JPH04195831A - 光学情報記録再生消去部材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はレーザビーム等により、情報を高密度、大容量
で記録再生、及び消去できる光学記録再生消去部材に関
するものである。

〔従来の技術〕

光デイスクメモリに関しては、ＴｅとＴｅＯを主成分と
するＴｅ０ｘ（０＜　ｘ　＜２．０）薄膜を用いた追記
形のディスクがある。さらに、レーザ光により薄膜を加
熱し、溶融し、急冷することにより、非晶質化し情報を
記録しまたこれを加熱し、徐冷することにより結晶化し
、消去できる材料としては、Ｓ　、　Ｒ、Ｏｖｅｓｈ　
１ｎｓｋｙ氏等のカルコゲン材料Ｇｅ、５Ｔｅａ＋５ｂ
ｚＳｔ等が知られている。　また、Ａｓ、Ｓ。

やＡｓ、ＳｅユあるいはＳ　ｂ、　Ｓ　ｅユ等カルコゲ
ン元素と周期律表第５族あるいはＧｅ等の第６族の組合
せからなる薄膜等が広く知られている。ディスク構成と
しては、第３図に示すように、記録部材の熱的安定性お
よび記録と消去のサイクル安定性を目的と、して記録膜
４に隣接して耐熱性に優れた誘電体層２をその両側に形
成し、反射層５を設ける。

誘電体層２の厚さは、記録膜４の光学定数の変化による
反射率変化比が最大になるように決められる。これらに
薄膜にレーザ光を照射し、情報を記録し、その情報を消
去する方法としては、予め記録膜を結晶化させておき、
これに１μｍ程度に絞ったレーザ光を情報に対応させて
強度変調を施し、例えば、円盤状の記録ディスクを回転
せしめて照射し、このレーザ光照射部位は、薄膜の融点
以上に昇温し、かつ急冷し、非晶質化したマークとして
情報の記録が行なえる。この情報を消去する際において
は、ディスクの回転トラック方向に長いスポットを照射
することにより、薄膜を加熱昇温させ、長いスポット光
による徐冷効果によって再び結晶化させる方法が知られ
ている。

〔発明が解決しようとする課題〕

情報の記録は、結晶領域に情報に対応したアモルファス
マークを形成することにより行う。情報の消去には、ア
モルファスマークを長いスボツ［、光による徐冷効果に
よって再び結晶化させる。この際、第４図に示すように
、結晶領域に形成されたアモルファスマークにレーザ光
をあるパワーで１回照射した場合、結晶化する領域がア
モルファスマークの幅よりも狭くなり、情報が完全に消
去できないという問題があった。

本発明の目的は、消去特性の良好な膜構成を提供するこ
とにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、レーザ光等の照射により熱的に薄膜の状態を
変化させて情報を記録及び消去する部材において、記録
薄膜に隣接して高融点の有機材料からなる保温層を形成
するものである。

〔作用〕

記録膜に隣接して有機材料からなる保温層を形成するこ
とにより、記録膜は効率良く加熱される。

これは無機材料に比べ熱伝導率の小さい有機材料を保温
層として用いることにより、記録膜からの熱放散が少な
くなり記録膜の時間に対する放熱特性がより緩やかにに
なる。このため、記録膜の厚さ方向への熱拡散が減少す
ると同時に記録膜の面方向への熱拡散が増加し、記録膜
の結晶化幅が広がり完全なアモルファスマークの消去が
可能となる。また、有機材料からなる高融点材料の保温
層には熱の遮断効果がある。例えば基板材料がポリカー
ボネート、アクリル等の樹脂の場合、基板面にあるレー
ザ光の案内溝等がレーザ光照射により高温になった記録
膜からの放熱により変形してしまう現象がある。これに
対し、記録膜と基板の間に保温層を形成することにより
記録膜からの熱を逆の反射膜側に吸収させることができ
る。これにより基板と膜との微細な界面剥離を防止でき
、これが原因で発生するノイズを防止できる。

〔実施例〕

本発明による実施例を図面を用いて詳細に説明する。

〔実施例１〕 基板としては、予めレーザ光案内用溝あるいはビット列
を形成したポリカーボネート樹脂基板あるいはガラス基
板を用いる。このような基板上に各層をスパッタ法によ
り形成する。この際の構成を第１図に示す。基板１上に
まず誘電体層２としてＺｎＳ−３ｉｎ、、を８００人、
保温Ｎｊ３としてテフロンを２００人、記録膜Ｉｎ３Ｓ
ｂＴｅ、を３００人、保温層３としてテフロンを２００
人、読電体Ｎ！Ｊ２としてＺｎＳ−３ｉｏ、を１０００
人、反射層５としてＮ　ｉ−Ｃｒ（６０：　４０原子％
）を１０００人順次形成する。この上に更に紫外線硬化
樹脂、ホットメルト系接着剤を形成し、これを２枚貼り
あわせてディスクとする。

