JPH04230000A - Ｓｏｒ光の露光方法 - Google Patents
Ｓｏｒ光の露光方法Info
- Publication number
- JPH04230000A JPH04230000A JP41501990A JP41501990A JPH04230000A JP H04230000 A JPH04230000 A JP H04230000A JP 41501990 A JP41501990 A JP 41501990A JP 41501990 A JP41501990 A JP 41501990A JP H04230000 A JPH04230000 A JP H04230000A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- storage ring
- exposure
- sor
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 42
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 30
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、電子ビーム振動法を
用いたＳＯＲ光（シンクロトロン放射光）の露光方法に
関し、電子ビームを振動させるために別途電磁石を新設
することなく電子ビームを垂直方向に振動できるように
したものである。
用いたＳＯＲ光（シンクロトロン放射光）の露光方法に
関し、電子ビームを振動させるために別途電磁石を新設
することなく電子ビームを垂直方向に振動できるように
したものである。
【０００２】
【従来の技術】ＳＯＲ光は、シンクロトロンにおいて蓄
積リングを周回している電子ビームの偏向位置から放射
されるＸ線等の強力な光線であり、超ＬＳＩ製造過程に
おける露光用光源等への適用が期待されている。ＳＯＲ
光を用いた露光は、一般にシンクロトロンの電子ビーム
偏向位置からその接線方向に分岐された光取り出しライ
ンにＳＯＲ光を導いて、この光取り出しラインの端部に
設けられた窓から出射させて、ＬＳＩ露光用マスクの基
板を通して半導体ウェハに照射することにより行なわれ
る。この場合は、ＳＯＲ光は水平方向の幅は広いが、垂
直方向の幅は狭いので、ＳＯＲ光を垂直方向に振ること
により、垂直方向の露光面積を確保しなければならない
。
積リングを周回している電子ビームの偏向位置から放射
されるＸ線等の強力な光線であり、超ＬＳＩ製造過程に
おける露光用光源等への適用が期待されている。ＳＯＲ
光を用いた露光は、一般にシンクロトロンの電子ビーム
偏向位置からその接線方向に分岐された光取り出しライ
ンにＳＯＲ光を導いて、この光取り出しラインの端部に
設けられた窓から出射させて、ＬＳＩ露光用マスクの基
板を通して半導体ウェハに照射することにより行なわれ
る。この場合は、ＳＯＲ光は水平方向の幅は広いが、垂
直方向の幅は狭いので、ＳＯＲ光を垂直方向に振ること
により、垂直方向の露光面積を確保しなければならない
。
【０００３】ＳＯＲ光を垂直方向に振る方法の１つとし
て、いわゆる電子ビーム振動法がある。これは蓄積リン
グに電子ビームを垂直方向に振るための電磁石を配置し
、その励磁量を時間とともにに変化させることにより電
子ビームに垂直方向の偏向を与えて振り、これによりＳ
ＯＲ光を上下方向に振るようにしたものである。
て、いわゆる電子ビーム振動法がある。これは蓄積リン
グに電子ビームを垂直方向に振るための電磁石を配置し
、その励磁量を時間とともにに変化させることにより電
子ビームに垂直方向の偏向を与えて振り、これによりＳ
ＯＲ光を上下方向に振るようにしたものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の電子ビーム
振動法では電子ビームを振るための電磁石が必要である
。ところが、小型シンクロトロンにおいては、蓄積リン
グに偏向マグネット、収束マグネット、補正用マグネッ
ト、各種計測装置等がすでに配設されているため、電子
ビーム振動用に別途電磁石を新設することはスペース上
困難であった。
振動法では電子ビームを振るための電磁石が必要である
。ところが、小型シンクロトロンにおいては、蓄積リン
グに偏向マグネット、収束マグネット、補正用マグネッ
ト、各種計測装置等がすでに配設されているため、電子
ビーム振動用に別途電磁石を新設することはスペース上
困難であった。
【０００５】この発明は、前記従来の技術における問題
