JPH04193853A - 置換アセトアミド化合物の製造法 - Google Patents
置換アセトアミド化合物の製造法Info
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- JPH04193853A JPH04193853A JP2324396A JP32439690A JPH04193853A JP H04193853 A JPH04193853 A JP H04193853A JP 2324396 A JP2324396 A JP 2324396A JP 32439690 A JP32439690 A JP 32439690A JP H04193853 A JPH04193853 A JP H04193853A
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- ester
- compound
- amino
- alkyl group
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は置換アセトアミド化合物の製造法に関する。
さらに詳しくは、この発明は抗フリン活性を有し、神経
性頻尿、夜尿症、神経因性膀胱、不安定膀胱、膀胱痙縮
、慢性膀胱炎、慢性前立腺炎などの疾患における頻尿症
、尿失禁などの排尿障害の治療に有効な置換アセトアミ
ド化合物の新規製造法に関する。
性頻尿、夜尿症、神経因性膀胱、不安定膀胱、膀胱痙縮
、慢性膀胱炎、慢性前立腺炎などの疾患における頻尿症
、尿失禁などの排尿障害の治療に有効な置換アセトアミ
ド化合物の新規製造法に関する。
（課題を解決するための手段）
この発明の製造法は、−・般式：
（ＩＩ）
（式中、Ｒ１はアリール基またはシクロ（低級）アルキ
ル基、 Ｒ２はアリール基、 Ｒ３は低級アルキル基、ヒドロキシ（低級）アルキル基
、カルボキシ（低級）アルキル基、保護されたカルボキ
シ（低級）アルキル基、シクロ（低級）アルキル基また
は適当な置換基を有していても良いアル（低級）アルキ
ル基、 Ｒ４はアミン保護基、および Ａは低級アルキニレン基をそれぞれ意味する。）で示さ
れる化合物またはその塩類をアミン保護基の脱離反応に
付して、一般式・ （式中、Ｒ’、Ｒ２、Ｒ３およびＡはそれぞれ前と同じ
意味） て示される化合物またはその塩類を得ることからなる。
ル基、 Ｒ２はアリール基、 Ｒ３は低級アルキル基、ヒドロキシ（低級）アルキル基
、カルボキシ（低級）アルキル基、保護されたカルボキ
シ（低級）アルキル基、シクロ（低級）アルキル基また
は適当な置換基を有していても良いアル（低級）アルキ
ル基、 Ｒ４はアミン保護基、および Ａは低級アルキニレン基をそれぞれ意味する。）で示さ
れる化合物またはその塩類をアミン保護基の脱離反応に
付して、一般式・ （式中、Ｒ’、Ｒ２、Ｒ３およびＡはそれぞれ前と同じ
意味） て示される化合物またはその塩類を得ることからなる。
目的化合物（ｊ）および出発物質（Ｕ）の適当な塩類と
しては、医薬」二許容される塩類、特に慣用される非毒
性塩が含まれ、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水
素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩、マレイン酸塩、
酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩
等の有機酸塩、アルギニン塩、アスパラギン酸塩、グル
タミン酸塩等のアミノ酸との塩等が挙げられる。
しては、医薬」二許容される塩類、特に慣用される非毒
性塩が含まれ、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水
素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩、マレイン酸塩、
酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩
等の有機酸塩、アルギニン塩、アスパラギン酸塩、グル
タミン酸塩等のアミノ酸との塩等が挙げられる。
この明細書の以上および以下の記載において、この発明
の範囲内に包含される種々の定義の好適な例および説明
を以下詳細に説明する。
の範囲内に包含される種々の定義の好適な例および説明
を以下詳細に説明する。
低級の語は、特にことわらない限り、１ないし６個の炭
素原子を宵する基を含むものとして用いる。
素原子を宵する基を含むものとして用いる。
好適な「アリール基」としては、フェニル基、ナフチル
基、ペンタレニル基、インデニル基等が挙げられる。
基、ペンタレニル基、インデニル基等が挙げられる。
好適な「低級アルキル基１としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、第三級ブチル、ペン
チル、へ＋ンル等のような直鎖アルキル基または分枝鎖
アルキル基が挙げられるが、その中で好ましいものは（
０１〜Ｃ４）アルキル基であり、その中でもっとも好ま
しいものはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
およびナフチル基である。
プロピル、イソプロピル、ブチル、第三級ブチル、ペン
チル、へ＋ンル等のような直鎖アルキル基または分枝鎖
アルキル基が挙げられるが、その中で好ましいものは（
０１〜Ｃ４）アルキル基であり、その中でもっとも好ま
しいものはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
およびナフチル基である。
好適な「シクロ（低級）アルキル基」としては、シクロ
プロピル、シクロブチル、／クロペンチル、シクロヘキ
シル等の飽和環状炭化水素基等が挙げられる。
プロピル、シクロブチル、／クロペンチル、シクロヘキ
シル等の飽和環状炭化水素基等が挙げられる。
好適な［ヒドロキシ（低級）アルキル基」としては、例
えばヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシ
プロピル、ヒドロキシ−１−メチルエチル、ヒドロキシ
ブチル、ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル等の
ヒドロキン基を有する直鎖もしくは分枝状の低級アルキ
ル基が挙げられる。
えばヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシ
プロピル、ヒドロキシ−１−メチルエチル、ヒドロキシ
ブチル、ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル等の
ヒドロキン基を有する直鎖もしくは分枝状の低級アルキ
ル基が挙げられる。
好適な「カルボキン（低級）アルキル基」としては、例
えばカルボキシメチル１、カルボキンエチル、カルボキ
シプロピル、カルボキン−１−メチルエチル、カルボキ
ンブチル、カルボキンペンチル、カルボキシヘキシル等
のカルホキジノλを有する直鎖もしくは分枝状の低級ア
ルキル基が挙げられる。
えばカルボキシメチル１、カルボキンエチル、カルボキ
シプロピル、カルボキン−１−メチルエチル、カルボキ
ンブチル、カルボキンペンチル、カルボキシヘキシル等
のカルホキジノλを有する直鎖もしくは分枝状の低級ア
ルキル基が挙げられる。
「保護されたカルボキシ（低級）アルキル基」の好適な
Ｕ保護されたカルボキシ基Ｊとしては、エステル化され
