JPH04218800A - X線回折分析用スリット構造 - Google Patents

X線回折分析用スリット構造

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JPH04218800A
JPH04218800A JP2405346A JP40534690A JPH04218800A JP H04218800 A JPH04218800 A JP H04218800A JP 2405346 A JP2405346 A JP 2405346A JP 40534690 A JP40534690 A JP 40534690A JP H04218800 A JPH04218800 A JP H04218800A
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JP
Japan
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slit
ray
plate
parallel
diffraction analysis
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Haruo Sekiguchi
関口 晴男
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、試料からのX線の回折
を利用して物質の構造や、これに掛っている応力を測定
する装置に適したX線スリットの構造に関する。
【0002】
【従来の技術】電子材料、高分子、金属等の定性、定量
分析や結晶構造の解析には、図2に示したようにX線源
20から放射されたX線を、平板を一定間隔で平行に配
列してなる発散防止用スリット21と細隙スリット22
を通して試料Sに照射し、試料Sからの回折X線を細隙
スリット23,受光スリット24で前後を挟まれた平行
スリット25を介してX線検出器に入射させて広い走査
範囲で分光条件を一定に維持するようにしている。
【0003】また、薄膜などの結晶解析や応力測定には
、図3に示したようにX線源20からのX線を平行線束
スリット26により平行束にして試料Sに照射し、また
試料Sからの回折X線を平行束スリット27を介してX
線検出器により入射させることにより、X線照射面積の
拡大防止と、試料面の傾きによる誤差防止を図るように
している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このように、分析対象
によってスリットの選択が行なわるのであるが、このた
めには既に装着されているスリットを取外して、目的の
スリットを固定するという作業を必要とするばかりでな
く、交換後に光軸の調整作業が必要になるという問題が
ある。
【0005】本発明はこのような問題に鑑みてなされた
ものであって、その目的とするところは、スリットの取
外しや光軸調整を不要とすることができる新規なX線回
折分析用のスリット構造を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】このような問題を解消す
るために本発明においては、X線源側に配置された上下
発散防止用の第1のスリット体と、検出器側に配置され
、基台に対して少なくとも90度回動可能な枠体に平板
を複数枚平行に配置してなるスリットを備えるとともに
、出射口側に細隙スリット板をX線通過路から進退可能
に設けてなる第2スリット体を備えるようにした。
【0007】
【作用】基台に対して枠体を回動させることにより第2
スリットの光軸をずらせることなくスリットの方向を変
えることができ、また細隙スリット板を着脱することに
より集中法スリット系と平行線束スリット系に使い分け
ることができる。
【0008】
【実施例】そこで以下に本発明の詳細を図示した実施例
に基づいて説明する。図1は本発明の一実施例を示すも
のであって、図中符号1は、X線源側に配置された第1
のスリット体で、平板2,2,2,‥‥を平行に配置し
てこの実施例ではスリットが水平方向となるように構成
され、その照射口側にはスリット口3が垂直となる細隙
スリット4が設けられている。
【0009】5は、X線検出器側に配置された第2のス
リット体で、基台6に対して少なくとも90度の回動が
可能な枠体7に平板8,8,8‥‥を平行に取り付けて
スリットが構成され、枠体7の出射口側にはスリット口
と直交するスリット口9を備えた細隙スリット板10を
固定するガイド部材11,11が設けられている。
【0010】この実施例において、電子材料、高分子、
金属等の定性、定量分析や結晶構造の解析を行なう場合
には、第1、第2のスリット体1,5のスリットがとも
に水平となるように第2のスリット体5の枠体7を回動
させるとともに、第2のスリット体5のガイド部材11
,11に細隙スリット板10を装着する。この状態で分
析を行なうと、集中法スリット系が形成されているから
、X線源から放射されたX線は、第1のスリット体1を
構成している平板2,2,2により上下方向への発散を
防止され、細隙スリット板4を通って試料Sを到達する
。試料により回折されたX線は、第2のスリット体5に
入射して、これを構成している平板7,7,7により上
下方向の発散を防止されながら細隙スリット板のスリッ
ト9を通過して図示しない検出器に到達する。
【0011】一方、薄膜の結晶構造や応力を測定する場
合には、第2のスリット体5から細隙スリット板10を
取外すとともに、これら第2のスリット体5の枠体7を
90度回動させて、各スリットを構成している平板8,
8,8を垂直の位置まで移動させる。この状態では平行
線束法スリット系が構成されているから、X線源から放
射されたX線は、第1のスリット1により平行線束とな
って試料Sを照射し、また試料Sからの回折X線は第2
のスリット体5により平行線束としてX線検出器に入射
する。
【0012】なお、この実施例では、スリット体5の回
動や細隙スリット板10の取外しを手動により行なう場
合について説明したが、各枠体をモータにより駆動させ
たり、また細隙スリット板10をソレノイドにより往復
動させることにより、操作パネルからの指令により分析
目的に対応したスリットの形態を選択することができる
【0013】
【発明の効果】以上説明したように本発明においてはX
線源側に配置された上下発散防止用の第1のスリット体
と、検出器側に配置され、基台に対して少なくとも90
度回動可能な枠体に平板を複数枚平行に配置してなるス
リットを備えるとともに、出射口側に細隙スリット板を
X線通過路から進退可能に設けてなる第2スリット体を
備えるようにしたので、第2のスリット体を90度回転
させたり、細隙スリット板を第2のスリット体に着脱す
るだけで、集中法スリット系と平行線束法スリット系を
切換えることができ、スリットの取外しや取り付け作業
、及び交換後の光軸調整が不要となるばかりでなく、自
動交換が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のスリット構造の一実施例を示す構成図
である。
【図2】X線回折分析に使用されている集中法系スリッ
トを示す図である。
【図2】X線回折分析に使用されている平行線束法系ス
リットを示す図である。
【符号の説明】
1  第1のスリット体 2  平板 4  細隙スリット 5  第2のスリット体 6  基台 7  枠体 8  平板 10  細隙スリット板 11  ガイド部材
【選択図】    図1@@@@

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. X線源側に配置された上下発散防止用の第1のスリット
    体と、検出器側に配置され、基台に対して少なくとも9
    0度回動可能な枠体に平板を複数枚平行に配置してなる
    スリットを備えるとともに、出射口側に細隙スリット板
    をX線通過路から進退可能に設けてなる第2スリット体
    からなるX線回折分析用スリット構造。
JP2405346A 1990-12-06 1990-12-06 X線回折分析用スリット構造 Expired - Lifetime JP2526425B2 (ja)

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Effective date: 19960409