JPH04194527A - 空気イオン化システム - Google Patents
空気イオン化システムInfo
- Publication number
- JPH04194527A JPH04194527A JP2322523A JP32252390A JPH04194527A JP H04194527 A JPH04194527 A JP H04194527A JP 2322523 A JP2322523 A JP 2322523A JP 32252390 A JP32252390 A JP 32252390A JP H04194527 A JPH04194527 A JP H04194527A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- air
- clean room
- particles
- ionization device
- pure water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims abstract description 28
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 25
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 18
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 10
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 10
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 6
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 abstract description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 2
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 8
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000007791 dehumidification Methods 0.000 description 1
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C—MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C3/00—Separating dispersed particles from gases or vapour, e.g. air, by electrostatic effect
- B03C3/017—Combinations of electrostatic separation with other processes, not otherwise provided for
- B03C3/0175—Amassing particles by electric fields, e.g. agglomeration
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C—MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C3/00—Separating dispersed particles from gases or vapour, e.g. air, by electrostatic effect
- B03C3/019—Post-treatment of gases
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05F—STATIC ELECTRICITY; NATURALLY-OCCURRING ELECTRICITY
- H05F3/00—Carrying-off electrostatic charges
- H05F3/04—Carrying-off electrostatic charges by means of spark gaps or other discharge devices
Landscapes
- Ventilation (AREA)
- Elimination Of Static Electricity (AREA)
- Central Air Conditioning (AREA)
- Separation Of Particles Using Liquids (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
出し、更に再飛散することによってクリーンルームを汚
染する微粒子の析出防止に関するものである。
ものがあり、複雑化され、性能が向上されている。また
、その進歩に伴い需要も急増している。この様な半導体
の製造工程では、ごく僅かでも塵が付着すると、その塵
が半導体素子のバタンの欠陥等を起し半導体の特性に影
響を及して不良品となるため、無塵に近づけた清浄度の
高いクリーンルームで製造されている。
湿度が40%程度となる低湿度環境で生産が行われ、ま
た、電気抵抗の高いプラスチック類が多用されている。
グされ、−容易に静電気により帯電される。静電気は、
ウェハ表面上に塵埃を引きつけたり、放電時にウェハ上
のLSIの静電破壊を引き起こしたり、また、放電時に
発生する電磁波によって半導体素子を内蔵した精密機器
の誤作動等の種々の生産障害を引き起こして問題になっ
ている。
こしている静電気を除電するために空気イオン化装置か
利用されている。この空気イオン化装置では、これに設
けられた電極に高電圧を印加して放電を起こさせ、その
時発生するイオンによって帯電体上の電荷を中和させて
除電を行っている。
は、そのイオン発生電極から発塵することが判っている
。この原因としては、 ■電極の磨耗したものが飛散する。
微粒子がイオン発生電極上に析出し、これがある程度の
大きさになると再飛散する。
しては、電極部材の改良をすることによって、磨耗率の
低下した電極が提供されるようになっているが、SiO
2微粒子の再飛散に関しては、その対策はまだ確立され
ていない。
に提案されたもので、その目的は、空気イオン化装置で
クリーンルーム内の静電気を除去した時に、そのイオン
