JPH04193853A

JPH04193853A - 置換アセトアミド化合物の製造法

Info

Publication number: JPH04193853A
Application number: JP2324396A
Authority: JP
Inventors: Yoichi Shiokawa; 塩川　洋一; Kazuhisa Okumura; 奥村　和央; Kazuhiko Goku; 獄　一彦; Kazunori Tsubaki; 一典椿
Original assignee: Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Current assignee: Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1990-11-26
Filing date: 1990-11-26
Publication date: 1992-07-13

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）この発明は置換アセトアミド化合物の製造法に関する。

さらに詳しくは、この発明は抗フリン活性を有し、神経
性頻尿、夜尿症、神経因性膀胱、不安定膀胱、膀胱痙縮
、慢性膀胱炎、慢性前立腺炎などの疾患における頻尿症
、尿失禁などの排尿障害の治療に有効な置換アセトアミ
ド化合物の新規製造法に関する。

（課題を解決するための手段）この発明の製造法は、−・般式：（ＩＩ）（式中、Ｒ１はアリール基またはシクロ（低級）アルキ
ル基、Ｒ２はアリール基、Ｒ３は低級アルキル基、ヒドロキシ（低級）アルキル基
、カルボキシ（低級）アルキル基、保護されたカルボキ
シ（低級）アルキル基、シクロ（低級）アルキル基また
は適当な置換基を有していても良いアル（低級）アルキ
ル基、Ｒ４はアミン保護基、およびＡは低級アルキニレン基をそれぞれ意味する。）で示さ
れる化合物またはその塩類をアミン保護基の脱離反応に
付して、一般式・（式中、Ｒ’、Ｒ２、Ｒ３およびＡはそれぞれ前と同じ
意味）て示される化合物またはその塩類を得ることからなる。

目的化合物（ｊ）および出発物質（Ｕ）の適当な塩類と
しては、医薬」二許容される塩類、特に慣用される非毒
性塩が含まれ、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水
素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩、マレイン酸塩、
酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩
等の有機酸塩、アルギニン塩、アスパラギン酸塩、グル
タミン酸塩等のアミノ酸との塩等が挙げられる。

この明細書の以上および以下の記載において、この発明
の範囲内に包含される種々の定義の好適な例および説明
を以下詳細に説明する。

低級の語は、特にことわらない限り、１ないし６個の炭
素原子を宵する基を含むものとして用いる。

好適な「アリール基」としては、フェニル基、ナフチル
基、ペンタレニル基、インデニル基等が挙げられる。

好適な「低級アルキル基１としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、第三級ブチル、ペン
チル、へ＋ンル等のような直鎖アルキル基または分枝鎖
アルキル基が挙げられるが、その中で好ましいものは（
０１〜Ｃ４）アルキル基であり、その中でもっとも好ま
しいものはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
およびナフチル基である。

好適な「シクロ（低級）アルキル基」としては、シクロ
プロピル、シクロブチル、／クロペンチル、シクロヘキ
シル等の飽和環状炭化水素基等が挙げられる。

好適な［ヒドロキシ（低級）アルキル基」としては、例
えばヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシ
プロピル、ヒドロキシ−１−メチルエチル、ヒドロキシ
ブチル、ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル等の
ヒドロキン基を有する直鎖もしくは分枝状の低級アルキ
ル基が挙げられる。

好適な「カルボキン（低級）アルキル基」としては、例
えばカルボキシメチル１、カルボキンエチル、カルボキ
シプロピル、カルボキン−１−メチルエチル、カルボキ
ンブチル、カルボキンペンチル、カルボキシヘキシル等
のカルホキジノλを有する直鎖もしくは分枝状の低級ア
ルキル基が挙げられる。

