JPH0418924A - スルホン酸型複合膜 - Google Patents

スルホン酸型複合膜

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JPH0418924A
JPH0418924A JP12000090A JP12000090A JPH0418924A JP H0418924 A JPH0418924 A JP H0418924A JP 12000090 A JP12000090 A JP 12000090A JP 12000090 A JP12000090 A JP 12000090A JP H0418924 A JPH0418924 A JP H0418924A
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JP
Japan
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polyvinylpyrrolidone
membrane
film
sulfonic acid
heat
Prior art date
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Pending
Application number
JP12000090A
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English (en)
Inventor
Satoshi Yanase
聡 柳瀬
Noboru Kubota
昇 久保田
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、溶液系におけるイオン、低分子化合物の分離
に有用なスルホン酸型複合膜に関するものである。
(従来の技術) これまでに種々の形態の複合膜が研究されてきたが、耐
熱性ポリマーより成る支持膜上に、スルホン酸基を含む
耐熱性ポリマーをコーティングして薄膜(コーティング
層)を形成させる方法は、以下のような理由から多くの
実施例が報告されている(例えば、特開昭61−450
6、特開昭61−46207、特開昭61−14630
3など)。この種の膜は一般に、(1)支持膜より分画
分子量が小さくなり、(2)同し素材の非対称膜と比較
して低圧で高い透水率を示し、(3)高温での使用に耐
えられる膜として一般工業用や医薬、食品分野での展開
が期待されている。また、複合膜を作製するもう一つの
代表的方法である界面重合法に較ベて、膜の製法が簡便
であり、さらに、コーティング条件や乾燥条件をコント
ロールすることによって膜の性能にさまざまなバリエー
ションを持たせることができるという利点もある。
しかしながら、この方法で得られる膜は、支持膜上にス
ルホン酸型ポリマーがコーティング層として積層してい
るだけであり、その間の接着力は、支持膜とコーティン
グ層のポリマー同志がいかに親和性を持つかという点に
かかっている。したがって、実用上はコーティング層の
剥離が問題となり、このため−船釣には、支持膜にポリ
スルホンの限外濾過膜、コーティング層にはスルホン化
ポリスルホンというように、構造のよく似た、できるだ
け親和性の高いポリマー同士を組み合わせる場合が多い
。しかし、これだけでは過酷な条件下での使用に対して
十分な耐久性を期待できない。
特に工業用途や食品用途では、膜の目詰まりによる透水
能低下を回復させるため、濾過方向と反対方向に濾水を
流す、いわゆる「逆洗」を行う場合が多く、この操作は
、コーティング層をはがす方向に力を加える操作である
ため、この点からも剥離に対する強度の高い膜の開発が
望まれている。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は、上記従来の複合膜における問題点を解決し、
コーティング層の剥離に対する強度の向上したスルホン
酸型複合膜を提供するものである。
(課題を解決するための手段) 本発明は、スルホン酸型複合膜において、支持膜中にポ
リビニルピロリドンを含有させた場合に、コーティング
層の剥離に対する強度が著しく向上することを見出すこ
とにより、完成するに至ったものである。
ポリビニルピロリドンを含む支持膜は、それを含まない
ものに較べて、ポリビニルピロリドンのアミド部分の電
荷により正に滞電しているものと考えられる。この正電
荷とコーティング層中の負に滞電したスルホン酸基との
間に静電的な引力が働くことが、剥離を起こしに<<シ
ている原因と考えられる。
本発明における支持膜は、その構造中にポリビニルピロ
リドン(構造式l)を含むことを特徴としている。
一+C−C−)−、−構造式ま ただし、このポリビニルピロリドンは支持膜素材と共有
結合やイオン結合で結ばれている必要はかならずしもな
く、分子鎖のがらみ合いで保持されているだけでもよい
支持膜の素材としては、主鎖中に芳香環を含む耐熱性ポ
リマーであるポリスルホン(構造式2)、ポリエーテル
スルホン(構造式3)、ポリフェニレンオキサイド(構
造式4)などが好ましく、特ニホリスルホンは製膜原液
中でポリビニルピロリドンとの親和性が高(、安定な原
液を作ることが知られており(例えば、特開昭63−9
7202など)好適である。
このようにポリビニルピロリドンを含んだ製膜原液を湿
式、乾式等の公知の方法で製膜した後、これを十分水洗
することによって、ポリビニルピロリドンを含んだ耐熱
性ポリマー素材がら成る支持膜を得ることができる。な
お、支持膜の形態(平膜、中空系膜等ンおよび孔径は、
この場合特に限定されず、製膜条件を変えることによっ
てさまざまなバリエーションを持たせることができる。
また、ポリビニルピロリドンは水溶性の高分子であるた
め、製膜原液中に含まれるポリビニルピロリドンの一部
は水洗中に水に溶は出す。このため製膜原液中のポリビ
ニルピロリドンと耐熱性ポリマーの重量比は、製膜後の
