標準条件は、補給水の酸素を
基準にして、酸素1モル当り2モルの脱酸素剤の投与を
含む。温度は 185°F(85℃)に維持される。酸
素源は、〜8.5ppm の酸素を含む、空気飽和の脱
イオン水である。水のpHはNaOHで9.3〜9.5
に調節される。さらに、 300°F(149℃) で
運転する野外温度シミュレーター(FTS) もまた、
本発明の組成物を試験するために用いられた。このより
高い温度の装置は、各温度における酸素及び二酸化炭素
の反応を、及び運転中のボイラーで見られるものと類似
の酸素濃度を定量するために設計される。揮発度は、本
配合物の成分が揮発する、及びそれゆえ凝縮装置及び復
水中の酸素の除去及び二酸化炭素の中和を共にする能力
の少なくとも部分的な測定値である。 揮発度は後に述べる。このFTSシミュレーターは、2
本のインラインステンレススチール段階加熱器を含み、
両方とも 300°F(149℃)で稼働し、その中を
 100〜120ppbで供給される酸素と共に脱気さ
れた水が、およそ60ml/min で流れる。この試
験水は加熱器から次にテストラインを通って、最後にお
よそ 200psigに調節された背圧バルブを通って
流れる。酸素含量は連続的にオンラインで測定され、脱
酸素処理は、これらの脱酸素効率をテストするために、
間欠的にまたは連続的に加えられる。 結果は、図1のテスト装置での 185°F (85℃
) における試験の結果と本質的に同じである。 【0041】脱酸素能を測定するために用いられる上述
のテストに加えて、用いられた配合物の揮発度、腐食、
及び不動態化能力を測定するために、他のテストが行わ
れた。 【0042】酵素テストまたは蛍光テストに基づく分析
手順が、ジヒドロキシアセトンを測定するために開発さ
れた。また、液体クロマトグラフィー法が、低濃度のジ
ヒドロキシアセトンを測定するために開発された。 【0043】揮発度は、スチームまたはスチーム凝縮水
中に見いだされる本配合物のある成分濃度対ボイラーブ
ローダウン水または液相中に見いだされるその成分濃度
、として定義され、表2に示される。オーバーヘッド凝
縮装置中に、二酸化炭素中和能及び脱酸素能を付与する
ためには、開発されるプログラムのプロトコールは、上
述の配合物で処理されたボイラー水中に発生する蒸気の
凝縮水中に、この配合物の各成分が少なくとも0.1及
び少なくとも1.0パーセントまでで存在する、蒸気−
液体分配比または上述の揮発度を付与する必要がある。 これらの測定は、上述の技術、または核磁気共鳴スペク
トル(NMR) 、フーリエ変換赤外スペクトル(FT
IR)、熱重量分析(TGA) 、示差走査熱量計(D
SC) 、及び TGA/FTIRのような他の標準分
析手順のどちらによっても行われた。 液体クロマトグラフィー法は、2,4−ジニトロフェニ
ルヒドラジン(DNPH)を利用し、DNPHとジヒド
ロキシアセトン(DHA) との反応生成物を液体クロ
マトグラフィーで分析することにより、DHAを測定す
るために用いられた。揮発度は、スケールボイラーテス
トを用い、標準実験室スケールのボイラーを2日間、各
50、600 、及び1000psigで、10サイク
ルの濃度で、 110000Btu/sq.ft./h
rの熱フラックスで、28ppm のNaClを含みp
H10である水を供給して運転し、測定された。揮発度
測定の試験をした配合物は、主要脱酸素剤(DHA) 
が、10ppb の酸素濃度を示す給水に基づいて50
倍の化学量論量を投与されるように、存在した。全ての
酸素は除去された。上述の試験の結果を、表1〜表6に
示す。 【0044】 【表1】 【0045】 【表2】 【0046】 【表3】 【0047】 【表4】 【0048】 【表5】 注釈:FW  =給水中の脱酸素剤濃度(ppm)BD
  =ブローダウン中の脱酸素剤濃度(ppm) a:
=10回のボイラーサイクル;10回値:特に、ブロー
ダウン中の不揮発性の及び低い分解を示す。 >>10:水よりも高い沸点で、水と共沸混合物を形成
しない、または供給水中でかなり分解することを示す。 <1:ブローダウン中の分解による低減能力の欠失、ま
たは非常に高い揮発性を示す。 b:= 100×(50 psigの BD −600