「保護されたカルボキシ（低級）アルキル基」の好適な
Ｕ保護されたカルボキシ基Ｊとしては、エステル化され
たカルボキシ基が挙げられ、そのエステル化されたカル
ボキシ基のエステル部分の具体例としては、適当な置換
基を有していてもよい例えばメチルエステル、エチルエ
ステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブ
チルエステル、イソブチルエステル、第三級ブチルエス
テル、ペンチルエステル、第三級ペンチルエステル、ヘ
キシルエステル、１−シクロブロピルエステル等の低級
アルキルエステル、その例として、例えばアセトキシメ
チルエステル、プロピオニルオキシメチルエステル、プ
チリルオキンメチルエステル、イソブチリルオキシメチ
ルエステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイ
ルオキシメチルエステル、ｌ−アセトキンエチルエステ
ル、］　−プロピオニルオキンエチルエステル、２　ブ
ロビオニルオキンエチルエステル、ヘキサノイルオキシ
メチルエステル等の低級アルカノイルＡキン（低級）ア
ルキルエステル、例えば２　メシルエチルエステル等の
低級アルカンスルホニル（低級）アルキルエステル、ま
たは例えば２−ヨードエチルエステル、２，２．２−）
リクロロエチルエステル等のモノ（もしくはジもしくは
トリ）ハロ（低級）アルキルエステル、；例えばビニル
エステル、アリルエステル等の低級アルケニルエステル
；例えばエチニルエステル、プロピニルエステル等の低
級アルキニルエステル、例えばベンジルエステル、４〜
メトキシベンジルエステル、４−ニトロベンジルエステ
ル、フェネチルエステル、トリチルエステル、ベンズヒ
ドリルエステル、ビス（３−メトキンフェニル）メチル
エステル、３゜４−ジメトキンベンジルエステル、４−
ヒドロキン−３，５−ジ第三級ブチルベンジルエステル
等の適当な置換ノｉ（を有していてもよいアル（低級）
アルキルエステル；例えばフコニルエステル、４−クロ
ロフェニルエステル、トリルエステル、４−１三級ブチ
ルフェニルエステル、キンリルエステル、メシチルエス
テル、クメニルエステル等の適当な置換基を有していて
もよいアリールエステル等のようなものが挙げられる。

好適な「アル（低級）アルキル基」としては、ベンジル
、フェネチル、ヘンス゛ヒドリル、トリチルのようなモ
ノ（またはジ、またはトす）フェニル（低級）アルキル
基等が挙げられ、とりわけベンジル基が好ましい。そし
てこれらの基は、例えばメトキン等の低級アルコキシ、
！：（、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低級アル
キル基のような適当な置換基を宵していてもよい。

好適な「アミノ保護基−１としては、例えばベンジル、
フェネチル等のフェニル（低級）アルキル、例えばベン
ズヒドリル等のジフェニル（低級）アルキル、例えばト
リチル等のトリフェニル（低級）アルキルなどのような
アル（低級）アルキルノ１（か挙げられ、そしてこれら
の基は、例えばメトキシ、エトキン、プロポキン、第三
級ブトキン、ペンチルオキ／、ヘキシルオキン等の低級
アルコキシのような置換基を有していてもよ（、それら
のなかで好ましいものは低級アルコキンで置換されたフ
ェニル（低級）アルキル基であり、それらのなかでさら
に好ましいものは、（Ｃ１〜Ｃ４）アルコキシで置換さ
れたフェニル（Ｃ，〜Ｃ４）アルキル基であり、そして
最も好ましいものは４−メトキシベンジルである。また
、例えば２−クロロアセチル、２−クロロプロピオニル
、２−クロロヘキサノイル、２−フルオロアセチル等の
２−ハロ（低級）アルカノイル基が挙げられ、それらの
中で好ましいものは、２−クロロアセチルである。

好ａな「低級アルキニレン基ｊとしては、エチニレン基
、１　　にｌ−タは２）−プロビニレン基、１（または
２または３）−ブチニレン基、１−メチル−２−プロビ
ニレン基、１　（または２または３または４）−ベンチ
ニレン基、１　（または２または３または４または５）
−ヘキンニレン）１（′″、９か２Ｙげられるが、それ
らの中で好ましいものとしては、（Ｃ，〜Ｃ４）アルキ
ニレンフ１（か挙げられる。

