JPH0419033A - 微小位置決め装置 - Google Patents
微小位置決め装置Info
- Publication number
- JPH0419033A JPH0419033A JP12012290A JP12012290A JPH0419033A JP H0419033 A JPH0419033 A JP H0419033A JP 12012290 A JP12012290 A JP 12012290A JP 12012290 A JP12012290 A JP 12012290A JP H0419033 A JPH0419033 A JP H0419033A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- axis
- actuator
- driven body
- micro
- center line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 51
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 claims 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は半導体電子デバイスや光デバノスなどの作製に
用いられる露光装置や描画装置、あるいは加工装置に用
いられる微小変位工具台などの微小位置決め装置に関す
る。
用いられる露光装置や描画装置、あるいは加工装置に用
いられる微小変位工具台などの微小位置決め装置に関す
る。
〈従来の技術〉
第４図に従来の微小位置決め装置を示す。
同図に示すように、被駆動体１は枠体２内で案内機構に
よってＸ−Ｙ軸平面内に移動自在に支持されている。即
ち、被駆動体１は弾性変形体３によってＸ軸方向及びＹ
軸方向に移動自在に支持され、且つＸ軸アクチュエータ
４及びＹ軸アクチュエータ５によってＸ軸方向及びＹ軸
方向に付勢することができるようになっている。
よってＸ−Ｙ軸平面内に移動自在に支持されている。即
ち、被駆動体１は弾性変形体３によってＸ軸方向及びＹ
軸方向に移動自在に支持され、且つＸ軸アクチュエータ
４及びＹ軸アクチュエータ５によってＸ軸方向及びＹ軸
方向に付勢することができるようになっている。
弾性変形体３は被駆動体１の案内要素として構成され、
ヒンジばねあるいは板ばねなどを用いている。Ｘ軸アク
チュエータ４及びＹ軸アクチュエータ５は駆動源に微小
変位が得られ、高いスラスト方向の発生力を有する圧電
素子あるいはＤＣサーボモータなどを有している。これ
によって被駆動体１は枠体２内てＸ−Ｙ軸平面内に滑ら
かに駆動することができるようになっている。
ヒンジばねあるいは板ばねなどを用いている。Ｘ軸アク
チュエータ４及びＹ軸アクチュエータ５は駆動源に微小
変位が得られ、高いスラスト方向の発生力を有する圧電
素子あるいはＤＣサーボモータなどを有している。これ
によって被駆動体１は枠体２内てＸ−Ｙ軸平面内に滑ら
かに駆動することができるようになっている。
更に、被駆動体１の近傍にはこの被駆動体１のＸ軸方向
及びＹ軸方向の位置を検出するＸ軸変位センサ６及びＸ
軸変位センサ７が配置されている。Ｘ軸変位センサ６及
びＸ軸変位センサ７はレーザ干渉計あるいは静電容量型
変位計等の高精度の分解機能を有し、このＸ軸変位セン
サ６及びＸ軸変位センサ７：ま制姉回９Ｂに接続されて
いる。また、この制目回路８に（よＸ軸アクチュエータ
４及び）′軸アクチュエータ５が接続されてＬ）る。こ
のように上述した位置決め装置はクローズドルーフ方式
を採用している。
及びＹ軸方向の位置を検出するＸ軸変位センサ６及びＸ
軸変位センサ７が配置されている。Ｘ軸変位センサ６及
びＸ軸変位センサ７はレーザ干渉計あるいは静電容量型
変位計等の高精度の分解機能を有し、このＸ軸変位セン
サ６及びＸ軸変位センサ７：ま制姉回９Ｂに接続されて
いる。また、この制目回路８に（よＸ軸アクチュエータ
４及び）′軸アクチュエータ５が接続されてＬ）る。こ