psigの BD /50psigの BD  【0049】 【表6】 投与=表記の各材料の重量パーセントが、概算値8.5
ppm の酸素含量を有する水に加えられ、その配合物
はpH=10.5であった。装置内の初期酸素含量は6
〜7ppm で、初期pHは9.2〜9.6であった。 試験後のpHは、試験した配合物に依存して、8.5〜
10.8へ変化した。 /=繰返し実験の結果 *1x投与=DHAがすべての配合物に存在するものと
仮定した、DHAと酸素とのモル比に関連する投与量ま
た、上述の3成分系組成物が作製されたときの、驚くべ
き結果をよりよく例示するために、図2、3、4、及び
5を示す。 【0050】図面の説明 図1は、 185°F(85℃)で脱酸素を測定するた
めに用いられる試験装置の概略図である。図2は、Na
OH、モルフォリン、ヒドロキノン、及びヒドロキノン
及びモルフォリンの両方の存在下のジヒドロキシアセト
ンと組み合わせたジヒドロキシアセトンを用いて除去し
た酸素のパーセントを示すグラフ図である。この図で容
易に解るように、3成分系の組成物は最も顕著であり、
水から酸素を除去する能力において驚くべき結果を示す
。図3は、酸素に対し2.0モル比のジヒドロキシアセ
トン、ヒドロキノン、及び異なる揮発性アミンを、Na
OHと同様に使用したものを示すグラフ図である。ジヒ
ドロキシアセトン、ヒドロキノン、及び揮発性アミンの
3成分組成物が、再度驚くべき結果を示す。図4は、比
較のために示されるもので、酸素に対するモル比を変え
た、ジヒドロキシアセトン及び揮発性アミンの10%の
ヒドロキノンと揮発性アミンの混合物を示すグラフ図で
ある。この図は、処理されるボイラー水から酸素及び二
酸化炭素の両方を除去するために必要な顕著な性能を得
るためには、3成分系が必要であることを明確に示す。 図5は、比較のために、脱酸素剤としてヒドロキノンの
みを種々の揮発性アミンに対して用いたものを示すグラ
フ図である。 揮発性アミンのジエチルヒドロキシルアミンをヒドロキ
ノンと組み合わせると、顕著な性能を示すことが認めら
れた。ジエチルヒドロキシルアミンは、それ自体が脱酸
素剤であると知られているので、この結果はそんなに驚
くべきものではない。一方、他のアミンがこの能力を有
することは示されなかった。また、図5は、ヒドロキノ
ンと組み合わされる他のアミン自体に、ヒドロキノンと
組み合わされるNaOH自体よりも、大きな脱酸素能が
付与されることはないことを示す。図6は、ジヒドロキ
シアセトンを種々のアミン及びNaOHと組み合わせた
だけのものを示すグラフ図である。脱酸素性能は不十分
である。
【図面の簡単な説明】
【図1】185°F (85℃) で脱酸素を測定する
ために用いられる試験装置の概略図である。
【図2】NaOH、モルフォリン、ヒドロキノン、及び
ヒドロキノン及びモルフォリンの両方の存在下のジヒド
ロキシアセトンと組み合わせたジヒドロキシアセトンを
用いて除去した酸素のパーセントを示すグラフ図である
【図3】酸素に対し2.0モル比のジヒドロキシアセト
ン、ヒドロキノン、及び異なる揮発性アミンを、NaO
Hと同様に使用したものを示すグラフ図である。
【図4】酸素に対するモル比を変えた、ジヒドロキシア
セトン及び揮発性アミンの10%のヒドロキノンと揮発
性アミンの混合物を示すグラフ図である。
【図5】脱酸素剤としてヒドロキノンのみを種々の揮発
性アミンに対して用いたものを示すグラフ図である。
【図6】ジヒドロキシアセトンを種々のアミン及びNa
OHと組み合わせただけのものを示すグラフ図である。

Claims (30)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  (a)ジヒドロキシアセトン、(b)
    ヒドロキノン、及び(c)揮発性アミンの混合物から成
    る組成物。
  2. 【請求項2】  (a):(b):(c)の重量比が約
    10:0.01:0.1〜約1.0:1.0:100 
    の範囲にある、請求項1に記載の組成物。
  3. 【請求項3】  (a)ジヒドロキシアセトンとヒドロ
    キノンとの比が1:0.1 〜1:1の範囲にあり;(
    b)ジヒドロキシアセトンと揮発性アミンとの比が1:
    0.5〜1:50の範囲にあり;(c)ヒドロキノンと