発生電極上に5i02微粒子が析出することがなく、即
ち、5i02微粒子の再飛散による発塵が起こらない空
気イオン化システムを提供することである。
たって、次のような予備実験を行った。
含む空気を微細な気泡にして超純水中にバブリングし、
SiO2微粒子と超純水を接触させることによってSi
O2微粒子を超純水中に捕集し、空気を洗浄することを
考えた。これを実行するために、0゜1μmクラス10
(0,1μm以上の微粒子が、1ft3中に10個以下
)のクリーンルーム内に、第2図に示すような装置を設
けた。この装置では、クリーンルーム内の空気がガス洗
浄瓶21内の超純水22(電気抵抗18゜3MΩ・cm
、at25’ C)内に導入され、バブリングによる洗
浄が二段階行われる。この後、洗浄された空気はシリカ
ゲル23によって除湿され、排出量を調整するためのフ
ローメータ24を介し、エアポンプ25によって再度ク
リーンルーム内に排出される。
. ’31 /m i n、超純水22に導入後70
時間(処理空気63001)の洗浄瓶21内の超純水2
2中に含まれる5i02の濃度を誘導結合プラズマ(I
CP)発光分光分析による分析を行った。その結果5i
n2濃度は、 空気洗浄前の超純水 3〜10ppb第一段目の洗浄
瓶 407ppb第二段目の洗浄瓶 7
1ppbと測定され、第一段目の洗浄瓶中の超純水の5
i02濃度は、空気洗浄前に比べて高濃度となり、あき
らかに洗浄瓶に導入された空気中に含まれる5i02が
捕集されたものと推測される。試算した結果、第一段目
で83%、第二段目で96%が除去されていることがわ
かった。
化システムを発明した。
、空気中に存在する微粒子を洗浄によって除去するため
の空気洗浄装置と、前記空気洗浄装置によって微粒子の
除去された空気をイオン化するための空気イオン化装置
とを備えたことを特徴とする。
る。
によって、空気中に存在する5i02微粒子が超純水に
捕集される。この空気を空気イオン化装置に供給しイオ
ン化することによって、空気イオン化装置のイオン発生
電極上に5i02微粒子の析出を防止することができる
。
る。
PAフィルタ1によって空気が清浄化されたクリーンル
ームに、空気洗浄装置と空気イオン化装置を連続して設
ける。空気洗浄装置には、エアポンプ2を介してクリー
ンルーム内の空気が流入される気泡塔3が多段式に設け
られている。
純水4が入れられている。クリーンルーム内の空気を送
る通気管は、第1気泡塔3aの底面近傍まで配設され、
その先端には、多数の細孔の形成されたセラミック多孔
体5が設けられている。第1゛ 気泡塔3aの上部の気
層からは、第2気泡塔3bの底面近傍まで通気管が配設
され、第1気泡塔3aと同様にその先端にはセラミ・ツ
ク多孔体5が設けられている。この第2気泡塔3bの上
部気層からは、除湿のために冷却コイル6aで冷却され
る繊維層6bの設けられたミストセパレータ6の下部ま
で通気管が配設されている。更に、ミストセパレータ6
の上部から設けられた通気管は、一部にヒータ7が巻き
付けられ、フローメータ8を介して、クリーンルーム内
のULPAフィルタ1面に設けられた空気イオン化装置
9まで配設されている。この空気イオン化装置9は、高
圧電源10とこれに接続される針状電極11を備え、針
状電極11の高圧電源10側は、空気洗浄装置から送ら
れる空気を供給するためのサプライチャンバ12と仕切
られている。また、電極11の先端側は、サプライチャ
ンバ12と一体に形成されたイオン化空気排出口の備え
たノズル13によって保護されている。
14によって容量や循環等が制御され、図示しない超純
水装置によって供給や回収が行われている。
りである。
リーンルーム内の空気は、エアポンプ2を介して第1気
泡塔3aに送られ、気泡塔3a底面3近傍の超純水4中
に配設されたセラミック多孔体5の各細孔から排出され
る。この空気は細かい気泡状となって、超純水上部の気
層まで上昇する。この時、第1気泡塔3a内部の圧力を
一定とするために、第1気泡塔3aに送られたと同容量
の空気が第2気泡塔3bに排出される。この空気は、第
1気泡塔3aと同様に、第2気泡塔3bの超純水中)細
かい気泡状となって上部の気層まで上昇する。更に、第
2気泡塔3b内部の圧力を一定とするために、第2気泡
塔3aに送られたと同容量の空気がミストセパレータ6
に排出される。
分に除湿され、更に、ヒータ7で室温に戻され、調湿さ
れて、フローメータ8によって一定の流量で空気イオン
化装置9に送られる。空気イオン化装置9では、正負の
各高圧電源10a、10bから針状電極11の両極間に
高電圧を印加して放電を起こさせ、空気洗浄装置より送
られた空気のイオン化が行なわれる。
ムの空気が空気洗浄装置の超純水中で細かい気泡となっ
て上昇していくことより、超純水と接する空気の表面積
を大きくすることができ、また、空気が超純水と充分に
接することができる。
存率が激減される。この空気が空気イオン化装置に供給
されることによって、静電気除去のために電極に高電圧
を印加して放電を起こさせても、SiO2微粒子が電極
に析出してくることが無くなる。これによって、5i0
2微粒子の再飛散によるクリーンルームの汚染は皆無と
なる。
た、空気中に存在する親水性のガスも超純水に溶解され
るので、クリーンルーム内の空気の清浄化を更に高める
ことにもなる。
く、具体的な各部材の形状、或いは各々の取付は位置及
び方法は適宜変更可能である。
、複数個設けることによって、空気中の微粒子や親水性
ガスの残存率を限りなく零に近い数値とすることができ
る。
れず、それ自体から発塵することのないものであれば、
他の除湿用部材でも問題ない。
送る通気管で、ヒータ7の後に例えば0゜1μmのメン
ブレンフィルタを設けることも可能である。即ち、気泡
塔3a、3bで除去されなかった極僅かな5i02微粒
子が、ミストセパレータ6に設けられた繊維層6b上に
水滴の核となって析出し、長い間に濃縮されて大きなS
iO□微粒子となって再飛散する場合に、メンブレンフ
ィルタによってこれらの再飛散する微粒子を除去するこ
とかできる。
装置を連結することもできる。
れば、5in2微粒子の存在しない空気をイオン化装置
に供給することによって、空気をイオン化した時にイオ
ン化装置の電極表面に5i02微粒子が析出することが
ない。即ち、イオン化装置によってクリーンルーム内の
静電気除去を行っても、従来起こっていた電極表面から
の8102微粒子の再飛散が起こらない。従って、クリ
ーンルームを汚染することのない空気イオン化システム
を提供することができる。