のように上述した位置決め装置はクローズドルーフ方式
を採用している。
而して、被駆動体１はＸ軸アクチニエータ４及びＹ軸ア
クチュエータ５によって駆動される。このとき、Ｘ軸変
位センサ６及びＸ軸変位センサ７が被駆動体１の位置を
検出してこの位置信号をｆｌｊ１１訂回１７１８に入力
し、Ｘ軸アクチュエータ４及びＹ軸アクチュエータ５に
フィードバックすることで位置制智がなされろ。
クチュエータ５によって駆動される。このとき、Ｘ軸変
位センサ６及びＸ軸変位センサ７が被駆動体１の位置を
検出してこの位置信号をｆｌｊ１１訂回１７１８に入力
し、Ｘ軸アクチュエータ４及びＹ軸アクチュエータ５に
フィードバックすることで位置制智がなされろ。
〈発明が解決しようとするｉ！題〉
微小位置決め装置の作製時にその加工組立誤差によって
案内要素を構成する弾性変形体３に弾性率の断差が発生
したり、被駆動体１の重心位置がずれたりすることがあ
る。
案内要素を構成する弾性変形体３に弾性率の断差が発生
したり、被駆動体１の重心位置がずれたりすることがあ
る。
この場合、上述した従来に位置決め装置にあって（ま、
Ｘ軸アク：ｔ−ユエータ４及びＹ軸アク千ユユータ５が
被駆動体１の軸線方向に対して各−つづつ配電されてい
るので、このＸ献アクチュエータ４及びＹ軸アク千ユニ
ータ５のｆ動軸上の重心が一致しない。また、１動軸上
に重心が一致していても弾性変形体３によるＶ駆動体１
の支持力が各弾性変形体３ことに異なってアレバランス
が生じ、被駆動体１を直線運動に対して回転させろトル
クが発生してしまい、例えば、１０μｍの直線運動に対
して１ ｓｅｃ程度の干渉量が生じてしまう。
Ｘ軸アク：ｔ−ユエータ４及びＹ軸アク千ユユータ５が
被駆動体１の軸線方向に対して各−つづつ配電されてい
るので、このＸ献アクチュエータ４及びＹ軸アク千ユニ
ータ５のｆ動軸上の重心が一致しない。また、１動軸上
に重心が一致していても弾性変形体３によるＶ駆動体１
の支持力が各弾性変形体３ことに異なってアレバランス
が生じ、被駆動体１を直線運動に対して回転させろトル
クが発生してしまい、例えば、１０μｍの直線運動に対
して１ ｓｅｃ程度の干渉量が生じてしまう。
また、上述し７た従来の位置決め装置にあっては、Ｘ社
変位センサ６及びＸ軸変位センサ７が被駆動体１の軸線
方向に対して各−つづつ配置されているので、上述回転
干渉量を的確に検出することができず、この回転干渉量
を計測するためにオートコリメータ等の検出センサを微
小位置決め装置の外部に配置しなければならず、その取
付が面倒であった。
変位センサ６及びＸ軸変位センサ７が被駆動体１の軸線
方向に対して各−つづつ配置されているので、上述回転
干渉量を的確に検出することができず、この回転干渉量
を計測するためにオートコリメータ等の検出センサを微
小位置決め装置の外部に配置しなければならず、その取
付が面倒であった。
このように従来の位置決め装置にあっては、被駆動体］
の加工組立誤差によって生しる回転干渉量を的確に検出
した補正することができず、そねによって位置決め精度
が低下してしまうという問題点があった。
の加工組立誤差によって生しる回転干渉量を的確に検出
した補正することができず、そねによって位置決め精度
が低下してしまうという問題点があった。
本発明はこのような問題点を解決するものであって、被
駆動体の干渉量を低減して位置決め精度の向上を図った
微小位置決め装置を提供することを目的とする。
駆動体の干渉量を低減して位置決め精度の向上を図った
微小位置決め装置を提供することを目的とする。
く課題を解決するための手段〉
上述の目的を達成するための本発明の微小位置決め装置
は、被駆動体が枠体内でＸ−Ｙ軸平面内に位置決めされ
ろ微小位置決め装置において、前記被駆動体を前記枠体
に対してＸ−Ｙ軸平面内て移動自在に支持する弾性変形
体と前記被駆動体をＸ軸方向及びＹ軸方向に付勢するＸ
軸アクチュエータ及びＹ軸アクチュエータとを有し、前
記Ｘ軸アクチュエータとＹ軸アクチュエータのいずれか
一方が前記被駆動体の移動軸線方向の中心線を挾んで両