たカルボキシ基が挙げられ、そのエステル化されたカル
ボキシ基のエステル部分の具体例としては、適当な置換
基を有していてもよい例えばメチルエステル、エチルエ
ステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブ
チルエステル、イソブチルエステル、第三級ブチルエス
テル、ペンチルエステル、第三級ペンチルエステル、ヘ
キシルエステル、１−シクロブロピルエステル等の低級
アルキルエステル、その例として、例えばアセトキシメ
チルエステル、プロピオニルオキシメチルエステル、プ
チリルオキンメチルエステル、イソブチリルオキシメチ
ルエステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイ
ルオキシメチルエステル、ｌ−アセトキンエチルエステ
ル、］ −プロピオニルオキンエチルエステル、２ ブ
ロビオニルオキンエチルエステル、ヘキサノイルオキシ
メチルエステル等の低級アルカノイルＡキン（低級）ア
ルキルエステル、例えば２ メシルエチルエステル等の
低級アルカンスルホニル（低級）アルキルエステル、ま
たは例えば２−ヨードエチルエステル、２，２．２−）
リクロロエチルエステル等のモノ（もしくはジもしくは
トリ）ハロ（低級）アルキルエステル、；例えばビニル
エステル、アリルエステル等の低級アルケニルエステル
；例えばエチニルエステル、プロピニルエステル等の低
級アルキニルエステル、例えばベンジルエステル、４〜
メトキシベンジルエステル、４−ニトロベンジルエステ
ル、フェネチルエステル、トリチルエステル、ベンズヒ
ドリルエステル、ビス（３−メトキンフェニル）メチル
エステル、３゜４−ジメトキンベンジルエステル、４−
ヒドロキン−３，５−ジ第三級ブチルベンジルエステル
等の適当な置換ノｉ（を有していてもよいアル（低級）
アルキルエステル；例えばフコニルエステル、４−クロ
ロフェニルエステル、トリルエステル、４−１三級ブチ
ルフェニルエステル、キンリルエステル、メシチルエス
テル、クメニルエステル等の適当な置換基を有していて
もよいアリールエステル等のようなものが挙げられる。
Ｕ保護されたカルボキシ基Ｊとしては、エステル化され
たカルボキシ基が挙げられ、そのエステル化されたカル
ボキシ基のエステル部分の具体例としては、適当な置換
基を有していてもよい例えばメチルエステル、エチルエ
ステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブ
チルエステル、イソブチルエステル、第三級ブチルエス
テル、ペンチルエステル、第三級ペンチルエステル、ヘ
キシルエステル、１−シクロブロピルエステル等の低級
アルキルエステル、その例として、例えばアセトキシメ
チルエステル、プロピオニルオキシメチルエステル、プ
チリルオキンメチルエステル、イソブチリルオキシメチ
ルエステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイ
ルオキシメチルエステル、ｌ−アセトキンエチルエステ
ル、］ −プロピオニルオキンエチルエステル、２ ブ
ロビオニルオキンエチルエステル、ヘキサノイルオキシ
メチルエステル等の低級アルカノイルＡキン（低級）ア
ルキルエステル、例えば２ メシルエチルエステル等の
低級アルカンスルホニル（低級）アルキルエステル、ま
たは例えば２−ヨードエチルエステル、２，２．２−）
リクロロエチルエステル等のモノ（もしくはジもしくは
トリ）ハロ（低級）アルキルエステル、；例えばビニル
エステル、アリルエステル等の低級アルケニルエステル
；例えばエチニルエステル、プロピニルエステル等の低
級アルキニルエステル、例えばベンジルエステル、４〜
メトキシベンジルエステル、４−ニトロベンジルエステ
ル、フェネチルエステル、トリチルエステル、ベンズヒ
ドリルエステル、ビス（３−メトキンフェニル）メチル
エステル、３゜４−ジメトキンベンジルエステル、４−
ヒドロキン−３，５−ジ第三級ブチルベンジルエステル
等の適当な置換ノｉ（を有していてもよいアル（低級）
アルキルエステル；例えばフコニルエステル、４−クロ
ロフェニルエステル、トリルエステル、４−１三級ブチ
ルフェニルエステル、キンリルエステル、メシチルエス
テル、クメニルエステル等の適当な置換基を有していて
もよいアリールエステル等のようなものが挙げられる。
好適な「アル（低級）アルキル基」としては、ベンジル
、フェネチル、ヘンス゛ヒドリル、トリチルのようなモ
ノ（またはジ、またはトす）フェニル（低級）アルキル
基等が挙げられ、とりわけベンジル基が好ましい。そし
てこれらの基は、例えばメトキン等の低級アルコキシ、
！：（、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低級アル
キル基のような適当な置換基を宵していてもよい。
、フェネチル、ヘンス゛ヒドリル、トリチルのようなモ
ノ（またはジ、またはトす）フェニル（低級）アルキル
基等が挙げられ、とりわけベンジル基が好ましい。そし
てこれらの基は、例えばメトキン等の低級アルコキシ、
！：（、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低級アル
キル基のような適当な置換基を宵していてもよい。
好適な「アミノ保護基−１としては、例えばベンジル、
フェネチル等のフェニル（低級）アルキル、例えばベン
ズヒドリル等のジフェニル（低級）アルキル、例えばト
リチル等のトリフェニル（低級）アルキルなどのような
アル（低級）アルキルノ１（か挙げられ、そしてこれら
の基は、例えばメトキシ、エトキン、プロポキン、第三
級ブトキン、ペンチルオキ／、ヘキシルオキン等の低級
アルコキシのような置換基を有していてもよ（、それら
のなかで好ましいものは低級アルコキンで置換されたフ
ェニル（低級）アルキル基であり、それらのなかでさら
に好ましいものは、（Ｃ１〜Ｃ４）アルコキシで置換さ
れたフェニル（Ｃ，〜Ｃ４）アルキル基であり、そして
最も好ましいものは４−メトキシベンジルである。また
、例えば２−クロロアセチル、２−クロロプロピオニル
、２−クロロヘキサノイル、２−フルオロアセチル等の
２−ハロ（低級）アルカノイル基が挙げられ、それらの
中で好ましいものは、２−クロロアセチルである。
フェネチル等のフェニル（低級）アルキル、例えばベン
ズヒドリル等のジフェニル（低級）アルキル、例えばト
リチル等のトリフェニル（低級）アルキルなどのような
アル（低級）アルキルノ１（か挙げられ、そしてこれら
の基は、例えばメトキシ、エトキン、プロポキン、第三
級ブトキン、ペンチルオキ／、ヘキシルオキン等の低級
アルコキシのような置換基を有していてもよ（、それら
のなかで好ましいものは低級アルコキンで置換されたフ
ェニル（低級）アルキル基であり、それらのなかでさら
に好ましいものは、（Ｃ１〜Ｃ４）アルコキシで置換さ
れたフェニル（Ｃ，〜Ｃ４）アルキル基であり、そして
最も好ましいものは４−メトキシベンジルである。また
、例えば２−クロロアセチル、２−クロロプロピオニル
、２−クロロヘキサノイル、２−フルオロアセチル等の
２−ハロ（低級）アルカノイル基が挙げられ、それらの
中で好ましいものは、２−クロロアセチルである。
好ａな「低級アルキニレン基ｊとしては、エチニレン基
、１ にｌ−タは２）−プロビニレン基、１（または
２または３）−ブチニレン基、１−メチル−２−プロビ
ニレン基、１ （または２または３または４）−ベンチ