    揮発性アミンとの比が1:10〜1:100 の範囲に
    ある、請求項1に記載の組成物。
  4. 【請求項4】  揮発性アミンが、モルフォリン、シク
    ロヘキシルアミン、ジエチルアミノエタノール、メトキ
    シプロピルアミン、モノエタノールアミン、ジメチルア
    ミノイソプロピルアミン、及びR1N(R2)OH(式
    中R1 及びR2 は、C1 〜〜C4 の直鎖または
    枝分かれのアルキル基から成る群よりそれぞれ個別に選
    択される) の構造を有するジアルキルヒドロキシルア
    ミン、から成る群より選択される少なくとも一つであり
    ;前記成分は水を含む配合物中に含まれる、請求項1、
    2、または3に記載の組成物。
  5. 【請求項5】  皮膜性アミンをさらに含む、請求項1
    、2、3、または4に記載の組成物。
  6. 【請求項6】  皮膜性アミンが、オクタデシルアミン
    、エトデュオミーン(ethoduomeen) 、ま
    たはその混合物より選択される、請求項5に記載の組成
    物。
  7. 【請求項7】 (a)ジヒドロキシアセトン  0.1〜10.0重量
    %(b)ヒドロキノン          0.005
     〜10.0重量%(c)揮発性アミン       
       0.01〜50.0重量%(d)水      
                  残りの3成分系混合物で
    あり、(a):(b)の重量比が1:1を超えないよう
    なものから成る、水から溶存酸素を掃去するために用い
    られる組成物。
  8. 【請求項8】  揮発性アミンが、モルフォリン、シク
    ロヘキシルアミン、ジエチルアミノエタノール、メトキ
    シプロピルアミン、モノエタノールアミン、ジメチルア
    ミノイソプロピルアミン、及び R1N(R2)OH 
    (式中R1 及びR2 は、C1 〜C4 の直鎖また
    は枝分かれのアルキル基、及びその混合物から成る群よ
    り、それぞれ個別に選択される) の構造を有するジア
    ルキルヒドロキシルアミンから成る群より選択される、
    請求項7に記載の組成物。
  9. 【請求項9】  オクタデシルアミン、エトデュオミー
    ン(ethoduomeen) 、及びその混合物から
    成る群より選択される0.01〜約25重量パーセント
    の皮膜性アミンをさらに含む、請求項7または請求項8
    に記載の組成物。
  10. 【請求項10】  ボイラー水を、(a)ジヒドロキシ
    アセトン、(b)ヒドロキノン、及び(c)揮発性アミ
    ンから成る、酸素の除去に有効な量の組成物製品で処理
    することから成る、前記ボイラー水中の溶存酸素を除去
    しかつ前記ボイラー水中の溶存二酸化炭素を中和する方
    法。
  11. 【請求項11】  前記ボイラー水を、皮膜性アミンを
    も含む前記組成物製品でさらに処理することから成る、
    請求項10に記載の方法。
  12. 【請求項12】  前記ボイラー水を、(a):(b)
    :(c)の重量比が、約1:0.01:0.10〜約1
    :1:100 の範囲にある前記組成物製品で処理する
    こと;及びさらに、ジヒドロキシアセトンと前記ボイラ
    ー水中の溶存酸素とのモル比が少なくとも0.5 :1
    〜約10:1になるように、前記水を前記組成物製品で
    処理することから成る、請求項10に記載の方法。
  13. 【請求項13】  前記組成物製品が、(a)ジヒドロ
    キシアセトン、(b)ヒドロキノン、及び(c)揮発性
    アミンを、水中に(a):(b):(c)比1.0:0
    .1:1.0〜約1.0:0.75:50で溶解したも
    のから成り、さらに、前記ボイラー水を、ジヒドロキシ
    アセトンと溶存酸素とのモル比が少なくとも1:1〜約
    8:1の範囲になるように処理する、請求項12に記載
    の方法。
  14. 【請求項14】  前記組成物製品が、ジヒドロキシア
    セトンと溶存酸素とのモル比が約1:1〜約4:1の範
    囲になるように前記ボイラー水を処理するために用いら
