JPH0418420B2 - - Google Patents
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- JPH0418420B2 JPH0418420B2 JP60202014A JP20201485A JPH0418420B2 JP H0418420 B2 JPH0418420 B2 JP H0418420B2 JP 60202014 A JP60202014 A JP 60202014A JP 20201485 A JP20201485 A JP 20201485A JP H0418420 B2 JPH0418420 B2 JP H0418420B2
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- anode
- rotating shaft
- housing
- rotating
- vacuum chamber
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Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
回転陽極Ｘ線発生装置、特に回転陽極を装着し
た回転軸がガスベアリングで支持された回転陽極
Ｘ線発生装置において、 回転陽極の接地手段に従来使用していたカーボ
ンブラシをなくし、液状導電体を使用した新規の
陽極接地手段を設けたことにより、 装置の保守を容易したものである。
た回転軸がガスベアリングで支持された回転陽極
Ｘ線発生装置において、 回転陽極の接地手段に従来使用していたカーボ
ンブラシをなくし、液状導電体を使用した新規の
陽極接地手段を設けたことにより、 装置の保守を容易したものである。
本発明は回転陽極Ｘ線発生装置、特に回転陽極
を装着した回転軸がガスベアリングで支持された
回転陽極Ｘ線発生装置において、回転陽極の接地
手段に関する。
を装着した回転軸がガスベアリングで支持された
回転陽極Ｘ線発生装置において、回転陽極の接地
手段に関する。
高密度集積回路のパターニング技術において、
数Å〜数10Åの波長領域の軟Ｘ線によるパターン
転写は、回折および散乱の影響がきわめて小さい
ことにより解像能力が高く、微細且つ精密な転写
手段として注目されている。
数Å〜数10Åの波長領域の軟Ｘ線によるパターン
転写は、回折および散乱の影響がきわめて小さい
ことにより解像能力が高く、微細且つ精密な転写
手段として注目されている。
現在、軟Ｘ線を使用するＸ線発生装置には、電
子ビーム衝撃型、ガスプラズマ型等が利用されて
いるが、現在のところ最も実用的なのは電子ビー
ム衝撃型である。中でも回転陽極を使用した電子
ビーム衝撃型は、陽極回転数の高速化による陽極
冷却効果の増大により入射電子ビームパワーを大
きくしてＸ線出力の増大が可能であり、回転陽極
の回転を安定かつ長寿命化するため、ガスベアリ
ングが使用されるようになつた。
子ビーム衝撃型、ガスプラズマ型等が利用されて
いるが、現在のところ最も実用的なのは電子ビー
ム衝撃型である。中でも回転陽極を使用した電子
ビーム衝撃型は、陽極回転数の高速化による陽極
冷却効果の増大により入射電子ビームパワーを大
きくしてＸ線出力の増大が可能であり、回転陽極
の回転を安定かつ長寿命化するため、ガスベアリ
ングが使用されるようになつた。
第４図は電子ビーム衝撃型Ｘ線転写装置の要部
を示す側断面図である。
を示す側断面図である。
第４図において、１は金属にてなる回転陽極、
２は回転陽極１を左端に装着した金属製の回転
軸、３は真空室、４は真空室３を一体に形成し回
転軸２を収容したハウジング、５は回転軸２に装
着したロータ、６はハウジング４に装着しロータ
５に対向するステータ、７は回転軸２の右端に装
着した金属リング、８は圧縮コイルばね９を介し
付勢されハウジング４に装着されたカーボンブラ
シ、１０は回転軸２の長さ方向の中間部に設けた
フランジである。回転軸２を回転自在に支持する
ハウジング４には、ガスベアリングのガス（空
気）注入口１１〜１３とガス（空気）排出口１４
とが設けてある。
２は回転陽極１を左端に装着した金属製の回転
軸、３は真空室、４は真空室３を一体に形成し回
転軸２を収容したハウジング、５は回転軸２に装
着したロータ、６はハウジング４に装着しロータ
５に対向するステータ、７は回転軸２の右端に装
着した金属リング、８は圧縮コイルばね９を介し
付勢されハウジング４に装着されたカーボンブラ
シ、１０は回転軸２の長さ方向の中間部に設けた
フランジである。回転軸２を回転自在に支持する
ハウジング４には、ガスベアリングのガス（空
気）注入口１１〜１３とガス（空気）排出口１４
とが設けてある。
かかる装置において、真空室３を所定の真空度
にし、回転軸２とハウジング４およびフランジ１
０とハウジング４との嵌合間〓に加圧ガス１５を
注入すると共に、ステータ６に通電すると、回転
軸２は所定の速度で回転し、回転軸２はカーボン
ブラシ８を介して電気的に接地されている。