側に一対配設されたことを特徴とするものである。
は、被駆動体が枠体内でＸ−Ｙ軸平面内に位置決めされ
ろ微小位置決め装置において、前記被駆動体を前記枠体
に対してＸ−Ｙ軸平面内て移動自在に支持する弾性変形
体と前記被駆動体をＸ軸方向及びＹ軸方向に付勢するＸ
軸アクチュエータ及びＹ軸アクチュエータとを有し、前
記Ｘ軸アクチュエータとＹ軸アクチュエータのいずれか
一方が前記被駆動体の移動軸線方向の中心線を挾んで両
側に一対配設されたことを特徴とするものである。
また、本発明の微小位置決め装置は、被駆動体が枠体内
てＸ−Ｙ軸平面内に位Ｗ法めされる微小位置決め装置に
おいて、前記被駆動体を前記枠体に対してＸ−Ｙ軸平面
内て移動自在に支持する弾性変形体と前記被駆動体をＸ
軸方向及びＹ軸方向に付勢するＸ軸アクチュエータ及び
Ｙ軸アクチュエータと被駆動体のＸ軸方向及びＹ軸方向
の位置を検出するＸ軸変位計及びＹ軸変位計とを有し、
前記Ｘ軸アクチュエータとＹ軸アクチュエータのいずれ
か一方が前記被駆動体の移動軸線方向の中心線を挾んで
両側に一対配設されると共に前記Ｘ軸変位計及びＹ軸変
位計のいずれか一方一対並設されたことを特徴とするも
のである。
てＸ−Ｙ軸平面内に位Ｗ法めされる微小位置決め装置に
おいて、前記被駆動体を前記枠体に対してＸ−Ｙ軸平面
内て移動自在に支持する弾性変形体と前記被駆動体をＸ
軸方向及びＹ軸方向に付勢するＸ軸アクチュエータ及び
Ｙ軸アクチュエータと被駆動体のＸ軸方向及びＹ軸方向
の位置を検出するＸ軸変位計及びＹ軸変位計とを有し、
前記Ｘ軸アクチュエータとＹ軸アクチュエータのいずれ
か一方が前記被駆動体の移動軸線方向の中心線を挾んで
両側に一対配設されると共に前記Ｘ軸変位計及びＹ軸変
位計のいずれか一方一対並設されたことを特徴とするも
のである。
更に、上述の各微小位置決め装置において、被駆動体と
Ｘ軸アクチュエータ及び該被駆動体とＹ軸アクチュエー
タとの間に該被駆動体を支持する弾性変形体よりも剛性
の低い第２弾性変形体が介挿されたことを特徴とするも
のである。
Ｘ軸アクチュエータ及び該被駆動体とＹ軸アクチュエー
タとの間に該被駆動体を支持する弾性変形体よりも剛性
の低い第２弾性変形体が介挿されたことを特徴とするも
のである。
〈作 用〉
被駆動体をＸ軸方向及びＹ軸方向に付勢するＸ軸アクチ
ニエータ及びＹ軸アクチュエータのいずれか一方が被駆
動体の移動軸線方向の中心線を狭んて両側に一対配設さ
れたことで、一対のアクチュエータを駆動して被駆動体
の直線運動が的確となる。
ニエータ及びＹ軸アクチュエータのいずれか一方が被駆
動体の移動軸線方向の中心線を狭んて両側に一対配設さ
れたことで、一対のアクチュエータを駆動して被駆動体
の直線運動が的確となる。
また、被駆動体をＸ軸方向及びＹ軸方向に付勢するＸ軸
アクチュエータ及びＹ軸アクチュエータのいずれか一方
が前記被駆動体の移動軸線方向の中心線を挾んで両側に
一対配設されると共にＸ軸変位計及びＹ軸変位計のいず
れか一方が一対配設さねたことて、被駆動体の回転干渉
量が一対の変位計によって検出されて補正される。
アクチュエータ及びＹ軸アクチュエータのいずれか一方
が前記被駆動体の移動軸線方向の中心線を挾んで両側に
一対配設されると共にＸ軸変位計及びＹ軸変位計のいず
れか一方が一対配設さねたことて、被駆動体の回転干渉
量が一対の変位計によって検出されて補正される。
更に、被駆動体とＸ軸アクチュエータ、Ｙ軸アクチュエ
ータとの間に剛性の低い第２弾性変形体が介挿されたこ
とで、各アクチュエータの駅動軸に対して直交する方向
の拘束が緩和される。
ータとの間に剛性の低い第２弾性変形体が介挿されたこ
とで、各アクチュエータの駅動軸に対して直交する方向
の拘束が緩和される。
〈実 施 例〉
以下、図面に基づいて本発明の実施例を詳細に説明する
。
。
第１図及び第２図に本発明の一実施例に係ろ微小位置決
め装置を示す。
め装置を示す。
第１図及び第２図に示すように、被駆動体としてのテー
ブル１１は枠体としてのフレーム１２内で案内機構とし