この発明の目的化合物（１）の製造法を以ド詳細に説明
する。

製造法目的化合物（１）またはその塩類は、化合物（ＩＩ）ま
たその塩類をアミノ保護基の脱離反応に付すことにより
製造することができる。

この反応は加水分解、ハロギ酸エステルとの反応なとの
慣用の方法に従って行われる。

加水分解は塩基、または酸（ルイス酸も含む）の存在Ｆ
に行うのが好ましい。好適な塩基とし−Ｃは、例えばナ
トリウム、カリウド等のアルカリ金属、例えばマグ不ン
ウム、カルンウム等のアルカリ土類金属またはそれらの
水酸化物または炭酸塩または炭酸水素塩、例えばトリメ
チルアミン、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン
、ピコリン、］、］５−ジアザビシクロ／１．３．Ｏ］
　ノネン−５，１，４−ジアザビンクロ［２，２２１オ
クタン、１．８−ジアザビ／りｏ　［５，４，Ｏｉタウ
ンセン−７等のような無機塩基および有機塩基が挙げら
れる。

好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸および例
えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素等
の無機酸が挙げられる。

例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロ
酢酸等のようなルイス酸を使用する脱離は、例えばアニ
ソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在Ｆに行う
のが好ましい。

反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフランのような
溶媒中またはそれらの混合物中で行われるが、反応に悪
影響を及ぼさない溶媒であればその他いかなる溶媒中で
も反応を行うことができる。液状の塩基または酸も溶媒
として使用することができる。

反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行′われる。

ＩＩハロギ酸エステルとの反応に用いられる「ハロギ酸エス
テルＩの適当な例としては、クロロギ酸メチル、クロロ
ギ酸エチル、クロロギ酸１−クロミニチル、りＯＯギ酸
ｐ−二Ｉ−ロフェニルなどが挙げられる。

反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、アセトニトリル、塩化メチレンのような溶媒
中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれ
ばその他いかなる溶媒中でも反応を行うことができる。

反応温度は特に限定されないが、通常は加温下ないし加
熱下に反応が行われる。

アミン保護基が、２−ハロ（低級）アルカノイル基であ
る場合には、チオ尿素の存在下に加熱することにより脱
離反応を行うことができる。

出発原料下記製造法（ＩＩ）の製造法は例えば後、記の
製造例を参照すればよい。

（発明の効果）この発明の製造法によれば、高収率で目的化合物（１）
が得られ、工業的製法としても適する。

放射性同位元素て標識された化合物を作るのに適する。

以ド、製造例および実施例に従ってこの発明を説明する
。

製造例ＩＮ−（２−プロピニル）−２−ヒドロキシ−２＋２−ジ
フェニルアセトアミド（４，０ｇ）　、Ｎ−エチル−４
−メトキンペンシルアミン（２，７４ｇ）、塩化第一銅
（０，０２ｇ）およびバラホルムアルデヒド（ｏ５４ｇ
）の１，４−ジオキサン（２０ｍｌ）中温合物を３０分
間還流した後、冷却する。混合物を酢酸エチルで希釈し
、水および食塩水で洗浄し一１硫酸すｌ−ＩＪウムで乾
燥し、減圧下に溶媒を留去する。

残留物をンリカゲルを使用するカラ１１クロマトグラフ
イーに付し、クロロホルムとメタノールとの混液で溶出
し、Ｎ−［４−（Ｎ−エチル−４−メトキシヘンシルア
ミン）−２−ブチニル：１−２−ヒドロキン−２，２−
ジフェニルアセトアミド（７，６２ｇ）を得る。

ＩＲ（エート）　　　：　　３４］０．　　１６７０　
　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣ１，、δ）　　：　　１．０
８　　（３１１，ｔ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　　２．５２
　　（２１１、Ｑ、　Ｊ＝７．２１１ｙ、　）、　３．
２７　　（２１１，ｔ、　」１．９１１Ｚ）、　　３．
５０（２＋１．Ｓ）、　　：（。７９　　（３１１，ｓ
）、　　４．１３　　（２１１，＋１．　ｔ、　Ｊ＝５
４１１７、　　およ（Ｊ　　１．９１１７．）、　　６
．６６　　（ＩＩｌ、ｂｒｔ、Ｊ＝５．４＋ｌｚ）、　
　６．８４　　（２１１，ｄ、Ｊ＝８．６１１ｚ）、　
　７．２２（２１１，ｄ、Ｊ−８，６１１７，）、　　
７．２７−７．５５　　（１０１１，ｍ）製造−例２Ｎ−（２−プロピニル）フタールイミド（８１７ｇ）、
Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルアミン（８，ｏｚｇ
）、塩化第一・銅（０，ＯＩｇ）およびノぐう７トルム
アルデヒド（１，５９ｇ　）の１，４−ジオキサン（３
２ｍｆｆ）中温合物を３０分間還流し、不溶物質を〜別
する。冷却後、減圧下に溶媒を留去し、酢酸エチルで粉
砕し、Ｎ−［４−（Ｎ−エチル−４−メトキンヘンシル
アミノ）−２−ブチニル］フタールイミド（９，８７ｇ
）を得る。更に〜液の溶媒を減圧下に留去し、ジイソプ
ロピルエーテルで粉砕し、同じ化合物（４，１４ｇ）を
得る。

