JPH04213814A - Sor光装置の露光用ミラー装置 - Google Patents

Sor光装置の露光用ミラー装置

Info

Publication number
JPH04213814A
JPH04213814A JP2409648A JP40964890A JPH04213814A JP H04213814 A JPH04213814 A JP H04213814A JP 2409648 A JP2409648 A JP 2409648A JP 40964890 A JP40964890 A JP 40964890A JP H04213814 A JPH04213814 A JP H04213814A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
sor
mirror
incidence plane
sor light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2409648A
Other languages
English (en)
Inventor
Motoharu Marushita
丸下 元治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
IHI Corp
Original Assignee
IHI Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by IHI Corp filed Critical IHI Corp
Priority to JP2409648A priority Critical patent/JPH04213814A/ja
Publication of JPH04213814A publication Critical patent/JPH04213814A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008Production of exposure light, i.e. light sources
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、SOR光(シンクロ
トロン放射光)装置において、SOR光を垂直方向に拡
大するための露光用ミラー装置に関し、垂直方向にむら
なく拡大できるようにするとともにSOR光の出射強度
を高めたものである。
【0002】
【従来の技術】近年、シンクロトロン装置は、SOR光
装置として、超々LSI回路の作成、医療分野における
診断、分子解析、構造解析等様々な分野への適用が期待
されている。
【0003】SOR光装置の概要を図2に示す。SOR
光装置1において、電子発生装置(電子銃等)10で発
生した電子ビームは直線加速器(ライナック)12で光
速近くに加速され、ビーム輸送部14の偏向電磁石16
で偏向されて、インフレクタ18を介してシンクロトロ
ンの蓄積リング22内に入射される。蓄積リング22に
入射された電子ビームは高周波加速空洞21でエネルギ
を与えられながら収束電磁石23で収束され、偏向電磁
石24で偏向されて真空ダクト22内を周回し続ける。 偏向電磁石24で偏向される時に発生するSOR光29
は光取り出しライン26を通して出射されて、例えば露
光装置28に送られて超々LSI回路作成用の光源等と
して利用される。
【0004】SOR光は、水平方向の拡がりは大きいが
、垂直方向の拡がりは小さいので、LSIの露光用には
、垂直方向に拡大する必要がある。このため、斜入射ミ
ラーを用いて垂直方向への拡大が行なわれる。
【0005】従来においては斜入射ミラーとして、図3
に平面図で示すような平面鏡30や、図4に平面図で示
すようなシリンドリカルミラー32を用いて上下方向に
揺動して拡大するものがあった。
【0006】図3の平面鏡30を用いたものでは、ウエ
ハ33に対する照射パワーの分布は同図右部に示すよう
に均一に得られるが、SOR光29は水平方向に拡がっ
てしまい、SOR光29の一部分しか露光に有効に利用
されないので、照射パワーが低くなる欠点があった。
【0007】また、図4のシリンドリカルミラー32を
