JPH04186630A - 半導体ウエハのバンプ電極めっき装置 - Google Patents

半導体ウエハのバンプ電極めっき装置

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JPH04186630A
JPH04186630A JP31137390A JP31137390A JPH04186630A JP H04186630 A JPH04186630 A JP H04186630A JP 31137390 A JP31137390 A JP 31137390A JP 31137390 A JP31137390 A JP 31137390A JP H04186630 A JPH04186630 A JP H04186630A
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JP
Japan
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plating
semiconductor wafer
wafer
upper frame
frame
Prior art date
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Application number
JP31137390A
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English (en)
Inventor
Kazuo Matsumura
和夫 松村
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体ウェハのハンプ電極を形成するための
めっき装置に関するものである。
(従来の技術) 従来、この種の装置は、例えば特公昭56−5318号
公報に開示されたものがあった。
第5図はかかる従来のめっき装置のシステム概略図であ
る。
図中、1はめっき液のタンク、2はポンプ、3はめっき
楢、4はめっき槽3を収める容器であり、通常複数個の
めっき槽3が同一の高さで収納されている。5はめっき
液貯溜槽であり、めっき槽3より高い位置にあり、それ
らの底部が管6によって互いに連通している。また、容
器4の底部及びめっき液貯溜槽5の機部7は、それぞれ
管8もしくは9によって、タンク1に接続し、タンク1
とめっき液貯溜槽5はポンプ2を介して管10により接
続されている。
また、第6図は従来のめっき装置の縦断面図、第7図は
そのめっき装置のめっき槽の平面図である。
図中、11は管部、12は共通の導管、13はメソシュ
状の陽極、14は複数個の突出部、15は同一高さノ段
部、16は可動の押え、17はノズル、18は弾性材、
19は板バネ、20.21は空気管、22は陰極部であ
る。
これらの図に示すように、被めっき物である半導体ウェ
ハ30の裏面を上側にして段部15にセットする。この
とき、上向きに尖った陰極部22が、半導体ウェハ30
の表面に食い込み、板バ219が半導体ウェハ30を押
さえつけるのであるが、半導体ウェハ30をセットし、
陰極部22が導通したか否かをf!認するためには、複
数個のめっきW!3(第5図参照)が同一の高さで容器
4(第5図参照)内に収納されるので、全てのめっき槽
が半導体ウェハをセントし終えてから、板バネ19を装
着しためっき槽3の蓋を閉して、導通確認をめっき槽1
個ずつについて順次に行う。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記した従来のめっき装置においては、
導通不良のめっき槽があると、−々、蓋を開けて、半導
体ウェハを押さえつけたり、めっき液と半導体ウェハの
間の気泡を除いたりすることが必要になり、全ての半導
体ウェハをセットしてから蓋を閉めないと導通確認がで
きないため、確認に時間を要する。
そして、その間、個々のめっき櫂にセントした半導体ウ
ェハはめっき液に浸漬したまま、あるいは、めっき液雰
囲気に晒されたままとなる。そのため、被めっき物であ
る半導体ウェハは、表面メタル層(例、Pb、Al)に
変色あるいは腐食が発生し、めっき不着あるいはめっき
剥がれの原因となる。
また、半導体ウェハに接するめっき液の噴流は、めっき
槽までの管の抵抗や、管の長さの差による抵抗、および
ウェハの表面状態(凹凸)により、均一でなく、流速も
異なるため、ウェハ内でのめっき厚にバラツキが発生す
る。
本発明は、上記問題点を除去し、めっき槽に半導体ウェ
ハをセットしてから、電気的導通をめっき槽1個ずつ行