    れる、請求項13に記載の方法。
  15. 【請求項15】  前記組成物製品が、少なくとも1.
    0重量パーセントの皮膜性アミンをさらに含む、請求項
    13または請求項14に記載の方法。
  16. 【請求項16】  ボイラー水を、以下の成分:(a)
    ジヒドロキシアセトン  0.1〜10.0重量%(b
    )ヒドロキノン          0.005 〜1
    0.0重量%(c)モルフォリン、シクロヘキシルアミ
    ン、ジエチルアミノエタノール、メトキシプロピルアミ
    ン、モノエタノールアミン、ジメチルアミノイソプロパ
    ノール、イソプロピルアミン、及び R1N(R2)O
    H (式中、R1 及びR2 は、1〜4個の炭素原子
    を有する線状または枝分かれのアルキル基より個別に及
    び独立に選択される)の構造を有するジアルキルヒドロ
    キシルアミンの群から選択される、少なくとも一つのア
    ミンから成る揮発性アミン  0.01〜50.0重量
    % (d)水                    残
    りを、(a):(b)の重量比が1:1を超えないよう
    に含む、酸素の除去に有効な量の組成物製品で、処理す
    ることから成る、ボイラー水から溶存酸素及び溶存二酸
    化炭素の両方を除去する方法。
  17. 【請求項17】  前記組成物製品が、0.1〜約10
    重量パーセントの皮膜性アミンをさらに含む、請求項1
    6に記載の方法。
  18. 【請求項18】  前記組成物製品が、ジヒドロキシア
    セトンと前記ボイラー水中の溶存酸素とのモル比が約0
    .5:1.0〜約8.0:1.0の範囲になるように、
    前記ボイラー水を処理するために用いられる、請求項1
    6または請求項17に記載の方法。
  19. 【請求項19】  前記組成物製品が以下の成分:(a
    )ジヒドロキシアセトン      1.0〜5.0重
    量%(b)ヒドロキノン              
    0.1〜1.0重量%(c)モルフォリン      
            0.1〜20.0重量%(d)水  
                          残りを
    含む、請求項16に記載の方法。
  20. 【請求項20】  前記組成物製品が以下の成分:(a
    )ジヒドロキシアセトン      1.0〜5.0重
    量%(b)ヒドロキノン              
    0.1〜1.0重量%(c)シクロヘキシルアミン  
        0.1〜20.0重量%(d)水      
                      残りを含む、請
    求項16に記載の方法。
  21. 【請求項21】  前記組成物製品が以下の成分:(a
    )ジヒドロキシアセトン      1.0〜5.0重
    量%(b)ヒドロキノン              
    0.1〜1.0重量%(c)ジエチルアミノエタノール
      0.1〜20.0重量%(d)水        
                    残りを含む、請求項
    16に記載の方法。
  22. 【請求項22】  前記組成物製品が以下の成分:(a
    )ジヒドロキシアセトン      1.0〜5.0重
    量%(b)ヒドロキノン              
    0.1〜1.0重量%(c)メトキシプロピルアミン 
       0.1〜20.0重量%(d)水       
                     残りを含む、請求
    項16に記載の方法。
  23. 【請求項23】  前記組成物製品が以下の成分:(a
    )ジヒドロキシアセトン      1.0〜5.0重
    量%(b)ヒドロキノン              
    0.1〜1.0重量%(c)モノエタノールアミン  
        0.1〜20.0重量%(d)水      
                      残りを含む、請
    求項16に記載の方法。
  24. 【請求項24】  前記組成物製品が以下の成分:(a
    )ジヒドロキシアセトン            1.