点を解決して、電子ビーム振動用に別途電磁石を新設す
ることなく電子ビーム振動を行なえるようにしたＳＯＲ
光の露光方法を提供しようとするものである。
点を解決して、電子ビーム振動用に別途電磁石を新設す
ることなく電子ビーム振動を行なえるようにしたＳＯＲ
光の露光方法を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明は、電子ビーム
が周回している蓄積リングの偏向位置からその接線方向
に光取り出しラインを分岐させて、ＳＯＲ光をこの光取
り出しラインから取り出して、露光対象を露光する場合
において、前記蓄積リングに配される収束用４極電磁石
を略々垂直方向に移動しながら露光することを特徴とす
るものである。
が周回している蓄積リングの偏向位置からその接線方向
に光取り出しラインを分岐させて、ＳＯＲ光をこの光取
り出しラインから取り出して、露光対象を露光する場合
において、前記蓄積リングに配される収束用４極電磁石
を略々垂直方向に移動しながら露光することを特徴とす
るものである。
【０００７】
【作用】シンクロトロンにおいては、蓄積リング中での
電子ビームの中心位置は収束用４極電磁石で制御されて
いる。したがって、この収束用４極電磁石を略々垂直方
向に移動させることにより電子ビームを略々垂直方向に
移動させて、電子ビーム振動を実現することができる。 これによれば、収束用４極電磁石を兼用するので、電子
ビーム振動用に別途電磁石を設ける必要がなくなり、蓄
積リングへの配置スペース上の問題が解消される。
電子ビームの中心位置は収束用４極電磁石で制御されて
いる。したがって、この収束用４極電磁石を略々垂直方
向に移動させることにより電子ビームを略々垂直方向に
移動させて、電子ビーム振動を実現することができる。 これによれば、収束用４極電磁石を兼用するので、電子
ビーム振動用に別途電磁石を設ける必要がなくなり、蓄
積リングへの配置スペース上の問題が解消される。
【０００８】
【実施例】この発明の一実施例を以下説明する。図１は
、この発明を適用したＳＯＲ光装置の概要を示したもの
である。ＳＯＲ光装置１において、電子発生装置（電子
銃等）１０で発生した電子ビーム４６は直線加速器（ラ
イナック）１２で光速近くに加速され、ビーム輸送部１
４の偏向電磁石１６で偏向されて、インフレクタ１８を
介してシンクロトロンの蓄積リング２２内に入射される
。蓄積リング２２に入射された電子ビーム４６は高周波
加速空洞２１でエネルギを与えられながら各直線部に配
された収束電磁石２３，２５（２３は垂直用、２５は水
平用）で収束されて蓄積リング２２内の中心位置を通り
、偏向電磁石２４で偏向されて蓄積リング２２内を周回
し続ける。偏向電磁石２４で偏向される時に接線方向に
放射されるＳＯＲ光２９は光取り出しライン２６を通し
て出射されて、露光装置２８に送られてＬＳＩ回路作成
用の露光用のＸ線光源として利用される。
、この発明を適用したＳＯＲ光装置の概要を示したもの
である。ＳＯＲ光装置１において、電子発生装置（電子
銃等）１０で発生した電子ビーム４６は直線加速器（ラ
イナック）１２で光速近くに加速され、ビーム輸送部１
４の偏向電磁石１６で偏向されて、インフレクタ１８を
介してシンクロトロンの蓄積リング２２内に入射される
。蓄積リング２２に入射された電子ビーム４６は高周波
加速空洞２１でエネルギを与えられながら各直線部に配
された収束電磁石２３，２５（２３は垂直用、２５は水
平用）で収束されて蓄積リング２２内の中心位置を通り
、偏向電磁石２４で偏向されて蓄積リング２２内を周回
し続ける。偏向電磁石２４で偏向される時に接線方向に
放射されるＳＯＲ光２９は光取り出しライン２６を通し
て出射されて、露光装置２８に送られてＬＳＩ回路作成
用の露光用のＸ線光源として利用される。
【０００９】収束用電磁石２３，２５は４極電磁石で構
成され、各直線部ごとに支持台３８上に固定支持されて
いる。これら支持台３８は振動制御装置４０により相互
に同期して上下方向に移動する。これにより、蓄積リン
グ２２内の電子ビーム４６全体がその周回を乱されるこ
となく上下方向に振られて、ＳＯＲ光２９が上下方向に
振られる。
成され、各直線部ごとに支持台３８上に固定支持されて
いる。これら支持台３８は振動制御装置４０により相互
に同期して上下方向に移動する。これにより、蓄積リン
グ２２内の電子ビーム４６全体がその周回を乱されるこ
となく上下方向に振られて、ＳＯＲ光２９が上下方向に
振られる。
【００１０】支持台３８の駆動機構の一実施例を図２に
側面図で示す。また、図２のＡ−Ａ矢視図を図３に示す