ての弾性変形体１３によってＸ軸方向及びＹ軸方向に移
動自在に支持され、且つＸ軸アクチュエータ１４及びＹ
軸アクチュエータ１５．１６によってＸ軸方向及びＹ軸
方向に付勢することができるようになっている。
ブル１１は枠体としてのフレーム１２内で案内機構とし
ての弾性変形体１３によってＸ軸方向及びＹ軸方向に移
動自在に支持され、且つＸ軸アクチュエータ１４及びＹ
軸アクチュエータ１５．１６によってＸ軸方向及びＹ軸
方向に付勢することができるようになっている。
本実施例で１コ弾性変形体１３１よテーブル１１の四隅
にそれぞれ平行をなして取付けられてし）る。また、Ｘ
軸アクチュエータ１４がテーブノニ１〕のＸ軸方向の１
動中心線上に取付けられている。一方、Ｙ軸アクチュエ
ータ１５゜１６がテーブル１１のＹ軸平行の駆動中心線
こ対して対称でその駅動軸が平行になるように取付けら
れている。
にそれぞれ平行をなして取付けられてし）る。また、Ｘ
軸アクチュエータ１４がテーブノニ１〕のＸ軸方向の１
動中心線上に取付けられている。一方、Ｙ軸アクチュエ
ータ１５゜１６がテーブル１１のＹ軸平行の駆動中心線
こ対して対称でその駅動軸が平行になるように取付けら
れている。
なお、弾性変形体１３はピンＪばねあるい１ま板ばねな
どで、また、χ細アノ・ヂュエータ１４及びＹ軸アクチ
ュエータ］５．＋６は圧電素子あるいはＤＣ号−ボモー
タなどて構成されている。。
どで、また、χ細アノ・ヂュエータ１４及びＹ軸アクチ
ュエータ］５．＋６は圧電素子あるいはＤＣ号−ボモー
タなどて構成されている。。
テーブル１１の近傍に（まこのテーブル１１のＸ軸方向
及び）′軸方向の位置を検出するＸ軸変位センサ１７，
１８及び軸変位センサ１９が配置されている。
及び）′軸方向の位置を検出するＸ軸変位センサ１７，
１８及び軸変位センサ１９が配置されている。
本実施例では一方のＸ軸変位センサ１７がテーブル１１
のＸ軸方向の駆動中心線上に配置されると共に他方のＸ
軸変位センサ１８がこのＸ軸変位センサ１７とＸ軸に対
して所定の距離だけ平行に離間した位置に配置されてい
る。そして、Ｙ軸変位センサ１９がテーブル１１のＹ軸
方向の駆動中心線上に配置されている。
のＸ軸方向の駆動中心線上に配置されると共に他方のＸ
軸変位センサ１８がこのＸ軸変位センサ１７とＸ軸に対
して所定の距離だけ平行に離間した位置に配置されてい
る。そして、Ｙ軸変位センサ１９がテーブル１１のＹ軸
方向の駆動中心線上に配置されている。
なお、各変位センサ１７，１８，１９はレーザ干渉計あ
るいは静電容量変位計等の高精度の分解機能を有してい
る。
るいは静電容量変位計等の高精度の分解機能を有してい
る。
また、Ｘ軸アクチュエータ１４及びＹＩＩｌｉアクチュ
エータ１５．１６にはセラミックス製のボール２１を介
して予圧を調整するための調整ねじ２２がそれぞれ設け
られている。更に、テーブル１１とＸ軸アクチュエータ
１４及びＹ軸アクチュエータ１５．１６との間にはセラ
ミックス製のボール２３及び第２弾性変形体２４が介挿
されている。この第２弾性変形体２４はテーブル１１を
支持する弾性変形体】３よりも剛性が低く設定されてお
９、各アクチュエータ１５，１６．１７の駆動軸方向に
対して直交する方向の拘束を緩和することができるよう
になっている。なお、セラミックス製の各ボール２１．
２３はそれぞれの結合部に設けられた四角錘座に落し込
むことで位置決めされる。
エータ１５．１６にはセラミックス製のボール２１を介
して予圧を調整するための調整ねじ２２がそれぞれ設け
られている。更に、テーブル１１とＸ軸アクチュエータ
１４及びＹ軸アクチュエータ１５．１６との間にはセラ
ミックス製のボール２３及び第２弾性変形体２４が介挿
されている。この第２弾性変形体２４はテーブル１１を
支持する弾性変形体】３よりも剛性が低く設定されてお
９、各アクチュエータ１５，１６．１７の駆動軸方向に
対して直交する方向の拘束を緩和することができるよう
になっている。なお、セラミックス製の各ボール２１．
２３はそれぞれの結合部に設けられた四角錘座に落し込