ｍｐ　：　８３℃ ＩＲ（メジフール）　　：　　１７７０．　１７２０　
　ｃｍ　１ＮＭＲ（ＣＩ）Ｃ１，ｌ、６）　　ニー　１
．０６　　（３１１，ｔ、Ｊ＝７．２ｔｌｚ）、　　２
．５４（２１１，ｑ、　Ｊ二’７’、　２１１７．　）
、　３２７　　（２１１，ｓ）、　　３．５２　　（２
１１，ｓ）。

３．７８　　（３１１，ｓ）、　　４．５０　　（２１
１，ｓ）、　　６．８１（２１１，ｄ。

Ｊ＝８．５１１Ｚ）、　　７．２２　　（２１１，ｄ、
Ｊ＝８．５１１ｚ）、　　７．６６−７、旧（２１１，
ｍ）、　７．８１−７．９８　（２１１，ｍ）製造例３、Ｎ−ｒ４−’（Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルア
ミノ）−２−ブチニル１フタールイミド（１３４５ｇ）
およびヒドラジン・１水和物（４，ＩＯｇ）のエタノー
ル（６５ｍｆｆ）中温合物を３０分間還流し、水浴で１
５分間冷却する。生じた不溶物質を濾別し、減圧下に溶
媒を留去する。残留物を減圧蒸留によすＨＪ　”Ａし、
４−（Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルアミノ）−２
−ブチニルアミン（７，４３ｇ）を得る。

ｂｐ　１７４１７６℃／６ｍｍｌ１ｇＩＲ（ニー））　　　：　　３３６０．　　３２９０　
　Ｃ１Ｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．６）　：　１．１０
　（３１１，ｔ、Ｊ　＝７．２１１ｚ）、　　１．．５
０（２１１，ｂｒｓ）、　　２．５７　　（２１１，ｑ
、Ｊ＝７．２１１ｚ）、３．３０　　（２１１゜Ｌ、Ｊ
＝２．０Ｉ４７．）、　　３．４８　（２１１，ｔ、Ｊ
＝２．０１ｌｚ）、　　３．５５（２１１，ｓ）、　　
３．８０　　（３１１，ｓ）、　　６．８５　　（２１
１，ｄ、Ｊ＝８．７１１ｚ）７、２６　　（２１１，ｄ
、　Ｊ＝８．７ｌ−ＩＺ）製草−例４ベンジル酸（１，４３ｇ）および１．１−カルボニルジ
イミダゾール（１，１２ｇ）の無水塩化メチレン（８，
５ｍ＆）中温合物を室温で１５時間撹拌する。次に４−
（Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルアミノ）−２−ブ
チニルアミン（］、５４ｇ）を加え更に１時間撹拌する
。混合物を水（２０ｍｇ）で３回および食塩水（］Ｏｍ
ｆｆ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に
溶媒を留去する。残留物をシリカゲルを使用するカラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルムとメタノール
との混液で溶出し、Ｎ−［，４−（Ｎ−エチル−４−メ
トキシベンジルアミノ）−２−ブチニル］−２−ヒドロ
キシ−２゜２−ジフェニルアセトアミド（２，３９ｇ）
を得る。