用いたものでは、SOR光29を水平方向に収束させて
ウェハ33を露光するので、同図右部に示すようにウェ
ハ33に対する照射パワーは大きいが、照射パワー分布
が不均一となり、露光むらが生じる欠点があった。
【0008】そこで、このような従来の技術における欠
点を解決して、大きな照射パワーが得られるとともに、
照射パワー分布を均一化させて露光むらを減少させたS
OR光装置の露光用ミラー装置として、特願平2−24
4690号明細書に記載の発明が提案されている。
【0009】これは、SOR光装置の光取り出しライン
中に、反射面を略々上方または下方に向けて配設されて
、SOR光の水平方向中央部を反射させて、露光対象に
対しその全露光範囲の上下方向中央部を照射する第1の
斜入射平面鏡と、当該光取り出しライン中に反射面を略
々側方に向けて配設されて、SOR光の水平方向の一側
部を反射させて、露光対象の全露光範囲の上部を照射す
る第2の斜入射平面鏡と、当該光取り出しライン中に反
射面を前記第2の斜入射平面鏡に対向して略々側方に向
けて配設されて、SOR光の水平方向の他側部を反射さ
せて、前記露光対象の全露光範囲の下部を照射する第3
の斜入射平面鏡とを配置したものである。
【0010】これによれば、第1の斜入射平面鏡でSO
R光の水平方向中央部を反射させて、全露光範囲の上下
方向中央部を照射し、第2の斜入射平面鏡で  SOR
光の水平方向の一側部を反射させて、全露光範囲の上部
を照射し、第3の斜入射平面鏡で  SOR光の水平方
向の他側部を反射させて、全露光範囲の下部を照射する
ように分割露光したので、SOR光の多くの部分を露光
に利用することができ、照射パワーを高めることができ
る。 しかも、平面鏡を用いたので、照射分布が均一化し、露
光むらを減少させることができる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】前記特願平2−244
690号の発明のように全露光範囲を同時に分割照射す
る場合、SOR光出射用窓は全露光範囲に対応する面積
が必要である。この窓は一般にベリリウム板等が用いら
れるが、光取り出しライン内の高真空と外側の大気とを
遮断するに必要な機械的強度が必要であり、全露光範囲
に対応する面積でその強度を得るには十分な厚さが必要
となる。このため、この窓材でのSOR光の吸収が大き
くなって十分な出射強度が得られなかった。
【0012】この発明は、上述の点に鑑みてなされたも
ので、SOR光を垂直方向にむらなく拡大できるように
するとともにSOR光の出射強度を高めた露光用ミラー
装置を提供しようとするものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、SOR光装置
の光取り出しライン中に反射面を略々上方または下方に
向けて配設されて、SOR光の水平方向中央部を反射さ
せて、露光対象に対しその全露光範囲の上下方向の一部
を照射する第1の斜入射平面鏡と、当該光取り出しライ
ン中に反射面を略々側方に向けて配設されて、SOR光
の水平方向の一側部を反射させて、前記露光対象に対し
前記第1の斜入射平面鏡による照射位置を重ねて照射す
る第2の斜入射平面鏡と、当該光取り出しライン中に反
射面を前記第2の斜入射平面鏡に対向して略々側方に向
けて配設されて、SOR光の水平方向の他側部を反射さ
せて、前記露光対象に対し前記第1の斜入射平面鏡によ
る照射位置を重ねて照射する第3の斜入射平面鏡と、前
記第1〜第3の斜平面鏡を揺動させることにより前記S
OR光を上下方向に揺動させる各ミラー揺動機構と、前
記各ミラー揺動機構を相互に同期して動作させることに
より、SOR光を重ね合わせたまま上下方向に揺動させ
て前記露光対象全域を照射するミラー揺動制御手段と、
前記光取り出しランの端部にベローズを介して上下方向
に揺動自在に取り付けられた窓部と、この窓部を上下方
向に揺動させる窓部揺動機構と、前記SOR光の揺動幅
より狭い上下方向の幅を有し、前記窓部に取り付けられ
て、前記揺動しているSOR光を出射させる窓と、前記
窓部揺動機構を前記SOR光の揺動に同期して動作させ
ることにより、SOR光を前記窓から出射させて前記露
光対象を照射する窓部揺動制御手段とを具備してなるも
のである。
【0014】