むことで位置決めされる。
本実施例の微小位置決め装置には制御回路３１が設けら
れている。制御回路３１には角変位センサ１７，１８，
１９が接続されると共に各アクチュエータ１４，１５．
１６が接続され、各変位セン号１７，１８．１９からテ
ーブル１１の位置データ信号がこの制御回路３１に入力
され、各アクチュエータ１４゜１５．１６にフィードバ
ックすることでクローズトループをなしている。
れている。制御回路３１には角変位センサ１７，１８，
１９が接続されると共に各アクチュエータ１４，１５．
１６が接続され、各変位セン号１７，１８．１９からテ
ーブル１１の位置データ信号がこの制御回路３１に入力
され、各アクチュエータ１４゜１５．１６にフィードバ
ックすることでクローズトループをなしている。
而して、テーブル１）をＸ軸方向に変位させるにはＸ軸
アクチュエータ１４を駆動することで行い、Ｙ軸方向に
変位させるには一対のＹ軸アクチュエータ１５，１６を
同時に駆動することで行ねねる。そして、テーブル１１
の直線運動に対してはその位置を各軸線上に配置された
Ｘ軸変位センサ１７及びＹ軸変位センサ１９が検出して
この位ｒ佃号を制御回路３１に出力し、Ｘ軸ア々チュエ
ータ１４及びＹ軸アクチュエータ１５．１６にフィード
パ・・・ｈすることて位置制砂がなされる。
アクチュエータ１４を駆動することで行い、Ｙ軸方向に
変位させるには一対のＹ軸アクチュエータ１５，１６を
同時に駆動することで行ねねる。そして、テーブル１１
の直線運動に対してはその位置を各軸線上に配置された
Ｘ軸変位センサ１７及びＹ軸変位センサ１９が検出して
この位ｒ佃号を制御回路３１に出力し、Ｘ軸ア々チュエ
ータ１４及びＹ軸アクチュエータ１５．１６にフィード
パ・・・ｈすることて位置制砂がなされる。
このとき、テープノド】コにＸ−Ｙ平面内て回転連動が
与えられて、直線運動に対して回転干渉量が佳しること
がと、７．ｃ この干渉量は一対のＸ転変位セシ淋１７
．１８による位置検出坦と指伶位を信号の差（相対位置
偏差）及び各Ｘ軸変位上：／す１．７．ｉ、８の離間距
離から検出することができる。そして、この回転干渉量
をフッ−ドパ、７ ）信号として制御回路３１に送信す
る。制置回路３１はテーブルのｅ線変位ｔｌｅ維持しな
がら回転干渉量を補正するために必要なＹ雑ア々チュエ
ータ１５゜１６の駆動距離を演算し、この演算結果を各
’ｌ’ Ｉｔアク千ユエータ１５．１６に送イ言するこ
とてこれを駆動し回転子ｆＳ−ＪｉＬが補正される。
与えられて、直線運動に対して回転干渉量が佳しること
がと、７．ｃ この干渉量は一対のＸ転変位セシ淋１７
．１８による位置検出坦と指伶位を信号の差（相対位置
偏差）及び各Ｘ軸変位上：／す１．７．ｉ、８の離間距
離から検出することができる。そして、この回転干渉量
をフッ−ドパ、７ ）信号として制御回路３１に送信す
る。制置回路３１はテーブルのｅ線変位ｔｌｅ維持しな
がら回転干渉量を補正するために必要なＹ雑ア々チュエ
ータ１５゜１６の駆動距離を演算し、この演算結果を各
’ｌ’ Ｉｔアク千ユエータ１５．１６に送イ言するこ
とてこれを駆動し回転子ｆＳ−ＪｉＬが補正される。
この回転干渉の補正にあたり、本実施例において：まＸ
乾ア／７＃−ユニーク］４に５μｍごとに位置指令信号
を送り、このときに発生するＸ−Ｙ平面内における回転
干渉量を求めてみた。
乾ア／７＃−ユニーク］４に５μｍごとに位置指令信号
を送り、このときに発生するＸ−Ｙ平面内における回転
干渉量を求めてみた。
第３図にＸ軸アクチュエータの駆動ストロークに対する
回転干渉量を表すグラフを示す。
回転干渉量を表すグラフを示す。
同図に示すように、Ｘ軸アクチュエータ１４の駆動スト
ロークが２５μｍのときのテーブル］１の回転干渉ｌｆ
：ま０．１ｓｅｃＱ下となった、従来は１０μｍの駆動
ストロークに対して２ｓｅｃ程度の回転干渉量が牛して
いたところから、回転干渉量が］１５以下に低減された
。また、Ｙ軸方向でも同様にテーブル１】の回転干渉量
が低減された。
ロークが２５μｍのときのテーブル］１の回転干渉ｌｆ