本化合物の物性値は、製造例１のものと−・致した。

製菟イ４１−員ベンジル酸（１，５ｇ）の無水塩化メチレン（７，５ｍ
１）溶液に、五塩化燐（２，１９ｇ）を刊Ｏ℃〜〜８°
Ｃで４回に分は加える。１時間撹拌後、水（３０ｍｇ）
を加える。分取した（Ｈ８層を炭酸水素ナトリウム飽和
水溶液でδＬ浄し、得られた）１１２−クロロ−２゜２
−ジフェニルアセチルクロリドの地代メチレンｍ　液ヲ
４　　　（Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルアミノ〉
−２−ブチニルアミン（］、９９８ｇおよびトリエチル
アミン（］’、８３ｍｐ）の無水塩化メチレン（２０ｍ
ｇ）溶液に一５°Ｃて滴下する。２時間撹拌後、溶液を
水（７５ｍｇ）で２回および食塩水（７，５ｍ１）で洗
浄し、減圧下に溶媒を留去し、Ｎ−［４’−（Ｎ−エチ
ル−４−メトキシベンジルアミノ’Ｉ　−２−ブチニル
１＝２−クロロ−２，２−ジフェニルアセトアミドの粗
生成物を得る。この粗生成物のジオキサン（８ｍｆｆ　
）溶液に、ＩＮ塩酸（８’　ｍｌ！　）を加え、８０°
Ｃで８０分間加熱する。冷却後、ＩＮ水酸化ナトリウム
溶液（１５ｍｇ）および食塩（４ｇ）を混合物に加え、
分取した油状物を酢酸エチルで抽出する。抽出液を硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。残留物
をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィーに付
し、クロロホル】７− ムとメタノールとの混液で溶出し、Ｎ−ｒ４−　（Ｎ−
エチル−４−メトキンヘンシルアミノ）−２−ブチニル
］−２−ヒドロキシ−２，２−ジフェニルアセトアミド
（１，８８ｇ）を得る。本化合物の物性値は、製造例１
のものと−・致した。

製造−例６Ｎ−［、／Ｉ−（Ｎ−エチル−４−メトキンベン／ルア
ミノ）−２−ブチニル］　−２−ヒドロキン−２，２−
ジフェニルアセトアミド（０，２１１ｇ）および２−ク
ロロアセチルクロリド（０，０８ｍ１！　）の塩化メチ
レン（６ｍ（１）中温合物を１時間還流する。冷却後、
減圧下に溶媒を留去する。残留物をシリカゲルを使用す
るカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムとメ
タノールとの混液で溶出し、Ｎ−［４−（Ｎ−エチル−
２−クロロアセチルアミノ）−２−ブチニル〕−２−ヒ
ドロキン−２，２−ジフェニルアセトアミド（０２５ｇ
）を得る。この化合物を精製することなく次の反応に用
いる。

実施例ＩＮ−［／１−（Ｎ−エチル−４−メトキンベンジルアミ
ノ）−２−ブチニルｌ−２−ヒドロキン−２，２−ジン
ェニルアセ！・′ｒミド（＋、０ｇ）および１−クロロ
エチルクロロホルメートの塩化メチレン（１４ｍｌ）中
温合物を１時間還流する。冷却後、溶媒を減圧下に留去
し、メタノール（１０ｍ１１りを加える。この溶液を２
０分間還流し、冷却する。溶媒を減圧下に留去し、残留
物を希塩酸でｐト１１に調整する。溶液をジイソプロピ
ルエーテルで洗浄し、水酸化ナトリウム溶液でアルカリ
性にし、酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し、
ジイソプロピルエーテルで粉砕して、Ｎ　　（７−エチ
ルアミノ−２−ブチニル）−２−ヒドロキン−２，２−
シフＪニルアセトアミド（０，５７ｇ）を得る。

ｍｐ：　１３４−１３５℃ ＩＲ（メジ３−ル）　　：　　３３７５．　３２７５．
　１６６５　　ａｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣ１，Ｉ、δ）・
１．０８　（３＋１．　ｔ、　Ｊ＝７゜ＩＨｚ　）、　
’２．６５（２１１；　Ｑ、　Ｊ＝７．１１１Ｚ）、　
　３．３６　（２＋１．　ｔ、　Ｊ＝２．０１ｌｚ　）
。