    0〜5.0重量% (b)ヒドロキノン                
        0.1〜1.0重量% (c)ジメチルアミノイソプロパノール  0.1〜2
    0.0重量% (d)水                     
             残りを含む、請求項16に記載の方
    法。
  25. 【請求項25】  前記組成物製品が以下の成分:(a
    )ジヒドロキシアセトン      1.0〜5.0重
    量%(b)ヒドロキノン              
    0.1〜1.0重量%(c)イソプルピルアミン   
         0.1〜20.0重量%(d)水     
                       残りを含む、
    請求項16に記載の方法。
  26. 【請求項26】  前記組成物製品が以下の成分:(a
    )ジヒドロキシアセトン      1.0〜5.0重
    量%(b)ヒドロキノン              
    0.1〜1.0重量%(c)R1N(R2)OH(式中
    、R1 及びR2は、1〜4個の炭素原子を有する線状
    または枝分かれのアルキル基より個別に及び独立に選択
    される)の構造を有するジアルキルヒドロキシルアミン
      0.01〜50.0重量%(d)水       
                     残りを含む、請求
    項16に記載の方法。
  27. 【請求項27】  前記組成物製品が、オクタデシルア
    ミン、エトデュオミーン(ethoduomeen) 
    、及びその混合物から成る群より選択される、0.1〜
    約10.0重量パーセントの皮膜性アミンをさらに含む
    、請求項19、20、21、22、23、24、25、
    または26に記載の方法。
  28. 【請求項28】  前記組成物製品中に有効触媒量のコ
    バルト、銅、マンガン、またはその混合物の可溶性金属
    塩を含む、請求項16または17に記載の方法。
  29. 【請求項29】  処理されるボイラー水が、ボイラー
    給水、内部沸騰水、スチーム凝縮水、またはこれらの組
    合せのすべてから成る群より選択される、請求項16ま
    たは17に記載の方法。
  30. 【請求項30】  前記ボイラー水のpHが8.0〜1
    1.0の範囲にある、請求項10及び16に記載の方法
JP3101502A 1990-06-15 1991-05-07 スチーム装置を処理する組成物及び方法 Pending JPH04227004A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US538432 1975-01-03
US07/538,432 US5094814A (en) 1990-06-15 1990-06-15 All-volatile multi-functional oxygen and carbon dioxide corrosion control treatment for steam systems

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04227004A true JPH04227004A (ja) 1992-08-17

Family

ID=24146911

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3101502A Pending JPH04227004A (ja) 1990-06-15 1991-05-07 スチーム装置を処理する組成物及び方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5094814A (ja)
EP (1) EP0463714B1 (ja)
JP (1) JPH04227004A (ja)
AU (1) AU633727B2 (ja)
DE (1) DE69100500T2 (ja)
ES (1) ES2061177T3 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012008273A1 (ja) * 2010-07-16 2012-01-19 栗田工業株式会社 ボイラ用防食剤

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5302321A (en) * 1990-03-30 1994-04-12 Aquas Corporation Anticorrosive method of stream and condenser systems
US20040018949A1 (en) * 1990-11-05 2004-01-29 Wai Mun Lee Semiconductor process residue removal composition and process
US7205265B2 (en) * 1990-11-05 2007-04-17 Ekc Technology, Inc. Cleaning compositions and methods of use thereof
US5279771A (en) 1990-11-05 1994-01-18 Ekc Technology, Inc. Stripping compositions comprising hydroxylamine and alkanolamine
US6110881A (en) * 1990-11-05 2000-08-29 Ekc Technology, Inc. Cleaning solutions including nucleophilic amine compound having reduction and oxidation potentials