：ま０．１ｓｅｃＱ下となった、従来は１０μｍの駆動
ストロークに対して２ｓｅｃ程度の回転干渉量が牛して
いたところから、回転干渉量が］１５以下に低減された
。また、Ｙ軸方向でも同様にテーブル１】の回転干渉量
が低減された。
また、テーブル１１の駆動時にこのテーブル１１とＸ軸
アクチュ二−タ１４及びＹ軸アクチュエータ１５．１６
との間に弾性変形体１３よりも剛性の低い第２弾性変形
体２４が介挿されているので、各アクチュエータ１４゜
１５．１６の駆動軸に対して直交する方向の拘束を緩和
することができろ。
アクチュ二−タ１４及びＹ軸アクチュエータ１５．１６
との間に弾性変形体１３よりも剛性の低い第２弾性変形
体２４が介挿されているので、各アクチュエータ１４゜
１５．１６の駆動軸に対して直交する方向の拘束を緩和
することができろ。
なお、上述の実施例において、テーブル１１をＹ軸方向
に駆動するアクチュエータ１５゜１６を一対設けたが、
Ｘ軸方向のアクチュエータを一対設けてもよい。また、
ＸＮ変位セレサ１７，１８を一対設けたが、Ｙ軸変位セ
ンサ】９を一対設けてもよいものである。
に駆動するアクチュエータ１５゜１６を一対設けたが、
Ｘ軸方向のアクチュエータを一対設けてもよい。また、
ＸＮ変位セレサ１７，１８を一対設けたが、Ｙ軸変位セ
ンサ】９を一対設けてもよいものである。
〈発明の効果〉
す上、実施例を挙げて詳細に説明したように本発明の微
小位置決め装置によれば、被駆動体をＸ−ＹＭ平面内で
移動自在に支持する弾性変形体と被駆動体を付勢するＸ
軸アクチュエータ及びＹ軸アクチュエータとを有し、い
ずれか一方のアクチュエータが被駆動体の移動軸線方向
の中心線を挾んで両側【こ一対配設されたので、この一
対のアクチュエータを駆動することで被駆動体の直線運
動の精度を向上させることができる。
小位置決め装置によれば、被駆動体をＸ−ＹＭ平面内で
移動自在に支持する弾性変形体と被駆動体を付勢するＸ
軸アクチュエータ及びＹ軸アクチュエータとを有し、い
ずれか一方のアクチュエータが被駆動体の移動軸線方向
の中心線を挾んで両側【こ一対配設されたので、この一
対のアクチュエータを駆動することで被駆動体の直線運
動の精度を向上させることができる。
また、被駆動体をｘ−Ｙ軸平面内で移動自在に支持する
弾性変形体と被駆動体を付勢するＸ軸アクチュエータ及
びＹ軸アクチュエータと被駆動体の位置を検出するＸ軸
変位計及びＹ軸変位計とを有し、いずれか一方のアクチ
ュエータが被駆動体の移動軸線方向の中心線を挾んで両
側に一対配設されると共にいずれか一方の変位計が一対
配設されたので、被駆動体の直線運動に対する回転干渉
量が一対の変位計によって検出されることてこの回転干
渉量を的確に補正することができる。
弾性変形体と被駆動体を付勢するＸ軸アクチュエータ及
びＹ軸アクチュエータと被駆動体の位置を検出するＸ軸
変位計及びＹ軸変位計とを有し、いずれか一方のアクチ
ュエータが被駆動体の移動軸線方向の中心線を挾んで両
側に一対配設されると共にいずれか一方の変位計が一対
配設されたので、被駆動体の直線運動に対する回転干渉
量が一対の変位計によって検出されることてこの回転干
渉量を的確に補正することができる。
その結果、被駆動体の回転干渉量を低減して位置決め精
度の向上を図ることができる。
度の向上を図ることができる。
更に、その微小位置決め装置において、被駆動体とＸ軸
及びＹ軸アクチユニークとの間に弾性変形体よりも剛性
の低い第２弾性変形体が介挿されたので、各アクチュエ
ータの駆動軸に対して直交する方向の拘束を緩和するこ
とができる。
及びＹ軸アクチユニークとの間に弾性変形体よりも剛性
の低い第２弾性変形体が介挿されたので、各アクチュエ
ータの駆動軸に対して直交する方向の拘束を緩和するこ
とができる。
第１図は本発明の一実施例に係る微小位置決め装置の概
念図、第２図はその微小位置決め装置の平面図、第３図
はアクチュエータの駆動ストロークに対する回転干渉量
を表すグラフ、第４図は従来の微小位置決め装置の概念
