JPH0422055A - 透過電子顕微鏡 - Google Patents
透過電子顕微鏡Info
- Publication number
- JPH0422055A JPH0422055A JP2125664A JP12566490A JPH0422055A JP H0422055 A JPH0422055 A JP H0422055A JP 2125664 A JP2125664 A JP 2125664A JP 12566490 A JP12566490 A JP 12566490A JP H0422055 A JPH0422055 A JP H0422055A
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- Japan
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- sample
- arithmetic circuit
- electron microscope
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- Pending
Links
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 title claims description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 14
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 claims description 25
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
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- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- UZHDGDDPOPDJGM-UHFFFAOYSA-N Stigmatellin A Natural products COC1=CC(OC)=C2C(=O)C(C)=C(CCC(C)C(OC)C(C)C(C=CC=CC(C)=CC)OC)OC2=C1O UZHDGDDPOPDJGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、超高分解能像観察を行なうための自動調整機
能を備えた透過電子顕微鏡に関する。
能を備えた透過電子顕微鏡に関する。
［従来の技術］
近年、電子顕微鏡は理論値に近い分解能を実現すること
が望まれるようになってきている。超高分解能を得るた
めには、対物レンズポールピースの性能の向上が第一に
重要であるが、トップエントリー形の透過電子顕微鏡の
場合には、常に超高分解能が得られるように、電子線Ｅ
Ｂの加速電圧値に応じて試料のＺ位置（光軸Ｚに沿った
位置）の変化に伴ない、倍率やフォーカスのズレを補正
するようにＺ位置を微調整したり、対物レンズの励磁電
流を調整してフォーカスのズレを補正することが行なわ
れている。
が望まれるようになってきている。超高分解能を得るた
めには、対物レンズポールピースの性能の向上が第一に
重要であるが、トップエントリー形の透過電子顕微鏡の
場合には、常に超高分解能が得られるように、電子線Ｅ
Ｂの加速電圧値に応じて試料のＺ位置（光軸Ｚに沿った
位置）の変化に伴ない、倍率やフォーカスのズレを補正
するようにＺ位置を微調整したり、対物レンズの励磁電
流を調整してフォーカスのズレを補正することが行なわ
れている。
［発明か解決しようとする課題］
しかし、上述したような構成の透過電子顕微鏡では第３
図に示すように、ある加速電圧で試料のＺ位置をＡから
Ｂに下げてフォーカスを合わせると、対物レンズＯＬに
よって形成される磁場の軸上分布は同図に実線Ｍ１て示
す状態からＭ２に変化し、試料の前方磁界の割合が増す
と共に後方磁界の割合が減少し、且つ対物レンズのＯＬ
の形成する磁場の強さは大きくなる。
図に示すように、ある加速電圧で試料のＺ位置をＡから
Ｂに下げてフォーカスを合わせると、対物レンズＯＬに
よって形成される磁場の軸上分布は同図に実線Ｍ１て示
す状態からＭ２に変化し、試料の前方磁界の割合が増す
と共に後方磁界の割合が減少し、且つ対物レンズのＯＬ
の形成する磁場の強さは大きくなる。
そのため、前方及び後方磁界で作られる各レンズの軸や
非点は変化することになる。これは、試料位置Ａにおい
て軸調整や非点補正を完全に行なった場合であっても、