【作用】この発明によれば、第1〜第3の斜入射平面鏡
で反射されたSOR光を重ね合わせてかつ上下方向に揺
動させて露光対象に照射し、SOR光の揺動に同期して
窓部を揺動するようにしたので、窓は全露光範囲よりも
狭い面積で済む。したがって、板厚を薄くしても機械的
強度を確保できるので、SOR光の透過率を高めて出射
強度を高めることができる。しかも、平面鏡を用いたの
で、照射分布が均一化し、露光むらを減少させることが
できる。
【0015】
【実施例】この発明の実施例を以下説明する。 (実施例1) この発明の一実施例を図1に平面図で示す。また、その
側面図を図5に示し、平面図を図6に示す。
【0016】SOR光29は蓄積リング上の発光点Pか
ら水平方向には広く、垂直方向には狭い拡がり角で放射
される。SOR光29が導かれる光取り出しライン26
(図2)の途中には、無酸素銅、SiC、Au、Pt等
で作られた斜入射平面鏡34〜36が配設されている。
【0017】斜入射平面鏡34(第1の斜入射平面鏡)
は、反射面を略々下方に向けて配設されて、SOR光2
9の水平方向中央部29aを反射させて、ウエハ33の
全露光範囲の上下方向の一部を照射する。斜入射平面鏡
35(第2の斜入射平面鏡)は、反射面を略々側方に向
けて配設されて、SOR光29の一側部(左部)29b
を反射させて、ウエハ33に対しSOR光29aと同一
位置を重ねて照射する。斜入射平面鏡36(第3の斜入
射平面鏡)は、反射面を略々側方に向けて配設されて、
SOR光29の他側部(右部)29cを反射させて、ウ
エハ33に対しSOR光29aと同一位置を重ねて照射
する。
【0018】斜入射平面鏡34は、SOR光29の光軸
方向に対して略々直角な水平方向の軸38を中心に揺動
自在に配設されて、SOR光29aを上下方向に揺動さ
せる。
【0019】斜入射平面鏡35は、SOR光29の光軸
方向に略々沿った水平方向の軸41を中心に揺動自在に
配設されて、SOR光29bを上下方向に揺動させる。
【0020】斜入射平面鏡36は、SOR光29の光軸
方向に略々沿った水平方向の軸42を中心に揺動自在に
配設されて、SOR光29cを上下方向に揺動させる。
【0021】斜入射平面鏡34〜36によるウエハ33
上の露光領域を図7に示す。各斜入射平面鏡34〜36
で一度に露光される面積は、例えば図7に斜線で示すよ
うになり、水平方向の露光幅は十分得られるものの、垂
直方向の露光幅は不充分である。そこで、これら斜入射
平面鏡34〜36を同期して揺動させることにより、S
OR光29a,29b,29cを重ね合わせたまま上下
方向に揺動させて、垂直方向の露光幅を拡げて露光領域
33a全体が露光されるようにする。上から下または下
から上への1回の揺動で1枚でウエハの露光が完了する
【0022】次に、斜入射平面鏡34の揺動を行なうミ
ラー揺動機構および窓部揺動機構の一実施例を図8に示
す。尚、斜入射平面鏡35,36のミラー揺動機構につ
いては省略するが、斜入射平面鏡34のミラー揺動機構
と同様に構成することができる。
【0023】斜入射平面鏡34は軸31を支点として、
上下方向に揺動自在に支持されている。斜入射平面鏡3
4の端部にはミラー揺動機構37のロッド39が取り付
けられている。ロッド39はモータ43で駆動されるカ
ム45の回転により上下方向に動作し、斜入射平面鏡3
4を上下方向に揺動して、SOR光29aを上下方向に
揺動させて上下方向の必要な露光面積を確保する。
【0024】光取り出しライン26の端部にはベローズ
46を介して窓部48が取り付けられている。窓部48
には、窓部揺動機構52のロッド54が取り付けられて
いる。ロッド54はモータ56で駆動されるカム58の
回転により上下方向に動作し、窓部48をベローズ46
を介して上下方向に揺動させる。
【0025】窓部48のフランジには窓板50が取り付
けられ、窓板50の中央部には窓44が取り付けられて
いる。窓44はベリリウム等の薄板で構成され、内部の
高真空と外部の低真空または大気とを遮断した状態でS
OR光29を出射する。
【0026】窓44は、図9に正面図で示すように、上
下方向の幅がSOR光29の揺動範囲(つまり、ウエハ
33の全露光範囲)より狭く形成されている。窓44は