ニレン基、１ （または２または３または４または５）
−ヘキンニレン）１（′″、９か２Ｙげられるが、それ
らの中で好ましいものとしては、（Ｃ，〜Ｃ４）アルキ
ニレンフ１（か挙げられる。
、１ にｌ−タは２）−プロビニレン基、１（または
２または３）−ブチニレン基、１−メチル−２−プロビ
ニレン基、１ （または２または３または４）−ベンチ
ニレン基、１ （または２または３または４または５）
−ヘキンニレン）１（′″、９か２Ｙげられるが、それ
らの中で好ましいものとしては、（Ｃ，〜Ｃ４）アルキ
ニレンフ１（か挙げられる。
この発明の目的化合物（１）の製造法を以ド詳細に説明
する。
する。
製造法
目的化合物（１）またはその塩類は、化合物（ＩＩ）ま
たその塩類をアミノ保護基の脱離反応に付すことにより
製造することができる。
たその塩類をアミノ保護基の脱離反応に付すことにより
製造することができる。
この反応は加水分解、ハロギ酸エステルとの反応なとの
慣用の方法に従って行われる。
慣用の方法に従って行われる。
加水分解は塩基、または酸（ルイス酸も含む）の存在Ｆ
に行うのが好ましい。好適な塩基とし−Ｃは、例えばナ
トリウム、カリウド等のアルカリ金属、例えばマグ不ン
ウム、カルンウム等のアルカリ土類金属またはそれらの
水酸化物または炭酸塩または炭酸水素塩、例えばトリメ
チルアミン、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン
、ピコリン、］、］５−ジアザビシクロ／１．３．Ｏ］
ノネン−５，１，４−ジアザビンクロ［２，２２１オ
クタン、１．８−ジアザビ／りｏ ［５，４，Ｏｉタウ
ンセン−７等のような無機塩基および有機塩基が挙げら
れる。
に行うのが好ましい。好適な塩基とし−Ｃは、例えばナ
トリウム、カリウド等のアルカリ金属、例えばマグ不ン
ウム、カルンウム等のアルカリ土類金属またはそれらの
水酸化物または炭酸塩または炭酸水素塩、例えばトリメ
チルアミン、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン
、ピコリン、］、］５−ジアザビシクロ／１．３．Ｏ］
ノネン−５，１，４−ジアザビンクロ［２，２２１オ
クタン、１．８−ジアザビ／りｏ ［５，４，Ｏｉタウ
ンセン−７等のような無機塩基および有機塩基が挙げら
れる。
好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸および例
えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素等
の無機酸が挙げられる。
トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸および例
えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素等
の無機酸が挙げられる。
例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロ
酢酸等のようなルイス酸を使用する脱離は、例えばアニ
ソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在Ｆに行う
のが好ましい。
酢酸等のようなルイス酸を使用する脱離は、例えばアニ
ソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在Ｆに行う
のが好ましい。
反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフランのような
溶媒中またはそれらの混合物中で行われるが、反応に悪
影響を及ぼさない溶媒であればその他いかなる溶媒中で
も反応を行うことができる。液状の塩基または酸も溶媒
として使用することができる。
ルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフランのような
溶媒中またはそれらの混合物中で行われるが、反応に悪
影響を及ぼさない溶媒であればその他いかなる溶媒中で
も反応を行うことができる。液状の塩基または酸も溶媒
として使用することができる。
反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行′われる。
温下に反応が行′われる。
ＩＩ
ハロギ酸エステルとの反応に用いられる「ハロギ酸エス
テルＩの適当な例としては、クロロギ酸メチル、クロロ
ギ酸エチル、クロロギ酸１−クロミニチル、りＯＯギ酸
ｐ−二Ｉ−ロフェニルなどが挙げられる。
テルＩの適当な例としては、クロロギ酸メチル、クロロ
ギ酸エチル、クロロギ酸１−クロミニチル、りＯＯギ酸
ｐ−二Ｉ−ロフェニルなどが挙げられる。
反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、アセトニトリル、塩化メチレンのような溶媒
中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれ
ばその他いかなる溶媒中でも反応を行うことができる。
ルコール、アセトニトリル、塩化メチレンのような溶媒
中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれ
ばその他いかなる溶媒中でも反応を行うことができる。
反応温度は特に限定されないが、通常は加温下ないし加
熱下に反応が行われる。
熱下に反応が行われる。
アミン保護基が、２−ハロ（低級）アルカノイル基であ
る場合には、チオ尿素の存在下に加熱することにより脱
離反応を行うことができる。
る場合には、チオ尿素の存在下に加熱することにより脱
離反応を行うことができる。
出発原料下記製造法（ＩＩ）の製造法は例えば後、記の
製造例を参照すればよい。
製造例を参照すればよい。
（発明の効果）
この発明の製造法によれば、高収率で目的化合物（１）
が得られ、工業的製法としても適する。
が得られ、工業的製法としても適する。
放射性同位元素て標識された化合物を作るのに適する。
以ド、製造例および実施例に従ってこの発明を説明する
。
。
製造例Ｉ
Ｎ−（２−プロピニル）−２−ヒドロキシ−２＋２−ジ
フェニルアセトアミド（４，０ｇ） 、Ｎ−エチル−４
−メトキンペンシルアミン（２，７４ｇ）、塩化第一銅
（０，０２ｇ）およびバラホルムアルデヒド（ｏ５４ｇ
）の１，４−ジオキサン（２０ｍｌ）中温合物を３０分
間還流した後、冷却する。混合物を酢酸エチルで希釈し
、水および食塩水で洗浄し一１硫酸すｌ−ＩＪウムで乾
燥し、減圧下に溶媒を留去する。
フェニルアセトアミド（４，０ｇ） 、Ｎ−エチル−４
−メトキンペンシルアミン（２，７４ｇ）、塩化第一銅
（０，０２ｇ）およびバラホルムアルデヒド（ｏ５４ｇ
）の１，４−ジオキサン（２０ｍｌ）中温合物を３０分
間還流した後、冷却する。混合物を酢酸エチルで希釈し
、水および食塩水で洗浄し一１硫酸すｌ−ＩＪウムで乾
燥し、減圧下に溶媒を留去する。
残留物をンリカゲルを使用するカラ１１クロマトグラフ
イーに付し、クロロホルムとメタノールとの混液で溶出
し、Ｎ−［４−（Ｎ−エチル−４−メトキシヘンシルア
ミン）−２−ブチニル：１−２−ヒドロキン−２，２−
ジフェニルアセトアミド（７，６２ｇ）を得る。
イーに付し、クロロホルムとメタノールとの混液で溶出
し、Ｎ−［４−（Ｎ−エチル−４−メトキシヘンシルア
ミン）−２−ブチニル：１−２−ヒドロキン−２，２−
ジフェニルアセトアミド（７，６２ｇ）を得る。
ＩＲ（エート） ： ３４］０． １６７０
ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣ１，、δ） ： １．０
８ （３１１，ｔ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、 ２．５２
（２１１、Ｑ、 Ｊ＝７．２１１ｙ、 ）、 ３．
２７ （２１１，ｔ、 」１．９１１Ｚ）、 ３．
５０（２＋１．Ｓ）、 ：（。７９ （３１１，ｓ
）、 ４．１３ （２１１，＋１． ｔ、 Ｊ＝５
４１１７、 およ（Ｊ １．９１１７．）、 ６
．６６ （ＩＩｌ、ｂｒｔ、Ｊ＝５．４＋ｌｚ）、
６．８４ （２１１，ｄ、Ｊ＝８．６１１ｚ）、
７．２２（２１１，ｄ、Ｊ−８，６１１７，）、
７．２７−７．５５ （１０１１，ｍ）製造−例２ Ｎ−（２−プロピニル）フタールイミド（８１７ｇ）、
Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルアミン（８，ｏｚｇ
）、塩化第一・銅（０，ＯＩｇ）およびノぐう７トルム
アルデヒド（１，５９ｇ ）の１，４−ジオキサン（３
２ｍｆｆ）中温合物を３０分間還流し、不溶物質を〜別
する。冷却後、減圧下に溶媒を留去し、酢酸エチルで粉
砕し、Ｎ−［４−（Ｎ−エチル−４−メトキンヘンシル
アミノ）−２−ブチニル］フタールイミド（９，８７ｇ
）を得る。更に〜液の溶媒を減圧下に留去し、ジイソプ
ロピルエーテルで粉砕し、同じ化合物（４，１４ｇ）を
得る。
ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣ１，、δ） ： １．０
８ （３１１，ｔ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、 ２．５２
（２１１、Ｑ、 Ｊ＝７．２１１ｙ、 ）、 ３．
２７ （２１１，ｔ、 」１．９１１Ｚ）、 ３．
５０（２＋１．Ｓ）、 ：（。７９ （３１１，ｓ
）、 ４．１３ （２１１，＋１． ｔ、 Ｊ＝５
４１１７、 およ（Ｊ １．９１１７．）、 ６
．６６ （ＩＩｌ、ｂｒｔ、Ｊ＝５．４＋ｌｚ）、
６．８４ （２１１，ｄ、Ｊ＝８．６１１ｚ）、
７．２２（２１１，ｄ、Ｊ−８，６１１７，）、
７．２７−７．５５ （１０１１，ｍ）製造−例２ Ｎ−（２−プロピニル）フタールイミド（８１７ｇ）、
Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルアミン（８，ｏｚｇ
）、塩化第一・銅（０，ＯＩｇ）およびノぐう７トルム
アルデヒド（１，５９ｇ ）の１，４−ジオキサン（３
２ｍｆｆ）中温合物を３０分間還流し、不溶物質を〜別
する。冷却後、減圧下に溶媒を留去し、酢酸エチルで粉
砕し、Ｎ−［４−（Ｎ−エチル−４−メトキンヘンシル
アミノ）−２−ブチニル］フタールイミド（９，８７ｇ
）を得る。更に〜液の溶媒を減圧下に留去し、ジイソプ
ロピルエーテルで粉砕し、同じ化合物（４，１４ｇ）を
得る。
ｍｐ ： ８３℃
ＩＲ（メジフール） ： １７７０． １７２０
ｃｍ １ＮＭＲ（ＣＩ）Ｃ１，ｌ、６） ニー １
．０６ （３１１，ｔ、Ｊ＝７．２ｔｌｚ）、 ２
．５４（２１１，ｑ、 Ｊ二’７’、 ２１１７． ）
、 ３２７ （２１１，ｓ）、 ３．５２ （２
１１，ｓ）。
ｃｍ １ＮＭＲ（ＣＩ）Ｃ１，ｌ、６） ニー １
．０６ （３１１，ｔ、Ｊ＝７．２ｔｌｚ）、 ２
．５４（２１１，ｑ、 Ｊ二’７’、 ２１１７． ）
、 ３２７ （２１１，ｓ）、 ３．５２ （２
１１，ｓ）。
３．７８ （３１１，ｓ）、 ４．５０ （２１
１，ｓ）、 ６．８１（２１１，ｄ。
１，ｓ）、 ６．８１（２１１，ｄ。
Ｊ＝８．５１１Ｚ）、 ７．２２ （２１１，ｄ、
Ｊ＝８．５１１ｚ）、 ７．６６−７、旧（２１１，
ｍ）、 ７．８１−７．９８ （２１１，ｍ）製造例３ 、Ｎ−ｒ４−’（Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルア
ミノ）−２−ブチニル１フタールイミド（１３４５ｇ）
およびヒドラジン・１水和物（４，ＩＯｇ）のエタノー
ル（６５ｍｆｆ）中温合物を３０分間還流し、水浴で１
５分間冷却する。生じた不溶物質を濾別し、減圧下に溶
媒を留去する。残留物を減圧蒸留によすＨＪ ”Ａし、
４−（Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルアミノ）−２
−ブチニルアミン（７，４３ｇ）を得る。
Ｊ＝８．５１１ｚ）、 ７．６６−７、旧（２１１，
ｍ）、 ７．８１−７．９８ （２１１，ｍ）製造例３ 、Ｎ−ｒ４−’（Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルア
ミノ）−２−ブチニル１フタールイミド（１３４５ｇ）
およびヒドラジン・１水和物（４，ＩＯｇ）のエタノー
ル（６５ｍｆｆ）中温合物を３０分間還流し、水浴で１
５分間冷却する。生じた不溶物質を濾別し、減圧下に溶
媒を留去する。残留物を減圧蒸留によすＨＪ ”Ａし、
４−（Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルアミノ）−２
−ブチニルアミン（７，４３ｇ）を得る。
ｂｐ １７４１７６℃／６ｍｍｌ１ｇ
ＩＲ（ニー）） ： ３３６０． ３２９０
Ｃ１Ｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．６） ： １．１０
（３１１，ｔ、Ｊ ＝７．２１１ｚ）、 １．．５
０（２１１，ｂｒｓ）、 ２．５７ （２１１，ｑ
、Ｊ＝７．２１１ｚ）、３．３０ （２１１゜Ｌ、Ｊ
＝２．０Ｉ４７．）、 ３．４８ （２１１，ｔ、Ｊ
＝２．０１ｌｚ）、 ３．５５（２１１，ｓ）、
３．８０ （３１１，ｓ）、 ６．８５ （２１
１，ｄ、Ｊ＝８．７１１ｚ）７、２６ （２１１，ｄ
、 Ｊ＝８．７ｌ−ＩＺ）製草−例４ ベンジル酸（１，４３ｇ）および１．１−カルボニルジ
イミダゾール（１，１２ｇ）の無水塩化メチレン（８，
５ｍ＆）中温合物を室温で１５時間撹拌する。次に４−
（Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルアミノ）−２−ブ
チニルアミン（］、５４ｇ）を加え更に１時間撹拌する
。混合物を水（２０ｍｇ）で３回および食塩水（］Ｏｍ
ｆｆ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に
溶媒を留去する。残留物をシリカゲルを使用するカラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルムとメタノール
との混液で溶出し、Ｎ−［，４−（Ｎ−エチル−４−メ
トキシベンジルアミノ）−２−ブチニル］−２−ヒドロ
キシ−２゜２−ジフェニルアセトアミド（２，３９ｇ）
を得る。
Ｃ１Ｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．６） ： １．１０
（３１１，ｔ、Ｊ ＝７．２１１ｚ）、 １．．５
０（２１１，ｂｒｓ）、 ２．５７ （２１１，ｑ
、Ｊ＝７．２１１ｚ）、３．３０ （２１１゜Ｌ、Ｊ
＝２．０Ｉ４７．）、 ３．４８ （２１１，ｔ、Ｊ
＝２．０１ｌｚ）、 ３．５５（２１１，ｓ）、
３．８０ （３１１，ｓ）、 ６．８５ （２１
１，ｄ、Ｊ＝８．７１１ｚ）７、２６ （２１１，ｄ
、 Ｊ＝８．７ｌ−ＩＺ）製草−例４ ベンジル酸（１，４３ｇ）および１．１−カルボニルジ
イミダゾール（１，１２ｇ）の無水塩化メチレン（８，