にし、回転軸２とハウジング４およびフランジ１
０とハウジング４との嵌合間〓に加圧ガス１５を
注入すると共に、ステータ６に通電すると、回転
軸２は所定の速度で回転し、回転軸２はカーボン
ブラシ８を介して電気的に接地されている。
電子銃１６から電子ビーム１７を発射し回転す
る回転陽極１の斜面に照射し発生したＸ線１８
は、例えば厚さ数10μmのベリリユウムにてなる
Ｘ線取り出し窓１９を透過し真空室３の下方に設
けた試料室２０に出射される。
る回転陽極１の斜面に照射し発生したＸ線１８
は、例えば厚さ数10μmのベリリユウムにてなる
Ｘ線取り出し窓１９を透過し真空室３の下方に設
けた試料室２０に出射される。
なお、ハウジング４は真空室３と排気口１４と
の間がクリアランスシール構造であり、ガスベア
リングのガスが真空室３に侵入しないようになつ
ている。
の間がクリアランスシール構造であり、ガスベア
リングのガスが真空室３に侵入しないようになつ
ている。
上記従来装置において、回転陽極１の接地は回
転する回転軸２の端部に金属リング７を装着し、
その外周面にカーボンブラシ８を当接していた。
転する回転軸２の端部に金属リング７を装着し、
その外周面にカーボンブラシ８を当接していた。
従つてカーボンブラシ８は、リング７との摺動
によつて磨耗し、一般に1000時間程度でハウジン
グ４の一部を分解してカーボンブラシ８を交換す
る必要があり、かつカーボンブラシ８が摩耗して
発生する摩耗粉の清掃除去が必要となる。
によつて磨耗し、一般に1000時間程度でハウジン
グ４の一部を分解してカーボンブラシ８を交換す
る必要があり、かつカーボンブラシ８が摩耗して
発生する摩耗粉の清掃除去が必要となる。
そこで、煩わしいブラシ交換および清掃作業の
回数を減らすため接地手段の長寿命化が要望され
ると共に、摩耗粉の発生しないまたは少ない接地
手段が要望されるようになつた。
回数を減らすため接地手段の長寿命化が要望され
ると共に、摩耗粉の発生しないまたは少ない接地
手段が要望されるようになつた。
従来の接地用ブラシをなくすことで前記要望に
応えるようにした本発明装置は、その実施例を示
す第１図および第３図によれば、 金属製の回転陽極１を真空室３に収容し、回転
陽極１を装着した金属製の回転軸２がガスベアリ
ングを介してハウジング４に支持されたＸ線発生
装置において、回転陽極１または回転軸２の端面
の回転中心部から突出する突起２７または２８
と、真空室３またはハウジング４に設け突起２
７，２８の先端部を囲う空洞２９，３０と、空洞
２９，３０に収容した適量の液状導電体３１とを
具え、突起２７，２８を介して回転陽極１が液状
導電体３１と電気的に接続させたことを特徴とす
る。
応えるようにした本発明装置は、その実施例を示
す第１図および第３図によれば、 金属製の回転陽極１を真空室３に収容し、回転
陽極１を装着した金属製の回転軸２がガスベアリ
ングを介してハウジング４に支持されたＸ線発生
装置において、回転陽極１または回転軸２の端面
の回転中心部から突出する突起２７または２８
と、真空室３またはハウジング４に設け突起２
７，２８の先端部を囲う空洞２９，３０と、空洞
２９，３０に収容した適量の液状導電体３１とを
具え、突起２７，２８を介して回転陽極１が液状
導電体３１と電気的に接続させたことを特徴とす
る。
上記手段によれば、接地手段に発生する摩耗お
よび摩耗粉が皆無となり、従来のカーボンブラシ
に較べて著しく長寿命化し、カーボンブラシの交
換作業が不要となり清掃作業が容易化される。
よび摩耗粉が皆無となり、従来のカーボンブラシ
に較べて著しく長寿命化し、カーボンブラシの交
換作業が不要となり清掃作業が容易化される。
以下に、第１図〜第３図を用いて本発明の実施
例を説明する。なお、本発明の第１の実施例にな
る回転陽極Ｘ線発生装置の要部を示す側断面図で
ある第１図、本発明の第２の実施例になる回転陽
極Ｘ線発生装置の要部を示す第３図において、Ｘ
線１８を発生させる操作と仕組みは従来装置と同
一であり、その説明は省略する。
例を説明する。なお、本発明の第１の実施例にな
る回転陽極Ｘ線発生装置の要部を示す側断面図で
ある第１図、本発明の第２の実施例になる回転陽
極Ｘ線発生装置の要部を示す第３図において、Ｘ
線１８を発生させる操作と仕組みは従来装置と同
一であり、その説明は省略する。
第４図と共通部分に同一符号を使用した第１図
において、回転陽極１はCuやAlまたはMo等の金
属にてなり、左端部に回転陽極１を固着した金属
製回転軸２の右端面の中心部から突出する首部３
６の先端に円板（突起）２７を設ける。
において、回転陽極１はCuやAlまたはMo等の金
属にてなり、左端部に回転陽極１を固着した金属
製回転軸２の右端面の中心部から突出する首部３
６の先端に円板（突起）２７を設ける。
回転軸２を水平支持するハウジング４には円板
２７を収容する空洞２９を設け、空洞２９内には
円板２７の一部が浸漬される適当量の液状導電体
（例えば水銀）３１を入れる。
２７を収容する空洞２９を設け、空洞２９内には