図である。 図 面 中、 Ｉｌｌまテーブル（被駆動体） １２：まフレーム（枠体） １３は弾性変形体、 １４はＸ軸アクチュエータ、 １５．１６ζよＹ軸アクチュエータ、 １７．１８はＸ軸変位センサ（Ｘｉｔｉ変位計）１９：
よＹ軸変位センサ（Ｙ軸変位計）２４ ＋、を第２弾性
変形体、 ３１は制齢回路である。
念図、第２図はその微小位置決め装置の平面図、第３図
はアクチュエータの駆動ストロークに対する回転干渉量
を表すグラフ、第４図は従来の微小位置決め装置の概念
図である。 図 面 中、 Ｉｌｌまテーブル（被駆動体） １２：まフレーム（枠体） １３は弾性変形体、 １４はＸ軸アクチュエータ、 １５．１６ζよＹ軸アクチュエータ、 １７．１８はＸ軸変位センサ（Ｘｉｔｉ変位計）１９：
よＹ軸変位センサ（Ｙ軸変位計）２４ ＋、を第２弾性
変形体、 ３１は制齢回路である。
Claims (3)
- （１）被駆動体が枠体内でＸ−Ｙ軸平面内に位置決めさ
れる微小位置決め装置において、前記被駆動体を前記枠
体に対してＸ−Ｙ軸平面内で移動自在に支持する弾性変
形体と前記被駆動体をＸ軸方向及びＹ軸方向に付勢する
Ｘ軸アクチュエータ及びＹ軸アクチュエータとを有し、
前記Ｘ軸アクチュエータとＹ軸アクチュエータのいずれ
か一方が前記被駆動体の移動軸線方向の中心線を挾んで
両側に一対配設されたことを特徴とする微小位置決め装
置。 - （２）被駆動体が枠体内てＸ−Ｙ軸平面内に位置決めさ
れる微小位置決め装置において、前記被駆動体を前記枠
体に対してＸ−Ｙ軸平面内で移動自在に支持する弾性変
形体と前記被駆動体をＸ軸方向及びＹ軸方向に付勢する
Ｘ軸アクチュエータ及びＹ軸アクチュエータと被駆動体
のＸ軸方向及びＹ軸方向の位置を検出するＸ軸変位計及
びＹ軸変位計とを有し、前記Ｘ軸アクチュエータとＹ軸
アクチュエータのいずれか一方が前記被駆動体の移動軸
線方向の中心線を挾んで両側に一対配設されると共に前
記Ｘ軸変位計及びＹ軸変位計のいずれか一方が一対並設
されたことを特徴とする微小位置決め装置。 - （３）請求項（１）あるいは請求項（２）記載の微小位
置決め装置において、被駆動体とＸ軸アクチュエータ及
び該被駆動体とＹ軸アクチュエータとの間に該被駆動体
を支持する弾性変形体よりも剛性の低い第２弾性変位体
が介挿されたことを特徴とする微小位置決め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12012290A JPH0419033A (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | 微小位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12012290A JPH0419033A (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | 微小位置決め装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0419033A true JPH0419033A (ja) | 1992-01-23 |
Family
ID=14778512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12012290A Pending JPH0419033A (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | 微小位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0419033A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5972135A (ja) * | 1982-10-18 | 1984-04-24 | Hitachi Ltd | 超精密ｘｙ移動装置 |
| JPS6458442A (en) * | 1987-08-31 | 1989-03-06 | Toshiba Corp | Correction of yawing of xy-stage |