５ｍ＆）中温合物を室温で１５時間撹拌する。次に４−
（Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルアミノ）−２−ブ
チニルアミン（］、５４ｇ）を加え更に１時間撹拌する
。混合物を水（２０ｍｇ）で３回および食塩水（］Ｏｍ
ｆｆ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に
溶媒を留去する。残留物をシリカゲルを使用するカラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルムとメタノール
との混液で溶出し、Ｎ−［，４−（Ｎ−エチル−４−メ
トキシベンジルアミノ）−２−ブチニル］−２−ヒドロ
キシ−２゜２−ジフェニルアセトアミド（２，３９ｇ）
を得る。
本化合物の物性値は、製造例１のものと−・致した。
製菟イ４１−員
ベンジル酸（１，５ｇ）の無水塩化メチレン（７，５ｍ
１）溶液に、五塩化燐（２，１９ｇ）を刊Ｏ℃〜〜８°
Ｃで４回に分は加える。１時間撹拌後、水（３０ｍｇ）
を加える。分取した（Ｈ８層を炭酸水素ナトリウム飽和
水溶液でδＬ浄し、得られた）１１２−クロロ−２゜２
−ジフェニルアセチルクロリドの地代メチレンｍ 液ヲ
４ （Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルアミノ〉
−２−ブチニルアミン（］、９９８ｇおよびトリエチル
アミン（］’、８３ｍｐ）の無水塩化メチレン（２０ｍ
ｇ）溶液に一５°Ｃて滴下する。２時間撹拌後、溶液を
水（７５ｍｇ）で２回および食塩水（７，５ｍ１）で洗
浄し、減圧下に溶媒を留去し、Ｎ−［４’−（Ｎ−エチ
ル−４−メトキシベンジルアミノ’Ｉ −２−ブチニル
１＝２−クロロ−２，２−ジフェニルアセトアミドの粗
生成物を得る。この粗生成物のジオキサン（８ｍｆｆ
）溶液に、ＩＮ塩酸（８’ ｍｌ！ ）を加え、８０°
Ｃで８０分間加熱する。冷却後、ＩＮ水酸化ナトリウム
溶液（１５ｍｇ）および食塩（４ｇ）を混合物に加え、
分取した油状物を酢酸エチルで抽出する。抽出液を硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。残留物
をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィーに付
し、クロロホル】７− ムとメタノールとの混液で溶出し、Ｎ−ｒ４− （Ｎ−
エチル−４−メトキンヘンシルアミノ）−２−ブチニル
］−２−ヒドロキシ−２，２−ジフェニルアセトアミド
（１，８８ｇ）を得る。本化合物の物性値は、製造例１
のものと−・致した。
１）溶液に、五塩化燐（２，１９ｇ）を刊Ｏ℃〜〜８°
Ｃで４回に分は加える。１時間撹拌後、水（３０ｍｇ）
を加える。分取した（Ｈ８層を炭酸水素ナトリウム飽和
水溶液でδＬ浄し、得られた）１１２−クロロ−２゜２
−ジフェニルアセチルクロリドの地代メチレンｍ 液ヲ
４ （Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルアミノ〉
−２−ブチニルアミン（］、９９８ｇおよびトリエチル
アミン（］’、８３ｍｐ）の無水塩化メチレン（２０ｍ
ｇ）溶液に一５°Ｃて滴下する。２時間撹拌後、溶液を
水（７５ｍｇ）で２回および食塩水（７，５ｍ１）で洗
浄し、減圧下に溶媒を留去し、Ｎ−［４’−（Ｎ−エチ
ル−４−メトキシベンジルアミノ’Ｉ −２−ブチニル
１＝２−クロロ−２，２−ジフェニルアセトアミドの粗
生成物を得る。この粗生成物のジオキサン（８ｍｆｆ
）溶液に、ＩＮ塩酸（８’ ｍｌ！ ）を加え、８０°
Ｃで８０分間加熱する。冷却後、ＩＮ水酸化ナトリウム
溶液（１５ｍｇ）および食塩（４ｇ）を混合物に加え、
分取した油状物を酢酸エチルで抽出する。抽出液を硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。残留物
をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィーに付
し、クロロホル】７− ムとメタノールとの混液で溶出し、Ｎ−ｒ４− （Ｎ−
エチル−４−メトキンヘンシルアミノ）−２−ブチニル
］−２−ヒドロキシ−２，２−ジフェニルアセトアミド
（１，８８ｇ）を得る。本化合物の物性値は、製造例１
のものと−・致した。
製造−例６
Ｎ−［、／Ｉ−（Ｎ−エチル−４−メトキンベン／ルア
ミノ）−２−ブチニル］ −２−ヒドロキン−２，２−
ジフェニルアセトアミド（０，２１１ｇ）および２−ク
ロロアセチルクロリド（０，０８ｍ１！ ）の塩化メチ
レン（６ｍ（１）中温合物を１時間還流する。冷却後、
減圧下に溶媒を留去する。残留物をシリカゲルを使用す
るカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムとメ
タノールとの混液で溶出し、Ｎ−［４−（Ｎ−エチル−
２−クロロアセチルアミノ）−２−ブチニル〕−２−ヒ
ドロキン−２，２−ジフェニルアセトアミド（０２５ｇ
）を得る。この化合物を精製することなく次の反応に用
いる。
ミノ）−２−ブチニル］ −２−ヒドロキン−２，２−
ジフェニルアセトアミド（０，２１１ｇ）および２−ク
ロロアセチルクロリド（０，０８ｍ１！ ）の塩化メチ
レン（６ｍ（１）中温合物を１時間還流する。冷却後、
減圧下に溶媒を留去する。残留物をシリカゲルを使用す
るカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムとメ
タノールとの混液で溶出し、Ｎ−［４−（Ｎ−エチル−
２−クロロアセチルアミノ）−２−ブチニル〕−２−ヒ
ドロキン−２，２−ジフェニルアセトアミド（０２５ｇ
）を得る。この化合物を精製することなく次の反応に用
いる。
実施例Ｉ
Ｎ−［／１−（Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルアミ
ノ）−２−ブチニルｌ−２−ヒドロキン−２，２−ジン
ェニルアセ！・′ｒミド（＋、０ｇ）および１−クロロ
エチルクロロホルメートの塩化メチレン（１４ｍｌ）中
温合物を１時間還流する。冷却後、溶媒を減圧下に留去
し、メタノール（１０ｍ１１りを加える。この溶液を２
０分間還流し、冷却する。溶媒を減圧下に留去し、残留
物を希塩酸でｐト１１に調整する。溶液をジイソプロピ
ルエーテルで洗浄し、水酸化ナトリウム溶液でアルカリ
性にし、酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し、
ジイソプロピルエーテルで粉砕して、Ｎ （７−エチ
ルアミノ−２−ブチニル）−２−ヒドロキン−２，２−
シフＪニルアセトアミド（０，５７ｇ）を得る。
ノ）−２−ブチニルｌ−２−ヒドロキン−２，２−ジン
ェニルアセ！・′ｒミド（＋、０ｇ）および１−クロロ
エチルクロロホルメートの塩化メチレン（１４ｍｌ）中
温合物を１時間還流する。冷却後、溶媒を減圧下に留去
し、メタノール（１０ｍ１１りを加える。この溶液を２
０分間還流し、冷却する。溶媒を減圧下に留去し、残留
物を希塩酸でｐト１１に調整する。溶液をジイソプロピ
ルエーテルで洗浄し、水酸化ナトリウム溶液でアルカリ
性にし、酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し、
ジイソプロピルエーテルで粉砕して、Ｎ （７−エチ
ルアミノ−２−ブチニル）−２−ヒドロキン−２，２−
シフＪニルアセトアミド（０，５７ｇ）を得る。
ｍｐ： １３４−１３５℃