US5223146A (en) * 1991-10-09 1993-06-29 W. R. Grace & Co.-Conn. Dispersion of iron (III) oxides using certain dihydroxaromatic compounds
US5176849A (en) * 1992-04-15 1993-01-05 W. R. Grace & Co.-Conn. Composition and method for scavenging oxygen
GB2272431B (en) * 1992-08-17 1997-04-09 Grace W R & Co Inhibition of corrosion in aqueous systems
US5283006A (en) * 1992-11-30 1994-02-01 Betz Laboratories, Inc. Neutralizing amines with low salt precipitation potential
US7144849B2 (en) * 1993-06-21 2006-12-05 Ekc Technology, Inc. Cleaning solutions including nucleophilic amine compound having reduction and oxidation potentials
US5419837A (en) * 1994-02-22 1995-05-30 Nalco Chemical Company Hindered amines for treating industrial water systems
EP0674024B1 (en) * 1994-03-17 1998-12-16 Calgon Corporation Method for controlling and removing solid deposits from a surface of a component of a steam generating system
US5589107A (en) * 1994-08-15 1996-12-31 Applied Specialties, Inc. Method and composition for inhibiting corrosion
EP0787225B1 (en) * 1994-10-13 2000-02-09 Catachem, Inc. Method for minimizing solvent degradation and corrosion in amine solvent treating systems
EP0807696B1 (de) * 1996-05-06 1999-07-28 Faborga S.A. Verfahren zur Konditionierung von Speisewasser fur Zwang durchlaufkessel Anlagen
CN100447304C (zh) * 2006-03-30 2008-12-31 武汉大学 一种成膜缓蚀剂及其制备方法
TW200902456A (en) * 2007-03-09 2009-01-16 Arkema France Method of scavenging oxygen in aqueous systems
CA2800545C (en) 2010-05-18 2019-02-19 Bk Giulini Gmbh Medium for improving the heat transfer in steam generating plants
CN102534624B (zh) * 2012-02-29 2013-04-24 湖南省电力公司科学研究院 超长期停用火力发电机组的保护方法
JP6107098B2 (ja) * 2012-12-10 2017-04-05 三浦工業株式会社 蒸気・復水系処理剤組成物の製造方法、及びその製造方法で得られる蒸気・復水系処理剤組成物
CN111018028B (zh) * 2019-12-06 2022-01-28 南通联膦化工有限公司 一种环保型锅炉除氧剂

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4067690A (en) * 1976-05-04 1978-01-10 Chemed Corporation Boiler water treatment
US4278635A (en) * 1979-10-12 1981-07-14 Chemed Corporation Method for deoxygenation of water
US4282111A (en) * 1980-04-28 1981-08-04 Betz Laboratories, Inc. Hydroquinone as an oxygen scavenger in an aqueous medium
AU537619B2 (en) * 1980-04-28 1984-07-05 Betz International, Inc. Dioxo-aromatic compounds as oxygen scavengers in an aqueous medium
US4289645A (en) * 1980-07-14 1981-09-15 Betz Laboratories, Inc. Hydroquinone and mu-amine compositions
US4279767A (en) * 1980-07-14 1981-07-21 Betz Laboratories, Inc. Use of improved hydroquinone oxygen scavenger in aqueous mediums
US4350606A (en) * 1980-10-03 1982-09-21 Dearborn Chemical Company Composition and method for inhibiting corrosion
