JPS60253956A - 励起線による微小部分析装置 - Google Patents
励起線による微小部分析装置Info
- Publication number
- JPS60253956A JPS60253956A JP10968084A JP10968084A JPS60253956A JP S60253956 A JPS60253956 A JP S60253956A JP 10968084 A JP10968084 A JP 10968084A JP 10968084 A JP10968084 A JP 10968084A JP S60253956 A JPS60253956 A JP S60253956A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reflecting mirror
- sample
- collimator
- excitation beam
- axial line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
- G01N2223/076—X-ray fluorescence
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
例えば螢光Ｘ線分析によって試料面における径０．１−
程度の微小部を分析する場合は−まず光学顕微鏡ある塾
はテレビジョンカメラ等を用１て試料面を観察すること
により分析個所の選定を行−Ｎその微小分析点に励起用
の細いＸ線ビームを入射させる必要があるｏしかし光学
顕微鏡等と励起用Ｘ線ビームの照射装置とをそれらの光
軸が正確に一致するようにこれらの装置あるＺａ試料を
移動させるためには極めて高精度で複雑な機械装置を必
要とり、装置も大型になると共に分析中は光学的観察を
行−得ない欠点があるａｔた試料を移動させて任意の点
を観察するためＫｔ！光学系の光軸が試料面と直角に交
わるようにしなければならな−０従って上記光軸が試料
面と直角に交って−しかもその交点に励起線が側方かも
斜めに入射するようにするためには、試料を光軸方向お
よびこｎと直角な平面内で移動させる精密な機構を必要
とし、かつその調愁も類推で困難である口重発明は上述
のような難点のな一装置を得ようとするもので、特許請
求の範囲に記載したように試料面に対設した反射鏡に微
小孔を設けて上記試料面に細り励起線を入射させるコリ
メータを形成すると共に前記反射鏡を介して試料面を光
学的に観察する光学顕微鏡またはテレビジョンカメラの
光学系等を形成しである◎従って光学系の光軸および上
記コリメータの軸を一致させて〜これが試料面と直交す
るように構成することにより−その試料を軸と直角な平
面内で任意に移動させて上記光学系で観察さｎる微小部
分にこの観察と同時に励起線を入射させて分析を行うこ
とができて・しかも精密に所望の点の分析を行い得る作
用効果がある。
程度の微小部を分析する場合は−まず光学顕微鏡ある塾
はテレビジョンカメラ等を用１て試料面を観察すること
により分析個所の選定を行−Ｎその微小分析点に励起用
の細いＸ線ビームを入射させる必要があるｏしかし光学
顕微鏡等と励起用Ｘ線ビームの照射装置とをそれらの光
軸が正確に一致するようにこれらの装置あるＺａ試料を
移動させるためには極めて高精度で複雑な機械装置を必
要とり、装置も大型になると共に分析中は光学的観察を
行−得ない欠点があるａｔた試料を移動させて任意の点
を観察するためＫｔ！光学系の光軸が試料面と直角に交
わるようにしなければならな−０従って上記光軸が試料
面と直角に交って−しかもその交点に励起線が側方かも
斜めに入射するようにするためには、試料を光軸方向お
よびこｎと直角な平面内で移動させる精密な機構を必要
とし、かつその調愁も類推で困難である口重発明は上述
のような難点のな一装置を得ようとするもので、特許請
求の範囲に記載したように試料面に対設した反射鏡に微
小孔を設けて上記試料面に細り励起線を入射させるコリ
メータを形成すると共に前記反射鏡を介して試料面を光
学的に観察する光学顕微鏡またはテレビジョンカメラの
光学系等を形成しである◎従って光学系の光軸および上
記コリメータの軸を一致させて〜これが試料面と直交す
るように構成することにより−その試料を軸と直角な平
面内で任意に移動させて上記光学系で観察さｎる微小部
分にこの観察と同時に励起線を入射させて分析を行うこ
とができて・しかも精密に所望の点の分析を行い得る作
用効果がある。
第１図は本発明実施例の縦断面図、また第２図は第１図
における試料の平面図である０すなわち１水平面内で自
由に移動し得る試料台ｌに板状の試料２を載置しである
が、この試料台１の上方に例えばＸ線管のような励起線
源３を設置して〜その励起源放・−射窓１と試料台１と
の間にコリメータ５を配置しである。そのフリメータ５
．は軸線ａが試料台１の上面に対して直交するように配
置されて−ると共に下端には上記軸線に対して例えば４
５度に傾斜した反射鏡６を添着しである。すなわち上記
反射鏡の鏡面が軸線と交わる位置に微小孔フを形成して
励起線を例えば径０．１粍程度の細−ビームに絞るよう