う作業を省略し、生産効率を向上させ得る半導体ウェハ
のハンプ電極めっき装置を提供することを目的とする。
(1gを解決するための手段) 本発明は、上記目的を達成するために、半導体ウェハの
バンプ電極めっき装置において、半導体ウェハをセント
する突出部を上面に設けた環状の下枠と、該下枠と係合
する上枠と、前記半導体ウェハと上枠との間に配置され
る環状のパツキンと、前記上枠と下枠との締め付け、前
記突出部を電気的に前記半導体ウェハに結合させる締着
手段と、該上枠と下枠とによって構成される環状支持体
と、該環状支持体が装着されるめっき槽とを設けるよう
にしたものである。
(作用) 本発明によれば、半導体ウェハのハンプ電極めっき装置
において、半導体ウェハをセットする突出部を上面に設
けた環状の下枠と、前記下枠と係合する上枠と、前記半
導体ウェハと前記上枠との間に配置される環状のパツキ
ンと、前記上枠と下枠との締め付け、前記突出部を電気
的に前記半導体ウェハに結合させる締着手段き、該上枠
と下枠とによって構成される環状支持体と、該環状支持
体が装着されるめっき槽とを備えているので、下枠に半
導体ウェハをセントし、上枠に環状のパツキンを載置し
、前記上枠と下枠とを締め付けることにより、前記突出
部を電気的に半導体ウェハと結合させる。
そこで、前記上枠と下枠とからなる環状支持体を、めっ
き槽に装着する。
また、環状支持体を回転させることにより、被めっき物
である半導体ウェハを回転させることができるので、半
導体ウェハ面各部に当たるめっき液の噴流が、不均一で
流速に差があっても、めっき厚のバラツキおよび形の不
具合をなくすことができる。
(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら詳細
に説明する。
第1図は本発明の実施例を示す半導体ウェハのハンプ電
極めっき装置の断面図、第2図は本発明の実施例を示す
半導体ウェハのバンプ電極めっき装置の環状支持体の平
面部分断面図、第3図はその環状支持体の正面部分断面
図、第4図は本発明の実施例を示す半導体ウェハのバン
プ電極めっき装置の駆動部の断面図である。
図中、30は環状支持体、31は上枠、32は下枠、3
3は上枠と下枠の噛合部、34は外周の歯車、35は半
導体ウェハを押さえるパツキン(0リング)、36は接
触ビン、37は接触ビン36と電気的に接続されている
外部との接触リング、40は半導体ウェハ、41はめっ
き槽、42は駆動歯車、42′は駆動軸、43は管部、
44は導管、45はメソシュ状の陽極、46は従動歯車
である。
このように、環状支持体30は、上枠31と下枠32と
に大別され、ます下枠32に被めっき物である半導体ウ
ェハ40のめっき面(表面)を下にして入れ込む。この
際、半導体ウェハ40の裏面を接触ビン367’押t。
この接触ビン36は、半導体ウェハ40ニ塗布されてい
るホトレジストを破り、半導体ウェハ40の下地金属面
に接触するので、接触ビン36と半導体ウェハ40とは
簡単に電気的に導通させることができる。
次に、上枠31を被せ、上枠31を右ネジ方向に回転さ
せながら、噛合部33が締め付けられるまで入れる。こ
のとき、パツキン35は、半導体ウェハ40の裏面に触
れ、半導体ウェハ40には上枠31と同方向に回転しよ
うとする力が加わり、半導体ウエノ\40の表面側の接
触ビン36が、ホトレジストを更に破り、導通がとられ
る。なお、パツキン35は、半導体ウェハ40の裏面へ
めっき液が回り込むのを防ぐ。また、接触ビン36は、
下枠32に均等間隔をもって数個配置されているので、
半導体ウェハ40は同時に電気的に接続した状態でめっ
き液の中に浸漬される。
また、駆動歯車42の駆動軸42′は電動機(図示なし
)に接続されている。また、めっき装置側に設けられた
駆動歯車42は、外周の歯車34を介して、めっき槽4
1にセントした環状支持体30を回転させる。
このように構成するようにしたので、めっき中で前記半
導体ウェハを回転させることができ、半導体ウェハ面各
部に当たるめっき液の噴流が、不均一で流速に差があっ
ても、めっき厚のバラツキ及び形の不具合をなくすこと
ができる。
なお、第1図にはめっき槽41は1個しか示されていな
いが、通常、複数個のめっき槽が並設される。
また、第4図に示すように、1個の駆動歯車42により
複数個の環状支持体30を具備する複数個のめっき槽4
1.41を駆動するようにしてもよい。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の趣旨に基づき種々の変形が可能であり、それら
を本発明の範囲から排餘するものではない。