Ｚ位置を移動させると新たに軸ずれや非点が発生するこ
とを示している。前述した理論値に近い超高分解能を得
るためには軸ずれ（球面収差によるボケなどを発生し分
解能を低下させる。）や非点（フォーカスに方向性を生
じさせ意味の無い像が得られたりボケを生じさせる。）
の無いことが必須の条件であるため、Ｚ位置を変更した
場合には、その都度にアライメントコイル（ＣＬＡＬＩ
、 ＣＬＡＬ２ ）を用いた軸調整や、非点補正コ
イル（ＣＬ ５ＴＩＧ）を用いた非点補正を行なわなけ
ればならない。
非点は変化することになる。これは、試料位置Ａにおい
て軸調整や非点補正を完全に行なった場合であっても、
Ｚ位置を移動させると新たに軸ずれや非点が発生するこ
とを示している。前述した理論値に近い超高分解能を得
るためには軸ずれ（球面収差によるボケなどを発生し分
解能を低下させる。）や非点（フォーカスに方向性を生
じさせ意味の無い像が得られたりボケを生じさせる。）
の無いことが必須の条件であるため、Ｚ位置を変更した
場合には、その都度にアライメントコイル（ＣＬＡＬＩ
、 ＣＬＡＬ２ ）を用いた軸調整や、非点補正コ
イル（ＣＬ ５ＴＩＧ）を用いた非点補正を行なわなけ
ればならない。
しかし、これらの軸調整や非点補正の調整作業は容易な
作業ではないため、加速電圧などの変化に応じて試料の
２位置か移動されても即座に像観察、写真撮影等を行な
うことが困難となる。また、これらの調整作業に手間取
ることによって、試料が電子線による損傷を受けること
がある。
作業ではないため、加速電圧などの変化に応じて試料の
２位置か移動されても即座に像観察、写真撮影等を行な
うことが困難となる。また、これらの調整作業に手間取
ることによって、試料が電子線による損傷を受けること
がある。
本発明は、上述した問題点を考慮し、超高分解能像観察
を行なうための試料のＺ位置に応じた軸調整や非点補正
の自動調整機能を備えた透過電子顕微鏡に関する。
を行なうための試料のＺ位置に応じた軸調整や非点補正
の自動調整機能を備えた透過電子顕微鏡に関する。
［課題を解決するための手段］
本発明は、光学条件の切換えに応じて試料位置を光軸に
沿って移動させるようにした透過電子顕微鏡において、
前記移動される試料の位置に応じた軸整合及び非点補正
の値を記憶した記憶手段を設け、光学条件の切換えよっ
て移動された試料の位置の情報に応じて前記記憶手段よ
り軸整合及び非点補正の値を読み出して、自動的に軸整
合及び非点補正を行なうようにしたことを特徴としてい
る。
沿って移動させるようにした透過電子顕微鏡において、
前記移動される試料の位置に応じた軸整合及び非点補正
の値を記憶した記憶手段を設け、光学条件の切換えよっ
て移動された試料の位置の情報に応じて前記記憶手段よ
り軸整合及び非点補正の値を読み出して、自動的に軸整
合及び非点補正を行なうようにしたことを特徴としてい
る。
［実施例コ
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。第１
図は本発明の一実施例を説明するための装置構成図、第
２図は補正データを説明するための図である。
図は本発明の一実施例を説明するための装置構成図、第
２図は補正データを説明するための図である。
第１図において、１は中央演算処理装置（以下ＣＰＵと
称す）、１ａはＣＰＵＩの演算回路、２は試料移動用モ
ータ、３はポテンショメータ、４はＡ−Ｄ変換器、５は
記憶手段、６はＤ−Ａ変換器、７及び８は集束レンズ（
図示せず）のアライメントコイル（以下ＣＬＡＬＩ 、
ＣＬＡＬ２と称す）、９は集束レンズ（図示せず）
の非点補正コイル（以下ＣＬ ５ＴＩＧと称す）、１０
は対物レンズ（図示せず）の非点補正コイル（以下０Ｌ
ＳＴＩＧと称す）、１１は増幅器である。
称す）、１ａはＣＰＵＩの演算回路、２は試料移動用モ
ータ、３はポテンショメータ、４はＡ−Ｄ変換器、５は
記憶手段、６はＤ−Ａ変換器、７及び８は集束レンズ（
図示せず）のアライメントコイル（以下ＣＬＡＬＩ 、
ＣＬＡＬ２と称す）、９は集束レンズ（図示せず）
の非点補正コイル（以下ＣＬ ５ＴＩＧと称す）、１０
は対物レンズ（図示せず）の非点補正コイル（以下０Ｌ
ＳＴＩＧと称す）、１１は増幅器である。
上述のような構成の透過電子顕微鏡において、ＣＬＡＬ
、７、ＣＬＡＬ２８、ＣＬ ｓｔ＋ｃ９、及び図示され
ていない集束レンズ、対物レンズ、偏向コイル等の励磁
電流値は前記ＣＰＵＩによって制御されている。また、
試料ＳのＺ位置緩動は前記モータ２によって行なわれて
おり、その位置の情報はモータの軸に接続されたポテン
ショメータによって検出され、その値はＡ−Ｄ変換器４