。収束電磁石２３，２５は支持台３８上に固定支持され
ている。支持台３８は基礎３９上に設置されたガイド部
材４０により垂直方向に平行移動可能に支持されており
、油圧シリンダ等のアクチュエータ４２により垂直方向
に駆動されて、収束電磁石２３，２５を垂直方向に移動
させる。このとき収束電磁石２３，２５の磁極４４が蓄
積リング２２に衝突しないように、図３のように磁極４
４と蓄積リング２２との間（上側および下側）に上下方
向のスペースａをそれぞれ設けておく。このスペースａ
は収束電磁石２３，２５の垂直方向移動（上方向および
下方向）の各移動距離ｂよりも広く設定する。なお、収
束電磁石２３，２５の垂直方向の移動中心位置は蓄積リ
ング２２の中心位置に設定する。これにより、電子ビー
ム４６は蓄積リング２２の中心位置を中心に上下方向に
振られる。また、蓄積リング２２上下方向の内径ｃも電
子ビーム４６の垂直方向の移動（収束電磁石２３，２４
の垂直方向の移動量２６と同じだけ（例えば１０ｍｍ）
移動する）により電子ビーム４６が内壁に衝突しない大
きさに形成する。
側面図で示す。また、図２のＡ−Ａ矢視図を図３に示す
。収束電磁石２３，２５は支持台３８上に固定支持され
ている。支持台３８は基礎３９上に設置されたガイド部
材４０により垂直方向に平行移動可能に支持されており
、油圧シリンダ等のアクチュエータ４２により垂直方向
に駆動されて、収束電磁石２３，２５を垂直方向に移動
させる。このとき収束電磁石２３，２５の磁極４４が蓄
積リング２２に衝突しないように、図３のように磁極４
４と蓄積リング２２との間（上側および下側）に上下方
向のスペースａをそれぞれ設けておく。このスペースａ
は収束電磁石２３，２５の垂直方向移動（上方向および
下方向）の各移動距離ｂよりも広く設定する。なお、収
束電磁石２３，２５の垂直方向の移動中心位置は蓄積リ
ング２２の中心位置に設定する。これにより、電子ビー
ム４６は蓄積リング２２の中心位置を中心に上下方向に
振られる。また、蓄積リング２２上下方向の内径ｃも電
子ビーム４６の垂直方向の移動（収束電磁石２３，２４
の垂直方向の移動量２６と同じだけ（例えば１０ｍｍ）
移動する）により電子ビーム４６が内壁に衝突しない大
きさに形成する。
【００１１】図１の振動制御装置４０は、露光時に図２
のアクチュエータ４２を駆動して、収束電磁石２３，２
５を１秒程度の周期で蓄積リング２２の中心位置を中心
に上下方向に一定速度で移動させる。これにより、蓄積
リング２２内の電子ビーム４６の垂直方向位置は図４に
示すように時間とともに変化する。このとき、蓄積リン
グ２２内で電子ビーム４６が垂直方向に移動する様子を
図５に示す。
のアクチュエータ４２を駆動して、収束電磁石２３，２
５を１秒程度の周期で蓄積リング２２の中心位置を中心
に上下方向に一定速度で移動させる。これにより、蓄積
リング２２内の電子ビーム４６の垂直方向位置は図４に
示すように時間とともに変化する。このとき、蓄積リン
グ２２内で電子ビーム４６が垂直方向に移動する様子を
図５に示す。
【００１２】電子ビーム４６を垂直方向に振ると、ＳＯ
Ｒ光２９もこれにつれて垂直方向に振られる。これによ
り、図６のように露光装置２８（図１）内のＸ線マスク
基板およびウエハ３４上でＳＯＲ光２９の垂直方向の光
量分布が変動する。したがって、電子ビーム４６を上か
ら下へまたは下から上へ一度移動させることにより、Ｓ
ＯＲ光２９はＸ線マスク基板およびウエハ３４に対して
垂直方向にむらなく照射されて、１枚のウエハ３４の露
光が完了する。
Ｒ光２９もこれにつれて垂直方向に振られる。これによ
り、図６のように露光装置２８（図１）内のＸ線マスク
基板およびウエハ３４上でＳＯＲ光２９の垂直方向の光
量分布が変動する。したがって、電子ビーム４６を上か
ら下へまたは下から上へ一度移動させることにより、Ｓ
ＯＲ光２９はＸ線マスク基板およびウエハ３４に対して
垂直方向にむらなく照射されて、１枚のウエハ３４の露
光が完了する。
【００１３】
【変更例】前記実施例では、１枚のウエハの露光につき
電子ビームを一方向に１回だけ移動させるようにしたが
、１往復さらには複数往復させて１枚のウエハ露光をす
ることも可能である。
電子ビームを一方向に１回だけ移動させるようにしたが
、１往復さらには複数往復させて１枚のウエハ露光をす
ることも可能である。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれば
、収束用４極電磁石を略々垂直方向に移動させることに
より電子ビームを略々垂直方向に移動させて、電子ビー