ＩＲ（メジ３−ル） ： ３３７５． ３２７５．
１６６５ ａｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣ１，Ｉ、δ）・
１．０８ （３＋１． ｔ、 Ｊ＝７゜ＩＨｚ ）、
’２．６５（２１１； Ｑ、 Ｊ＝７．１１１Ｚ）、
３．３６ （２＋１． ｔ、 Ｊ＝２．０１ｌｚ ）
。
１６６５ ａｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣ１，Ｉ、δ）・
１．０８ （３＋１． ｔ、 Ｊ＝７゜ＩＨｚ ）、
’２．６５（２１１； Ｑ、 Ｊ＝７．１１１Ｚ）、
３．３６ （２＋１． ｔ、 Ｊ＝２．０１ｌｚ ）
。
４．１０（２１１，ｄｉ、Ｊ＝２．ＯＨｚ ｂよＩＪ
５．３１１Ｚ ）、 ６．７３ （ＩＩＩ。
５．３１１Ｚ ）、 ６．７３ （ＩＩＩ。
ｂｒｔ、Ｊ＝５．３Ｈｚ）、 ７．２３−７．６０
（１０１１，ｍ）実施例２ Ｎ−［／Ｉ−（Ｎ−エチル−２−クロロアセチルアミノ
）−２−ブチニル］−２−ヒドロキン−２゜２−ジフヱ
ニルアセトアミド（０，２５ｇ）およびチオ尿素（０，
０５ｇ ）のエタノール（２ｍｐ）中温合物を２５分間
還流する。冷却後、溶媒を減圧下に留去し、水（２ｍｌ
）を加える。混合物を３０分間還流し、溶液を希塩酸で
酸性にする。溶液を酢酸エチルで洗浄し、ｐＨ１２に調
整する。酢酸エチルで抽出し、抽出液を水で洗浄し、硫
酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。残留
物を酢酸エチルて粉砕ビて、Ｎ−（４−エチルアミノ−
２−ブチニル）−２−ヒドロキン−２，２−シフ、ニル
アセトアミド（０，０７ｇ）を得る。本化合物の物性値
は、実施例１のものと一致した。
（１０１１，ｍ）実施例２ Ｎ−［／Ｉ−（Ｎ−エチル−２−クロロアセチルアミノ
）−２−ブチニル］−２−ヒドロキン−２゜２−ジフヱ
ニルアセトアミド（０，２５ｇ）およびチオ尿素（０，
０５ｇ ）のエタノール（２ｍｐ）中温合物を２５分間
還流する。冷却後、溶媒を減圧下に留去し、水（２ｍｌ
）を加える。混合物を３０分間還流し、溶液を希塩酸で
酸性にする。溶液を酢酸エチルで洗浄し、ｐＨ１２に調
整する。酢酸エチルで抽出し、抽出液を水で洗浄し、硫
酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。残留
物を酢酸エチルて粉砕ビて、Ｎ−（４−エチルアミノ−
２−ブチニル）−２−ヒドロキン−２，２−シフ、ニル
アセトアミド（０，０７ｇ）を得る。本化合物の物性値
は、実施例１のものと一致した。
以下実施例１と同様にして、実施例３〜１３の化合物を
得る。
得る。
実施例３
Ｎ−（４−メチルアミノ−２−ブチニル）−２一シクロ
へキンルー２−ヒトｏ＋ンー２−７、−ニルアセトアミ
ド ＩＲ（ＣＩＩＣＩ３） ： ３４００． １６６０
ｃｍ”ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ） ： ０．６
７−２．２３ （＋２１１． ｍ）、 ２．２３−
２．６０ （ＩＩＩ、ｍ）、 ２．６７ （３１
１，１，）、 ３．２３−３．３７ （２１１゜ｍ
）、 ３．８３−４． ｌｏ（２１１，ｍｌ ６．
６０−７．００ （ＩＩＩ、 ｍ）。
へキンルー２−ヒトｏ＋ンー２−７、−ニルアセトアミ
ド ＩＲ（ＣＩＩＣＩ３） ： ３４００． １６６０
ｃｍ”ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ） ： ０．６
７−２．２３ （＋２１１． ｍ）、 ２．２３−
２．６０ （ＩＩＩ、ｍ）、 ２．６７ （３１
１，１，）、 ３．２３−３．３７ （２１１゜ｍ
）、 ３．８３−４． ｌｏ（２１１，ｍｌ ６．
６０−７．００ （ＩＩＩ、 ｍ）。
７、１０−７．５０ （３１１，ｍ）、 ７゜５０
−７．６７ （２１１，ｍ）Ｍａｓｓ ： ３１５．
３１３．１８９実廊例−４ Ｎ−（４−エチルアミノ−２−ブチニル）−２＝シクロ
へキシル−２−ヒドロキン−２−フェニルアセトアミド ＩＲ（Ｍｌ）： ３４００． １６５０ ａｍ−’
ＮλＩＲ（ＣＤＣｌ２．δ） ： １．１３ （
ａｌｌ、 ｔ、 Ｊ−６Ｈ２）＋ ｏ、 ８０−２．
７０ （＋３１１．ｍ）、 ２．６７ （２）１
．ｑ、に６Ｈｚ）、 ３．３４−３、４７ （２Ｈ
，ｍ）、 ３．８４−４．０８ （２１１，ｍ）、
６．５７−６．９７ （ＩＩＩ、ブ叶ド ｍ）、
７．１６−７．４５ （３Ｈ，ｍ）。
−７．６７ （２１１，ｍ）Ｍａｓｓ ： ３１５．
３１３．１８９実廊例−４ Ｎ−（４−エチルアミノ−２−ブチニル）−２＝シクロ
へキシル−２−ヒドロキン−２−フェニルアセトアミド ＩＲ（Ｍｌ）： ３４００． １６５０ ａｍ−’
ＮλＩＲ（ＣＤＣｌ２．δ） ： １．１３ （
ａｌｌ、 ｔ、 Ｊ−６Ｈ２）＋ ｏ、 ８０−２．
７０ （＋３１１．ｍ）、 ２．６７ （２）１
．ｑ、に６Ｈｚ）、 ３．３４−３、４７ （２Ｈ
，ｍ）、 ３．８４−４．０８ （２１１，ｍ）、
６．５７−６．９７ （ＩＩＩ、ブ叶ド ｍ）、
７．１６−７．４５ （３Ｈ，ｍ）。
７、４５−４．７８ （２１１，ｍ）
Ｍａｓｓ ： ３２８．３２７．１８９実施例５
２ｌ−
Ｎ−（４−ブチルアミノ−２−ブチニル）−２−シクロ
へキシル−２−ヒドロキシ−２−フェニルアセトアミド ＩＲ（ｉｎ） ： ３４００． １６００ ｃｍ
−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ） ： ０．７０−２
．００ （１８１１，ｍ）、 ２．１７−２、８４
（３１１，ｍ）、 ３．３０−３．４６ （２
１１，ｍ）、 ３．８７−４、ＩＩ （２１Ｌ ｍ
）、 ６．６０−６．９４ （ｆｉｌ、ブ【１−ド
ｍ）。
へキシル−２−ヒドロキシ−２−フェニルアセトアミド ＩＲ（ｉｎ） ： ３４００． １６００ ｃｍ
−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ） ： ０．７０−２
．００ （１８１１，ｍ）、 ２．１７−２、８４
（３１１，ｍ）、 ３．３０−３．４６ （２
１１，ｍ）、 ３．８７−４、ＩＩ （２１Ｌ ｍ
）、 ６．６０−６．９４ （ｆｉｌ、ブ【１−ド
ｍ）。
７．１７−４．４４ （３Ｈ，ｍ）、 ７．４４−７．
７０ （２１１，ｍ）Ｍａｓｓ ： ３５７． ３
１３． １８９に廊１−β− Ｎ−（４−ｔ〜ブチルアミノ−２−ブチニル）−２−シ
クロへキシル−２−ヒドロキン−２−フェニルアセトア
ミド ＩＲ（ＣＯＣｌ２） ： ３４００． １６５０
ａｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ） ： ０．８
２−２．００ （１０１１，ｍ）、 １．１０（９
１１，ｓ）、 ２．１４−２．９５ （２１１，ｍ
）、 ３．２７−３．３９（２１１，ｍ）、 ３．
８６−４．０４ （２Ｈ，ｍ）、 ６．５７−６、
９６（ＩＩＩ、 ｍ）、 ７．１６−７、４３ （３１
１，ｍ）、 ７．４７−７、６７（２１１，ｍ） 害鞭例γ Ｎ−（／ｌ−シクロヘキシルアミノ−２−ブチニル）−
２−シクロへキンルー２−ヒドロキン−２−フェニルア
セトアミド ＩＲ（ＣＩＩＣｌ、Ｉ） ： ３４００． １６０
０ ｃｍ”ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、、δ） ： ０
．６３−２．１０ （２１１１，ｍｌ ２．２１−
３、０４ （３１１，ｍ）、 ３．３５−３．４６