を介してＣＰＵＩ内の演算回路１ａに供給されている。
、７、ＣＬＡＬ２８、ＣＬ ｓｔ＋ｃ９、及び図示され
ていない集束レンズ、対物レンズ、偏向コイル等の励磁
電流値は前記ＣＰＵＩによって制御されている。また、
試料ＳのＺ位置緩動は前記モータ２によって行なわれて
おり、その位置の情報はモータの軸に接続されたポテン
ショメータによって検出され、その値はＡ−Ｄ変換器４
を介してＣＰＵＩ内の演算回路１ａに供給されている。
ＲＡＭ等から成る記憶手段５には複数点のＺ位置に対す
る最適な軸調整及び非点補正値のデータ、即ちＣＬＡＬ
Ｉ７、ＣＬＡＬ□８、ＣＬｓ７．６９の励磁データが記
憶されている。これらのデータは適宜書換か可能である
か、通常は電子顕微鏡の組み立て調整時に得られた調整
値か記憶されている。
る最適な軸調整及び非点補正値のデータ、即ちＣＬＡＬ
Ｉ７、ＣＬＡＬ□８、ＣＬｓ７．６９の励磁データが記
憶されている。これらのデータは適宜書換か可能である
か、通常は電子顕微鏡の組み立て調整時に得られた調整
値か記憶されている。
前記記憶装置５内には超高分解能が得られる光学条件時
に移動される試料位置近傍の数点での軸調整及び非点補
正値のデータか離散的に記憶されている。従って、任意
のＺ位置における軸調整及び非点補正値は記憶装置５中
のデータをＺに関する関数と見なしてＣＰＵＩによる演
算によって求められる。第２図は補正データを説明する
ための図である。第２図において、Ｘ、Ｙ軸は非点補正
コイルのＸ補正コイル及びＹ補正コイルの励磁電流値を
示しており、Ｚ軸は試料の光軸上のＺ位置を示している
。また、点Ｚ１．Ｚ２．Ｚ、 ｚ４Ｚ５は記憶装置５
内に予め記憶されたデータをプロットしたものである。
に移動される試料位置近傍の数点での軸調整及び非点補
正値のデータか離散的に記憶されている。従って、任意
のＺ位置における軸調整及び非点補正値は記憶装置５中
のデータをＺに関する関数と見なしてＣＰＵＩによる演
算によって求められる。第２図は補正データを説明する
ための図である。第２図において、Ｘ、Ｙ軸は非点補正
コイルのＸ補正コイル及びＹ補正コイルの励磁電流値を
示しており、Ｚ軸は試料の光軸上のＺ位置を示している
。また、点Ｚ１．Ｚ２．Ｚ、 ｚ４Ｚ５は記憶装置５
内に予め記憶されたデータをプロットしたものである。
ここで、任意のＺ位置（Ｚ、）において非点補正コイル
に与える適切な補正値（ｄｅｆＸ、ｄｅｆＹ）は、前記
各点をスプライン関数なとて補間することによって求め
られる。同様にしてＣＬ、□ＩＧや０ＬＳＴＩＧの値も
求めることかできる。
に与える適切な補正値（ｄｅｆＸ、ｄｅｆＹ）は、前記
各点をスプライン関数なとて補間することによって求め
られる。同様にしてＣＬ、□ＩＧや０ＬＳＴＩＧの値も
求めることかできる。
電子顕微鏡の光学条件を収束電子線回折モードから超高
分解能像観察モードに切換えることによって、試料の２
位置か例えばＺ３ （基準位置）からＺｘに移動され
たとすると、該試料の位置の情報はポテンショメータ３
によって検出され、ＡＤ変換器４を介してＣＰＵＩの演
算回路１ａに供給される。そして、ＣＰＵＩは記憶装置
５内に格納されているデータを演算回路１ａに読み出し
、該演算回路１ａは前記検出された位置の情報と前記読
み出されたデータに基づいて補間演算を行ない現在の試
料位置ＺｘにおけるＣＬ、ｕ、＋７、ＣＬ／ Ａｌ１８、ＣＬ ５ＴＩＧ９及びＯＬ ｓ工、６１０の
励磁電流値を計算し、その結果かＤ−Ａ変換器及び増幅
器１１を介して各コイルに供給される。
分解能像観察モードに切換えることによって、試料の２
位置か例えばＺ３ （基準位置）からＺｘに移動され
たとすると、該試料の位置の情報はポテンショメータ３
によって検出され、ＡＤ変換器４を介してＣＰＵＩの演
算回路１ａに供給される。そして、ＣＰＵＩは記憶装置
５内に格納されているデータを演算回路１ａに読み出し
、該演算回路１ａは前記検出された位置の情報と前記読
み出されたデータに基づいて補間演算を行ない現在の試
料位置ＺｘにおけるＣＬ、ｕ、＋７、ＣＬ／ Ａｌ１８、ＣＬ ５ＴＩＧ９及びＯＬ ｓ工、６１０の
励磁電流値を計算し、その結果かＤ−Ａ変換器及び増幅
器１１を介して各コイルに供給される。
［発明の効果コ
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、光学
条件の切換えに応じて試料位置を光軸に沿って移動させ
るようにした透過電子顕微鏡において、前記移動される
試料の位置に応じた軸整合及び非点補正の値を記憶した
記憶手段を設け、光学条件の切換えよって移動された試
料の位置の情報に応じて前記記憶手段より軸整合及び非