４．１０（２１１，ｄｉ、Ｊ＝２．ＯＨｚ　　ｂよＩＪ
５．３１１Ｚ　）、　　６．７３　　（ＩＩＩ。

ｂｒｔ、Ｊ＝５．３Ｈｚ）、　　７．２３−７．６０　
　（１０１１，ｍ）実施例２Ｎ−［／Ｉ−（Ｎ−エチル−２−クロロアセチルアミノ
）−２−ブチニル］−２−ヒドロキン−２゜２−ジフヱ
ニルアセトアミド（０，２５ｇ）およびチオ尿素（０，
０５ｇ　）のエタノール（２ｍｐ）中温合物を２５分間
還流する。冷却後、溶媒を減圧下に留去し、水（２ｍｌ
）を加える。混合物を３０分間還流し、溶液を希塩酸で
酸性にする。溶液を酢酸エチルで洗浄し、ｐＨ１２に調
整する。酢酸エチルで抽出し、抽出液を水で洗浄し、硫
酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。残留
物を酢酸エチルて粉砕ビて、Ｎ−（４−エチルアミノ−
２−ブチニル）−２−ヒドロキン−２，２−シフ、ニル
アセトアミド（０，０７ｇ）を得る。本化合物の物性値
は、実施例１のものと一致した。

以下実施例１と同様にして、実施例３〜１３の化合物を
得る。

実施例３Ｎ−（４−メチルアミノ−２−ブチニル）−２一シクロ
へキンルー２−ヒトｏ＋ンー２−７、−ニルアセトアミ
ドＩＲ（ＣＩＩＣＩ３）　　：　　３４００．　１６６０
　　ｃｍ”ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ）　　：　　０．６
７−２．２３　　（＋２１１．　ｍ）、　　２．２３−
２．６０　　（ＩＩＩ、ｍ）、　　２．６７　　（３１
１，１，）、　　３．２３−３．３７　　（２１１゜ｍ
）、　　３．８３−４．　ｌｏ（２１１，ｍｌ　　６．
６０−７．００　　（ＩＩＩ、　ｍ）。

７、１０−７．５０　　（３１１，ｍ）、　　７゜５０
−７．６７　　（２１１，ｍ）Ｍａｓｓ　：　３１５．
３１３．１８９実廊例−４Ｎ−（４−エチルアミノ−２−ブチニル）−２＝シクロ
へキシル−２−ヒドロキン−２−フェニルアセトアミドＩＲ（Ｍｌ）：　　３４００．　１６５０　　ａｍ−’
ＮλＩＲ（ＣＤＣｌ２．δ）　　：　　１．１３　　（
ａｌｌ、　ｔ、　Ｊ−６Ｈ２）＋　　ｏ、　８０−２．
７０　　（＋３１１．ｍ）、　　２．６７　　（２）１
．ｑ、に６Ｈｚ）、　　３．３４−３、４７　　（２Ｈ
，ｍ）、　　３．８４−４．０８　　（２１１，ｍ）、
　　６．５７−６．９７　　（ＩＩＩ、ブ叶ド　ｍ）、
　　７．１６−７．４５　　（３Ｈ，ｍ）。

７、４５−４．７８　（２１１，ｍ）Ｍａｓｓ　：　３２８．３２７．１８９実施例５２ｌ− Ｎ−（４−ブチルアミノ−２−ブチニル）−２−シクロ
へキシル−２−ヒドロキシ−２−フェニルアセトアミドＩＲ（ｉｎ）　　：　　３４００．　１６００　　ｃｍ
−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ）　　：　　０．７０−２
．００　　（１８１１，ｍ）、　　２．１７−２、８４
　　（３１１，ｍ）、　　３．３０−３．４６　　（２
１１，ｍ）、　　３．８７−４、ＩＩ　　（２１Ｌ　ｍ
）、　　６．６０−６．９４　　（ｆｉｌ、ブ【１−ド
　ｍ）。