オン化システムを示す側面図、第2図は本発明の原理を
示す空気洗浄装置の側面図である。 1・・・ULPAフィルタ、2・・・エアポンプ、3・
・・気泡塔、4・・・超純水、5・・・セラミック多孔
体、6・・・ミストセパレータ、7・・・ヒータ、8・
・・フローメータ、9・・・空気イオン化装置、10・
・・高圧電源、11・・・針状電極、12・・・サプラ
イチャンバ、13・・・ノズル、14・・・制御盤。 21・・・ガス洗浄瓶、22・・・超純水、23・・・
シリカゲル、24・・・フローメータ、25・・・エア
ポンプ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 クリーンルーム内の静電気を除去するための空気イオン
化システムにおいて、 クリーンルーム内に、空気中に存在する微粒子を洗浄に
よって除去するための超純水による空気洗浄装置と、 前記空気洗浄装置によって微粒子の除去された空気をイ
オン化するための空気イオン化装置と、を備えたことを
特徴とする空気イオン化システム。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2322523A JP2930702B2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 空気イオン化システム |
US07/946,820 US5296018A (en) | 1990-11-28 | 1992-09-18 | Method and apparatus for eliminating electric charges in a clean room |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2322523A JP2930702B2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 空気イオン化システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04194527A true JPH04194527A (ja) | 1992-07-14 |
JP2930702B2 JP2930702B2 (ja) | 1999-08-03 |
Family
ID=18144616
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2322523A Expired - Lifetime JP2930702B2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 空気イオン化システム |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5296018A (ja) |
JP (1) | JP2930702B2 (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06325894A (ja) * | 1993-03-19 | 1994-11-25 | Techno Ryowa:Kk | クリーンルーム用イオナイザー |
JP2002216996A (ja) * | 2001-01-18 | 2002-08-02 | Keyence Corp | イオン化装置及びその放電電極バー |
JP2002216997A (ja) * | 2001-01-19 | 2002-08-02 | Keyence Corp | イオン化装置及びその放電電極バー |
JP2005243655A (ja) * | 2005-05-11 | 2005-09-08 | Keyence Corp | イオン化装置の放電電極バー |
JP2005268232A (ja) * | 2005-05-11 | 2005-09-29 | Keyence Corp | イオン化装置の放電電極バー |
GB2428469A (en) * | 2005-05-11 | 2007-01-31 | Muhammad Abdulrahman Mushref | Air purifier with cooling or heating the air |
JP2010257992A (ja) * | 2010-07-30 | 2010-11-11 | Keyence Corp | イオン化装置の放電電極バー |
JP2010272534A (ja) * | 2010-07-30 | 2010-12-02 | Keyence Corp | イオン化装置の放電電極バー |
JP2010272533A (ja) * | 2010-07-30 | 2010-12-02 | Keyence Corp | イオン化装置の放電電極バー |
JP2010272532A (ja) * | 2010-07-30 | 2010-12-02 | Keyence Corp | イオン化装置の放電電極バー |
CN103785251A (zh) * | 2013-04-09 | 2014-05-14 | 张峰 | 用热水去除空气中pm10及pm2.5的方法 |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6340381B1 (en) * | 1991-12-02 | 2002-01-22 | Ebara Research Co., Ltd. | Method and apparatus for the preparation of clean gases |
US5922105A (en) * | 1992-12-02 | 1999-07-13 | Ebara Research Co., Ltd. | Method and apparatus for the preparation of clean gases |
US6733570B2 (en) | 1992-12-02 | 2004-05-11 | Ebara Research Co., Ltd. | Method and apparatus for the preparation of clean gases |
JP3405439B2 (ja) | 1996-11-05 | 2003-05-12 | 株式会社荏原製作所 | 固体表面の清浄化方法 |
US6504702B1 (en) * | 1999-07-30 | 2003-01-07 | Illinois Tool Works Inc. | Ionizer for static elimination in variable ion mobility environments |