点補正の値を読みだして、自動的に軸整合及び非点補正
を行なうようにしたことにより、常に超高分解能像の観
察を行なうことができる。
条件の切換えに応じて試料位置を光軸に沿って移動させ
るようにした透過電子顕微鏡において、前記移動される
試料の位置に応じた軸整合及び非点補正の値を記憶した
記憶手段を設け、光学条件の切換えよって移動された試
料の位置の情報に応じて前記記憶手段より軸整合及び非
点補正の値を読みだして、自動的に軸整合及び非点補正
を行なうようにしたことにより、常に超高分解能像の観
察を行なうことができる。
第１図は本発明の一実施例を説明するための装置構成図
、第２図は補正データを説明するための図、第３図は従
来例を説明するための図である。 １：中央演算処理装置 １ａ；演算回路 ２：試料移動用モータ ３：ポテンショメータ ４：Ａ−Ｄ変換器 ５、記憶手段 ６ ： Ｄ−Ａ変換器 ７．８：集束レンズアライメントコイル９：集束レンズ
非点補正コイル １０：対物レンズ非点補正コイル １１：増幅器
、第２図は補正データを説明するための図、第３図は従
来例を説明するための図である。 １：中央演算処理装置 １ａ；演算回路 ２：試料移動用モータ ３：ポテンショメータ ４：Ａ−Ｄ変換器 ５、記憶手段 ６ ： Ｄ−Ａ変換器 ７．８：集束レンズアライメントコイル９：集束レンズ
非点補正コイル １０：対物レンズ非点補正コイル １１：増幅器
Claims (1)
- 光学条件の切換えに応じて試料位置を光軸に沿って移動
させるようにした透過電子顕微鏡において、前記移動さ
れる試料の位置に応じた軸整合及び非点補正の値を記憶
した記憶手段を設け、光学条件の切換えよって移動され
た試料の位置の情報に応じて前記記憶手段より軸整合及
び非点補正の値を読みだして、自動的に軸整合及び非点
補正を行なうようにしたことを特徴とする透過電子顕微
鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2125664A JPH0422055A (ja) | 1990-05-16 | 1990-05-16 | 透過電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2125664A JPH0422055A (ja) | 1990-05-16 | 1990-05-16 | 透過電子顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0422055A true JPH0422055A (ja) | 1992-01-27 |
Family
ID=14915606
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2125664A Pending JPH0422055A (ja) | 1990-05-16 | 1990-05-16 | 透過電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0422055A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1027563A (ja) * | 1996-07-10 | 1998-01-27 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡 |
| US6939931B2 (en) | 2002-04-11 | 2005-09-06 | Wacker Polymer Systems Gmbh & Co. Kg | Process for preparing solid polyvinyl ester resins |
-
1990
- 1990-05-16 JP JP2125664A patent/JPH0422055A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1027563A (ja) * | 1996-07-10 | 1998-01-27 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡 |
| US6939931B2 (en) | 2002-04-11 | 2005-09-06 | Wacker Polymer Systems Gmbh & Co. Kg | Process for preparing solid polyvinyl ester resins |
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