円板２７の一部が浸漬される適当量の液状導電体
（例えば水銀）３１を入れる。
導電体３１は第２図イに示す如く、回転軸２の
停止時には空洞２９の下部に溜る反面、回転軸２
の回転時には第２図ロに示す如く、円板２７が回
転する遠心力で円板２７の半径方向に飛ばされ円
板２７の全周に渡り空洞２９との〓間を埋めるよ
うになる。従つて、回転陽極１と金属にてなるハ
ウジング４とは、回転軸２の停止および回転に係
わらず、電気的に接続されるようになる。
停止時には空洞２９の下部に溜る反面、回転軸２
の回転時には第２図ロに示す如く、円板２７が回
転する遠心力で円板２７の半径方向に飛ばされ円
板２７の全周に渡り空洞２９との〓間を埋めるよ
うになる。従つて、回転陽極１と金属にてなるハ
ウジング４とは、回転軸２の停止および回転に係
わらず、電気的に接続されるようになる。
なお、回転軸２の回転開始および停止に際し、
首部３６空洞２９の開口部との間〓から導電体３
１が飛び出す恐れがある。そこで、首部３６と首
部３６に対向する該開口部とには、第２図に示す
ラビリンス３７等で防止する手段が必要である。
首部３６空洞２９の開口部との間〓から導電体３
１が飛び出す恐れがある。そこで、首部３６と首
部３６に対向する該開口部とには、第２図に示す
ラビリンス３７等で防止する手段が必要である。
第１図と共通部分に同一符号を使用した第３図
において、金属にてなる回転軸２および回転陽極
１は垂直に支持、即ち垂直に支持された回転軸２
の下端に回転陽極１が装着されており、回転陽極
１の下端面の中心部から針状の突起２８が突出し
ている。
において、金属にてなる回転軸２および回転陽極
１は垂直に支持、即ち垂直に支持された回転軸２
の下端に回転陽極１が装着されており、回転陽極
１の下端面の中心部から針状の突起２８が突出し
ている。
回転陽極１を収容する真空室３の底面には突起
２８の中間部から下方を囲う空洞３０を設け、空
洞３０内には突起２８の先端部が浸漬される適当
量の液状導電体（例えば水銀）３１が入つてい
る。
２８の中間部から下方を囲う空洞３０を設け、空
洞３０内には突起２８の先端部が浸漬される適当
量の液状導電体（例えば水銀）３１が入つてい
る。
従つて、回転陽極１と金属にてなる真空室３と
は、突起２８と導電体３１を介して常時電気的に
接続されるようになつている。
は、突起２８と導電体３１を介して常時電気的に
接続されるようになつている。
以上説明したように本発明によれば、液状導電
体を介して回転陽極が接地接続されているため、
接地手段の寿命が極めて長く、かつ、従来構成の
接地手段で問題となつた摩耗粉が発生しないた
め、メンテナンスが著しく簡易化された効果を有
する。
体を介して回転陽極が接地接続されているため、
接地手段の寿命が極めて長く、かつ、従来構成の
接地手段で問題となつた摩耗粉が発生しないた
め、メンテナンスが著しく簡易化された効果を有
する。
第１図は本発明の第１の実施例になる回転陽極
Ｘ線発生装置の要部を示す側断面図、第２図は第
１図に示す接地手段の詳細図、第３図は本発明の
第２の実施例になる回転陽極Ｘ線発生装置の要部
を示す側断面図、第４図は従来技術になる回転陽
極Ｘ線発生装置の要部を示す側断面図、である。 図中において、１は回転陽極、２は回転軸、３
は真空室、４はハウジング、２７，２８は突起、
２９，３０は空洞、３１は液状導電体、を示す。
Ｘ線発生装置の要部を示す側断面図、第２図は第
１図に示す接地手段の詳細図、第３図は本発明の
第２の実施例になる回転陽極Ｘ線発生装置の要部
を示す側断面図、第４図は従来技術になる回転陽
極Ｘ線発生装置の要部を示す側断面図、である。 図中において、１は回転陽極、２は回転軸、３
は真空室、４はハウジング、２７，２８は突起、
２９，３０は空洞、３１は液状導電体、を示す。
Claims (1)
- １ 金属製の回転陽極１を真空室３に収容し、該
陽極１を装着した金属製の回転軸２がガスベアリ
ングを介してハウジング４に支持されたＸ線発生
装置において、該陽極１または該回転軸２の端面
の回転中心部から突出する突起２７，２８と、該
真空室３または該ハウジング４に設け該突起２
７，２８の先端部を囲う空洞２９，３０と、該空
洞２９，３０に収容した適量の液状導電体３１と
を具え、該突起２７，２８を介して該陽極１が液
状導電体３１と電気的に接続されてなることを特
徴とする回転陽極Ｘ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20201485A JPS6261251A (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 回転陽極ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20201485A JPS6261251A (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 回転陽極ｘ線発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6261251A JPS6261251A (ja) | 1987-03-17 |