にＬ文ある口また上記コリメータ５の何部には試料２の
一部が上記励起線で励起されて発生する螢光Ｘ線のよう
な特性線を検出するための例えば比例計数管その他の検
出器８を配置し・更に反射鏡６には水平な光軸を有する
例えばテレビジョンカメラ９の光学系１０を対設して１
その軸線すが孔マの中心を通るように設定しであるＯ従
って光学系１０の軸線すは反射鏡６で屈折し″ｃ〜コリ
メータ５の軸線−と重合し、これらが試料台上の試料２
の表面と直角に交わる口このため光学系ｌδの焦点ｉ！
整を行って試料２の表面上における適当な範囲をテレビ
ジョンカメラ９の光電面上に投映することにより、その
受像画面を観察すると共に試料台１を移動させて、分析
りようとする点Ｃを光学像によって選択することができ
る。すなわち点Ｃが受像面のタレスライン上に投映ｇｎ
て・その周辺の拡大像が観測される状態で試料台の移動
を停止して線源３から径０．１粍程度の例えば−次Ｘ線
ビームを軸線−に沿つ【投射するとそのビームが上記点
Ｃに入射し・励起された特性線ｄが比例計数管のような
検出器８で検出される口このように本発明の装置は試料
面における所望の点の光学像をテレビジ目ンの受像画面
あるいは顕微鏡で直接監視しなから〜その点に励起線を
入射させて特性線を発生させることができる０かっ微小
の分析点を的確に特定して、その点に励起線を正確に入
射させることができると共に機構が簡単で調整操作等も
迅速容易であり、また安定性再現性等にも優れている。
における試料の平面図である０すなわち１水平面内で自
由に移動し得る試料台ｌに板状の試料２を載置しである
が、この試料台１の上方に例えばＸ線管のような励起線
源３を設置して〜その励起源放・−射窓１と試料台１と
の間にコリメータ５を配置しである。そのフリメータ５
．は軸線ａが試料台１の上面に対して直交するように配
置されて−ると共に下端には上記軸線に対して例えば４
５度に傾斜した反射鏡６を添着しである。すなわち上記
反射鏡の鏡面が軸線と交わる位置に微小孔フを形成して
励起線を例えば径０．１粍程度の細−ビームに絞るよう
にＬ文ある口また上記コリメータ５の何部には試料２の
一部が上記励起線で励起されて発生する螢光Ｘ線のよう
な特性線を検出するための例えば比例計数管その他の検
出器８を配置し・更に反射鏡６には水平な光軸を有する
例えばテレビジョンカメラ９の光学系１０を対設して１
その軸線すが孔マの中心を通るように設定しであるＯ従
って光学系１０の軸線すは反射鏡６で屈折し″ｃ〜コリ
メータ５の軸線−と重合し、これらが試料台上の試料２
の表面と直角に交わる口このため光学系ｌδの焦点ｉ！
整を行って試料２の表面上における適当な範囲をテレビ
ジョンカメラ９の光電面上に投映することにより、その
受像画面を観察すると共に試料台１を移動させて、分析
りようとする点Ｃを光学像によって選択することができ
る。すなわち点Ｃが受像面のタレスライン上に投映ｇｎ
て・その周辺の拡大像が観測される状態で試料台の移動
を停止して線源３から径０．１粍程度の例えば−次Ｘ線
ビームを軸線−に沿つ【投射するとそのビームが上記点
Ｃに入射し・励起された特性線ｄが比例計数管のような
検出器８で検出される口このように本発明の装置は試料
面における所望の点の光学像をテレビジ目ンの受像画面
あるいは顕微鏡で直接監視しなから〜その点に励起線を
入射させて特性線を発生させることができる０かっ微小
の分析点を的確に特定して、その点に励起線を正確に入
射させることができると共に機構が簡単で調整操作等も
迅速容易であり、また安定性再現性等にも優れている。
なお反射鏡の孔７け極めて微小であるため、光学像の焦
点を試料２の表面に合せた状態では、像の観測に全く支
障を生じなφ０また光学Ｊｌｏで観測される画面中にお
いて励起線が入射する位置を知るためには１例えば試料
台上に燐光板を置−て、コリメータ５から励起線を入射
させるとその入射点が発光する口従って仁の発光点がク
ロスラインと一致するように予め光学系１０の位置調整
を行っておくことができる口
点を試料２の表面に合せた状態では、像の観測に全く支
障を生じなφ０また光学Ｊｌｏで観測される画面中にお
いて励起線が入射する位置を知るためには１例えば試料
台上に燐光板を置−て、コリメータ５から励起線を入射
させるとその入射点が発光する口従って仁の発光点がク
ロスラインと一致するように予め光学系１０の位置調整
を行っておくことができる口
第１図は本発明実施例の縦断面図）第２図は第１図にお
ける試料の拡大平面図である０なお図において、１は試
料台、２は試料・ ３は励起線源、４は窓、５はコリメ
ータ、６は反射鏡、７は微小孔、８は特性線検出器−９
はテレビジョンカメラ１１０は光学系である。 特許出願人 理学電機工業株式会社
ける試料の拡大平面図である０なお図において、１は試
料台、２は試料・ ３は励起線源、４は窓、５はコリメ
ータ、６は反射鏡、７は微小孔、８は特性線検出器−９
はテレビジョンカメラ１１０は光学系である。 特許出願人 理学電機工業株式会社
Claims (1)
- 試料面に対設した反射鏡を介して上記試料面における任
意の微小部を観測する光学系を設けると共に試料面を励