US6464754B1 (en) * | 1999-10-07 | 2002-10-15 | Kairos, L.L.C. | Self-cleaning air purification system and process |
US6379428B1 (en) * | 2000-02-10 | 2002-04-30 | Applied Materials, Inc. | Method for reducing particle concentration within a semiconductor device fabrication tool |
US6574086B2 (en) * | 2000-06-15 | 2003-06-03 | Illinois Tool Works Inc. | Static eliminator employing DC-biased corona with extended structure |
US7224567B2 (en) * | 2001-11-16 | 2007-05-29 | Kazuo Motouchi | Structural arrangements for ion generator to promote ionization efficiency |
US6810832B2 (en) | 2002-09-18 | 2004-11-02 | Kairos, L.L.C. | Automated animal house |
US20060283387A1 (en) * | 2005-06-17 | 2006-12-21 | Kouichi Takeda | Painter and method of painting |
US8038775B2 (en) | 2009-04-24 | 2011-10-18 | Peter Gefter | Separating contaminants from gas ions in corona discharge ionizing bars |
US8048200B2 (en) | 2009-04-24 | 2011-11-01 | Peter Gefter | Clean corona gas ionization for static charge neutralization |
US8416552B2 (en) | 2009-10-23 | 2013-04-09 | Illinois Tool Works Inc. | Self-balancing ionized gas streams |
US8143591B2 (en) | 2009-10-26 | 2012-03-27 | Peter Gefter | Covering wide areas with ionized gas streams |
CN104941363B (zh) * | 2014-03-31 | 2017-05-03 | 张峰 | 一种去除空气中颗粒物的装置 |
KR102132114B1 (ko) * | 2019-01-25 | 2020-07-08 | 장종환 | 공기청정기 |
KR102391711B1 (ko) * | 2019-09-16 | 2022-04-28 | 금오공과대학교 산학협력단 | 마이크로버블을 이용한 공기정화시스템 및 이의 공기정화방법 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2024226A (en) * | 1931-05-22 | 1935-12-17 | John P Irwin | Apparatus for treating gas |
US2634818A (en) * | 1949-12-06 | 1953-04-14 | Research Corp | Gas cleaning apparatus |
US2862354A (en) * | 1954-09-20 | 1958-12-02 | George E Barnhart | Engine exhaust treating apparatus |
US3826063A (en) * | 1973-05-21 | 1974-07-30 | T Festner | Electrostatic agglomeration apparatus |
US4266948A (en) * | 1980-01-04 | 1981-05-12 | Envirotech Corporation | Fiber-rejecting corona discharge electrode and a filtering system employing the discharge electrode |
US4534776A (en) * | 1982-08-16 | 1985-08-13 | At&T Bell Laboratories | Air cleaner |
AT382323B (de) * | 1985-10-24 | 1987-02-10 | Linzer Glasspinnerei Franz Hai | Verfahren und vorrichtung zur reinigung von rohgas |
SE462703B (sv) * | 1986-04-21 | 1990-08-20 | Astra Vent Ab | Anordning foer alstring av en elektrisk koronaurladdning i luft |
US4909161A (en) * | 1989-04-13 | 1990-03-20 | Germain Henri Paul | Anti-pollution and anti-germ system |
-
1990
- 1990-11-28 JP JP2322523A patent/JP2930702B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-09-18 US US07/946,820 patent/US5296018A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06325894A (ja) * | 1993-03-19 | 1994-11-25 | Techno Ryowa:Kk | クリーンルーム用イオナイザー |
