JP2538046B2 - 光学情報記録再生消去部材 - Google Patents

光学情報記録再生消去部材

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JP2538046B2
JP2538046B2 JP1090174A JP9017489A JP2538046B2 JP 2538046 B2 JP2538046 B2 JP 2538046B2 JP 1090174 A JP1090174 A JP 1090174A JP 9017489 A JP9017489 A JP 9017489A JP 2538046 B2 JP2538046 B2 JP 2538046B2
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威夫 太田
正美 内田
惠昭 古川
克已 河原
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はレーザービーム等により、情報を高密度、大
容量で記録再生、及び消去できる光学情報記録再生消去
部材に関するものである。
従来の技術 光ディスクメモリに関しては、TeとTeO2を主成分とす
るTeOx(0<x<2.0)薄膜を用いた追記型のディスク
がある。さらに、レーザー光により薄膜を加熱し、溶融
し、急冷することにより、非晶質化し情報を記録しまし
たこれを加熱し、徐冷することにより結晶化し、消去す
ることができる材料としては、S.R.Ovshinsky(エス・
アール・オブシンスキー)氏等のカルコゲン材料Ge15Te
81Sb2S2等が知られている。また、As2S3やAs2Se3あるい
はSb2Se3等カルコゲン元素と周期律表第V族あるいはGe
等の第IV族元素等の組み合せからなる薄膜等が広く知ら
れている。これらの薄膜をレーザ光ガイド用の溝を設け
た基板に形成し、光ディスクとして用いることができ
る。これらのディスクにレーザ光で情報を記録し、その
情報を消去する方法としてはあらかじめ薄膜を結晶化さ
せておき、これに〜Φ1μmに絞ったレーザ光を情報に
対応させて強度変調を施し、例えば、円盤状の記録ディ
スクを回転せしめて照射し、このピークパワーレーザ光
照射部位は、薄膜の融点以上に昇温し、かつ急冷し、非
晶質化したマークとして情報の記録がおこなえる。そし
てこの変調バイアスパワーレーザ光照射部位は、薄膜の
結晶化温度以上に昇温し、既記録信号情報を消去する働
きがあり、オーバライトできる。
レーザー光は該記録薄膜を融点以上に昇温し、また結
晶化温度以上に昇温する。このため、記録薄膜の上面お
よび下面に耐熱性のすぐれた誘電体を、基板および接着
層に対する保護層を設ける。これら誘電体の熱的な性質
により、昇温おおび急冷、冷の特性がかわり、記録およ
び消去の特性を選ぶことができる。
発明が解決しようとする課題 薄膜を加熱昇温し、溶融急冷非晶質化および加熱昇温
結晶化の手段を用いる情報記録および消去可能なオーバ
ライト記録媒体における第一の課題は、消去特性であ
る。第二の課題は記録消去のサイクル特性である。
本発明の目的は記録消去特性のすぐれたサイクル特性
の安定な光ディスクを提供することである。
課題を解決するための手段 本発明は、レーザ光等の照射により熱的に薄膜の状態
を変化させて情報を記録および消去する部材において、
下面の誘電体層と上面の誘電体層の材質をかえて、その
熱伝導率を上面の誘電体層の材質より下面の誘電体層の
材質の方を低くする構成を有する光学情報記録再生消去
部材、好ましくは上面の誘電体層の膜厚よりも下面の誘
電体層の膜厚の方を厚くした構成を有する光学情報記録
再生消去部材を提供するものである。
作用 Teを含む非晶質膜は、その融点は代表的なもので400
℃から900℃と広い温度範囲にある。これらの膜にレー
ザ光を照射し、昇温徐冷することにより結晶化が行え
る。この温度は、一般的に融点より低い結晶化温度領域
である。また、この結晶化した膜に高いパワーレベルの
レーザ光をあて、その融点以上に加熱すると、その部分
は溶融し急冷し、再び非晶質化し、マークが形成でき
る。記録マークとして非晶質化を選ぶと、このマーク
は、記録薄膜が溶融し、冷却速度が速いほど非晶質状態
の均一なものが得られ、信号振幅が向上する。冷却速度
が遅い場合はマークの中心と周辺で非晶質化の程度に差
が発生する。次に、結晶化消去に際しては、レーザ光の
照射により、既に記録が行われている非晶質マーク部を
結晶化温度以上に昇温し、結晶化させてこのマークを消
去する。この時、マークが均一に結晶化するときは消去
特性が向上する。しかしながら、記録マークが不均一な
場合は結晶化消去の状態が不均一となり、消去特性が低
下する。
実施例 以下本発明の一実施例について、図面を用いて、詳細
に説明する。
記録層である薄膜を形成する基板としては、第1図に
示すようにあらかじめ、レーザ光案内用の溝を形成した
ポリカーボネイト等の樹脂基板あるいは、2P法で溝を形
成したガラス板あるいは、ガラス板に直接溝を形成した
基板を用いる。この表面にあらかじめ耐熱性のすぐれた
誘電体として、熱伝導率が1.6・103Cal/Cm・℃と小さ
い、ZnSを主成分とする下面の第一の無機誘電体層1を
形成しておく。この線膨張係数は7.5×106/℃である。
この上に、Te−Ge−Sbからなる合金薄膜2を形成する。
さらにこの記録薄膜層の上に上面の第二の無機誘電体層
3を設ける。この誘電体層としては、下面の材質に比べ
熱伝導率が高い相異なる材質を用いる。特にAlNが熱伝
導率が高いため、上面の誘電体層の材質として好まし
く、AlNを主成分とする膜を選ぶ。熱伝導率は、約6・1
01であり、冷却速度の向上をはかることが出来る。さら
に、この上にAlからなる反射層4を設ける。膜厚として
は、下面の誘電体を200nm以下に選び、上面の誘電体を1
00nm以下に選ぶ。薄膜形成の方法としては、真空蒸着あ
るいは、スパッタ法が使用できる。第二の無機誘電体層
の上に反射層を設けることにより、感度の向上をはかる
こともできる。記録薄膜の膜厚として20nm以下の薄い膜
厚領域を選ぶことが重要である。さらに保護板としてポ
リカーボネイト板を接着剤で密着する。
130mmのディスクとして、1800rpm回転でf1−3.43MHz
の信号と、f2=1.0MHzの信号のオーバーライト特性を測
定する。オーバーライトは、1ケのサークルスポット1m
のレーザ光により、高いパワーレベル16mW、低いパワー
レベル8mWのパワーレベル間の変調で、高いパワーレベ
ルで非晶質化マークを形成し、低いパワーレベルで非晶
質化マークを結晶化して消去する同時記録の方法であ
る。
記録信号のC/N比としては、55dB以上が得られる。さ
らに、消去特性として、オーバライト消去30dB以上が得
られる。
本発明の構成の溝形状の相変化光ディスクについて、
オーバライトのサイクル特性を評価する。特にビットエ
ラーレイトの特性を測定する。1000000サイクル以上劣
化が見られない。
発明の効果 以上の構成により、次のような効果がある。
(1) 記録信号振幅が増大し、C/N比は55dB以上に向
上する。
(2) 記録マークが均一化し、オーバライト消去率が
30dB以上に向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例における光学情報記録再生消
去部材の溝形状断面図である。 1……第1の無機誘電体層、2……Te−Ge−Sbからなる
合金薄膜、3……第二の無機誘電体層、4……Alからな
る反射層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河原 克已 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭54−156521(JP,A) 特開 昭56−130394(JP,A) 特開 平2−56746(JP,A) 特開 平2−195537(JP,A)