| JPH0418420B2 true JPH0418420B2 (ja) | 1992-03-27 |
Family
ID=16450493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20201485A Granted JPS6261251A (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 回転陽極ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6261251A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2637124B1 (fr) * | 1988-09-23 | 1990-10-26 | Gen Electric Cgr | Systeme de suspension d'une anode tournante de tube a rayons x comportant des paliers magnetiques passifs |
| US5708695A (en) * | 1996-07-25 | 1998-01-13 | Picker International, Inc. | Electrical coupling of rotating members of medical imaging devices |
| US7197115B2 (en) * | 2004-08-10 | 2007-03-27 | General Electric Company | Cantilever and straddle x-ray tube configurations for a rotating anode with vacuum transition chambers |
| JP5238646B2 (ja) * | 2009-09-01 | 2013-07-17 | ブルカー・エイエックスエス株式会社 | Ｘ線発生装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53136988A (en) * | 1977-04-12 | 1978-11-29 | Kernforschungsanlage Juelich | Rotary anode xxray tube |
| JPS5960951A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-07 | Toshiba Corp | 回転陽極型ｘ線管装置 |
| JPS5960949A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-07 | Toshiba Corp | 回転陽極型ｘ線管装置 |
| JPS5951442B2 (ja) * | 1976-11-17 | 1984-12-14 | 株式会社日立製作所 | 車輪位置決め装置の制御装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56158067U (ja) * | 1980-04-24 | 1981-11-25 | ||
| JPS5951442U (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-04 | 株式会社島津製作所 | 回転陽極ｘ線管 |
-
1985
- 1985-09-12 JP JP20201485A patent/JPS6261251A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5951442B2 (ja) * | 1976-11-17 | 1984-12-14 | 株式会社日立製作所 | 車輪位置決め装置の制御装置 |
| JPS53136988A (en) * | 1977-04-12 | 1978-11-29 | Kernforschungsanlage Juelich | Rotary anode xxray tube |
| JPS5960951A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-07 | Toshiba Corp | 回転陽極型ｘ線管装置 |
| JPS5960949A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-07 | Toshiba Corp | 回転陽極型ｘ線管装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6261251A (ja) | 1987-03-17 |
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