７．１７−４．４４　（３Ｈ，ｍ）、　７．４４−７．
７０　（２１１，ｍ）Ｍａｓｓ　　：　　３５７．　３
１３．　１８９に廊１−β− Ｎ−（４−ｔ〜ブチルアミノ−２−ブチニル）−２−シ
クロへキシル−２−ヒドロキン−２−フェニルアセトア
ミドＩＲ（ＣＯＣｌ２）　　：　　３４００．　１６５０　
　ａｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ）　　：　　０．８
２−２．００　　（１０１１，ｍ）、　　１．１０（９
１１，ｓ）、　　２．１４−２．９５　　（２１１，ｍ
）、　　３．２７−３．３９（２１１，ｍ）、　　３．
８６−４．０４　　（２Ｈ，ｍ）、　　６．５７−６、
９６（ＩＩＩ、　ｍ）、　７．１６−７、４３　（３１
１，ｍ）、　７．４７−７、６７（２１１，ｍ）害鞭例γ Ｎ−（／ｌ−シクロヘキシルアミノ−２−ブチニル）−
２−シクロへキンルー２−ヒドロキン−２−フェニルア
セトアミドＩＲ（ＣＩＩＣｌ、Ｉ）　　：　　３４００．　１６０
０　　ｃｍ”ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、、δ）　　：　　０
．６３−２．１０　　（２１１１，ｍｌ　　２．２１−
３、０４　　（３１１，ｍ）、　　３．３５−３．４６
　　（２１１，ｍ）、　　３．８６−４．０７　　（２
１１，ｍ）、　　６．６３−６．９９　　（ＩＩＩ、ブ
【ｌ−Ｆ　ｍ）。

７、１７−７、４６　　（３１１，ｍ）、　　７．４６
−７、７３　　（２１１，ｍ）Ｍａｓｓ　：　３ｇ３．
３８２．１８９実−流刑−８Ｎ−［／Ｉ−（２−ヒドロキンエチル）アミノ−２−フ
チニル）−２−シクロヘキンルー２−ヒドロキン−２−
フェニルアセトアミドＩＲ（ＣＩＩＣｌ３）　：　３４００．１６５０　ｃｍ
−’）ＩＭＲ（ＣＤＣＩ、、δ）　：　Ｄ、　７２−２
．６５　（１４１１，ｍ）、　２．７２−２、８８　（
２Ｈ，ｍ）、　３．３５−３．４７　（２１１，ｍ）、
　３．５６−３、７４　（２Ｈ，ｍ）、　３．８９−４
．０９　（２１１，ｍ）、　６．７５−７．０６　　（
ｉｌｌ、ブトド　ｍ）、　　７．１９−７．４９　　（
３１１，ｍ）。

７．４９−１．７２　（２＋１．　ｍ）Ｍａ！、ｓ　：
　３４５．１８９実施例９Ｎ−１／ｌ−（エトキ／カルホニルメチル）アミノ−２
−ブチニル）−２−シクロへキンルー２−ヒドロキン−
２−フェニルアセトアミドＩＲ（ｉｉ）　：　３３８０
．　１７３０．　１６６０　ｃｍ′ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３
．δ）　：　０．７］−］、　９３　（ｔｉｌｌ、　ｍ
）、　　１．２６（３１１，ｔ、　Ｊ＝　６Ｈｚ　）、
　　２．２３−２．８４　（２１１，ｍ）、　３．３３
−３、５］　（４１１，ｍ）、　　３．８７−４．０７
　（２１１，ｍ）、　４．１６（２１１，ｑ、、Ｌ６）
ＩＺ）、　　６．６０−６．９８　　（ＩＨ，ブロード
　ｍ）。