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】レーザー光の照射によりエネルギーを吸収
    して昇温し、溶融・急冷しアモルファス化する性質と、
    アモルファスの状態を昇温することにより、結晶化する
    性質とを備えた材料を記録薄膜層とし、前記レーザー光
    の強度変調により情報を記録する前記記録薄膜層の上面
    およびレーザー光入射側である下面に、誘電体層を有す
    る部材であって、前記下面の誘電体層と前記上面の誘電
    体層とに、前記下面の誘電体層の方が前記上面の誘電体
    層よりも熱伝導率が低い相異なる誘電体材料を用いるこ
    とを特徴とする光学情報記録再生消去部材。
  2. 【請求項2】下面の誘電体層の膜厚を上面の誘電体層の
    膜厚より厚くすることを特徴とする請求項(1)記載の
    光学情報記録再生消去部材。
  3. 【請求項3】下面の誘電体層がZnSを主成分とする材料
    であり、上面の誘電体層がAlNを主成分とする材料であ
    ることを特徴とする請求項(1)記載の光学情報記録再
    生消去部材。
  4. 【請求項4】上面の誘電体層の上に前記上面の誘電体層
    を構成する材料よりも熱伝導率が高い材料の反射膜を設
    けることを特徴とする請求項(1)記載の光学情報記録
    再生消去部材。
  5. 【請求項5】記録薄膜層としてTe,Ge,Sbからなる材料を
    用いることを特徴とする請求項(1)記載の光学情報記
    録再生消去部材。
  6. 【請求項6】記録薄膜層の膜厚が20nm以下であることを
    特徴とする請求項(1)記載の光学情報記録再生消去部
    材。
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