ム振動を実現したので、電子ビーム振動用に別途電磁石
を設ける必要がなくなり、蓄積リングへの配置スペース
上の問題が解消される。
、収束用４極電磁石を略々垂直方向に移動させることに
より電子ビームを略々垂直方向に移動させて、電子ビー
ム振動を実現したので、電子ビーム振動用に別途電磁石
を設ける必要がなくなり、蓄積リングへの配置スペース
上の問題が解消される。
【図１】この発明の一実施例を示す図で、ＳＯＲ光装置
の概要を示す平面図である。
の概要を示す平面図である。
【図２】図１の支持台３８の駆動機構の一実施例を示す
側面図である。
側面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ矢視図である。
【図４】図１の振動制御装置による電子ビームの振動状
態の一例を示す波形図ある。
態の一例を示す波形図ある。
【図５】図４の振動制御による蓄積リング内での電子ビ
ームの振動の様子を示す断面図である。
ームの振動の様子を示す断面図である。
【図６】図４の電子ビームの移動によるＸ線マスク基板
およびウエハ上での垂直方向のＳＯＲ光光量分布の変動
を示す図である。
およびウエハ上での垂直方向のＳＯＲ光光量分布の変動
を示す図である。
２２ 蓄積リング
２６ 光取り出しライン
２３ 収束用４極電磁石（垂直用）
２５ 収束用４極電磁石（水平用）
３０ Ｘ線斜入射ミラー
３４ Ｘ線フォトマスク基板およびウエハ（露光対象
）３８ 支持台 ４０ 振動制御装置 ４６ 電子ビーム
）３８ 支持台 ４０ 振動制御装置 ４６ 電子ビーム
Claims (1)
- 【請求項１】 電子ビームが周回している蓄積リング
の偏向位置からその接線方向に光取り出しラインを分岐
させて、ＳＯＲ光をこの光取り出しラインから取り出し
て、露光対象を露光する場合において、前記蓄積リング
に配される収束用４極電磁石を略々垂直方向に移動しな
がら露光することを特徴とするＳＯＲ光の露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP41501990A JPH04230000A (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | Ｓｏｒ光の露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP41501990A JPH04230000A (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | Ｓｏｒ光の露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04230000A true JPH04230000A (ja) | 1992-08-19 |
Family
ID=18523430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP41501990A Pending JPH04230000A (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | Ｓｏｒ光の露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04230000A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006344466A (ja) * | 2005-06-08 | 2006-12-21 | Hitachi Plant Technologies Ltd | 電磁石の位置調整装置 |
| JPWO2014128848A1 (ja) * | 2013-02-20 | 2017-02-02 | 株式会社日立製作所 | 有機薄膜パターン形成装置および形成方法 |
| WO2020218245A1 (ja) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | 東芝エネルギーシステムズ株式会社 | 荷電粒子加速装置及びその調整方法 |
-
1990
- 1990-12-27 JP JP41501990A patent/JPH04230000A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006344466A (ja) * | 2005-06-08 | 2006-12-21 | Hitachi Plant Technologies Ltd | 電磁石の位置調整装置 |