支持膜中の重量比と一致しないが、原液中のポリビニル
ピロリドン含量を調製することにより、製膜後の支持膜
中に含まれるポリビニルピロリドンの量をコントロール
できる。本発明において支持膜中のポリビニルピロリド
ン含量は、その溶出性とコーティング層の剥離をおさえ
る効果を考慮して0.5〜30重量%、好ましくは1〜
10重量%が適当である。なお、支持膜中のポリビニル
ピロリドン含量は、元素分析による窒素の定量により算
出することができる。また、ポリビニルピロリドンの分
子量は、あまり小さいと水に溶は出す頻度が高くなるた
め平均分子量3000〜1500000 、好ましくは
30000〜500000の範囲が適当である。
このようにして得られた支持膜ヘスルホン酸基を含む耐
熱性ポリマーを積層させる方法は、これまで種々報告さ
れている公知の方法を用いることができる(例えば、特
開昭63−248409など)。スルホン酸基を含む耐
熱性ポリマーとしては、主鎖に芳香環を含んだ耐熱性エ
ンジニアリングプラスチックをスルホン化したものが一
般的であり、スルホン化ポリスルホン、スルホン化ポリ
エーテルスルホン、スルホン化ポリフェニレンオキサイ
ドなどが好適である。これらのスルホン化された耐熱性
ポリマーは、適当な溶媒に溶解させてコーティング溶液
とし、支持膜上に塗布、乾燥させてコーティング層とす
ることができ、平膜であればその表面、中空糸膜であれ
ばその内表面または外表面にコーティング層を形成させ
ることが可能である。
以上のようにして得られるスルホン酸型複合膜は、支持
膜とコーティング層の剥離に対する強度が著しく向上し
、逆洗後の膜性能低下のない複合膜として利用すること
ができる。
(実施例) 以下、本発明の効果を実施例を用いて具体的に説明する
が、本発明は、以下の実施例によって何ら限定されるも
のではない。
実施例1 ポリスルホン20重量%、N、N−ジメチルアセトアミ
ド70重量%、テトラエチレングリコール9重量%、ポ
リビニルピロリドン(平均分子量360000) 1.
 0重量%の組成の製膜原液を作製し、この溶液を中空
糸製造用の環状ノズルから押し出し、内部および外部凝
固液として精製水を用いて製膜原液を内外面から凝固さ
せ、外径1.35mm、内径0.72m5の中空糸状限
外濾過膜を作製した。
この膜を含水状態のまま、25重量%のグリセリン溶液
に60°Cで5時間浸漬し、50°Cの乾燥機中で24
時間乾燥させることにより、グリセリンが内部に目詰め
された中空糸状限外濾過膜を得た。
この膜(グリセリンのついてない状態)におけるポリビ
ニルピロリドンの含量は、元素分析により1.0重量%
と算出された。以下、この膜を支持膜として用いた。
次に、スルホン化ポリスルホン(乾燥樹脂1グラムあた
りのイオン交換容量0.7ミリ当量)をメチルセルソル
ブへ1重量%になるように溶解してコーティング溶液と
し、支持膜中空系の内表面側に狂人後、この液を再び排
除し、その後、室温で24時間風乾した。得られた複合
膜を11000ppのβ−シクロデキストリン(分子量
1135)溶液を用いて、内圧式1. 5kg/cff
lで評価したところ、透水率0.52m/rd・日、阻
止率62%であった。
この膜の剥離に対する強度を評価するため、80°Cの
純水を通常の濾過方向とは反対方向である外圧式5 k
g / cnlの圧力で10時間濾過し、その後、再び
内圧式1.5kg/dで11000pp  β−シクロ
デキストリン溶液を評価したところ、透水率0.51r
rr/n(・日、阻止率63%であり、実質上膜の性能
低下は起こらなかった。
実施例2〜3 支持膜へコーティングする液をスルホン化ポリエーテル
スルホン(イオン交換容量0.7ミリ当量)の1重量%
メチルセルソルブ溶液(実施例2)、スルホン化ポリフ
ェニレンオキサイド(イオン交換容量1.2ミリ当量)
の1重量%ブチルセルソルブ溶液(実施例3)とする以
外は、実施例1と同し処理を施し、剥離に対する強度を
測定したところ、結果は表1のようになり、実質上膜性
能の低下は起こらなかった。
表  1 比較例1〜3 支持膜の製膜原液の組成をポリスルホン20重量%、N
、N−ジメチルアセトアミド71重量%、テトラエチレ
ングリコール9重量%とじて実施例1と同様の方法でポ
リビニルピロリドンを含まない中空糸状限外濾過膜を得
た。支持膜としてポリビニルピロリドンを含まない中空
系膜を用いる以外は、実施例1〜3と全く同じ方法で複
合膜を作製し、11000pp  β−シクロデキスト
リン溶液を用いて剥離に対する強度を評価したところ、
表2のようになり、膜性能の低下がみられた(実施例1
〜3にそれぞれ比較例1〜3が対応)。
表2 (発明の効果) 本発明によって得られる複合膜は、コーティング層の剥
離に対する強度の高い膜として種々の膜プロセスに利用
することができる。
(ほか1名)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ポリビニルピロリドンを含む多孔質支持膜表面に
    、スルホン酸基を含みかつ主鎖中に芳香環を含む耐熱性
    ポリマーが積層してなるスルホン酸型複合膜。
  2. (2)多孔質支持膜中のポリビニルピロリドンが重量分
    率で0.1〜30%の範囲にある請求項1記載のスルホ
    ン酸型複合膜。
  3. (3)多孔質支持膜中のポリビニルピロリドンの平均分
    子量が3000〜1500000の範囲にある請求項1
    記載のスルホン酸型複合膜。
  4. (4)支持膜となる多孔質膜のポリビニルピロリドン以
    外の素材が主鎖に芳香環を含む耐熱性ポリマーである請
    求項1記載のスルホン酸型複合膜。
JP12000090A 1990-05-11 1990-05-11 スルホン酸型複合膜 Pending JPH0418924A (ja)

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