(発明の効果) 以上、詳細に説明したように、本発明によれば、次のよ
うな効果を奏することができる。
(1)環状支持体に半導体ウェハをセットしてから、そ
の環状支持体をめっき槽に装着するようにしたので、め
っき槽に半導体ウェハをセットしてから電気的導通をめ
っき槽毎に行う作業を省略することができる。したがっ
て、半導体ウェハは、めっき液に浸漬したまま、あるい
は、めっき液雰囲気にさらされたままになることがない
ため、表面メタル層の変色または腐食がなくなり、めっ
き不着またはめっき剥がれを防止することができる。
(2)接触ビンと半導体ウェハとは電気的に確実に接触
させることができ、信転性の高い電気メツキを行うこと
ができる。
(3)環状支持体を回転させることにより、被めっき物
である半導体ウェハを回転させることができるので、半
導体ウェハ面各部に当たるめっき液の噴流が、不均一で
流速に差があっても、めっき厚のバラツキおよび形の不
具合をなくすことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す半導体ウェハのハンプ電
極めっき装置の断面図、第2図は本発明の実施例を示す
半導体ウェハのバンプ電極めっき装置の環状支持体の平
面部分断面図、第3図はその環状支持体の正面部分断面
図、第4図は本発明の実施例を示す半導体ウェハのバン
プ電極めっき装置の駆動部の断面図、第5図は従来のめ
っき装置のシステム概略図、第6図は従来のめっき装置
の縦断面図、第7図はそのめっき装置のめっき槽の平面
図である。 30・・・環状支持体、31・・・上枠、32・・・下
枠、33・・・上枠と下枠の噛合部、34・・・外周の
歯車、35・・・パツキン(Oリング)、36・・・接
触ビン、37・・・接触リング、40・・・半導体ウェ
ハ、41・・・めっき槽、42・・・駆動歯車、42′
・・・駆動軸、43・・・管部、44・・・導管、45
・・・メソシュ状の陽掻、46・・・従動歯車。 )1発バ可J半−1本ヴシ\。パン1.b2き或】シ旨
ロ第1図 第2図 第3図 第4図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)めっき槽に収容されためっき液に半導体ウェハの
    表面を接触させてめっきを行う半導体ウェハのバンプ電
    極めっき装置において、 (a)半導体ウェハをセットする突出部を上面に設けた
    環状の下枠と、 (b)該下枠と係合する上枠と、 (c)前記半導体ウェハと前記上枠との間に配置される
    環状のパッキンと、 (d)前記上枠と下枠とを締め付け、前記突出部を電気
    的に前記半導体ウェハに結合させる締着手段と、 (e)該上枠と下枠とによって構成される環状支持体と
    、 (f)該環状支持体が装着されるめっき槽とを具備する
    ことを特徴とする半導体ウェハのバンプ電極めっき装置
  2. (2)前記上枠の外周に歯車を設け、めっき装置の回転
    軸に設けた歯車を前記歯車に噛み合わせて、めっき中で
    前記半導体ウェハを回転させるようにした請求項1記載
    の半導体ウェハのバンプ電極めっき装置。
JP31137390A 1990-11-19 1990-11-19 半導体ウエハのバンプ電極めっき装置 Pending JPH04186630A (ja)

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ID=18016398

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JP31137390A Pending JPH04186630A (ja) 1990-11-19 1990-11-19 半導体ウエハのバンプ電極めっき装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007119923A (ja) * 1998-11-28 2007-05-17 Acm Research Inc 半導体ワークの電気めっきおよび/または電解研磨中に半導体ワークを保持して位置決めする方法および装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007119923A (ja) * 1998-11-28 2007-05-17 Acm Research Inc 半導体ワークの電気めっきおよび/または電解研磨中に半導体ワークを保持して位置決めする方法および装置

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