US4363734A (en) * 1981-02-05 1982-12-14 Nalco Chemical Company 1,3-Dihydroxy acetone as an oxygen scavenger for water
US4540494A (en) * 1983-03-10 1985-09-10 Veb Leuna Werke "Walter Ulbricht" Method for the removal of oxygen dissolved in water
US4549968A (en) * 1984-05-18 1985-10-29 Betz Laboratories, Inc. Method of utilizing improved stability oxygen scavenger compositions
US4569783A (en) * 1984-11-01 1986-02-11 Betz Laboratories, Inc. Hydroquinone catalyzed oxygen scavenger and methods of use thereof
US4541932A (en) * 1984-11-09 1985-09-17 Betz Laboratories, Inc. Hydroquinone catalyzed oxygen scavenger and methods of use thereof
US4847001A (en) * 1987-07-01 1989-07-11 W. R. Grace & Co.-Conn. Control of corrosion in aqueous systems

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012008273A1 (ja) * 2010-07-16 2012-01-19 栗田工業株式会社 ボイラ用防食剤
JP2012021215A (ja) * 2010-07-16 2012-02-02 Kurita Water Ind Ltd ボイラ用防食剤

Also Published As

Publication number Publication date
EP0463714A1 (en) 1992-01-02
AU7596291A (en) 1991-12-19
AU633727B2 (en) 1993-02-04
ES2061177T3 (es) 1994-12-01
US5094814A (en) 1992-03-10
DE69100500T2 (de) 1994-05-11
EP0463714B1 (en) 1993-10-13
DE69100500D1 (de) 1993-11-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH04227004A (ja) スチーム装置を処理する組成物及び方法
US5167835A (en) Method of scavenging oxygen from boiler waters with substituted quinolines
KR100317967B1 (ko) 산소소거제및보일러수처리용화학물질
US5091108A (en) Method of retarding corrosion of metal surfaces in contact with boiler water systems which corrosion is caused by dissolved oxygen
JPS5942073B2 (ja) 防食用組成物
JP6506865B1 (ja) 蒸気の凝縮方法
WO2012008273A1 (ja) ボイラ用防食剤
US5368775A (en) Corrosion control composition and method for boiler/condensate steam system
WO2012101844A1 (ja) ボイラ用防食剤
JP3855961B2 (ja) 脱酸素剤及び脱酸素処理方法
RU2500835C1 (ru) Ингибитор углекислотной коррозии для паро-конденсатных установок аминат пк-3
JP2017154049A (ja) ボイラ水の水処理方法
JPH02209493A (ja) 蒸気又は凝縮水系用防食剤
JP4663046B2 (ja) 工業用水を調整するための組成物及び方法
KR101226307B1 (ko) 유체 시스템에서의 부식 방지
US5164110A (en) Method of retarding corrosion of metal surfaces in contact with boiler water systems which corrosion is caused by dissolved oxygen
Suslov et al. Complex amine-based reagents
US5302321A (en) Anticorrosive method of stream and condenser systems
WO2023228525A1 (ja) 熱交換器の伝熱効率改善方法
JPH08299968A (ja) ボイラー水系用pH調整剤
JP2650197B2 (ja) 純水ボイラの水処理剤及び水処理方法
JP3309757B2 (ja) ボイラ水処理用の薬剤
CA2069952A1 (en) Anticorrosive agent of steam and condenser systems and anticorrosive method of steam and condenser systems
JP2003231980A (ja) ボイラ用の防食剤
US5512243A (en) Cyclohexanedione oxygen scavengers