（２１１，ｍ）、 ３．８６−４．０７ （２
１１，ｍ）、 ６．６３−６．９９ （ＩＩＩ、ブ
【ｌ−Ｆ ｍ）。
７０ （２１１，ｍ）Ｍａｓｓ ： ３５７． ３
１３． １８９に廊１−β− Ｎ−（４−ｔ〜ブチルアミノ−２−ブチニル）−２−シ
クロへキシル−２−ヒドロキン−２−フェニルアセトア
ミド ＩＲ（ＣＯＣｌ２） ： ３４００． １６５０
ａｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ） ： ０．８
２−２．００ （１０１１，ｍ）、 １．１０（９
１１，ｓ）、 ２．１４−２．９５ （２１１，ｍ
）、 ３．２７−３．３９（２１１，ｍ）、 ３．
８６−４．０４ （２Ｈ，ｍ）、 ６．５７−６、
９６（ＩＩＩ、 ｍ）、 ７．１６−７、４３ （３１
１，ｍ）、 ７．４７−７、６７（２１１，ｍ） 害鞭例γ Ｎ−（／ｌ−シクロヘキシルアミノ−２−ブチニル）−
２−シクロへキンルー２−ヒドロキン−２−フェニルア
セトアミド ＩＲ（ＣＩＩＣｌ、Ｉ） ： ３４００． １６０
０ ｃｍ”ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、、δ） ： ０
．６３−２．１０ （２１１１，ｍｌ ２．２１−
３、０４ （３１１，ｍ）、 ３．３５−３．４６
（２１１，ｍ）、 ３．８６−４．０７ （２
１１，ｍ）、 ６．６３−６．９９ （ＩＩＩ、ブ
【ｌ−Ｆ ｍ）。
７、１７−７、４６ （３１１，ｍ）、 ７．４６
−７、７３ （２１１，ｍ）Ｍａｓｓ ： ３ｇ３．
３８２．１８９実−流刑−８ Ｎ−［／Ｉ−（２−ヒドロキンエチル）アミノ−２−フ
チニル）−２−シクロヘキンルー２−ヒドロキン−２−
フェニルアセトアミド ＩＲ（ＣＩＩＣｌ３） ： ３４００．１６５０ ｃｍ
−’）ＩＭＲ（ＣＤＣＩ、、δ） ： Ｄ、 ７２−２
．６５ （１４１１，ｍ）、 ２．７２−２、８８ （
２Ｈ，ｍ）、 ３．３５−３．４７ （２１１，ｍ）、
３．５６−３、７４ （２Ｈ，ｍ）、 ３．８９−４
．０９ （２１１，ｍ）、 ６．７５−７．０６ （
ｉｌｌ、ブトド ｍ）、 ７．１９−７．４９ （
３１１，ｍ）。
−７、７３ （２１１，ｍ）Ｍａｓｓ ： ３ｇ３．
３８２．１８９実−流刑−８ Ｎ−［／Ｉ−（２−ヒドロキンエチル）アミノ−２−フ
チニル）−２−シクロヘキンルー２−ヒドロキン−２−
フェニルアセトアミド ＩＲ（ＣＩＩＣｌ３） ： ３４００．１６５０ ｃｍ
−’）ＩＭＲ（ＣＤＣＩ、、δ） ： Ｄ、 ７２−２
．６５ （１４１１，ｍ）、 ２．７２−２、８８ （
２Ｈ，ｍ）、 ３．３５−３．４７ （２１１，ｍ）、
３．５６−３、７４ （２Ｈ，ｍ）、 ３．８９−４
．０９ （２１１，ｍ）、 ６．７５−７．０６ （
ｉｌｌ、ブトド ｍ）、 ７．１９−７．４９ （
３１１，ｍ）。
７．４９−１．７２ （２＋１． ｍ）Ｍａ！、ｓ ：
３４５．１８９ 実施例９ Ｎ−１／ｌ−（エトキ／カルホニルメチル）アミノ−２
−ブチニル）−２−シクロへキンルー２−ヒドロキン−
２−フェニルアセトアミドＩＲ（ｉｉ） ： ３３８０
． １７３０． １６６０ ｃｍ′ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３
．δ） ： ０．７］−］、 ９３ （ｔｉｌｌ、 ｍ
）、 １．２６（３１１，ｔ、 Ｊ＝ ６Ｈｚ ）、
２．２３−２．８４ （２１１，ｍ）、 ３．３３
−３、５］ （４１１，ｍ）、 ３．８７−４．０７
（２１１，ｍ）、 ４．１６（２１１，ｑ、、Ｌ６）
ＩＺ）、 ６．６０−６．９８ （ＩＨ，ブロード
ｍ）。
３４５．１８９ 実施例９ Ｎ−１／ｌ−（エトキ／カルホニルメチル）アミノ−２
−ブチニル）−２−シクロへキンルー２−ヒドロキン−
２−フェニルアセトアミドＩＲ（ｉｉ） ： ３３８０
． １７３０． １６６０ ｃｍ′ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３
．δ） ： ０．７］−］、 ９３ （ｔｉｌｌ、 ｍ
）、 １．２６（３１１，ｔ、 Ｊ＝ ６Ｈｚ ）、
２．２３−２．８４ （２１１，ｍ）、 ３．３３
−３、５］ （４１１，ｍ）、 ３．８７−４．０７
（２１１，ｍ）、 ４．１６（２１１，ｑ、、Ｌ６）
ＩＺ）、 ６．６０−６．９８ （ＩＨ，ブロード
ｍ）。
７、２０−４．４７ （３Ｈ，ｍ）、 ７．４９−７
．７５ （２１１，ｍ）ｋｌａｓｓ ： ３８７．３８
６． ３４Ｌ ３１３． １８９実施−例ｊＱ Ｎ−［４−＋２−（３，４−−ジメトキシフＪ、ニル）
エチルアミノ１−２−ブチニル］−２−シクロへキンル
ー２−ヒドロキシ−２−フェニルアセトアミド ＩＲ（１Ｂ） ： ３４２０． １６６０ ｃｍ
−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３．δ） ： ０．７９−２
．ＯＯ（＋２１１．ｍ）、 ２．１３−２．４４（Ｉ
ＩＩ、ｍ）、 ２．５４−２．９５ （４１１，ｍ
）、 ３．２６−３、４２ （２１１，ｍ）、
３．７７ （６１１，ｓ）、 ３．７７−４．０３
（２１１，ｍ）、 ６．６３−７．０１ （４１１
，ｍ）、 ７．１９−７．５０（３１１，ｍ）、
７．５７−７、８１ （２１１，ｍ）Ｍａｓｓ ：
ｌ１６５． ３１３． １８９実施例１１ Ｎ−（／Ｉ−メチルアミノ−２−ブチニル）−２−ヒド
ロキン−２，２−シフ、ニルアセトアミドＩＲ（Ｃ１ｉ
ｃｋ、、） ： ３４００． ３３００． １６６０
ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３．δ） ： ２．２０−２
．７４ （２１１，ｍ）、 ２．３２（３Ｈ，ｓ）、
３．２４−３．４１ （２１１，ｍ）、 ３．９８
−４．２０（２１１，ｍ）、 ６．６４−７．０２
（ｉｌｌ、 ｍ）、 ７．２３−７．６］（Ｊｏｌｔ
、ｍ） ｌｔａｓｓ ： ３０７． ２６１． １８３実−施−
例、１ａ Ｎ−（，１Ｉ−−プロピルアミン−２−ブチニル）−２
−ヒドロキン−２，２−ジフェニルアセトアミド ｍｐ： １３５−１３６℃ ＩＲ（ヌジコール） ： ３３７０． ３２８０．
１６６０ ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ９．Ｊ）
： ０．９１ （３１１，ｔ、Ｊ＝７．３１ｋ）、
ｌｌ１７（２１１，ｑｔ、Ｊ＝７．３Ｈ２およ６
７．ｌ１ｌｚ ）、 ］、］０７−２．１（Ｉ Ｉ
Ｉ 、ブｕ−Ｆ ｍ）、 ２．５６ （２１１，
ｔ、Ｊ＝７．ｌ１ｌＺ）、 ３．３６（２１１，ｔ、
Ｊ−２，０１ｌＺ）、 ４． ＩＩ （２１１，
ｄｉ、 Ｊ＝５．３１１ｚＪ）よＩＪ ２．０ｌｌｚ
）、 ６．７６ （ＩＩＩ、ブ１トド ｔ。
．７５ （２１１，ｍ）ｋｌａｓｓ ： ３８７．３８
６． ３４Ｌ ３１３． １８９実施−例ｊＱ Ｎ−［４−＋２−（３，４−−ジメトキシフＪ、ニル）
エチルアミノ１−２−ブチニル］−２−シクロへキンル
ー２−ヒドロキシ−２−フェニルアセトアミド ＩＲ（１Ｂ） ： ３４２０． １６６０ ｃｍ
−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３．δ） ： ０．７９−２
．ＯＯ（＋２１１．ｍ）、 ２．１３−２．４４（Ｉ
ＩＩ、ｍ）、 ２．５４−２．９５ （４１１，ｍ
）、 ３．２６−３、４２ （２１１，ｍ）、
３．７７ （６１１，ｓ）、 ３．７７−４．０３
（２１１，ｍ）、 ６．６３−７．０１ （４１１
，ｍ）、 ７．１９−７．５０（３１１，ｍ）、
７．５７−７、８１ （２１１，ｍ）Ｍａｓｓ ：