従来のもの(つまり全露光範囲分の面積を有するもの)
よりも薄く形成されているが、面積が従来のものよりも
小さいので、十分な機械的強度が確保されている。
【0027】ミラー揺動機構37のカム45の回転位置
は、パルスエンコーダ等の位置検出器60で検出される
。また、窓揺動機構52のカム58の回転位置は、パル
スエンコーダ等の位置検出器62で検出される。また、
斜入射平面鏡35,36のミラー揺動機構(図示せず)
についても同様にカムの回転位置等がパルスエンコーダ
等の位置検出器で検出される。
【0028】揺動制御手段64は、ミラー揺動制御手段
と窓部揺動制御手段を兼ねるもので、位置検出器60,
62の検出に基づき、サーボアンプ66,68を介して
モータ40,56を同期駆動することにより、斜入射ミ
ラー30および窓部48を連動させる。斜入射平面鏡3
5,36のミラー揺動機構についても同様にこれらと一
緒に同期駆動する。これにより、SOR光29(29a
,29b,29c)の位置に窓44が移動して、SOR
光29が出射される。
【0029】ミラー揺動機構3´および窓部揺動機構5
2の動作を図10に示す。斜入射平面鏡34の右部が上
方向に揺動している時は窓部48も上方向に揺動して、
上方向に揺動しているSOR光29を窓44から出射さ
せる。このとき、図6において斜入射平面鏡36は左回
転方向に揺動し、斜入射平面鏡35は右回転方向に揺動
してSOR光29c,29bを窓44から出射させる。
【0030】また、斜入射ミラー30の右部が下方向に
揺動している時は窓部48も下方向に揺動して、下方向
に揺動しているSOR光29を窓44から出射させる。 このとき、図6において斜入射平面鏡36は右回転方向
に揺動し、斜入射平面鏡35は左回転方向に揺動してS
OR光29c,29bを窓44から出射させる。
【0031】このようにして、全露光面積よりも小さい
窓44を使用して、SOR光29を全露光面積分出射さ
せることができる。したがって、窓44の板厚を薄くし
ても機械的強度が十分に確保され、SOR光29の透過
率を高めて出射強度を高めることができる。
【0032】(実施例2) 左右(第2、第3)の斜入射平面鏡を、SOR光の光軸
方向に、2段配列した一実施例を図11に平面図で示す
。また、その側面図を図12に示す。
【0033】SOR光29は蓄積リング上の発光点Pか
ら水平方向には広く、垂直方向には狭い拡がり角で放射
される。SOR光29が導かれる光取り出しライン26
(図2)の途中には、斜入射平面鏡34〜36,71,
72が配設されている。
【0034】斜入射平面鏡34(第1の斜入射平面鏡)
は、反射面を略々下方に向けて配設されて、SOR光2
9の水平方向中央部29aを反射させて、ウエハ33の
全露光範囲の上下方向の一部を照射する。斜入射平面鏡
35,71は第2の斜入射平面鏡を構成し、反射面を略
々側方に向けて配設されて、SOR光29の一側部(左
部)29b,29b′を反射させて、ウエハ33に対し
SOR光29aと同一位置を重ねて照射する。斜入射平
面鏡36,72は第3の斜入射平面鏡を構成し、反射面
を略々側方に向けて配設されて、SOR光29の他側部
(右部)29c,29c′を反射させて、ウエハ33に
対しSOR光29aと同一位置を重ねて照射する。
【0035】斜入射平面鏡34は、SOR光29の光軸
方向に対して略々直角な水平方向の軸38を中心に揺動
自在に配設されて、SOR光29aを上下方向に揺動さ
せる。
【0036】斜入射平面鏡35は、SOR光29の光軸
方向に略々沿った水平方向の軸41を中心に揺動自在に
配設されて、SOR光29bを上下方向に揺動させる。
【0037】斜入射平面鏡71は、SOR光29の光軸
方向に略々沿った水平方向の軸75を中心に揺動自在に
配設されて、SOR光29b′を上下方向に揺動させる
【0038】斜入射平面鏡36は、SOR光29の光軸
方向に略々沿った水平方向の軸42を中心に揺動自在に
配設されて、SOR光29cを上下方向に揺動させる。
【0039】斜入射平面鏡72は、SOR光29の光軸
方向に略々沿った水平方向の軸76を中心に揺動自在に
配設されて、SOR光29c′を上下方向に揺動させる
【0040】斜入射平面鏡34〜36,71,72は同
期して揺動されて、SOR光29a,29b,29c,