| JPWO2014128848A1 (ja) * | 2013-02-20 | 2017-02-02 | 株式会社日立製作所 | 有機薄膜パターン形成装置および形成方法 |
| WO2020218245A1 (ja) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | 東芝エネルギーシステムズ株式会社 | 荷電粒子加速装置及びその調整方法 |
| JP2020181759A (ja) * | 2019-04-26 | 2020-11-05 | 東芝エネルギーシステムズ株式会社 | 荷電粒子加速装置及びその調整方法 |
| KR20210109617A (ko) * | 2019-04-26 | 2021-09-06 | 도시바 에너지시스템즈 가부시키가이샤 | 하전 입자 가속 장치 및 그 조정 방법 |
| CN113711699A (zh) * | 2019-04-26 | 2021-11-26 | 东芝能源系统株式会社 | 带电粒子加速装置及其调整方法 |
| US11937362B2 (en) | 2019-04-26 | 2024-03-19 | Toshiba Energy Systems & Solutions Corporation | Charged particle acceleration device and method for adjusting charged particle acceleration device |
| CN113711699B (zh) * | 2019-04-26 | 2024-05-14 | 东芝能源系统株式会社 | 带电粒子加速装置及其调整方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3582650A (en) | Support structure for electron accelerator with deflecting means and target and cooperating patient support | |
| TWI448828B (zh) | 輻射源裝置 | |
| JPS62222634A (ja) | Ｘ線露光方法 | |
| JPH04230000A (ja) | Ｓｏｒ光の露光方法 | |
| WO2018138801A1 (ja) | 粒子加速システム及び粒子加速システムの調整方法 | |
| US6770890B2 (en) | Stage devices including linear motors that produce reduced beam-perturbing stray magnetic fields, and charged-particle-beam microlithography systems comprising same | |
| JPH021999A (ja) | Ｘ線レーザ発生方法及び装置 | |
| JPH04229999A (ja) | Ｓｏｒ光の露光方法 | |
| JPH0513200A (ja) | Ｓｏｒ光の露光面積拡大法 | |
| JPH04229998A (ja) | Ｓｏｒ光の露光方法 | |
| JP2600075B2 (ja) | Ｘ線発生装置 | |
| JPH04249900A (ja) | Ｓｏｒ光の露光方法 | |
| JP2584490Y2 (ja) | シンクロトロンにおけるｓｏｒ光出射用窓装置 | |
| JPH03208328A (ja) | Ｘ線露光方法 | |
| JPH04357699A (ja) | シンクロトロン放射光発生装置 | |
| JPH0630336B2 (ja) | 荷電粒子装置 | |
| JPH05242999A (ja) | シンクロトロン放射光発生装置 | |
| JPH04155295A (ja) | Ｓｏｒ光の露光方法 | |
| JPH04155296A (ja) | Ｓｏｒ光の露光方法 | |
| JP2902705B2 (ja) | シンクロトロン放射光装置 | |
| JP3346672B2 (ja) | エネルギービームによる加工装置 | |
| KR100529893B1 (ko) | 엑스레이 노광기 | |
| JPS6342123A (ja) | Ｘ線露光方法 | |
| JPH02120688A (ja) | 電子蓄積リングの電子ビーム検出方法 | |
| JPH0950900A (ja) | 粒子蓄積リングあるいはシンクロトロンの調整方法 |