ｌ１６５． ３１３． １８９実施例１１ Ｎ−（／Ｉ−メチルアミノ−２−ブチニル）−２−ヒド
ロキン−２，２−シフ、ニルアセトアミドＩＲ（Ｃ１ｉ
ｃｋ、、） ： ３４００． ３３００． １６６０
ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３．δ） ： ２．２０−２
．７４ （２１１，ｍ）、 ２．３２（３Ｈ，ｓ）、
３．２４−３．４１ （２１１，ｍ）、 ３．９８
−４．２０（２１１，ｍ）、 ６．６４−７．０２
（ｉｌｌ、 ｍ）、 ７．２３−７．６］（Ｊｏｌｔ
、ｍ） ｌｔａｓｓ ： ３０７． ２６１． １８３実−施−
例、１ａ Ｎ−（，１Ｉ−−プロピルアミン−２−ブチニル）−２
−ヒドロキン−２，２−ジフェニルアセトアミド ｍｐ： １３５−１３６℃ ＩＲ（ヌジコール） ： ３３７０． ３２８０．
１６６０ ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ９．Ｊ）
： ０．９１ （３１１，ｔ、Ｊ＝７．３１ｋ）、
ｌｌ１７（２１１，ｑｔ、Ｊ＝７．３Ｈ２およ６
７．ｌ１ｌｚ ）、 ］、］０７−２．１（Ｉ Ｉ
Ｉ 、ブｕ−Ｆ ｍ）、 ２．５６ （２１１，
ｔ、Ｊ＝７．ｌ１ｌＺ）、 ３．３６（２１１，ｔ、
Ｊ−２，０１ｌＺ）、 ４． ＩＩ （２１１，
ｄｉ、 Ｊ＝５．３１１ｚＪ）よＩＪ ２．０ｌｌｚ
）、 ６．７６ （ＩＩＩ、ブ１トド ｔ。
Ｊ−５，３１１ｚ）、 ７．１９−７．５３ （１
０１１，ｍ）ｌｔａｓｓ ： ３３６． ３３５
（Ｍ−１）、 ２８９． ２６］、 １８３実施
例１３ Ｎ−（／Ｉ−シクロプロピルアミ７−２−ブチニル）−
２−ヒドロキン−２，２−シフ、ニルアセトアミド ＩＲ（ＣＩＩＣｌ３） ： ３４００． ３０５０
． ３０００． ］６６０゜１６０Ｏｃｔｈ−’ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、、δ） ： ０．２９−０．
５５ （４１１，ｍ）、 １．４５−２．１５（１
１１、ブｎ−ド ｓ）、 ２．１９−２．３７ （
ＩＩＩ、ｍ）、 ３．４１（２１１，ｔ、 Ｊ：２．
０ｔｌｚ ）、 ４． ＩＩ （２１１，ｄＬ、
１５．３＋１７および ２．０１ｌｚ ）、 ６．
６８ （ＩＩＩ、ブ【１−ド Ｌ。
０１１，ｍ）ｌｔａｓｓ ： ３３６． ３３５
（Ｍ−１）、 ２８９． ２６］、 １８３実施
例１３ Ｎ−（／Ｉ−シクロプロピルアミ７−２−ブチニル）−
２−ヒドロキン−２，２−シフ、ニルアセトアミド ＩＲ（ＣＩＩＣｌ３） ： ３４００． ３０５０
． ３０００． ］６６０゜１６０Ｏｃｔｈ−’ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、、δ） ： ０．２９−０．
５５ （４１１，ｍ）、 １．４５−２．１５（１
１１、ブｎ−ド ｓ）、 ２．１９−２．３７ （
ＩＩＩ、ｍ）、 ３．４１（２１１，ｔ、 Ｊ：２．
０ｔｌｚ ）、 ４． ＩＩ （２１１，ｄＬ、
１５．３＋１７および ２．０１ｌｚ ）、 ６．
６８ （ＩＩＩ、ブ【１−ド Ｌ。
Ｊ−５，３１１７，）、 ７．２１−７．５５ （
］Ｏ１ｌ、 ｍ）Ｍａｓｓ ： ３３４． ３３３
（Ｍｌ）、 ２６Ｌ ２１７． １８３出願人
藤／Ｒ：Ｊに品Ｔ業株式会社代理人 弁理士 西
川 俊 雄
］Ｏ１ｌ、 ｍ）Ｍａｓｓ ： ３３４． ３３３
（Ｍｌ）、 ２６Ｌ ２１７． １８３出願人
藤／Ｒ：Ｊに品Ｔ業株式会社代理人 弁理士 西
川 俊 雄
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１はアリール基またはシクロ（低級）アル
キル基、 Ｒ＾２はアリール基、 Ｒ＾３は低級アルキル基、ヒドロキシ（低級）アルキル
基、カルボキシ（低級）アルキル基、保護されたカルボ
キシ（低級）アルキル基、シクロ（低級）アルキル基ま
たは適当な置換基を有していても良いアル（低級）アル
キル基、 Ｒ＾４はアミノ保護基、および Ａは低級アルキニレン基をそれぞれ意味する）で示され
る化合物またはその塩類をアミノ保護基の脱離反応に付
して、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＡはそれぞれ前
と同じ意味） で示される化合物またはその塩類を得ることを特徴とす
る置換アセトアミド化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2324396A JPH04193853A (ja) | 1990-11-26 | 1990-11-26 | 置換アセトアミド化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2324396A JPH04193853A (ja) | 1990-11-26 | 1990-11-26 | 置換アセトアミド化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04193853A true JPH04193853A (ja) | 1992-07-13 |
Family
ID=18165327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2324396A Pending JPH04193853A (ja) | 1990-11-26 | 1990-11-26 | 置換アセトアミド化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04193853A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008530033A (ja) * | 2005-02-09 | 2008-08-07 | ニューロメッド ファーマシューティカルズ リミテッド | ジアミンカルシウムチャネルブロッカー |
| JP2008303216A (ja) * | 1996-07-22 | 2008-12-18 | F Hoffmann La Roche Ag | 抗腫瘍活性を有するポリメチレン誘導体をリガンドとする新規ビス−プラチナ複合体 |
| JP2009007357A (ja) * | 1996-07-22 | 2009-01-15 | F Hoffmann La Roche Ag | 抗腫瘍剤としてのポリアミン配位子を有する新規ビス−プラチナ錯体 |
-
1990
- 1990-11-26 JP JP2324396A patent/JPH04193853A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008303216A (ja) * | 1996-07-22 | 2008-12-18 | F Hoffmann La Roche Ag | 抗腫瘍活性を有するポリメチレン誘導体をリガンドとする新規ビス−プラチナ複合体 |
| JP2009007357A (ja) * | 1996-07-22 | 2009-01-15 | F Hoffmann La Roche Ag | 抗腫瘍剤としてのポリアミン配位子を有する新規ビス−プラチナ錯体 |
| JP2008530033A (ja) * | 2005-02-09 | 2008-08-07 | ニューロメッド ファーマシューティカルズ リミテッド | ジアミンカルシウムチャネルブロッカー |
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