29c′を重ね合わせたまま揺動してウエハ33上の露
光領域全域を露光する。
【0041】以上の構成によれば、前記実施例1に比べ
てより広い範囲のSOR光を有効に利用できるので、よ
り強い照射パワーを得ることができる。
【0042】なお、第2,第3の斜入射平面鏡の段数は
3段以上とすることもできる。また、第1の斜入射平面
鏡も場合によっては複数段設けることもできる。
【0043】
【変更例】前記実施例1,2では第1の斜入射平面鏡3
4はその反射面を略々下方に向けてSOR光29を斜め
下方に反射させるようにしたが、これとは逆に反射面を
略々上方に向けてSOR光29を斜め上方に反射させる
ようにすることもできる。
【0044】また、図8の実施例ではベローズ46を1
段としたが、図13に示すようにベローズ46,47を
2段配列としたりまたはより多段に配列すれば、より大
きな揺動範囲を確保することができる。
【0045】また、図8の実施例では、ミラー揺動機構
と窓部揺動機構を電気的制御により同期させるようにし
たが、同一駆動源を用いてメカ的に連動させて同期させ
ることもできる。
【0046】また、図8の実施例では窓部48の揺動を
上下方向の回転運動としたが、上下方向の平行移動とす
ることもできる。
【0047】また、前記実施例では、個々の斜入射ミラ
ーがそれぞれ露光領域の水平方向全域にわたって照射す
るようにしたが、水平方向に分割して照射するようにす
ることもできる。
【0048】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれば
、第1〜第3の斜入射平面鏡で反射されたSOR光を重
ね合わせてかつ上下方向に揺動させて露光対象に照射し
、SOR光の揺動に同期して窓部を揺動するようにした
ので、窓は全露光範囲よりも狭い面積で済む。したがっ
て、板厚を薄くしても機械的強度を確保できるので、S
OR光の透過率を高めて出射強度を高めることができる
。しかも、平面鏡を用いたので、照射分布が均一化し、
露光むらを減少させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を示す平面図である。
【図2】SOR光装置の概要を示す平面図である。
【図3】従来装置の平面図である。
【図4】他の従来装置の平面図である。
【図5】図1の装置の側面図である。
【図6】図1の装置の正面図である。
【図7】図1のウエハに対する露光状態を示す正面図で
ある。
【図8】ミラー揺動機構および窓部揺動機構の一実施例
を示す側面図である。
【図9】図8の窓44の形状を示す正面図である。
【図10】図8の揺動機構の揺動動作を示す縦断面図で
ある。
【図11】この発明の他の実施例を示す平面図である。
【図12】図11の装置の側面図である。
【図13】窓部揺動機構の他の実施例を示す縦断面図で
ある。
【符号の説明】
1…SOR光装置、 26…光取り出しライン、 29(29a,29b,29b′)…SOR光、33…
ウエハ(露光対象)、 34…第1の斜入射平面鏡、 35,71…第2の斜入射平面鏡、 36,72…第3の斜入射平面鏡、 37…ミラー揺動機構、 44…窓、 48…窓部、52…窓部揺動機構、 64…揺動制御手段(ミラー揺動制御手段、窓部揺動制
御手段)。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】SOR光装置の光取り出しライン中に反射
    面を略々上方または下方に向けて配設されて、SOR光
    の水平方向中央部を反射させて、露光対象に対しその全
    露光範囲の上下方向の一部を照射する第1の斜入射平面
    鏡と、当該光取り出しライン中に反射面を略々側方に向
    けて配設されて、SOR光の水平方向の一側部を反射さ
    せて、前記露光対象に対し前記第1の斜入射平面鏡によ
    る照射位置を重ねて照射する第2の斜入射平面鏡と、当
    該光取り出しライン中に反射面を前記第2の斜入射平面
    鏡に対向して略々側方に向けて配設されて、SOR光の
    水平方向の他側部を反射させて、前記露光対象に対し前
    記第1の斜入射平面鏡による照射位置を重ねて照射する
    第3の斜入射平面鏡と、前記第1〜第3の斜平面鏡を揺