| JPH01246036A (ja) * | 1988-03-25 | 1989-10-02 | Omron Tateisi Electron Co | 微動ステージ装置 |
-
1990
- 1990-05-11 JP JP12012290A patent/JPH0419033A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5972135A (ja) * | 1982-10-18 | 1984-04-24 | Hitachi Ltd | 超精密ｘｙ移動装置 |
| JPS6458442A (en) * | 1987-08-31 | 1989-03-06 | Toshiba Corp | Correction of yawing of xy-stage |
| JPH01246036A (ja) * | 1988-03-25 | 1989-10-02 | Omron Tateisi Electron Co | 微動ステージ装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0527739B1 (en) | Servo guided stage system | |
| Clark et al. | Laser-based sensing, measurement, and misalignment control of coupled linear and angular motion for ultrahigh precision movement | |
| JPH08115128A (ja) | パラレルリンク機構 | |
| US20070152391A1 (en) | Error corrected positioning stage | |
| JP2004525780A (ja) | 超精密位置決めシステム | |
| US7512452B2 (en) | Positioning system for eliminating lost motion effect | |
| US6242910B1 (en) | Magnetic head and disk tester with yaw correction | |
| JPH07334245A (ja) | 超精密送り装置およびこれを用いたｘｙテ−ブル並びにテ−ブル移送装置 | |
| JP2001116867A (ja) | Ｘｙステージ | |
| JPS62107935A (ja) | 平面研削盤の自動補正機構 | |
| JPH0434166B2 (ja) | ||
| JPH0419033A (ja) | 微小位置決め装置 | |
| US7187107B2 (en) | Closed-loop feedback control positioning stage | |
| KR20020075964A (ko) | 무마찰탄성베어링을 이용한 다축스테이지 제어장치 | |
| TWI630975B (zh) | 主動誤差補償式平台 | |
| JP2803440B2 (ja) | Ｘｙ微動ステージ | |
| JP4735576B2 (ja) | 摩擦駆動搬送装置 | |
| US6466324B1 (en) | Servo guided stage system with yaw sensor | |
| JP3444800B2 (ja) | チルトステージ | |
| JPS63193089A (ja) | ６自由度微動装置 | |
| JP2001237299A (ja) | 位置決め装置 | |
| JPH0639042B2 (ja) | テ−ブルの駆動装置 | |
| JP3027165B2 (ja) | 位置決め装置 | |
| JP3670492B2 (ja) | 直線案内装置 | |
| KR100434975B1 (ko) | 범용 나노 스테이지의 구동장치 및 그 방법 |