このディスクを１８００ｒｐｍで５ＭＨｚの信号を記録
しこれにレーザ光をそのパワーを変えて１回照射し、消
去比の測定を行なった。この結果を第５図に示す。消去
比はレーザパワー７ｍＷで最高の４０ｄＢとなった。又
吉き換え特性の測定結果を第６図に示す。占き換え回数
に大きな違いは無いが、１００００回までＣ／Ｎは全く
低下しない。これは基板変形による基板界面の居間剥離
によるノイズが発生しないためである。

尚、保温層の膜厚が厚くなると、保温層を構成する材料
が記録膜への情報の記録時の加熱過程で体積変化を起し
、書き換えによるノイズの上昇が起る。このため保温層
の膜厚は２００Å以下が効果的である。

〔実施例２〕 本実施例においては、記録膜の基板側界面に保温層を形
成した場合について説明する。第２図に本実施例のディ
スク構成をしめす。基板１上に誘電体層２　ＺｎＳ−３
ｉｏ、を８００人、保温Ｎ！Ｉ３ポリイミドを２００人
、記録膜Ｉｎ、５ｂＴｅ、を３００人、誘電体層２　Ｚ
ｎＳ−３ｉｏ、を１０００人、反射層５　Ｎｉ　−Ｃｒ
（６０：　４０５子％）を１０００人順次形成する。こ
の上に更に紫外線硬化樹脂、ホットメルト系接着剤を形
成（図示せず）し、これを２枚貼りあわせてディスクと
する。

このディスクを１８００ｒｐｍで５　Ｍ　Ｈ７，の信号
を記録しこれにレーザ光をそのパワーを変えて１回照射
し、消去比の測定を行なった。この結果を第７図に示す
。消去比はレーザパワー８ｍＷで最高の４０ｄ　Ｂとな
った。　又書き換え特性の測定結果を第８図に示す。魯
き換え回数に大きな違いは無いが、１００００回までＣ
／Ｎは全く低下しない、　これは基板変形による基板界
面の居間剥離によるノイズが発生しないためである。

本実施例においてポリイミドを用いたが、ポリアミドイ
ミドを同様に用いてもその効果は変わらない。

〔発明の効果〕

（１）保温層を形成することにより、レーザによる結晶
化幅が広がり情報の完全な消去が行える。

（２）情報の記録による記録膜からの熱拡散による基板
の変形を防止できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は実施例１のディスク構成図、第２図は実施例２
のディスク構成図、第３図は従来のディスク構成図、第
４図は消去状態図、第５図は実施例１の構成のディスク
における消去特性図、第６図は実施例】の構成のディス
クにおける書き換え特性図、第７図は実施例２の構成の
ディスクにおける消去特性図、第８図は実施例２の構成
のディスクにおける書き換え特性図である。 １　・・・・・・基板 ２　・・・・・・誘電体層 ３　・・・・・・保温層 ４　・・・・・記録膜 ５　・・・・・・反射層 り１図 〒２７ 兇′５図 力４父 ｉ５図 党Ｇ図 ′＠撲り口数−（ロ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、レーザ光の照射により、そのエネルギーを吸収し昇
   温し、溶融し、急冷し、アモルファス化する性質とアモ
   ルファスの状態を昇温除冷することにより結晶化する性
   質を有する記録膜を用い、前記レーザ光の強度変調によ
   り情報を記録する光ディスクにおいて、前記記録膜に直
   接接触して少なくとも上面又は下面に有機薄膜を有する
   構成で、さらに上記有機薄膜の上面、下面の少なくとも
   １方に屈折率が２．０以上の誘電体層を設けることを特
   徴とする光学情報記録再生消去部材。 ２、請求項１記載の有機薄膜の材料として、エチレンフ
   ッ化物、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミドの
   うち少なくとも１種類を用いることを特徴とする光学情
   報記録再生消去部材。 ３、請求項１記載の有機薄膜の膜厚を２００Å以下にす
   ることを特徴とする光学情報記録再生消去部材。