    動させることにより前記SOR光を上下方向に揺動させ
    る各ミラー揺動機構と、前記各ミラー揺動機構を相互に
    同期して動作させることにより、SOR光を重ね合わせ
    たまま上下方向に揺動させて前記露光対象全域を照射す
    るミラー揺動制御手段と、前記光取り出しランの端部に
    ベローズを介して上下方向に揺動自在に取り付けられた
    窓部と、この窓部を上下方向に揺動させる窓部揺動機構
    と、前記SOR光の揺動幅より狭い上下方向の幅を有し
    、前記窓部に取り付けられて、前記揺動しているSOR
    光を出射させる窓と、前記窓部揺動機構を前記SOR光
    の揺動に同期して動作させることにより、SOR光を前
    記窓から出射させて前記露光対象を照射する窓部揺動制
    御手段とを具備してなるSOR光装置の露光用ミラー装
    置。
JP2409648A 1990-12-11 1990-12-11 Sor光装置の露光用ミラー装置 Pending JPH04213814A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2409648A JPH04213814A (ja) 1990-12-11 1990-12-11 Sor光装置の露光用ミラー装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2409648A JPH04213814A (ja) 1990-12-11 1990-12-11 Sor光装置の露光用ミラー装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04213814A true JPH04213814A (ja) 1992-08-04

Family

ID=18518963

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2409648A Pending JPH04213814A (ja) 1990-12-11 1990-12-11 Sor光装置の露光用ミラー装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04213814A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1319988B1 (en) High luminosity source for EUV lithography
JPH08257148A (ja) 回転ガントリ
JPH04213814A (ja) Sor光装置の露光用ミラー装置
JP3618856B2 (ja) X線露光装置、及びこれを用いたデバイス生産方法
JPH04194800A (ja) X線リソグラフィにおける露光方法
JP3618853B2 (ja) X線発生装置、及びこれを用いた露光装置やデバイス生産方法
JPH04118600A (ja) Sor光装置におけるsor光出射用窓装置
JPH01244400A (ja) 露光装置
JPH04122899A (ja) Sor光装置の露光用ミラー装置
JPH04230000A (ja) Sor光の露光方法
JPH022999A (ja) X線露光装置
JPH04229998A (ja) Sor光の露光方法
JPH11160499A (ja) レーザープラズマx線発生装置
JPH04229999A (ja) Sor光の露光方法
JPS63236321A (ja) X線露光装置
JP3531245B2 (ja) 照明装置及び露光装置
JPH0349213A (ja) 露光装置
JPH05180997A (ja) シンクロトロンにおけるsor光出射装置
JP3069832B2 (ja) テフロン加工装置
JPH03208328A (ja) X線露光方法
CN114563348A (zh) 掩模缺陷检测装置、掩模缺陷检测系统以及光刻机系统
JPH04125500A (ja) Sor光装置におけるsor光出射用窓装置
JP2541279B2 (ja) 半導体製造装置
JPH0610900U (ja) 露光装置
JPS62141721A (ja) 荷電粒子装置