７、２０−４．４７　（３Ｈ，ｍ）、　　７．４９−７
．７５　（２１１，ｍ）ｋｌａｓｓ　：　３８７．３８
６．　３４Ｌ　　３１３．　１８９実施−例ｊＱＮ−［４−＋２−（３，４−−ジメトキシフＪ、ニル）
エチルアミノ１−２−ブチニル］−２−シクロへキンル
ー２−ヒドロキシ−２−フェニルアセトアミドＩＲ（１Ｂ）　　：　　３４２０．　１６６０　　ｃｍ
−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３．δ）　　：　　０．７９−２
．ＯＯ（＋２１１．ｍ）、　　２．１３−２．４４（Ｉ
ＩＩ、ｍ）、　　２．５４−２．９５　　（４１１，ｍ
）、　　３．２６−３、４２　　（２１１，ｍ）、　　
３．７７　　（６１１，ｓ）、　　３．７７−４．０３
（２１１，ｍ）、　　６．６３−７．０１　　（４１１
，ｍ）、　　７．１９−７．５０（３１１，ｍ）、　　
７．５７−７、８１　　（２１１，ｍ）Ｍａｓｓ　　：
　　ｌ１６５．　３１３．　１８９実施例１１Ｎ−（／Ｉ−メチルアミノ−２−ブチニル）−２−ヒド
ロキン−２，２−シフ、ニルアセトアミドＩＲ（Ｃ１ｉ
ｃｋ、、）　：　３４００．　３３００．　１６６０　
ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３．δ）　：　２．２０−２
．７４　（２１１，ｍ）、　２．３２（３Ｈ，ｓ）、　
　３．２４−３．４１　（２１１，ｍ）、　　３．９８
−４．２０（２１１，ｍ）、　　６．６４−７．０２　
（ｉｌｌ、　ｍ）、　　７．２３−７．６］（Ｊｏｌｔ
、ｍ）ｌｔａｓｓ　：　３０７．　２６１．　１８３実−施−
例、１ａＮ−（，１Ｉ−−プロピルアミン−２−ブチニル）−２
−ヒドロキン−２，２−ジフェニルアセトアミドｍｐ：　１３５−１３６℃ ＩＲ（ヌジコール）　　：　　３３７０．　３２８０．
　１６６０　　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ９．Ｊ）　　
：　　０．９１　　（３１１，ｔ、Ｊ＝７．３１ｋ）、
　　ｌｌ１７（２１１，ｑｔ、Ｊ＝７．３Ｈ２およ６　
７．ｌ１ｌｚ　）、　　　］、］０７−２．１（Ｉ　Ｉ
Ｉ　、ブｕ−Ｆ　　ｍ）、　　２．５６　　（２１１，
ｔ、Ｊ＝７．ｌ１ｌＺ）、　　３．３６（２１１，ｔ、
　Ｊ−２，０１ｌＺ）、　　４．　ＩＩ　　（２１１，
ｄｉ、　Ｊ＝５．３１１ｚＪ）よＩＪ　　２．０ｌｌｚ
　）、　　６．７６　　（ＩＩＩ、ブ１トド　ｔ。

Ｊ−５，３１１ｚ）、　　７．１９−７．５３　　（１
０１１，ｍ）ｌｔａｓｓ　　：　　３３６．　３３５　
　（Ｍ−１）、　　２８９．　２６］、　　１８３実施
例１３Ｎ−（／Ｉ−シクロプロピルアミ７−２−ブチニル）−
２−ヒドロキン−２，２−シフ、ニルアセトアミドＩＲ（ＣＩＩＣｌ３）　　：　　３４００．　３０５０
．　３０００．　　］６６０゜１６０Ｏｃｔｈ−’ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、、δ）　　：　　０．２９−０．
５５　　（４１１，ｍ）、　　１．４５−２．１５（１
１１、ブｎ−ド　ｓ）、　　２．１９−２．３７　　（
ＩＩＩ、ｍ）、　　３．４１（２１１，ｔ、　Ｊ：２．
０ｔｌｚ　）、　　４．　ＩＩ　　（２１１，ｄＬ、　
１５．３＋１７および　２．０１ｌｚ　）、　　　６．
６８　　（ＩＩＩ、ブ【１−ド　Ｌ。

Ｊ−５，３１１７，）、　　７．２１−７．５５　　（
］Ｏ１ｌ、　ｍ）Ｍａｓｓ　　：　　３３４．　３３３
　　（Ｍｌ）、　　２６Ｌ　　２１７．　１８３出願人
　　藤／Ｒ：Ｊに品Ｔ業株式会社代理人　弁理士　西　
川　俊　雄

Claims

【特許請求の範囲】１）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１はアリール基またはシクロ（低級）アル
キル基、Ｒ＾２はアリール基、Ｒ＾３は低級アルキル基、ヒドロキシ（低級）アルキル
基、カルボキシ（低級）アルキル基、保護されたカルボ
キシ（低級）アルキル基、シクロ（低級）アルキル基ま
たは適当な置換基を有していても良いアル（低級）アル
キル基、Ｒ＾４はアミノ保護基、およびＡは低級アルキニレン基をそれぞれ意味する）で示され
る化合物またはその塩類をアミノ保護基の脱離反応に付
して、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＡはそれぞれ前
と同じ意味）で示される化合物またはその塩類を得ることを特徴とす
る置換アセトアミド化合物の製造法。