JP2002216996A (ja) * | 2001-01-18 | 2002-08-02 | Keyence Corp | イオン化装置及びその放電電極バー |
JP4575603B2 (ja) * | 2001-01-18 | 2010-11-04 | 株式会社キーエンス | イオン化装置及びその放電電極バー |
JP2002216997A (ja) * | 2001-01-19 | 2002-08-02 | Keyence Corp | イオン化装置及びその放電電極バー |
JP4610092B2 (ja) * | 2001-01-19 | 2011-01-12 | 株式会社キーエンス | イオン化装置及びその放電電極バー |
GB2428469B (en) * | 2005-05-11 | 2007-09-12 | Muhammad Abdulrahman Mushref | Air purifier with a cooling and heating unit |
GB2428469A (en) * | 2005-05-11 | 2007-01-31 | Muhammad Abdulrahman Mushref | Air purifier with cooling or heating the air |
JP4536587B2 (ja) * | 2005-05-11 | 2010-09-01 | 株式会社キーエンス | イオン化装置の放電電極バー |
JP2005268232A (ja) * | 2005-05-11 | 2005-09-29 | Keyence Corp | イオン化装置の放電電極バー |
JP2005243655A (ja) * | 2005-05-11 | 2005-09-08 | Keyence Corp | イオン化装置の放電電極バー |
JP2010257992A (ja) * | 2010-07-30 | 2010-11-11 | Keyence Corp | イオン化装置の放電電極バー |
JP2010272534A (ja) * | 2010-07-30 | 2010-12-02 | Keyence Corp | イオン化装置の放電電極バー |
JP2010272533A (ja) * | 2010-07-30 | 2010-12-02 | Keyence Corp | イオン化装置の放電電極バー |
JP2010272532A (ja) * | 2010-07-30 | 2010-12-02 | Keyence Corp | イオン化装置の放電電極バー |
CN103785251A (zh) * | 2013-04-09 | 2014-05-14 | 张峰 | 用热水去除空气中pm10及pm2.5的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2930702B2 (ja) | 1999-08-03 |
US5296018A (en) | 1994-03-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH04194527A (ja) | 空気イオン化システム | |
JP4941415B2 (ja) | クリーンベンチ | |
CN111299253B (zh) | 一种等离子清洗装置 | |
KR20030007714A (ko) | 먼지 및 에어로졸을 없애는 공기 클리닝 장치 | |
JP2022509338A (ja) | 空気除塵システム及び方法 | |
US11675264B2 (en) | Reticle cleaning system | |
JP2023524311A (ja) | 静電気集塵機能を有する空気処理装置 | |
JP3372602B2 (ja) | 空気中不純物の除去装置及び除去方法 | |
US6387333B2 (en) | Gas purifying system | |
KR102347063B1 (ko) | 복수의 홀을 구비한 수직 나노 갭 전극을 구비한 미세먼지 포집용 필터 및 이를 구비한 공기 조화 장치 | |
JP3718177B2 (ja) | 空気中ガス成分の除去方法 | |
CN103933600A (zh) | 一种空气净化装置及空气净化方法 | |
KR101942658B1 (ko) | 입자를 대전시킬 수 있는 플라즈마 발생장치를 이용한 미세먼지 제거기 | |
US20210086194A1 (en) | Filter for trapping particulate matter including vertical nano-gap electrode with plurality of holes and air conditioning apparatus having the same | |
JPH0439367B2 (ja) | ||
JP3896539B2 (ja) | フィルタとこれを用いたクリーンルーム | |
KR102507354B1 (ko) | 나노 입자가 증착된 항균 필터 여재 제조 장치 및 방법 | |
JP3393211B2 (ja) | 空気清浄化方法とその装置 | |
Seto et al. | Fine particulate contaminant control by the UV/photoelectron method under a low pressure condition | |
JP4367724B2 (ja) | 無発塵空気イオン化装置及び方法 | |
JPH04225230A (ja) | 湿式洗浄装置 | |
JPH1194325A (ja) | クリーンルーム清浄化方法および清浄空気供給装置 | |
JPH04247207A (ja) | エアフィルター | |
JP4522606B2 (ja) | 空気イオンの発生方法とその装置 | |
JPS6269032A (ja) | 気体の除塵・除菌装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090521 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100521 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110521 Year of fee payment: 12 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110521 Year of fee payment: 12 |