起して特性線を発生させる励起線源を前記反射鏡の背後
に設置して試料面に上記特性線の検出器を対設し、かつ
前記反射鏡に形成した微小孔を通る励起線が試料面にお
ける前記微小部に入射するように上記微小孔の位置を設
定したことを特徴とする励起線による微小部分析装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10968084A JPS60253956A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | 励起線による微小部分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10968084A JPS60253956A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | 励起線による微小部分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60253956A true JPS60253956A (ja) | 1985-12-14 |
Family
ID=14516454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10968084A Pending JPS60253956A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | 励起線による微小部分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60253956A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4860329A (en) * | 1986-02-24 | 1989-08-22 | Upa Technology, Inc. | X-ray fluorescence thickness measuring device |
| JP2003028815A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-29 | Horiba Ltd | Ｘ線分析装置およびこれに用いるｘ線導管 |
| EP1348949A2 (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-01 | Horiba, Ltd. | X-ray analysis apparatus and method |
| JP2004340631A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Sony Corp | 基板検査装置 |
| JP2011242313A (ja) * | 2010-05-20 | 2011-12-01 | Nichia Chem Ind Ltd | Ｘ線分析装置 |
-
1984
- 1984-05-31 JP JP10968084A patent/JPS60253956A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4860329A (en) * | 1986-02-24 | 1989-08-22 | Upa Technology, Inc. | X-ray fluorescence thickness measuring device |
| JP2003028815A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-29 | Horiba Ltd | Ｘ線分析装置およびこれに用いるｘ線導管 |
| JP4731749B2 (ja) * | 2001-07-13 | 2011-07-27 | 株式会社堀場製作所 | Ｘ線分析装置 |
| EP1348949A2 (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-01 | Horiba, Ltd. | X-ray analysis apparatus and method |
| EP1348949A3 (en) * | 2002-03-27 | 2003-11-19 | Horiba, Ltd. | X-ray analysis apparatus and method |
| US6965663B2 (en) * | 2002-03-27 | 2005-11-15 | Horiba, Ltd. | X-ray analysis apparatus and method |
| JP2004340631A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Sony Corp | 基板検査装置 |
| JP2011242313A (ja) * | 2010-05-20 | 2011-12-01 | Nichia Chem Ind Ltd | Ｘ線分析装置 |
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